JP2000153177A - 研削液に含まれるスラッジの分離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 極めて簡単な構造でメンテナンスを簡素化す
る。非磁性金属プレートの上面に沈降する無機質粒子
を、付着堆積させることなく研削液から分離する。 【解決手段】 スラッジの分離装置は、分離槽４と、こ
の分離槽４内に配設されて、スラッジＳを表面で移動さ
せる非磁性金属プレート５と、非磁性金属プレート５の
表面に磁気的な吸引力でスラッジＳを吸着して排出方向
に移動させる磁気コンベア６とを備える。分離槽４に
は、研削液の供給管７と集液管８を配設している。供給
管７は、集液管８よりも下方に配設されて、供給管７か
ら供給される研削液に含まれるスラッジＳを、下方に沈
降させて非磁性金属プレート５の表面に堆積させる。非
磁性金属プレート５は、平滑な表面に、金属メッキし、
あるいはホーロー層を成形し、あるいはまた、鏡面研磨
して鏡面処理面１８として、堆積されたスラッジＳを、
鏡面処理面１８で滑動させて分離している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研削液に含まれる
スラッジを分離する装置に関する。本明細書において
「研削液」は切削液を含む広い意味に使用する。

【０００２】

【従来の技術】研削液に含まれる大きなスラッジは、濾
過して簡単に除去できる。しかしながら、微細なスラッ
ジを能率よく除去するのは相当に難しい。微細なスラッ
ジを除去するために、磁気的な吸着力を使用する装置が
開発されている。この装置は、磁気的な吸着力で、研削
液中で速やかに沈降させるのが難しい微細な粒子を能率
よく吸着できる。

【０００３】磁気吸着力でスラッジを分離する装置は、
たとえば、特開昭５６−８７４３７号公報と特開昭５５
−８４５６０号公報に記載される。前者の公報に記載さ
れる装置は、ベルトコンベアの裏面に多数の磁石を固定
している。この分離装置は、ベルトコンベアの一部をス
ラッジを含む液中に浸漬して、研削液に含まれるスラッ
ジをベルトの表面に吸着させる。ベルトコンベアの他端
は、液の外部に延長される。液の外部において、ベルト
の表面に吸着したスラッジは、スクレーパで掻き取って
除去される。

【０００４】この構造の分離装置は、ベルトの表面をス
クレーパで掻き取って除去するので、ベルトとスクレー
パの摩耗が甚だしい。また、スクレーパが隙間なくベル
トの表面に密着しないと、ベルトに吸着されたスラッジ
を確実に除去できない。スラッジを確実に残らず分離す
るために、スクレーパをベルトに強く押し付けると、ス
クレーパとベルトの摩耗が甚だしくなる。さらに、この
構造の分離装置は、磁気的な吸着力でスラッジをベルト
表面に吸着するので、スクレーパで簡単に分離するのが
難しい。ベルトに吸着されようとする力が作用する状態
で、スラッジをベルトから分離する必要があるからであ
る。とくに、スラッジを能率よくベルトに吸着させるた
めに、磁気的な吸着力を強くすると、ベルトからスラッ
ジを分離するのが難しくなる。このため、スラッジを能
率よくベルトに吸着して研削液から分離するようにする
と、スラッジをベルトから分離するのが難しくなる。

【０００５】さらに、後者の公報に記載される分離装置
は、図１に示すように、スラッジＳを回転する円筒１の
表面に吸着させる。ここにスラッジＳを吸着させるため
に、円筒１の内側に磁石筒２を配設している。この装置
は、円筒１と磁石筒２とを同じ方向に回転させる。円筒
１は、ステンレス等の非磁性金属で製作される。円筒１
が研削液中に浸漬されると、その内面に磁石筒２を配設
しているので、スラッジＳが円筒１の表面に吸着され
る。円筒１に吸着されたスラッジＳは、円筒１の表面に
接触するスクレーパ３で掻き取って除去される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】図１に示す分離装置
は、円筒１の表面にスラッジＳを吸着してこれを掻き取
るので、ベルトコンベアを使用する装置に比較して、ス
ラッジＳをスムーズに除去できる。しかしながら、この
構造の分離装置も、円筒１の表面にスクレーパ３を押圧
させてスラッジＳを掻き取るので、円筒１とスクレーパ
３とが摩耗する欠点がある。さらに、円筒１と磁石筒２
の両方を回転させるので、全体の構造が複雑になって、
製造コストを低減するのが難しい。とくに、回転する円
筒１の内側で磁石筒２を回転させるので、構造が複雑に
なる。さらに、円筒１を液中で回転させるので、回転す
る円筒１が液を撹拌し、スラッジを効率よく円筒１に吸
着させるのが難しい欠点もある。

【０００７】本発明者はこの欠点を解消することを目的
に、図２に示すスラッジの分離装置を開発した。この分
離装置は、スラッジＳを含む研削液を供給する分離槽４
と、この分離槽４内に配設されて、スラッジＳを表面で
移動させる非磁性金属プレート５と、この非磁性金属プ
レート５の裏面に配設されて、非磁性金属プレート５の
表面に磁気的な吸引力でスラッジＳを吸着して排出方向
に移動させる磁気コンベア６とを備えている。分離槽４
は、スラッジＳを含む研削液の供給管７と、スラッジＳ
の分離された研削液を排出する集液管８を配設してい
る。供給管７は、分離槽４の底面に接近して配設し、集
液管８は、液面の近傍に配設している。さらに、非磁性
金属プレート５には、スラッジＳを堆積させる吸着部５
Ａと、スラッジＳを液中から排出する傾斜部５Ｂと、ス
ラッジＳを除去する落下部５Ｃとを設けている。吸着部
５Ａは、供給管７の下方にあって、研削液に含まれるス
ラッジＳを上面に堆積させる。ここに堆積するスラッジ
Ｓは、傾斜部５Ｂと落下部５Ｃを通過して非磁性金属プ
レート５から落下される。

【０００８】この構造の分離装置は、スラッジＳに含ま
れる磁性粉を、磁気コンベア６で吸着部５Ａの上面に吸
着する。吸着された磁性粉は、磁気コンベア６の磁石に
吸引され、この磁石が移動する方向に移送される。磁石
で移送される磁性粉は、傾斜部５Ｂから落下部５Ｃに移
送され、落下部５Ｃの先端から落下して分離される。こ
の構造の分離装置は、スラッジＳに含まれる磁性粉を効
率よく吸着して移送できる。このため、研削液に含まれ
る磁性粉を効率よく分離できる。さらに、図に示す分離
槽４は、スラッジＳに含まれる、研磨材が摩耗した粉末
や塵等の無機質粒子も磁性粉と一緒に分離できる。研削
液と一緒に分離槽４に供給された無機質粒子や磁性粉
が、液中を沈降して吸着部５Ａの表面に堆積するからで
ある。とくに、供給管７を集液管８の下方に配設する構
造は、供給管７から供給さる研削液が上昇して集液管８
から排出されるので、研削液の流れは上昇する方向にあ
って降下する方向には流動しない。このため、供給管７
の下方において、研削液はほとんど流動しない状態とな
って、無機質粒子や磁性粉を静かに沈降させる。この部
分で研削液が流動すると、流動する研削液とともに無機
質粒子が運ばれる。とくに、微細な無機質粒子は、研削
液中に浮遊して沈降するのに時間がかかるので、研削液
がわずかに流動しても、一緒に流されやすい。

【０００９】図２に示すように、供給管７の上に集液管
８を配設して、供給管７から均一に研削液を供給し、さ
らに、供給された研削液を集液管８から均質に排出する
構造にすると、研削液に含まれる微細な無機質粒子は、
自重でゆっくりと研削液中を沈降する。磁性粉は磁石に
吸引されてスムーズに吸着部５Ａに沈降する。吸着部５
Ａに沈降して堆積した無機質粒子は、磁石で移送される
磁性粉を介して、吸着部５Ａから傾斜部５Ｂに、傾斜部
５Ｂから落下部５Ｃに移送される。このため、図２に示
す分離槽４は、磁性粉のみでなく無機質粒子を含むスラ
ッジＳも研削液から分離できる特長がある。

【００１０】しかしながら、この構造の分離槽は、磁性
粉を磁気的な吸引力で強制的に移送し、この磁性粉を媒
体として無機質粒子を移送するので、常に無機質粒子を
効率よく移送するのは難しい。磁石の吸引力で移送され
ない無機質粒子は、非磁性金属プレートの表面に沈降し
て一部が表面に付着する。困ったことに、無機質粒子の
一部が非磁性金属プレートの表面に付着すると、これが
次第に堆積して、付着する膜厚を厚くする。厚く堆積し
た無機質粒子は、その上に堆積する磁性粉の吸引力を低
下させる。磁性粉と磁石との距離が長くなるからであ
る。吸引力が低下すると、磁石は磁性粉を効率よく移送
できなくなり、さらに、付着しやすい状態となる。この
ため、図２に示す分離装置は、一定時間使用すると、非
磁性金属プレートの表面に付着する無機質粒子を除去す
る必要がある。この装置は、非磁性金属プレートの上方
に供給管と集液管とを配設しているので、供給管と集液
管とを除去しないと、非磁性金属プレートの表面全体を
清掃できない。供給管と集液管とが邪魔になるからであ
る。

【００１１】本発明者は、この弊害を解消するために、
非磁性金属プレートに、表面を平滑面とするステンレス
板を使用した。平滑なステンレス板は、表面に無機質粒
子が付着しないと考えたからである。しかしながら、こ
の構造によっても、非磁性金属プレートの表面には、微
細な凹凸ができて、無機質粒子が次第に厚く付着する弊
害は解消できなかった。本発明者は、さらに装置を改良
するために、非磁性金属プレートの表面に沿って移動す
るブラシを設けた分離装置を開発した。この装置は、一
定時間使用すると、ブラシを非磁性金属プレートの表面
に沿って移動して、非磁性金属プレートに付着する無機
質粒子を除去できる。しかしながら、この装置は、ブラ
シを非磁性金属プレートに沿って移動させる機構によっ
て、全体の構造が複雑になることに加えて、ブラシを交
換する必要があるので、メンテナンスに費用が高くな
り、また、メンテナンスに手間もかかる欠点があった。
さらに、ブラシが非磁性金属プレートに沿って移動する
と、非磁性金属プレートに沈降していたスラッジが研削
液中に浮遊する状態となるので、この状態でスラッジを
除去できなくなる。このため、非磁性金属プレートを清
掃するときに、研削液にスラッジが拡散する欠点もあ
る。

【００１２】本発明は従来のこのような欠点を解消する
ことを目的に開発されたもので、本発明の大切な目的
は、極めて簡単な構造でメンテナンスを簡素化し、さら
に、非磁性金属プレートの上面に沈降する無機質粒子
を、非磁性金属プレートに付着堆積させることなく、理
想的な状態で研削液から分離できるスラッジの分離装置
を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の研削液に含まれ
るスラッジの分離装置は、前述の目的を達成するために
下記の構成を備える。分離装置は、スラッジＳを含む研
削液を供給する分離槽４と、この分離槽４内に配設され
て、スラッジＳを表面で移動させる非磁性金属プレート
５と、この非磁性金属プレート５の裏面に配設されて、
非磁性金属プレート５の表面に磁気的な吸引力でスラッ
ジＳを吸着して排出方向に移動させる磁気コンベア６と
を備える。

【００１４】分離槽４には、スラッジＳを含む研削液の
供給管７と、スラッジＳの分離された研削液を排出する
集液管８を配設している。供給管７は、集液管８よりも
下方に配設している。供給管７は複数部分に分散させて
研削液を分離槽４に供給する。この供給管７から分散し
て供給された研削液を、その上方で回収するように集液
管８を配設している。

【００１５】供給管７から分離槽４に供給される研削液
は、上昇して上方の集液管８から排出される。供給管７
から分離槽４に供給される研削液に含まれるスラッジＳ
は、研削液と反対に、下方に沈降させて非磁性金属プレ
ート５の表面に堆積させる。

【００１６】非磁性金属プレート５は、供給管７の下方
に配設されており、研削液に含まれるスラッジＳを沈降
させて、上面に堆積させる吸着部５Ａと、この吸着部５
Ａに堆積するスラッジＳを、分離槽４の液面よりも上方
に移動させる傾斜部５Ｂと、この傾斜部５Ｂで研削液か
ら引き上げられたスラッジＳを非磁性金属プレート５の
先端から落下させて分離する落下部５Ｃとを備える。

【００１７】さらに、本発明のスラッジの分離装置は、
非磁性金属プレート５の平滑な表面に、金属メッキし、
あるいはホーロー層を成形し、あるいはまた、鏡面研磨
して鏡面処理面１８として、吸着部５Ａに堆積されたス
ラッジＳを、非磁性金属プレート５の表面の鏡面処理面
１８で滑動させて分離するように構成している。

【００１８】本発明の請求項２のスラッジの分離装置
は、非磁性金属プレート５の表面をクロームメッキし、
あるいは、表面粗さを▽▽▽以上する鏡面に研磨した鏡
面処理面１８としている。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明
の技術思想を具体化するための研削液に含まれるスラッ
ジの分離装置を例示するものであって、本発明は分離装
置を下記のものに特定しない。

【００２０】さらに、この明細書は、特許請求の範囲を
理解し易いように、実施例に示される部材に対応する番
号を、「特許請求の範囲の欄」および「課題を解決する
ための手段の欄」に示される部材に付記している。た
だ、特許請求の範囲に示される部材を、実施例の部材に
特定するものでは決してない。

【００２１】図３に示す研削液に含まれるスラッジの分
離装置は、たとえば、切削油に含まれる金属スラッジを
分離するのに使用される。この分離装置は、スラッジＳ
を含む切削油である研削液が供給される分離槽４と、こ
の分離槽４の研削液に含まれるスラッジＳを吸着して排
出する非磁性金属プレート５と、この非磁性金属プレー
ト５に磁気的な吸引力で吸着させる磁気コンベア６とを
備える。

【００２２】分離槽４は、スラッジＳを含む研削液を供
給する複数の供給管７と、スラッジＳの分離された研削
液を排出する集液管８とを水平に配設している。供給管
７は集液管８よりも下方に配設している。さらに、供給
管７は、複数本を所定の間隔で平行に配設しており、分
離槽４の複数部分に分散させて研削液を供給する。集液
管８は、供給管７から分散して供給された研削液を、そ
の上方に流して回収するように配設している。各々の供
給管７は、所定の間隔で、研削液を供給する複数供給孔
７Ａを、下向きに開口している。複数の供給管７は並列
に連結されて、分離タンク９と流量調整弁１０とポンプ
１１とを介して、貯溜タンク１２に連結されている。ポ
ンプ１１は、貯溜タンク１２の研削液を吸入して分離タ
ンク９に移送する。分離タンク９の研削液は、自然に流
下して供給管７から分離槽４に供給される。

【００２３】供給管７に研削液を供給する分離タンク９
は、パンチングメタル９Ａと、整流板９Ｂと、分配板９
Ｃとを平行に固定して、ポンプ１１から供給される研削
液に含まれる大きなスラッジを分離して、分離槽４に供
給する。自然流下式に研削液を分離槽４に供給する装置
は、分離タンク９と分離槽４との相対的な高さを調整し
て、研削液を分離槽４にスムーズに供給できる。分離タ
ンク９を分離槽４よりも高くするほど、研削液の供給量
を多くできる。研削液の供給量は、分離装置の分離能力
を考慮して最適値に設定する。

【００２４】集液管８は、液面の近傍に配設されてい
る。図の集液管８は、平面板の上面に、スラッジＳの分
離された研削液を流入させるＶ溝８Ａを設けている。Ｖ
溝８Ａは一定の間隔で複数本設けられている。供給管７
から分離槽４に供給され、上昇する方向に流れて、スラ
ッジＳの分離された研削液は、オーバーフローするよう
に、Ｖ溝８Ａに流入される。Ｖ溝８Ａは、その端部を、
図示しないが、排出管１３に連結している。Ｖ溝８Ａに
流入する研削液は、排出管１３を通過して、分離槽４の
外部に設けたリターンタンク１４に排出される。リター
ンタンク１４に供給されたスラッジＳを分離して綺麗に
なった切削油等の研削液は、再び研磨機等に供給して何
回も繰り返し使用される。

【００２５】図に示す分離装置は、非磁性金属プレート
５を分離槽４の底板としている。ただ、分離槽４の底板
とは別に、分離槽４の内部に非磁性金属プレート５を配
設することもできるのは言うまでもない。ただ、非磁性
金属プレート５を分離槽４の底板に兼用する装置は、最
も簡単な構造にできる。

【００２６】非磁性金属プレート５は、ステンレス、ア
ルミニウム、銅等の非磁性金属で製作される。この非磁
性金属プレート５は、供給管７から供給される研削液に
含まれるスラッジＳを吸着する吸着部５Ａと、この吸着
部５ＡのスラッジＳを研削液の外部に上昇させる傾斜部
５Ｂと、傾斜部５Ｂで研削液の外部に送り出されたスラ
ッジＳを非磁性金属プレート５から分離する落下部５Ｃ
とを備える。

【００２７】非磁性金属プレート５は、図３の拡大断面
図に示すように、上面を平滑面とすることに加えて、さ
らに、表面を金属メッキし、あるいは、表面にホーロー
層を形成し、あるいはまた、表面を鏡面に研磨して鏡面
処理面１８としている。

【００２８】金属メッキは、クロームメッキや金メッキ
である。クロームメッキは、低コストで表面が硬く、し
かも凹凸の少ない鏡面にできる特長がある。金属メッキ
された鏡面処理面１８は、メッキ層によって、表面の凹
凸が極めて少ない鏡面となる。メッキ層の膜厚は、好ま
しくは３〜１００μｍ、より好ましくは１０〜５０μｍ
とする。クロームメッキは、磁気シールドして磁石がス
ラッジを磁気的に吸引する力を弱める。このため、クロ
ームメッキは、できる限り薄い薄膜として、非磁性金属
プレート５の表面を鏡面とするのがよい。ただ、クロー
ムメッキが薄すぎると、非磁性金属プレートの表面を理
想的な鏡面にできない。このため、クロームメッキ層の
膜厚は、５〜５０μｍとするのがよい。金属メッキして
表面を鏡面処理面１８とする非磁性金属プレート５は、
銅板が適している。金属メッキを付着しやすいからであ
る。ただ、ステンレス板やアルミニウム板も、表面に金
属メッキをして鏡面処理面とすることができる。

【００２９】ホーロー層は、非磁性金属プレート５の表
面に低融点のゆう薬を均一に塗布し、これを溶融状態に
流動させる温度まで加熱して、表面を鏡面状態として焼
結する。ホーロー層は、クロームメッキのように磁気シ
ールドする作用がない。このため、厚くして非磁性金属
プレート５の表面を鏡面にできる特長がある。ホーロー
層の膜厚は、たとえば、０．１〜２ｍｍとする。ホーロ
ー層は極めて硬いので耐久性があって、長寿命にできる
特長がある。

【００３０】表面を鏡面に研磨して鏡面処理面とした非
磁性金属プレートは、表面粗さを▽▽▽以上とする鏡面
に研磨して鏡面処理面とする。この非磁性金属プレート
は、たとえば、研磨材にバフを使用して、非磁性金属プ
レートの表面を鏡面に研磨する。この非磁性金属プレー
トは、ステンレス板が適している。それは、鏡面処理面
の腐食を防止できるからである。この構造の非磁性金属
プレートは、もっとも安価に表面を鏡面処理面にできる
特長がある。

【００３１】吸着部５Ａは、分離槽４の底板の水平部で
構成される。図において、底板の左部はスラッジＳの移
送方向に向かって上り勾配の傾斜面となっており、この
傾斜面で傾斜部５Ｂを構成している。傾斜部５Ｂは、上
端を液面よりも上方まで延長している。傾斜部５Ｂは、
上端で所定の曲率半径で湾曲されて垂直に降下する落下
部５Ｃに連結されている。落下部５Ｃは非磁性金属プレ
ート５の先端に設けられており、落下部５Ｃの下方には
スラッジＳの溜槽１５を設けている。

【００３２】磁気コンベア６は、非磁性金属プレート５
の下方に配設される。スラッジＳを磁気的な吸引力で吸
着して、非磁性金属プレート５に沿って移送させるため
である。磁気コンベア６は、非磁性金属プレート５の下
面に接近して移動する永久磁石６Ａを備える。永久磁石
６Ａは、その両端を、磁気コンベア６の無端のチェーン
６Ｂに連結される。無端チェーン６Ｂは、一定の間隔
で、細長い永久磁石６Ａを連結している。さらに、磁気
コンベア６は、永久磁石６Ａを、非磁性金属プレート５
の下面に接近して移動させるために、チェーン６Ｂの移
送路にチェーンガイド６Ｆを設けている。チェーン６Ｂ
をチェーンガイド６Ｆで決められた位置に移動させて、
永久磁石６Ａを非磁性金属プレート５の下面に接近して
移動させる。チェーン６Ｂを移動させるために、２条の
チェーン６Ｂを、スプロケット６Ｃに掛けている。スプ
ロケット６Ｃは、回転軸６Ｄの両端に固定され、回転軸
６Ｄをモーター６Ｅで駆動して、チェーン６Ｂを移動さ
せる。

【００３３】チェーン６Ｂで移動される永久磁石６Ａの
速度は、例えば、約１ｃｍ／秒に設定される。ただ、永
久磁石６Ａの移動速度は、たとえば、０．３〜５ｃｍと
することもできる。永久磁石６Ａの移動速度が遅すぎる
と、吸着したスラッジＳを能率よく排出できない。反対
に、永久磁石６Ａの移動速度が早すぎると、吸着したス
ラッジＳを移送できなくなる。永久磁石６Ａの移動速度
は、スラッジＳを能率よく移動できるように決定され
る。

【００３４】図４〜図６は、他の実施例の分離装置を示
す縦断面図、平面図、横断面図である。これ等の図に示
す分離装置は、分離槽４の底部に、５本の供給管７を配
管している。５本の供給管７は、並列に連結されて、ス
ラッジを含む研削液を下向きに供給する。供給管７の上
面には、溝形の集液管８を６列に配設している。集液管
８は、横断面図の形状を、上方の開口されたコ字状とし
ている。集液管８は両端を閉塞して、分離槽４の研削液
をオーバーフローして流入させる。したがって、集液管
８は、分離槽４の液面近傍に配設される。集液管８は配
管１６を介して排出管１３に連結され、オーバーフロー
して流入される研削液を排出管１３から排出する。

【００３５】この図に示す装置は、集液管８と供給管７
とを直角に連結して分離槽４の定位置に配設できる。こ
のため、集液管８と分離槽４を簡単な構造で定位置に配
設できる。また、コ字状の集液管８に研削液をオーバー
フローさせて、能率よく回収できる。

【００３６】さらに、図３に示す装置は、Ｖ溝８Ａを設
けた集液管８を、図７に示すように、供給管７に連結す
ることもできる。この図の供給管７は、板状の集液管８
の下面にＵボルト１７を介して供給管７を連結してい
る。この構造も、集液管８と供給管７とを簡単な構造
で、正確に定位置に配設できる特長がある。

【００３７】

【発明の効果】本発明の研削液に含まれるスラッジの分
離装置は、極めて簡単な構造で、メンテナンスを著しく
簡単にし、さらに、上面に沈降する無機質粒子を非磁性
金属プレートに付着堆積させることなく、理想的な状態
で研削液から分離できる特長がある。それは、本発明の
分離装置が、研削液に含まれるスラッジを移送する非磁
性金属プレートの表面を、金属メッキし、あるいはホー
ロー層を成形し、あるいはまた、鏡面研磨して鏡面処理
面としているからである。非磁性金属プレートの表面を
鏡面処理面としている本発明の装置は、鏡面処理面に沈
降する微細な無機質粒子を、スラッジに含まれる磁性粉
を搬送媒体としてスムーズに排出できる。それは、微細
な粒子の無機質粒子が、非磁性金属プレートの表面にで
きる凹凸にひっかからないで滑動できる状態となり、こ
の状態の無機質粒子が磁気的な吸引力で移送される磁性
粉でもって移送されるからである。無機質粒子は、磁気
的な吸引力で移送できない。しかしながら、研削液のス
ラッジには、砥石粕等の微細な無機質粒子が含まれてい
る。磁気的な吸引力で移送されない無機質粒子は、磁気
コンベアでは移送できないので、非磁性金属プレートの
表面に残存しやすい。とくに、微細な無機質粒子は、非
磁性金属プレート表面の微細な凹凸にひっかかって、ス
ムーズに移送されない。非磁性金属プレートに、表面の
平滑な金属板を使用する程度では、微細な無機質粒子は
スムーズに滑動して移送されない。本発明の分離装置
は、非磁性金属プレートの平滑な表面を、さらに金属メ
ッキし、あるいはホーロー層を設け、あるいはまた、鏡
面研磨して鏡面処理面として、極めて滑動しにくい無機
質粒子を、磁性粉を搬送媒体として速やかに排出する。

【００３８】このため、本発明の分離装置は、スクレー
パのようにスラッジを掻き取る部材を必要とせず、ま
た、定期的に、非磁性金属プレートの表面に付着して堆
積する無機質粒子を除去することなく、非磁性金属プレ
ートに沈降するスラッジをスムーズに排出できる。この
ため、本発明の装置は、メンテナンスを極めて簡素化し
て、故障を極減でき、さらに、極めて簡単な構造で独特
の特長を実現するために、安価に製造できる特長も実現
される。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の研削液に含まれるスラッジの分離装置を
示す概略断面図

【図２】本発明者が先に開発したスラッジの分離装置を
示す一部拡大縦断面図

【図３】本発明の実施例のスラッジの分離装置を示す一
部拡大縦断面図

【図４】本発明の他の実施例のスラッジの分離装置を示
す縦断面図

【図５】図４に示す分離装置の平面図

【図６】図４に示す分離装置の横断面図

【図７】供給管と集液管とを連結する他の実施例を示す
断面図

【符号の説明】

１…円筒 ２…磁石筒 ３…スクレーパ ４…分離槽 ５…非磁性金属プレート ５Ａ…吸着部 ５
Ｂ…傾斜部 ５Ｃ…落下部 ６…磁気コンベア ６Ａ…永久磁石 ６
Ｂ…チェーン ６Ｃ…スプロケット ６Ｄ…回転軸 ６Ｅ…モーター ６Ｆ…チェーンガイド ７…供給管 ７Ａ…供給孔 ８…集液管 ８Ａ…Ｖ溝 ９…分離タンク ９Ａ…パンチングメタル ９
Ｂ…整流板 ９Ｃ…分配板 １０…流量調整弁 １１…ポンプ １２…貯溜タンク １３…排出管 １４…リターンタンク １５…溜槽 １６…配管 １７…Ｕボルト １８…鏡面処理面 Ｓ…スラッジ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スラッジ(S)を含む研削液が供給される
   分離槽(4)と、この分離槽(4)内に配設されて、スラッジ
   (S)を表面で移動させる非磁性金属プレート(5)と、この
   非磁性金属プレート(5)の裏面に配設されて、非磁性金
   属プレート(5)の表面に磁気的な吸引力でスラッジ(S)を
   吸着して排出方向に移動させる磁気コンベア(6)とを備
   え、 分離槽(4)には、スラッジ(S)を含む研削液の供給管(7)
   と、スラッジ(S)の分離された研削液を排出する集液管
   (8)を、供給管(7)を集液管(8)よりも下方に位置して配
   設しており、さらに、供給管(7)は複数部分に分散させ
   て研削液を分離槽(4)に供給すると共に、供給管(7)から
   分散して供給された研削液をその上方で回収するように
   集液管(8)を配設しており、 供給管(7)から分離槽(4)に供給される研削液を、供給管
   (7)から上昇させて上方の集液管(8)から排出し、供給管
   (7)から分離槽(4)に供給される研削液に含まれるスラッ
   ジ(S)を、研削液と反対に下方に沈降させて非磁性金属
   プレート(5)の表面に堆積させるように構成しており、 非磁性金属プレート(5)は、供給管(7)の下方に配設され
   ており、研削液に含まれるスラッジ(S)を沈降させて上
   面に堆積させる吸着部(5A)と、この吸着部(5A)に堆積さ
   れたスラッジ(S)を液面よりも上方に移動させる傾斜部
   (5B)と、この傾斜部(5B)で研削液から引き上げられたス
   ラッジ(S)を非磁性金属プレート(5)の先端から落下させ
   て分離する落下部(5C)とを備え、 非磁性金属プレート(5)の吸着部(5A)の上面に堆積する
   スラッジ(S)を、傾斜部(5B)から落下部(5C)に移送し
   て、落下部(5C)において非磁性金属プレート(5)から分
   離して除去するように構成してなるスラッジの分離装置
   であって、 非磁性金属プレート(5)の表面を、金属メッキし、ある
   いはホーロー層を成形し、あるいはまた、鏡面研磨して
   鏡面処理面(18)としており、吸着部(5A)に堆積されたス
   ラッジ(S)を、非磁性金属プレート(5)の表面の鏡面処理
   面(18)に滑動させて分離するように構成してなることを
   特徴とする研削液に含まれるスラッジの分離装置。
2. 【請求項２】 非磁性金属プレート(5)の表面がクロー
   ムメッキされ、あるいは、表面粗さを▽▽▽以上とする
   鏡面に研磨された鏡面処理面(18)としている請求項１に
   記載される研削液に含まれるスラッジの分離装置。