JP2000159717A - フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造方法、及びフォトレジストパタ―ンの形成方法 - Google Patents
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造方法、及びフォトレジストパタ―ンの形成方法Info
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- JP2000159717A JP2000159717A JP11307544A JP30754499A JP2000159717A JP 2000159717 A JP2000159717 A JP 2000159717A JP 11307544 A JP11307544 A JP 11307544A JP 30754499 A JP30754499 A JP 30754499A JP 2000159717 A JP2000159717 A JP 2000159717A
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- C07C43/30—Compounds having groups
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- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
- C07C2602/42—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing seven carbon atoms
Abstract
(57)【要約】
【課題】遠紫外線光源を利用するフォトリソグラフィー
工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造方法
を提供する。 【解決手段】遠紫外線光源を利用するフォトリソグラフ
ィー工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造
方法に関するものであり、下記式（１）の化合物を製造
する。 【化１】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造方法
を提供する。 【解決手段】遠紫外線光源を利用するフォトリソグラフ
ィー工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造
方法に関するものであり、下記式（１）の化合物を製造
する。 【化１】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト共
重合体の合成に用いられる新規の単量体及びその製造方
法に関し、より詳しくは遠紫外線領域の光源を採用する
リソグラフィー工程に適する性質を有するフォトレジス
ト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造
方法、及びフォトレジストパターンの形成方法に関す
る。
重合体の合成に用いられる新規の単量体及びその製造方
法に関し、より詳しくは遠紫外線領域の光源を採用する
リソグラフィー工程に適する性質を有するフォトレジス
ト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造
方法、及びフォトレジストパターンの形成方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、フォトレジスト樹脂は優れたエ
ッチング耐性、耐熱性、接着性、及び解像度等が要求さ
れている。
ッチング耐性、耐熱性、接着性、及び解像度等が要求さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のArFフ
ォトレジスト等は大部分エッチング耐性が弱く、前述し
た特性を十分に満足させることができない。例えば、脂
環族化合物（alicycliccompound）を単量体として得ら
れたフォトレジストはエッチング耐性、及び解像度は優
れているが、遠紫外線波長領域、例えばArF光の波長で
吸光度が大きいため高密度、高解像度のパターンを得る
ことができなかった。
ォトレジスト等は大部分エッチング耐性が弱く、前述し
た特性を十分に満足させることができない。例えば、脂
環族化合物（alicycliccompound）を単量体として得ら
れたフォトレジストはエッチング耐性、及び解像度は優
れているが、遠紫外線波長領域、例えばArF光の波長で
吸光度が大きいため高密度、高解像度のパターンを得る
ことができなかった。
【０００４】従って、本発明は遠紫外線光源を用いるリ
ソグラフィー工程に適するエッチング耐性、及び接着性
を有する新規の単量体とその製造方法、フォトレジスト
重合体の製造方法、及びフォトレジストパターンの形成
方法提供することを目的とする。
ソグラフィー工程に適するエッチング耐性、及び接着性
を有する新規の単量体とその製造方法、フォトレジスト
重合体の製造方法、及びフォトレジストパターンの形成
方法提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、高性能の
レジスト開発障害を克服することができる単量体を開発
するため多数の研究と実験を繰り返した結果、一つ以上
のヒドロキシル基またはアルコキシ基を含む下記式
（１）の化合物を、フォトレジスト共重合体を製造する
ための単量体として用いる場合シリコン ウェーハに対
する接着性が大きく向上し、優れた解像度、及びエッチ
ング耐性を有するレジストの開発が可能であるという驚
きべき事実を明らかにし本発明を完成した。
レジスト開発障害を克服することができる単量体を開発
するため多数の研究と実験を繰り返した結果、一つ以上
のヒドロキシル基またはアルコキシ基を含む下記式
（１）の化合物を、フォトレジスト共重合体を製造する
ための単量体として用いる場合シリコン ウェーハに対
する接着性が大きく向上し、優れた解像度、及びエッチ
ング耐性を有するレジストの開発が可能であるという驚
きべき事実を明らかにし本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明の請求項１に記載の発明
は、下記式（１）で示されるフォトレジスト単量体であ
る。
は、下記式（１）で示されるフォトレジスト単量体であ
る。
【化７】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【０００７】請求項２記載の発明は、請求項１記載のフ
ォトレジスト単量体であって、−ＯＲ'ＯＨ及び−Ｏ
Ｒ''ＯＨは、下記式（２）〜（９）の化合物のいずれか
であることを特徴とする。
ォトレジスト単量体であって、−ＯＲ'ＯＨ及び−Ｏ
Ｒ''ＯＨは、下記式（２）〜（９）の化合物のいずれか
であることを特徴とする。
【化８】
【０００８】請求項３記載の発明は、請求項１記載のフ
ォトレジスト単量体であって、前記式（１）の化合物は
５−ノルボルネン−２−（１−メトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−エトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−プロピルオキシ）メタノ
ール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシメタ
ノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシプロピルオ
キシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブ
チルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２
−ヒドロキシエトキシエトキシメタノール、５−ノルボ
ルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタ
ノール、５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシルメトキシメタノール、５−ノルボル
ネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメ
トキシ メタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒ
ドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノル
ボルネン−２−（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキ
シメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキ
シメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、５−ノ
ルボルネン−２−（２−ヒドロキシメチル）シクロペン
チルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、５−
ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチル
オキシメタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−
５−エン−２−メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]
ヘプト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノール、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン２−（１−
エトキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプ
ト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノール、オ
キサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレ
ングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシ
クロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレング
リコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリ
コール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ペンタメチレングリ
コール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ジエチレングリコー
ル−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,
２,１]ヘプト−５−エン−２−トリエチレングリコール
−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,
１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジ
メタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシ
クロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シク
ロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテ
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
（１,３−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチ
ルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エ
ン−２−（１,４−シクロヘキサンジオール）−ヒドロ
キシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト
−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタノー
ル）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,
２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタ
ンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサ
ビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−
シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテ
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
（１,２−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチ
ルエーテル、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシ
エトキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロ
キシプロピルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２
−ジヒドロキシブチルオキシメタン、５−ノルボルネン
−２,２−ジヒドロキシペンチルオキシメタン、５−ノ
ルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシメ
タン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキ
シエトキシエトキシメタン、オキサビシクロ[２,２,１]
ヘプト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメ
チルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５
−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコールメチルエ
ーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン
−２,２−ジ（テトラメチレングリコールメチルエーテ
ル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２,２−ジ（ペンタメチレングリコールメチルエーテ
ル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２,２−ジ（ジエチレングリコールメチルエーテル）及
び、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,
２−ジ（トリエチレングリコールメチルエーテル）のい
ずれかであることを特徴とする。
ォトレジスト単量体であって、前記式（１）の化合物は
５−ノルボルネン−２−（１−メトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−エトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−プロピルオキシ）メタノ
ール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシメタ
ノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシプロピルオ
キシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブ
チルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２
−ヒドロキシエトキシエトキシメタノール、５−ノルボ
ルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタ
ノール、５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシルメトキシメタノール、５−ノルボル
ネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメ
トキシ メタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒ
ドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノル
ボルネン−２−（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキ
シメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキ
シメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、５−ノ
ルボルネン−２−（２−ヒドロキシメチル）シクロペン
チルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、５−
ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチル
オキシメタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−
５−エン−２−メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]
ヘプト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノール、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン２−（１−
エトキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプ
ト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノール、オ
キサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレ
ングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシ
クロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレング
リコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリ
コール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ペンタメチレングリ
コール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ジエチレングリコー
ル−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,
２,１]ヘプト−５−エン−２−トリエチレングリコール
−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,
１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジ
メタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシ
クロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シク
ロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテ
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
（１,３−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチ
ルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エ
ン−２−（１,４−シクロヘキサンジオール）−ヒドロ
キシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト
−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタノー
ル）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,
２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタ
ンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサ
ビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−
シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテ
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
（１,２−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチ
ルエーテル、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシ
エトキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロ
キシプロピルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２
−ジヒドロキシブチルオキシメタン、５−ノルボルネン
−２,２−ジヒドロキシペンチルオキシメタン、５−ノ
ルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシメ
タン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキ
シエトキシエトキシメタン、オキサビシクロ[２,２,１]
ヘプト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメ
チルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５
−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコールメチルエ
ーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン
−２,２−ジ（テトラメチレングリコールメチルエーテ
ル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２,２−ジ（ペンタメチレングリコールメチルエーテ
ル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２,２−ジ（ジエチレングリコールメチルエーテル）及
び、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,
２−ジ（トリエチレングリコールメチルエーテル）のい
ずれかであることを特徴とする。
【０００９】請求項４記載の発明は、塩基または酸触媒
の存在下で、（i）下記式（１０）の化合物と（ii）ヒ
ドロキシル基を有するアルキル化合物を反応させること
を特徴とする下記式（１）のフォトレジスト単量体の製
造方法である。
の存在下で、（i）下記式（１０）の化合物と（ii）ヒ
ドロキシル基を有するアルキル化合物を反応させること
を特徴とする下記式（１）のフォトレジスト単量体の製
造方法である。
【化９】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5
の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8
のシクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のア
ルキルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【化１０】 このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。
【００１０】請求項５記載の発明は、請求項４記載のフ
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記ヒドロキ
シル基を有するアルキル化合物は、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコール、トリメチレ
ングリコール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタ
ンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、１,３−
シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサン
ジオール、１,４−シクロヘキサンジオール、１,３−シ
クロペンタンジメタノール、１,２−シクロペンタンジ
メタノール、１,３−シクロペンタンジオール、及び１,
２−シクロペンタンジオールからなる群から選択される
ことを特徴とする。
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記ヒドロキ
シル基を有するアルキル化合物は、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコール、トリメチレ
ングリコール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタ
ンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、１,３−
シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサン
ジオール、１,４−シクロヘキサンジオール、１,３−シ
クロペンタンジメタノール、１,２−シクロペンタンジ
メタノール、１,３−シクロペンタンジオール、及び１,
２−シクロペンタンジオールからなる群から選択される
ことを特徴とする。
【００１１】請求項６記載の発明は、請求項４記載のフ
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記酸触媒は
硫酸、塩酸、硝酸、及び酢酸からなる群から選択される
ことを特徴とする。
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記酸触媒は
硫酸、塩酸、硝酸、及び酢酸からなる群から選択される
ことを特徴とする。
【００１２】請求項７記載の発明は、請求項４記載のフ
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記塩基触媒
は水素化ナトリウム（NaH）、ポタシウムヒドライド
（ＫＨ）、カルシウムヒドライド（CaH2）、及びリチウ
ムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）からなる群から選択
されることを特徴とする。
ォトレジスト単量体の製造方法であって、前記塩基触媒
は水素化ナトリウム（NaH）、ポタシウムヒドライド
（ＫＨ）、カルシウムヒドライド（CaH2）、及びリチウ
ムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）からなる群から選択
されることを特徴とする。
【００１３】請求項８記載の発明は、請求項４記載のフ
ォトレジスト単量体の製造方法であって、反応溶媒はテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、トルエ
ン、及びキシレンからなる群から選択されることを特徴
とする。
ォトレジスト単量体の製造方法であって、反応溶媒はテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、トルエ
ン、及びキシレンからなる群から選択されることを特徴
とする。
【００１４】請求項９記載の発明は、下記式（１）の化
合物を単量体に用いることを特徴とするフォトレジスト
重合体の製造方法である。
合物を単量体に用いることを特徴とするフォトレジスト
重合体の製造方法である。
【化１１】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【００１５】請求項１０記載の発明は、下記式（１）の
化合物を単量体に用いて製造されたフォトレジスト重合
体をE−ビーム（Electron−beam）、ArF、KrF、ＥＵＶ
（Extreme Ultra Violet）、ＶＵＶ（Vacuum Ultra Vio
let）またはＸ線光源を利用するリソグラフィー工程に
用いることを特徴とするフォトレジストパターンの形成
方法である。
化合物を単量体に用いて製造されたフォトレジスト重合
体をE−ビーム（Electron−beam）、ArF、KrF、ＥＵＶ
（Extreme Ultra Violet）、ＶＵＶ（Vacuum Ultra Vio
let）またはＸ線光源を利用するリソグラフィー工程に
用いることを特徴とするフォトレジストパターンの形成
方法である。
【化１２】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の前記特徴および他の特徴
を、以下において説明する。
を、以下において説明する。
【００１７】本発明に係る新規のフォトレジスト単量体
は下記式（１）に示される。
は下記式（１）に示される。
【化１３】 前記式で、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。一方、前
記−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは下記式（２）〜
（９）の化合物であることが好ましい。
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、Ｒ2は水素、−Ｏ
Ｈ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキ
シ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨである
が、このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の
直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8の
シクロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアル
キルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。一方、前
記−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは下記式（２）〜
（９）の化合物であることが好ましい。
【化１４】 本発明に係る前記式（１）の化合物は（i）下記式（１
０）の化合物と、（ii）１以上のヒドロキシル基を有す
るアルキル化合物を塩基、または酸触媒存在下の有機溶
媒中で反応させて製造することができる。
０）の化合物と、（ii）１以上のヒドロキシル基を有す
るアルキル化合物を塩基、または酸触媒存在下の有機溶
媒中で反応させて製造することができる。
【化１５】 このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。
一方、前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合物に
は、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタン
ジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘキ
サンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノー
ル、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロヘ
キサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノー
ル、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シク
ロペンタンジオール、１,２−シクロペンタンジオール
等がある。また、酸触媒には硫酸、塩酸、硝酸、酢酸等
を用いることができ、塩基触媒には水素化ナトリウム
（NaH）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウム
ヒドライド（CaH2）、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）等を用いることができる。さらに、反応溶媒
にはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等を用いることができる。
一方、前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合物に
は、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタン
ジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘキ
サンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノー
ル、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロヘ
キサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノー
ル、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シク
ロペンタンジオール、１,２−シクロペンタンジオール
等がある。また、酸触媒には硫酸、塩酸、硝酸、酢酸等
を用いることができ、塩基触媒には水素化ナトリウム
（NaH）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウム
ヒドライド（CaH2）、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）等を用いることができる。さらに、反応溶媒
にはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等を用いることができる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明するが、
本発明の技術的範囲がこれら実施例に限られることと理
解してはならない。
本発明の技術的範囲がこれら実施例に限られることと理
解してはならない。
【００１９】実施例１：５−ノルボルネン−２−（１−
メトキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド（carbox
aldehyde）（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びメタ
ノール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応
完了後、メタノールをロータリーエバポレーターを用い
て減圧下で除去した後、この溶液に水（２００ml）とエ
チルアセテート（３００ml）を添加して抽出した。有機
層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4
で脱水し、濾過した。濾液の溶媒をロータリーエバポレ
ーターを用いて減圧下で蒸発させ、残留物を高真空下で
蒸留し、無色透明な液体状の下記式（１１）の化合物
（１３g）を得た（収率：９３％）。
メトキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド（carbox
aldehyde）（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びメタ
ノール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応
完了後、メタノールをロータリーエバポレーターを用い
て減圧下で除去した後、この溶液に水（２００ml）とエ
チルアセテート（３００ml）を添加して抽出した。有機
層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4
で脱水し、濾過した。濾液の溶媒をロータリーエバポレ
ーターを用いて減圧下で蒸発させ、残留物を高真空下で
蒸留し、無色透明な液体状の下記式（１１）の化合物
（１３g）を得た（収率：９３％）。
【化１６】
【００２０】実施例２：５−ノルボルネン−２−（１−
エトキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエタノ
ール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応完
了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の
下記式（１２）の化合物（１５g）を得た（収率：９１
％）。
エトキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエタノ
ール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応完
了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の
下記式（１２）の化合物（１５g）を得た（収率：９１
％）。
【化１７】
【００２１】実施例３：５−ノルボルネン−２−（１−
プロピルオキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びプロパ
ノール（５００ml）を１２時間常温で反応させた。反応
完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状
の下記式（１３）の化合物（１７g）を得た（収率：９
１％）。
プロピルオキシ）メタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びプロパ
ノール（５００ml）を１２時間常温で反応させた。反応
完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状
の下記式（１３）の化合物（１７g）を得た（収率：９
１％）。
【化１８】
【００２２】実施例４：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエチレ
ングリコール（１００ml）を常温で１０時間反応させ
た。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明
な液体状の下記式（１４）の化合物 （１６g）を得た
（収率：８９％）。
キシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエチレ
ングリコール（１００ml）を常温で１０時間反応させ
た。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明
な液体状の下記式（１４）の化合物 （１６g）を得た
（収率：８９％）。
【化１９】
【００２３】実施例５：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシプロピルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリメ
チレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１５）の化合物（１７g）を得た
（収率：８５％）。
キシプロピルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリメ
チレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１５）の化合物（１７g）を得た
（収率：８５％）。
【化２０】
【００２４】実施例６：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシブチルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,４−
ブタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応させ
た。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明
な液体状の下記式（１６）の化合物（１８g）を得た
（収率：８６％）。
キシブチルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,４−
ブタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応させ
た。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明
な液体状の下記式（１６）の化合物（１８g）を得た
（収率：８６％）。
【化２１】
【００２５】実施例７：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシペンチルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,５−
ペンタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１７）の化合物（１９g）を得た
（収率：８３％）。
キシペンチルオキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,５−
ペンタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１７）の化合物（１９g）を得た
（収率：８３％）。
【化２２】
【００２６】実施例８：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシエトキシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びジエチ
レングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１８）の化合物（２０g）を得た
（収率：８５％）。
キシエトキシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びジエチ
レングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１８）の化合物（２０g）を得た
（収率：８５％）。
【化２３】
【００２７】実施例９：５−ノルボルネン−２−ヒドロ
キシエトキシエトキシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリエ
チレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例２と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１９）の化合物（２２g）を得た
（収率：７９％）。
キシエトキシエトキシエトキシメタノールの合成 ５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxa
ldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリエ
チレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応さ
せた。反応完了後、実施例２と同一の手順を経て無色透
明な液体状の下記式（１９）の化合物（２２g）を得た
（収率：７９％）。
【化２４】
【００２８】実施例１０：５−ノルボルネン−２−（４
−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この溶液に水（３００ml）とエチルアセテー
ト（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３０
０ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾
過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒
を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な
液体状の下記式（２０）の化合物（２５g）を得た（収
率：９３％）。
−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この溶液に水（３００ml）とエチルアセテー
ト（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３０
０ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾
過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒
を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な
液体状の下記式（２０）の化合物（２５g）を得た（収
率：９３％）。
【化２５】
【００２９】実施例１１：５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２１）の化合物（２４g）を得
た（収率：９１％）。
−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２１）の化合物（２４g）を得
た（収率：９１％）。
【化２６】
【００３０】実施例１２：５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２２）の化合物（２１g）を得
た（収率：８８％）。
−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２２）の化合物（２１g）を得
た（収率：８８％）。
【化２７】
【００３１】実施例１３：５−ノルボルネン−２−（４
−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２３）の化合物（２２g）を得
た（収率：９２％）。
−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセ
テート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水
（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水
し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下
で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色
透明な液体状の下記式（２３）の化合物（２２g）を得
た（収率：９２％）。
【化２８】
【００３２】実施例１４：５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２４）の化合物（２３g）
を得た（収率：９０％）。
−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温で５−ノル
ボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２４）の化合物（２３g）
を得た（収率：９０％）。
【化２９】
【００３３】実施例１５：５−ノルボルネン−２−（２
−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジメタール溶液に、常温で５−ノルボ
ルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２５）の化合物（２３g）
を得た（収率：９０％）。
−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノー
ルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジメタール溶液に、常温で５−ノルボ
ルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２５）の化合物（２３g）
を得た（収率：９０％）。
【化３０】
【００３４】実施例１６：５−ノルボルネン−２−（３
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２６）の化合物（２０g）
を得た（収率：８７％）。
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２６）の化合物（２０g）
を得た（収率：８７％）。
【化３１】
【００３５】実施例１７：５−ノルボルネン−２−（２
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２７）の化合物（２０.４
g）を得た（収率：８５％）。
−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボル
ネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)
（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反
応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（２７）の化合物（２０.４
g）を得た（収率：８５％）。
【化３２】
【００３６】実施例１８：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−メタノールの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を３０
０mlのエチルアルコールに溶解したあと、０.１molのNa
BH4を常温で徐々に添加した。次いで、反応混合物を１
時間程度攪拌したあと、１０時間還流下で反応させた。
反応後、エチルアルコールを蒸留除去して２００mlのア
セトンを投入し、１時間程度還流させて過剰のNaBH4を
除去した。アセトンを蒸留除去後、残留した混合物に１
００mlの１０％塩酸を投入して１０分間攪拌した。この
反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（３００
ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でも
う一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロー
タリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させ
た。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下
記式（２８）の化合物（１１g）を得た（収率：８７
％）。
プト−５−エン−２−メタノールの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を３０
０mlのエチルアルコールに溶解したあと、０.１molのNa
BH4を常温で徐々に添加した。次いで、反応混合物を１
時間程度攪拌したあと、１０時間還流下で反応させた。
反応後、エチルアルコールを蒸留除去して２００mlのア
セトンを投入し、１時間程度還流させて過剰のNaBH4を
除去した。アセトンを蒸留除去後、残留した混合物に１
００mlの１０％塩酸を投入して１０分間攪拌した。この
反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（３００
ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でも
う一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロー
タリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させ
た。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下
記式（２８）の化合物（１１g）を得た（収率：８７
％）。
【化３３】
【００３７】実施例１９：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノールの合
成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間
還流下で反応させた。次いで、メタノールをロータリー
エバポレーターで蒸留除去した。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（３００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２９）の化
合物（１３g）を得た（収率：９３％）。
プト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノールの合
成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間
還流下で反応させた。次いで、メタノールをロータリー
エバポレーターで蒸留除去した。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（３００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２９）の化
合物（１３g）を得た（収率：９３％）。
【化３４】
【００３８】実施例２０：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１−エトキシ）メタノールの合
成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間
還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順
を経て無色透明な液体状の下記式（３０）の化合物（１
３g）を得た（収率：９１％）。
プト−５−エン−２−（１−エトキシ）メタノールの合
成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間
還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順
を経て無色透明な液体状の下記式（３０）の化合物（１
３g）を得た（収率：９１％）。
【化３５】
【００３９】実施例２１：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノールの
合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びプロパノール（５００ml）を１０時
間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手
順を経て無色透明な液体状の下記式（３１）の化合物
（１７g）を得た（収率：９１％）。
プト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノールの
合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びプロパノール（５００ml）を１０時
間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手
順を経て無色透明な液体状の下記式（３１）の化合物
（１７g）を得た（収率：９１％）。
【化３６】
【００４０】実施例２２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−エチレングリコール−ヒドロキシ
メチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びエチレングリコール（１００ml）を
８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例
１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３
２）の化合物（１６g）を得た（収率：８９％）。
プト−５−エン−２−エチレングリコール−ヒドロキシ
メチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びエチレングリコール（１００ml）を
８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例
１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３
２）の化合物（１６g）を得た（収率：８９％）。
【化３７】
【００４１】実施例２３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−トリメチレングリコール−ヒドロ
キシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びトリメチレングリコール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３３）の化合物（１７g）を得た（収率：８５
％）。
プト−５−エン−２−トリメチレングリコール−ヒドロ
キシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びトリメチレングリコール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３３）の化合物（１７g）を得た（収率：８５
％）。
【化３８】
【００４２】実施例２４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒド
ロキシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及び１,４−ブタンジオール（１００ml）
を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施
例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式
（３４）の化合物（１８g）を得た（収率：８６％）。
プト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒド
ロキシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及び１,４−ブタンジオール（１００ml）
を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施
例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式
（３４）の化合物（１８g）を得た（収率：８６％）。
【化３９】
【００４３】実施例２５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒド
ロキシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及び１,５−ペンタンジオール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３５）の化合物（１９g）を得た（収率：８３
％）。
プト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒド
ロキシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及び１,５−ペンタンジオール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３５）の化合物（１９g）を得た（収率：８３
％）。
【化４０】
【００４４】実施例２６：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキ
シメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びジエチレングリコール（１００ml）
を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施
例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式
（３６）の化合物（２０g）を得た（収率：８５％）。
プト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキ
シメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びジエチレングリコール（１００ml）
を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施
例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式
（３６）の化合物（２０g）を得た（収率：８５％）。
【化４１】
【００４５】実施例２７：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロ
キシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びトリエチレングリコール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３７）の化合物（２２g）を得た（収率：８５
％）。
プト−５−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロ
キシメチルエーテルの合成 オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カル
ボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸
（０.３ml）、及びトリエチレングリコール（１００m
l）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、
実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記
式（３７）の化合物（２２g）を得た（収率：８５
％）。
【化４２】
【００４６】実施例２８：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水
（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加し
て抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄し
たあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を
高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３８）
の化合物（２５g）を得た（収率：９３％）。
プト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水
（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加し
て抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄し
たあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を
高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３８）
の化合物（２５g）を得た（収率：９３％）。
【化４３】
【００４７】実施例２９：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水
（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加し
て抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄し
たあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を
高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３９）
の化合物（２４g）を得た（収率：９１％）。
プト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水
（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加し
て抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄し
たあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポ
レーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を
高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３９）
の化合物（２４g）を得た（収率：９１％）。
【化４４】
【００４８】実施例３０：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４０）の化
合物を得た（収率：８８％）。
プト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４０）の化
合物を得た（収率：８８％）。
【化４５】
【００４９】実施例３１：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４１）の化
合物（２２g）を得た（収率：９２％）。
プト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４
−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２
００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽
出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあ
と無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真
空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４１）の化
合物（２２g）を得た（収率：９２％）。
【化４６】
【００５０】実施例３２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２
８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４
２）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
プト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２
８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４
２）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化４７】
【００５１】実施例３３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２
８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４
３）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
プト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシア
ルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加し
たあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２
８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４
３）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化４８】
【００５２】実施例３４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と
同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４４）の
化合物（２０g）を得た（収率：８７％）。
プト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３
−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と
同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４４）の
化合物（２０g）を得た（収率：８７％）。
【化４９】
【００５３】実施例３５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と
同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４５）の
化合物（２０.４g）を得た（収率：８５％）。
プト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジオー
ル）−ヒドロキシメチルエーテルの合成 水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２
−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデ
ヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあ
と、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と
同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４５）の
化合物（２０.４g）を得た（収率：８５％）。
【化５０】
【００５４】実施例３６：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシエトキシメタンの製造 エチレングリコールを実施例４で用いたモル数の２倍用
いることを除いては、実施例４と同一の手順を経て無色
透明な液体状の下記式（４６）の化合物を得た。
ジヒドロキシエトキシメタンの製造 エチレングリコールを実施例４で用いたモル数の２倍用
いることを除いては、実施例４と同一の手順を経て無色
透明な液体状の下記式（４６）の化合物を得た。
【化５１】
【００５５】実施例３７：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシプロピルオキシメタンの製造 トリメチレングリコールを実施例５で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例５と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（４７）の化合物を得た。
ジヒドロキシプロピルオキシメタンの製造 トリメチレングリコールを実施例５で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例５と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（４７）の化合物を得た。
【化５２】
【００５６】実施例３８：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシブチルオキシメタンの製造 １,４−ブタンジオールを実施例６で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例６と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（４８）の化合物を得た。
ジヒドロキシブチルオキシメタンの製造 １,４−ブタンジオールを実施例６で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例６と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（４８）の化合物を得た。
【化５３】
【００５７】実施例３９：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシペンチルオキシメタンの製造 １,５−ペンタンジオールを実施例７で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例７と同一の手順を経
て無色透明な液体状の下記式（４９）の化合物を得た。
ジヒドロキシペンチルオキシメタンの製造 １,５−ペンタンジオールを実施例７で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例７と同一の手順を経
て無色透明な液体状の下記式（４９）の化合物を得た。
【化５４】
【００５８】実施例４０：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシエトキシエトキシメタンの製造 ジエチレングリコールを実施例８で用いたモル数の２倍
用いることを除いては、実施例８と同一の手順を経て無
色透明な液体状の下記式（５０）の化合物を得た。
ジヒドロキシエトキシエトキシメタンの製造 ジエチレングリコールを実施例８で用いたモル数の２倍
用いることを除いては、実施例８と同一の手順を経て無
色透明な液体状の下記式（５０）の化合物を得た。
【化５５】
【００５９】実施例４１：５−ノルボルネン−２,２−
ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタンの製造 トリエチレングリコールを実施例９で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例９と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（５１）の化合物を得た。
ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタンの製造 トリエチレングリコールを実施例９で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例９と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（５１）の化合物を得た。
【化５６】
【００６０】実施例４２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメチ
ルエーテル）の製造 エチレングリコールを実施例２２で用いたモル数の２倍
用いることを除いては、実施例２２と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（５２）の化合物を得た。
プト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメチ
ルエーテル）の製造 エチレングリコールを実施例２２で用いたモル数の２倍
用いることを除いては、実施例２２と同一の手順を経て
無色透明な液体状の下記式（５２）の化合物を得た。
【化５７】
【００６１】実施例４３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコール
メチルエーテル）の製造 トリメチレングリコールを実施例２３で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２３と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５３）の化合物を得
た。
プト−５−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコール
メチルエーテル）の製造 トリメチレングリコールを実施例２３で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２３と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５３）の化合物を得
た。
【化５８】
【００６２】実施例４４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（テトラメチレングリコー
ルメチルエーテル）の製造 １,４−ブタンジオールを実施例２４で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２４と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５４）の化合物を得
た。
プト−５−エン−２,２−ジ（テトラメチレングリコー
ルメチルエーテル）の製造 １,４−ブタンジオールを実施例２４で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２４と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５４）の化合物を得
た。
【化５９】
【００６３】実施例４５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメチレングリコー
ルメチルエーテル）の製造 １,５−ペンタンジオールを実施例２５で用いたモル数
の２倍用いることを除いては、実施例２５と同一の手順
を経て無色透明な液体状の下記式（５５）の化合物を得
た。
プト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメチレングリコー
ルメチルエーテル）の製造 １,５−ペンタンジオールを実施例２５で用いたモル数
の２倍用いることを除いては、実施例２５と同一の手順
を経て無色透明な液体状の下記式（５５）の化合物を得
た。
【化６０】
【００６４】実施例４６：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレングリコールメ
チルエーテル）の製造 ジエチレングリコールを実施例２６で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例２６と同一の手順を経
て無色透明な液体状の下記式（５６）の化合物を得た。
プト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレングリコールメ
チルエーテル）の製造 ジエチレングリコールを実施例２６で用いたモル数の２
倍用いることを除いては、実施例２６と同一の手順を経
て無色透明な液体状の下記式（５６）の化合物を得た。
【化６１】
【００６５】実施例４７：オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレングリコール
メチルエーテル）の製造 トリエチレングリコールを実施例２７で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２７と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５７）の化合物を得
た。
プト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレングリコール
メチルエーテル）の製造 トリエチレングリコールを実施例２７で用いたモル数の
２倍用いることを除いては、実施例２７と同一の手順を
経て無色透明な液体状の下記式（５７）の化合物を得
た。
【化６２】
【００６６】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る化合物は、
０.１５μm（１Ｇ以上のＤＲＡＭ）以下の高密度微細パ
ターンに適用可能なElectron−beam、ArF、KrF、ＥＵ
Ｖ、ＶＵＶまたはＸ線用フォトレジスト樹脂を合成する
ための単量体として効果的に用いることができる。本発
明に係る単量体は一つ以上のヒドロキシル基またはアル
コキシ基を含むため、フォトレジスト樹脂の合成に利用
される場合シリコン ウェーハに対する接着力が大きく
向上され、優れた解像度及びエッチング耐性を有するレ
ジストを開発することができる。
０.１５μm（１Ｇ以上のＤＲＡＭ）以下の高密度微細パ
ターンに適用可能なElectron−beam、ArF、KrF、ＥＵ
Ｖ、ＶＵＶまたはＸ線用フォトレジスト樹脂を合成する
ための単量体として効果的に用いることができる。本発
明に係る単量体は一つ以上のヒドロキシル基またはアル
コキシ基を含むため、フォトレジスト樹脂の合成に利用
される場合シリコン ウェーハに対する接着力が大きく
向上され、優れた解像度及びエッチング耐性を有するレ
ジストを開発することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｇ０３Ｆ 7/027 (72)発明者 金 炯秀 大韓民国京畿道利川市夫鉢邑牙美里山136 −１ 現代電子産業株式会社内 (72)発明者 金 珍秀 大韓民国京畿道利川市夫鉢邑牙美里山136 −１ 現代電子産業株式会社内 (72)発明者 鄭 載昌 大韓民国京畿道利川市夫鉢邑牙美里山136 −１ 現代電子産業株式会社内 (72)発明者 鄭 ▲みん▼鎬 大韓民国京畿道利川市夫鉢邑牙美里山136 −１ 現代電子産業株式会社内 (72)発明者 白 基鎬 大韓民国京畿道利川市夫鉢邑牙美里山136 −１ 現代電子産業株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】下記式（１）で示されるフォトレジスト単
量体。 【化１】 前記式で、 ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、 Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、 Ｒ2は水素、−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分
れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−
Ｒ''')n−ＯＨであるが、 このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直
鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシ
クロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキ
ルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。 - 【請求項２】−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは、下記式
（２）〜（９）の化合物のいずれかであることを特徴と
する請求項１記載のフォトレジスト単量体。 【化２】 - 【請求項３】前記式（１）の化合物は５−ノルボルネン
−２−（１−メトキシ）メタノール、５−ノルボルネン
−２−（１−エトキシ）メタノール、５−ノルボルネン
−２−（１−プロピルオキシ）メタノール、５−ノルボ
ルネン−２−ヒドロキシエトキシメタノール、５−ノル
ボルネン−２−ヒドロキシプロピルオキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブチルオキシメタノ
ール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシペンチルオキ
シメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエト
キシエトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒド
ロキシエトキシエトキシエトキシメタノール、５−ノル
ボルネン−２−（４−ヒドロキシメチル）シクロヘキシ
ルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−
ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシ メタノー
ル、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロ
ヘキシルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−
（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シク
ロペンチルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２
−（２−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメ
タノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）
シクロペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−
２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノー
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エ
ン−２−（１−メトキシ）メタノール、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン２−（１−エトキシ）メタ
ノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２−（１−プロポキシ）メタノール、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレングリコール
−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,
１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレングリコール−
ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]
ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒ
ドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒド
ロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプ
ト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキシ
メチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５
−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロキシメチ
ルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エ
ン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタノール）−ヒ
ドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘ
プト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタ
ノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘ
キサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサ
ビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−
シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテ
ル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−
（１,３−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシ
メチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５
−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタノール）
−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,
１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジ
オール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペ
ンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、５−ノ
ルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシメタン、５
−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシプロピルオキシ
メタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシブチ
ルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロ
キシペンチルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２
−ジヒドロキシエトキシエトキシメタン、５−ノルボル
ネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシ
メタン、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−
２,２−ジ（エチレングリコールメチルエーテル）、オ
キサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ
（トリメチレングリコールメチルエーテル）、オキサビ
シクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（テト
ラメチレングリコールメチルエーテル）、オキサビシク
ロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメ
チレングリコールメチルエーテル）、オキサビシクロ
[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレン
グリコールメチルエーテル）及び、オキサビシクロ[２,
２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレング
リコールメチルエーテル）のいずれかであることを特徴
とする請求項１記載のフォトレジスト単量体。 - 【請求項４】塩基または酸触媒の存在下で、（i）下記
式（１０）の化合物と（ii）ヒドロキシル基を有するア
ルキル化合物を反応させることを特徴とする下記式
（１）のフォトレジスト単量体の製造方法。 【化３】 前記式で、 ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、 Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、 Ｒ2は水素、−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分
れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−
Ｒ''')n−ＯＨであるが、 このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直
鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシ
クロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキ
ルで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。 【化４】 このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。 - 【請求項５】前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合
物は、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレ
ングリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタ
ンジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘ
キサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノ
ール、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロ
ヘキサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノー
ル、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シク
ロペンタンジオール、及び１,２−シクロペンタンジオ
ールからなる群から選択されることを特徴とする請求項
４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。 - 【請求項６】前記酸触媒は硫酸、塩酸、硝酸、及び酢酸
からなる群から選択されることを特徴とする請求項４記
載のフォトレジスト単量体の製造方法。 - 【請求項７】前記塩基触媒は水素化ナトリウム（Na
H）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウムヒド
ライド（CaH2）、及びリチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）からなる群から選択されることを特徴とする
請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。 - 【請求項８】反応溶媒はテトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ジオキサン、ベンゼン、トルエン、及びキシレンからな
る群から選択されることを特徴とする請求項４記載のフ
ォトレジスト単量体の製造方法。 - 【請求項９】下記式（１）の化合物を単量体に用いるこ
とを特徴とするフォトレジスト重合体の製造方法。 【化５】 前記式で、 ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、 Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、 Ｒ2は水素、−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分
れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−
Ｒ''')n−ＯＨであるが、 このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖
または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシク
ロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキル
で、ｎは２〜５のいずれかの整数である。 - 【請求項１０】下記式（１）の化合物を単量体に用いて
製造されたフォトレジスト重合体をE−ビーム（Electro
n−beam）、ArF、KrF、ＥＵＶ（Extreme Ultra Viole
t）、ＶＵＶ（Vacuum Ultra Violet）またはＸ線光源を
利用するリソグラフィー工程に用いることを特徴とする
フォトレジストパターンの形成方法。 【化６】 前記式で、 ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、 Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、 Ｒ2は水素、−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分
れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−
Ｒ''')n−ＯＨであるが、 このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖
または枝分れ状のアルキルまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシク
ロアルキルであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキル
で、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2354763A (en) * | 1999-08-17 | 2001-04-04 | Hyundai Electronics Ind | Novel photoresist monomers having stability to post exposure delay, polymers thereof and photoresist compositions containing the same |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| KR100557608B1 (ko) * | 1999-02-10 | 2006-03-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 신규의 포토레지스트 가교제 및 이를 이용한 포토레지스트 조성물 |
| JP2003020313A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 脂環構造を有する新規エポキシ化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 |
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|---|---|---|---|---|
| US5254638A (en) * | 1991-03-25 | 1993-10-19 | The Reagents Of The University Of California | Composite materials of interpenetrating inorganic and organic polymer networks |
| US6232417B1 (en) | 1996-03-07 | 2001-05-15 | The B. F. Goodrich Company | Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups |
| ES2245465T3 (es) * | 1996-09-18 | 2006-01-01 | Applied Genetics Incorporated Dermatics | Dioles de compuestos de norborneno y norbornano para el tratamiento de trastornos de la pigmentacion, enfermedades neurodegenerativas o enfermedades proliferativas de la piel. |
-
1999
- 1999-10-27 US US09/428,171 patent/US6359153B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-10-28 JP JP30754499A patent/JP3794883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2354763A (en) * | 1999-08-17 | 2001-04-04 | Hyundai Electronics Ind | Novel photoresist monomers having stability to post exposure delay, polymers thereof and photoresist compositions containing the same |
| JP2001122927A (ja) * | 1999-08-17 | 2001-05-08 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 |
| US6455225B1 (en) | 1999-08-17 | 2002-09-24 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Photoresist monomers having stability to post exposure delay, polymers thereof and photoresist compositions containing the same |
| GB2354763B (en) * | 1999-08-17 | 2004-03-24 | Hyundai Electronics Ind | Photoresist polymers and photoresist compositions containing the same |
| JP2009244904A (ja) * | 1999-08-17 | 2009-10-22 | Hynix Semiconductor Inc | フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 |
| JP4663075B2 (ja) * | 1999-08-17 | 2011-03-30 | 株式会社ハイニックスセミコンダクター | フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法及びフォトレジスト組成物 |
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| JP3794883B2 (ja) | 2006-07-12 |
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