JP2000161735A - クリーン化装置 - Google Patents

クリーン化装置

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JP2000161735A
JP2000161735A JP10332477A JP33247798A JP2000161735A JP 2000161735 A JP2000161735 A JP 2000161735A JP 10332477 A JP10332477 A JP 10332477A JP 33247798 A JP33247798 A JP 33247798A JP 2000161735 A JP2000161735 A JP 2000161735A
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hepa filter
filter unit
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Isao Saraoka
功夫 更岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クリーン環境を必要とする製造現場に適用さ
れて、製造に関するコストダウンを図るクリーン化装置
を提供する。 【解決手段】 クリーンを必要とする製造ラインにおい
て、ワーク21の搬送通路9内で局所クリーン用HEP
Aフィルタユニット1を天井面50のうちワーク21を
搬送車3と受渡する装置7のワーク搬入/搬出口となる
ワーク受渡用開口4の上部天井面に設置し、ワーク21
受渡時に搬送車3と装置7間の隙間に清浄化された空気
が送風される。これにより、隙間がクリーンに保たれ、
清浄化された雰囲気下でワーク21の受渡が可能となっ
て、天井面50の全面にHEPAフィルタユニットを設
けなくとも、装置7と搬送車3とのワーク受渡を含む搬
送時のワーク21のダスト汚染を確実に回避できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はクリーン化装置に
関し、特に、液晶デバイスおよび半導体デバイスなどの
クリーン環境が必要とされる製造ラインに適用されるク
リーン化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来のクリーンルームの正面概
略図である。図4には、たとえば液晶デバイスおよび半
導体デバイスなどのクリーンな製造環境が要求されるデ
バイス製造工場に適用されるクリーンルームが示され
る。
【0003】クリーンルームの天井20においては、自
動(または手動)にてワーク21を搬送するための搬送
車または搬送ロボット(以下、搬送車と総称する)3に
よりワーク搬送および作業者が作業するための搬送通路
9に対応するすべての面には、HEPA(High Efficie
ncy Particle Airの略)フィルタユニット11が設けら
れる。HEPAフィルタユニット11は搬送通路9全体
にクリーンな空気の送風路(図4の点線矢印A方向のダ
ウンフロー)を形成して、搬送通路9全体の清浄空気が
維持される。
【0004】ワーク21は清浄度が維持された搬送通路
9を搬送車3により搬送されて、ワーク21を用いた製
造のための装置7へ搬入される。
【0005】装置7の搬送通路9側のワーク受渡用開口
4を介してワーク21が装置7外部とやり取りされる内
部部分では上部方向に装置ローダ部HEPAフィルタユ
ニット8が設けられて、ワーク21の受渡部分において
クリーンな空気の送風路(図4の点線矢印B方向のダウ
ンフロー)を形成してワーク21周囲のクリーン状態が
図られる。
【0006】また、装置7はクリーンルーム4の床面3
0に複数のアジャスタ31を介して床面30から一定間
隔を有した状態で取付けられる。
【0007】また、装置7の底部面ならびに床面30に
は、図示されないが複数の貫通したパンチ孔が形成され
ているので、HEPAフィルタユニット8および11か
らのダウンフローはこれら複数のパンチ孔を介してクリ
ーンルーム外部に排出される。
【0008】また、作業者ゾーンとワーク搬送通路が分
離されているクリーン化システム、いわゆるクリーント
ンネルでも同様に、ワーク搬送にかかわる通路を、その
天井全面に設けられたHEPAフィルタユニットからの
ダウンフローによりクリーンな空気の維持が図られてい
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】図4の従来のクリーン
ルームおよびクリーントンネルでは、ワークの搬送通路
の天井全面にHEPAフィルタユニットを取付けている
ので、デバイスの生産に直接に関与しないクリーンルー
ムの建設に費用がかかりすぎること、クリーンルームの
運転維持費がかかりすぎることなどの問題があった。
【0010】また、液晶表示装置およびカラーフィルタ
の製造工場では、材料基板が拡大する傾向にある。この
場合、図4に示されるような搬送車3が大型化して工場
全体に占めるワーク搬送通路9の占有面積が大きくな
り、ワーク搬送通路9全体をクリーン化するために多大
な設備投資と維持費が必要であった。上述したクリーン
ルームの設備に関する費用の増大は、すべて製品のコス
トアップにつながるので、クリーンルームの設備に関す
る費用の削減が強く望まれる。
【0011】また、半導体デバイスおよび液晶デバイス
に関するワーク搬送システムでは、効率のよい搬送のた
めに複数の搬送通路9が並行して設けられる。このと
き、搬送車3と装置7との間でワーク21の受渡中に、
隣接する搬送通路9を他の搬送車3が通過すると、これ
によりダストの巻上げや気流の乱れから受渡中のワーク
21がダスト汚染されて、製品の歩留りの低下を引起こ
す。
【0012】また、このようなダスト汚染からワーク2
1を保護するためには、隣搬送通路9の搬送車3の走行
を取り止めたり、ワーク21受渡中の隣搬送通路9の走
行を禁止するような新規システムの構築が必要となっ
て、搬送システムの初期投資額が増大する。これもま
た、前述と同様に製品のコストアップを引起こす。
【0013】また、特開平7−190437号公報に開
示の局所クリーン化装置では、ワークの搬送通路を対象
にして局所的にクリーン化の程度を高める技術が開示さ
れるにすぎず、搬送車と装置との受渡段階におけるワー
クのダスト汚染の改善については何ら示されていない。
【0014】それゆえにこの発明の目的は、クリーン環
境を必要とする製造現場に適用されて、製品に関するコ
ストダウンを図ることのできるクリーン化装置の提供を
目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載のクリー
ン化装置は、クリーン化された内部にワークを収容しな
がら搬送する搬送装置が通行する搬送路と、ワーク受渡
のための受渡開口部が形成されて、搬送装置と受渡開口
部を介してワークを受渡しながら、クリーン化された内
部にワークを収容してワークを用いた製造を行うための
製造装置とを有した製造ラインに適用される製造ライン
をクリーンにするためのものであり、以下の特徴を有す
る。
【0016】すなわち、搬送路において、ワーク受渡時
に生じる製造装置と搬送装置との隙間に対応する上部位
置には、この隙間にダウンフローするHEPAフィルタ
ユニットが設けられる。
【0017】したがって、製造装置と搬送装置との隙間
でワーク受渡が行われる場合に、この隙間にHEPAフ
ィルタユニットからダウンフローされるので、クリーン
な状態の隙間でワークの受渡が行われる。
【0018】それゆえに、隙間に対応する上部位置に局
所的に設けられたHEPAフィルタユニットによりワー
ク搬送環境全般にわたりクリーンな状態を維持できるか
ら、クリーン化装置に関するコスト削減が図られて製品
の製造コスト削減も図られる。
【0019】請求項2に記載のクリーン化装置は、請求
項1に記載のクリーン化装置においてHEPAフィルタ
ユニットには、ダウンフローを隙間の方向に導くための
風向板が設けられることを特徴とする。
【0020】したがって、風向板によりダウンフローは
隙間に効率的に導かれる。それゆえに、HEPAフィル
タユニットを隙間に接近して取付けることが困難な場合
でも、ワークの受渡が行われる隙間をクリーンな状態に
維持できる。
【0021】請求項3に記載のクリーン化装置は、請求
項1または2に記載のクリーン化装置において搬送路が
複数本設けられる場合には、HEPAフィルタユニット
は、隙間に対応する上部位置に隙間に沿って直列に連続
して複数個設けられる。
【0022】したがって、隙間に沿って直列に連続して
複数個設けられたHEPAフィルタユニットからのダウ
ンフローにより隙間に沿ってエアカーテンが形成され
る。
【0023】それゆえに、製造装置と搬送装置との隙間
でワーク受渡が行われる場合に、他の搬送路を搬送装置
が通行して気流の乱れまたはダストのまきあげが生じて
も、形成されたエアカーテンにより隙間へのダストの侵
入は阻止されて、受渡中のワークがダスト汚染されるこ
とはない。
【0024】請求項4に記載のクリーン化装置は請求項
1ないし3のいずれかに記載のクリーン化装置において
HEPAフィルタユニットは、ダウンフローのための吹
出口を有し、この吹出口の幅の大きさは隙間の幅の大き
さに接近している。
【0025】従って、吹出口のダウンフローは効率的に
隙間に導入されて、隙間のクリーン度は維持される。
【0026】請求項5に記載のクリーン化装置は請求項
1ないし4のいずれかに記載のクリーン化装置におい
て、HEPAフィルタユニットは、搬送装置の上部面に
接近した高さとなる位置に設置される。
【0027】したがって、HEPAフィルタユニットか
らのダウンフローは搬送装置の上部面に接近した高さ位
置から行われるので、ダウンフローは効率的に隙間に導
入されて、隙間のクリーン度は維持される。
【0028】請求項6に記載のクリーン化装置は請求項
1ないし5のいずれかに記載のクリーン化装置におい
て、ワーク受渡時に、製造装置内部から隙間へクリーン
化された空気の吹出しが生じる。
【0029】したがって、受渡中のワークはHEPAフ
ィルタユニットからのダウンフローとともに製造装置内
部からのクリーン化された空気の吹出を受けるのでダス
ト汚染されることはない。
【0030】請求項7に記載のクリーン化装置は請求項
1〜6のいずれかに記載のクリーン化装置の製造ライン
において、製造装置と搬送通路とは同一床面に設置され
て、床面と製造装置のワーク受渡開口部に対応の下部床
面との間には、隙間を通過したダウンフローを製造ライ
ンの外部に導出するための導出路が形成される。
【0031】したがって、隙間を通過したダウンフロー
は導出路から製造ラインの外部に排出されて、搬送通路
に長く留まることはない。それゆえに、隙間のみならず
搬送通路もクリーン度は維持される。
【0032】請求項8に記載のクリーン化装置は請求項
7に記載のクリーン化装置において、床面には製造ライ
ンの外部に通じる複数の貫通孔が形成されて、床面の導
出路における複数の貫通孔による開口率は、床面の他の
部分よりも高い。
【0033】したがって、導出路の床面の排気の程度は
床面の他の部分よりも高いので、導出路に導入されたダ
ウンフローは速やかに製造ラインの外部に排出されて、
隙間ならびに製造ラインのクリーン度は維持される。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
【0035】(実施の形態1)図1は、この発明の実施
の形態1におけるクリーンルームの正面概略図である。
図1においてクリーンルームは床面40と天井50との
間の空間にワーク21を搬送車3を走行させながら搬送
するための搬送通路9およびワーク21の製造に関する
装置7が同一床面40上に設けられる。搬送車3の内部
には、図示されないが、搬送のために内部に収容したワ
ーク21に対してクリーン状態を維持するためHEPA
フィルタユニットが取付けられている。
【0036】装置7は複数のアジャスタ31を介して床
面40に間接的に、すなわち床面40との間に空間を設
けて固定して設置される。
【0037】搬送通路9に対応する天井50の部分で
は、クリーンルーム内に長く清浄空気を留めておくため
に加圧傾向にして清浄空気をダウンフローする加圧用H
EPAフィルタユニット2が固定して設置される。加圧
用HEPAフィルタユニット2は、図1では1個しか示
されないが、実際には数メートル間隔で複数個設けられ
る。
【0038】また、装置7の内部のワーク21が外部の
搬送車3などとワーク受渡用開口4を介してやり取りさ
れる部分では、上部方向に装置ローダ部HEPAフィル
タユニット8が設けられる。装置ローダ部HEPAフィ
ルタユニット8がワーク21の受渡部分においてクリー
ンな空気の送風路を形成するようにダウンフローする。
したがって、ワーク受渡時にはワーク受渡用開口4を介
して装置ローダ部HEPAフィルタユニット8からのダ
ウンフローが搬送車3方向に送出される。
【0039】装置7のHEPAフィルタユニット8に対
応する底部面には複数のパンチ孔があけられているの
で、HEPAフィルタユニット8からのダウンフローは
装置7外部に排出される。
【0040】また、装置7の外部であってワーク21の
搬送車3との受渡が行なわれる部分に対応の天井50の
部分には、搬送車3との上部面に接近して、かつ搬送車
3と干渉しない位置に局所クリーン用HEPAフィルタ
ユニット1が取付けられる。
【0041】クリーンルーム外部の空気は図示されない
プレフィルタを介して局所クリーン用HEPAフィルタ
ユニット1に供給されて、局所クリーン用HEPAフィ
ルタユニット1からは極めて高い清浄度の空気が床面4
0方向にダウンフローされる。したがって、装置7と搬
送車3との間のワーク21の受渡の際に生じるわずかな
隙間のクリーン度の維持が可能となる。この隙間に効率
的にダウンフローするために局所クリーン用HEPAフ
ィルタユニット1の吹出口の幅の大きさと隙間のそれと
は接近している。
【0042】床面40には複数の貫通するパンチ孔が形
成されており、装置ローダ部HEPAフィルタユニット
8、局所クリーン用HEPAフィルタユニット1および
加圧用HEPAフィルタユニット2によるダウンフロー
は、床面40の複数のパンチ孔を通してクリーンルーム
外部に排出される。
【0043】ワーク21の搬送において、搬送車3は各
装置7の搬送通路9側に設けられたワーク受渡用開口4
の前に停車して図示されない受渡ロボットを介して装置
7との間でワーク21の受渡を行なう。
【0044】このとき、装置7の搬送車3側の外部であ
って搬送車3との間の隙間のワーク21の受渡部分で
は、天井50の対応する部分に設けられた局所クリーン
用HEPAフィルタユニット1から清浄な空気がダウン
フローされる。したがって、ワーク21は装置7と搬送
車3との間でワーク受渡用開口4を通して受渡されると
きのみ、搬送通路9を通過する状態、すなわち搬送通路
9の空気にさらされる状態となるが、搬送通路9を通過
する状態においても局所クリーン用HEPAフィルタユ
ニット1からのダウンフローならびにHEPAフィルタ
ユニット8からのワーク受渡用開口4を介したダウンフ
ローを受けることができるので、ダスト汚染されること
なく清浄な状態に保たれる。
【0045】また、ワーク21受渡時に生じる搬送車3
と装置7間の隙間の清浄度の維持および気流制御のため
に、装置7のワーク受渡部下床面6は床面40の他の部
分に比べて開口率が高くなるようにパンチ孔が形成され
る。これにより、局所クリーン用HEPAフィルタユニ
ット1からのダウンフローは、搬送車3と装置7間の隙
間と気流制御用開口5とを通過して速やかに装置7と床
面6間に流れて、床面6の高い開口率によりパンチ孔よ
りクリーンルーム外部に速やかに排出されるから、ダス
トにより搬送通路9におけるワーク21が汚染されるこ
とが確実に回避される。尚、気流制御用開口5は隙間を
通過したダウンフローを装置7の下部面と床面6との間
に導入するための導入口である。
【0046】図1においては実験によれば、搬送通路9
における床面40から天井50までの高さを3m、局所
クリーン用HEPAフィルタユニット1の設置高さを床
面40から1800mm、ワーク受渡用開口4を幅70
0mm×高さ700mm、ワーク21の受渡時の床面4
0からの高さを950mm、搬送車3と装置7間のワー
ク21受渡時の隙間を150mm以下、たとえば50m
m、搬送車3の床面40からの高さを1750mm、気
流制御用開口5を幅700mm×高さ100mm、装置
7のワーク21の受渡部下の床面6の開口率を60%、
局所クリーン用HEPAフィルタユニット1からのダウ
ンフローの風速を0.4m/秒、およびワーク受渡用開
口4からの吹出の風速を0.2m/秒に設定した場合、
受渡用開口4付近で0.3μmダストクラス10以下と
いう、極めてクリーンな状態を実現できた。
【0047】なお、上述した条件下で同様なクリーンな
状態を実現するには、好ましくは、局所クリーン用HE
PAフィルタユニット1の幅を搬送車3と装置7間の隙
間の幅の10倍以下、局所クリーン用HEPAフィルタ
ユニット1の設置高さを搬送車3の上部面から200m
m以下、装置7のワーク21の受渡部下の床面6の開口
率を高く、局所クリーン用HEPAフィルタユニット1
からのダウンフローの風速を0.2m/秒以上、および
ワーク受渡用開口4からの吹出の風速を0.2m/秒以
上に設定する。
【0048】(実施の形態2)図2は、この発明の実施
の形態2におけるクリーンルームの正面概略図である。
前述した図1において、局所クリーン用HEPAフィル
タユニット1を搬送車3に近づけて設置することが困難
(不可能)な場合には、図のように構成してもよい。
【0049】図2の構成と図1の構成とを比較し異なる
点は、図1の局所クリーン用HEPAフィルタユニット
1が局所クリーン用HEPAフィルタユニット1Aに代
替された点にある。図2の他の構成は図1のそれと同じ
であり、説明を省略する。
【0050】図2では、局所クリーン用HEPAフィル
タユニット1Aには一体的に風向板10が取付けられ
る。風向板10は着脱自在であってもよい。
【0051】風向板10は、局所クリーン用HEPAフ
ィルタユニット1Aからのダウンフローを、直下方向す
なわち搬送車3と装置7間の隙間方向に導くために設け
られる。そのためには、風向板10は、その面が装置7
の搬送通路9側の面と相対するように、かつその床面4
0側の先端が搬送車3に可能な限り近づくように(干渉
しないように)して設置される。
【0052】これにより、局所クリーン用HEPAフィ
ルタユニット1A自体を搬送車3に近づけることができ
ない場合でも、風向板10により局所クリーン用HEP
Aフィルタユニット1Aからのダウンフローは気流制御
されて、装置7と搬送車3間の隙間に効率的に導かれ
て、この隙間におけるクリーン度を十分に維持できる。
【0053】また、実施の形態1で示された実験の各値
に追加して、風向板10を、その先端が搬送車3の上部
面から100mm以内の高さとなるように設置すること
で、実施の形態1と同様にワーク受渡用開口4付近で
0.3μmダストクラス10以下が達成される。
【0054】(実施の形態3)図3はこの発明の実施の
形態3におけるクリーンルームの平面概略図である。実
施の形態1または2のクリーンルームにおいて、搬送車
が走行する車線が複数ある搬送通路60が設けられる場
合などは、図3のように局所クリーン用HEPAフィル
タユニット1(1A)を、搬送車と装置とのワーク21
の受渡部上部だけでなく連続して複数個設置する。
【0055】これにより、隣車線を走行中搬送車12が
走行することによる周囲環境でのダストの発生および気
流の乱れからワーク21の受渡中搬送車13と装置7間
の隙間へのダストの侵入が防止されて、受渡中のワーク
21のダスト汚染を確実に回避できる。
【0056】図3では、装置7と受渡中搬送車13との
間のワーク21受渡時の隙間とその近辺の上部に、該隙
間に沿って直列に局所クリーン用HEPAフィルタユニ
ット1(1A)が複数個連続して設置される。これによ
り、複数個に連続してつらなるHEPAフィルタユニッ
ト1(1A)からの一斉のダウンフローにより、装置7
とワーク21を受渡中の搬送車13との間の隙間とその
近辺に該隙間に沿うエアカーテンが形成される。
【0057】したがって、ワーク21受渡中搬送車13
の隣車線を図中矢印D方向に搬送車12が走行して、図
3の点線矢印C方向の気流の乱れならびにダストの巻上
げが発生したとしても、形成された上述のエアカーテン
により装置7と受渡中搬送車13との間の隙間にダスト
が侵入することはないので、受渡中のワーク21のダス
ト汚染を確実に回避できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1におけるクリーンルー
ムの正面概略図である。
【図2】この発明の実施の形態2におけるクリーンルー
ムの正面概略図である。
【図3】この発明の実施の形態3におけるクリーンルー
ムの平面概略図である。
【図4】従来のクリーンルームの正面概略図である。
【符号の説明】
1および1A 局所クリーン用HEPAフィルタユニッ
ト 2 加圧用HEPAフィルタユニット 3、12および13 搬送車 4 ワーク受渡用開口 5 気流制御用開口 6 ワーク受渡部下床面 7 装置 8 装置ローダ部HEPAフィルタユニット 9 搬送通路 10 風向板 21 ワーク なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クリーン化された内部にワークを収容し
    ながら搬送する搬送装置が通行する搬送路と、ワーク受
    渡のための受渡開口部が形成されて、前記搬送装置と前
    記受渡開口部を介して前記ワークを受渡しながら、クリ
    ーン化された内部に前記ワークを収容して前記ワークを
    用いた製造を行うための製造装置とを有した製造ライン
    に適用される前記製造ラインをクリーンにするためのク
    リーン化装置であって、 前記搬送路において、前記ワーク受渡時に生じる前記製
    造装置と前記搬送装置との隙間に対応する上部位置に
    は、前記隙間にダウンフローするHEPAフィルタユニ
    ットが設けられることを特徴とする、クリーン化装置。
  2. 【請求項2】 前記HEPAフィルタユニットには、前
    記ダウンフローを前記隙間の方向に導くための風向板が
    設けられることを特徴とする、請求項1に記載のクリー
    ン化装置。
  3. 【請求項3】 前記搬送路が複数本設けられる場合に
    は、前記HEPAフィルタユニットは、前記隙間に対応
    する上部位置に、前記隙間に沿って直列に連続して複数
    個設けられることを特徴とする、請求項1または2に記
    載のクリーン化装置。
  4. 【請求項4】 前記HEPAフィルタユニットは、前記
    ダウンフローのための吹出口を有し、前記吹出口の幅の
    大きさは前記隙間の幅の大きさに接近していることを特
    徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載のクリー
    ン化装置。
  5. 【請求項5】 前記HEPAフィルタユニットは、前記
    搬送装置の上部面に接近した高さとなる位置に設置され
    ることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれかに記
    載のクリーン化装置。
  6. 【請求項6】 前記ワーク受渡時に、前記製造装置内部
    から前記隙間へクリーン化された空気の吹出しが生じる
    ことを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載
    のクリーン化装置。
  7. 【請求項7】 前記製造ラインにおいて、前記製造装置
    と前記搬送通路とは同一床面に設置されて、前記床面と
    前記製造装置の前記ワーク受渡開口部に対応の下部面と
    の間には、前記隙間を通過した前記ダウンフローを前記
    製造ラインの外部に導出するための導出路が形成される
    ことを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載のク
    リーン化装置。
  8. 【請求項8】 前記床面には前記製造ラインの外部に通
    じる複数の貫通孔が形成されて、前記床面の前記導出路
    における前記複数の貫通孔による開口率は、前記床面の
    他の部分よりも高いことを特徴とする、請求項7に記載
    のクリーン化装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004051736A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Kondoh Industries, Ltd. ミニエンバイラメント方式の半導体製造装置
JP2009192201A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Olympus Corp 生産装置
JP2010223465A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Dainippon Printing Co Ltd クリーン空調システム
CN103625881A (zh) * 2013-01-16 2014-03-12 世源科技工程有限公司 密闭式自洁净搬运系统

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004051736A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Kondoh Industries, Ltd. ミニエンバイラメント方式の半導体製造装置
CN100349276C (zh) * 2002-12-03 2007-11-14 近藤工业株式会社 气帘形成装置
US7416998B2 (en) 2002-12-03 2008-08-26 Kondoh Industries, Ltd. Air-curtain forming apparatus for wafer hermetic container in semiconductor-fabrication equipment of minienvironment system
JP2009192201A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Olympus Corp 生産装置
JP2010223465A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Dainippon Printing Co Ltd クリーン空調システム
CN103625881A (zh) * 2013-01-16 2014-03-12 世源科技工程有限公司 密闭式自洁净搬运系统
CN103625881B (zh) * 2013-01-16 2017-02-15 世源科技工程有限公司 密闭式自洁净搬运系统

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