JP2000171024A - ガス整流装置 - Google Patents
ガス整流装置Info
- Publication number
- JP2000171024A JP2000171024A JP10349666A JP34966698A JP2000171024A JP 2000171024 A JP2000171024 A JP 2000171024A JP 10349666 A JP10349666 A JP 10349666A JP 34966698 A JP34966698 A JP 34966698A JP 2000171024 A JP2000171024 A JP 2000171024A
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- Japan
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- gas
- flow
- duct
- flow straightening
- plate
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 粉体が堆積するような水平部分がなく、且つ
遠心方向のガスの偏流を防止することができるガス整流
装置を提供する。 【解決手段】 粉体を含むガスを流通８、９させるダク
トの屈曲部に整流板２を有するガスの整流装置であっ
て、該整流板２がダクト１の屈曲部後段に、該ダクトを
ガスの流れ方向に対し横断又は横断方向に突出して設置
され、且つ板面には、開口状態を変化させて以後のガス
流れ量を均一化させるガス通過用開口部３を有するガス
整流装置としたものであり、前記整流板のガス通過用開
口部は、屈曲部外縁側から内縁方向に漸次開口状態を大
とするように変化させることができ、前記整流板には、
付着粉体の払い落とし機構を有することができ、また、
前記整流板は、後段にさらに整流手段を配置することも
できる。
遠心方向のガスの偏流を防止することができるガス整流
装置を提供する。 【解決手段】 粉体を含むガスを流通８、９させるダク
トの屈曲部に整流板２を有するガスの整流装置であっ
て、該整流板２がダクト１の屈曲部後段に、該ダクトを
ガスの流れ方向に対し横断又は横断方向に突出して設置
され、且つ板面には、開口状態を変化させて以後のガス
流れ量を均一化させるガス通過用開口部３を有するガス
整流装置としたものであり、前記整流板のガス通過用開
口部は、屈曲部外縁側から内縁方向に漸次開口状態を大
とするように変化させることができ、前記整流板には、
付着粉体の払い落とし機構を有することができ、また、
前記整流板は、後段にさらに整流手段を配置することも
できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス整流装置に係
り、特に、粉体を含むガスを流通させるダクトの屈曲部
に設けるガス整流装置に関する。
り、特に、粉体を含むガスを流通させるダクトの屈曲部
に設けるガス整流装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】粉体を含むガスが流れるダクトが曲がっ
ていると、そこで偏流が生じる。そこで従来は図３に示
すように、ダクト１内にルーバーやガイドベーン６等を
設置して、ガスの遠心方向の偏流を整流していた。前記
の様なルーバーやガイドベーン６等をダクト１内に挿入
するとガス８内の粉体がそれらに付着するが、該付着物
を槌打装置等によって払い落とそうとしても、ダクトが
垂直方向に曲がっている場合、その水平部分に粉体が堆
積することによってルーバーやガイドベーン等の間隔が
閉塞し、ガスを長時間安定して流すことが不可能になっ
てしまう。
ていると、そこで偏流が生じる。そこで従来は図３に示
すように、ダクト１内にルーバーやガイドベーン６等を
設置して、ガスの遠心方向の偏流を整流していた。前記
の様なルーバーやガイドベーン６等をダクト１内に挿入
するとガス８内の粉体がそれらに付着するが、該付着物
を槌打装置等によって払い落とそうとしても、ダクトが
垂直方向に曲がっている場合、その水平部分に粉体が堆
積することによってルーバーやガイドベーン等の間隔が
閉塞し、ガスを長時間安定して流すことが不可能になっ
てしまう。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術に鑑み、粉体が堆積するような水平部分がなく、且つ
遠心方向のガスの偏流を防止することができるダクトの
屈曲部に設けるガス整流装置を提供することを課題とす
る。
術に鑑み、粉体が堆積するような水平部分がなく、且つ
遠心方向のガスの偏流を防止することができるダクトの
屈曲部に設けるガス整流装置を提供することを課題とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解消するため
に、本発明では、粉体を含むガスを流通させるダクトの
屈曲部に整流板を有するガスの整流装置であって、該整
流板が、ダクトの屈曲部後段に、該ダクトをガスの流れ
方向に対し横断又は横断方向に突出して設置され、且つ
板面には、開口状態を変化させて以後のガス流れ量を均
一化させるガス通過用開口部を有するガス整流装置とし
たものである。前記ガス整流装置において、整流板のガ
ス通過用開口部は、屈曲部外縁側から内縁方向に漸次開
口状態を大とするように変化させることができ、前記整
流板には、付着粉体の払い落とし機構を有することがで
き、また、前記整流板は、後段にさらに整流手段を配置
することもできる。
に、本発明では、粉体を含むガスを流通させるダクトの
屈曲部に整流板を有するガスの整流装置であって、該整
流板が、ダクトの屈曲部後段に、該ダクトをガスの流れ
方向に対し横断又は横断方向に突出して設置され、且つ
板面には、開口状態を変化させて以後のガス流れ量を均
一化させるガス通過用開口部を有するガス整流装置とし
たものである。前記ガス整流装置において、整流板のガ
ス通過用開口部は、屈曲部外縁側から内縁方向に漸次開
口状態を大とするように変化させることができ、前記整
流板には、付着粉体の払い落とし機構を有することがで
き、また、前記整流板は、後段にさらに整流手段を配置
することもできる。
【０００５】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。図１は、本発明のガス整流装置を説明する
ための斜視図である。図１において、１はダクト、２は
整流板、３はガス通過用開口部であり、ガスは８から９
の方向に流れて行く。整流板２は、ガス通過用開口部３
が、屈曲部の外側（図１では下側）に行くほど、狭くな
っており、こうすることで、横方向９に流れるガスの流
量を均一化させ、該整流板より下流側のガスの遠心方向
への偏流はなくなる。
に説明する。図１は、本発明のガス整流装置を説明する
ための斜視図である。図１において、１はダクト、２は
整流板、３はガス通過用開口部であり、ガスは８から９
の方向に流れて行く。整流板２は、ガス通過用開口部３
が、屈曲部の外側（図１では下側）に行くほど、狭くな
っており、こうすることで、横方向９に流れるガスの流
量を均一化させ、該整流板より下流側のガスの遠心方向
への偏流はなくなる。
【０００６】図２に、本発明のガス整流装置の他の例を
説明する断面概略図を示す。図２において、整流板２に
付着粉体の払い落とし用の突起４をダクトの外に延ば
し、この突起４を槌打装置５により一定の周期で槌打す
ることにより、整流板に付着した粉体を鉛直方向に払い
落とすことができる。また、整流板２の後流側に、従来
のルーバー７を設置することもできる。なお、整流板の
開口部の寸法は、ガスのフローパターンのシミュレーシ
ョンによって詳細寸法を決定することができる。
説明する断面概略図を示す。図２において、整流板２に
付着粉体の払い落とし用の突起４をダクトの外に延ば
し、この突起４を槌打装置５により一定の周期で槌打す
ることにより、整流板に付着した粉体を鉛直方向に払い
落とすことができる。また、整流板２の後流側に、従来
のルーバー７を設置することもできる。なお、整流板の
開口部の寸法は、ガスのフローパターンのシミュレーシ
ョンによって詳細寸法を決定することができる。
【０００７】以下に、ガスフローパターンのシミュレー
ションの結果に基づいて製作した、ガス整流装置及び実
際のガスフローパターンを示す、図４の模式図を用いて
説明する。図４（ａ）に示すように、４ｍ×４ｍの角ダ
クト内に、Ａ、Ｂ、Ｃゾーンの三つのゾーンを持ち、開
口比をそれぞれ５０％、３０％、１５％にした本発明の
ガス整流板を設置した場合、６２０，０００ｍ3Ｎ／ｈ
の排ガスを流すと、ダクト内のガスの最高流速Ｖmaxと
平均流速Ｖaveの比Ｖmax／Ｖaveは１．２５であった。
一方、本発明のガス整流板を設置しない図４（ｂ）の場
合、Ｖmax／Ｖaveは２．８となり、本発明の効果を確認
することが出来た。また、開口部の形状は、図１に示す
形状にこだわらず、例えば屈曲部の外側から内縁側へと
開口率の異なった円状の孔を開けたものや、格子状に板
を組み合わせたもの等を利用することも可能である。す
なわち、円状や格子状の開口においても、その開口率が
屈曲部の外縁側から内縁側へと大きくなっており、下流
側のガスの流れ量を均一化できる開口状態にすればよ
い。
ションの結果に基づいて製作した、ガス整流装置及び実
際のガスフローパターンを示す、図４の模式図を用いて
説明する。図４（ａ）に示すように、４ｍ×４ｍの角ダ
クト内に、Ａ、Ｂ、Ｃゾーンの三つのゾーンを持ち、開
口比をそれぞれ５０％、３０％、１５％にした本発明の
ガス整流板を設置した場合、６２０，０００ｍ3Ｎ／ｈ
の排ガスを流すと、ダクト内のガスの最高流速Ｖmaxと
平均流速Ｖaveの比Ｖmax／Ｖaveは１．２５であった。
一方、本発明のガス整流板を設置しない図４（ｂ）の場
合、Ｖmax／Ｖaveは２．８となり、本発明の効果を確認
することが出来た。また、開口部の形状は、図１に示す
形状にこだわらず、例えば屈曲部の外側から内縁側へと
開口率の異なった円状の孔を開けたものや、格子状に板
を組み合わせたもの等を利用することも可能である。す
なわち、円状や格子状の開口においても、その開口率が
屈曲部の外縁側から内縁側へと大きくなっており、下流
側のガスの流れ量を均一化できる開口状態にすればよ
い。
【０００８】
【発明の効果】本発明によれば、粉体を含んだガスの偏
流を防止するだけでなく、整流板に付着した粉体を適宜
払い落とすことによりダクト内を閉塞することなく、ガ
スを安定的に流すことを可能にした。特に粉体を集塵す
る電気集塵装置内では、ガスの流れが均一でなければ良
好な集塵効率が得られないため、本発明による整流装置
を電気集塵装置の入口部に設置することの効果は大き
い。
流を防止するだけでなく、整流板に付着した粉体を適宜
払い落とすことによりダクト内を閉塞することなく、ガ
スを安定的に流すことを可能にした。特に粉体を集塵す
る電気集塵装置内では、ガスの流れが均一でなければ良
好な集塵効率が得られないため、本発明による整流装置
を電気集塵装置の入口部に設置することの効果は大き
い。
【図１】本発明のガス整流装置を説明するための斜視
図。
図。
【図２】本発明のガス整流装置の他の例を説明する断面
概略図。
概略図。
【図３】従来のガス整流装置を説明するための断面概略
図。
図。
【図４】（ａ）本発明のガスフローパターンを示す模式
図、（ｂ）従来のガスフローパターンを示す模式図。
図、（ｂ）従来のガスフローパターンを示す模式図。
１：ダクト、２：整流板、３：ガス通過用開口部、４：
付着粉体払い落とし用突起、５：槌打装置、６：ガイド
ベーン、７：ルーバー、８、９：ガスの流れ
付着粉体払い落とし用突起、５：槌打装置、６：ガイド
ベーン、７：ルーバー、８、９：ガスの流れ
フロントページの続き (72)発明者 川合 正治 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 岡本 恭一 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 Ｆターム(参考） 3K061 VA06 VA15 VA20
Claims (4)
- 【請求項１】 粉体を含むガスを流通させるダクトの屈
曲部に整流板を有するガスの整流装置であって、該整流
板が、ダクトの屈曲部後段に、該ダクトをガスの流れ方
向に対し横断又は横断方向に突出して設置され、且つ板
面には、開口状態を変化させて以後のガス流れ量を均一
化させるガス通過用開口部を有することを特徴とするガ
ス整流装置。 - 【請求項２】 前記整流板のガス通過用開口部は、屈曲
部外縁側から内縁方向に漸次開口状態を大とするように
変化させることを特徴とする請求項１記載のガス整流装
置。 - 【請求項３】 前記整流板には、付着粉体の払い落とし
機構を有することを特徴とする請求項１又は２記載のガ
ス整流装置。 - 【請求項４】 前記整流板は、後段にさらに整流手段を
配置することを特徴とする請求項１、２又は３記載のガ
ス整流装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10349666A JP2000171024A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | ガス整流装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10349666A JP2000171024A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | ガス整流装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000171024A true JP2000171024A (ja) | 2000-06-23 |
Family
ID=18405288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10349666A Withdrawn JP2000171024A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | ガス整流装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000171024A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007015810A2 (en) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Corning Incorporated | Method, system and apparatus for detecting defects in a honeycomb body using a particulate fluid |
| US8234909B2 (en) | 2009-08-26 | 2012-08-07 | Corning Incorporated | Method and apparatus for inspecting ceramic wall flow filters |
| JP2014163612A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 整流装置、ダクト |
-
1998
- 1998-12-09 JP JP10349666A patent/JP2000171024A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007015810A2 (en) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Corning Incorporated | Method, system and apparatus for detecting defects in a honeycomb body using a particulate fluid |
| WO2007015810A3 (en) * | 2005-07-29 | 2007-04-19 | Corning Inc | Method, system and apparatus for detecting defects in a honeycomb body using a particulate fluid |
| US7648549B2 (en) | 2005-07-29 | 2010-01-19 | Corning Incorporated | Method, system and apparatus for detecting defects in a honeycomb body using a particulate fluid |
| US8234909B2 (en) | 2009-08-26 | 2012-08-07 | Corning Incorporated | Method and apparatus for inspecting ceramic wall flow filters |
| JP2014163612A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 整流装置、ダクト |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040630 |