JP2000144488A - 電析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長尺基板上に、太陽電池の透明導電層として
有効で、十分な膜厚を有する酸化亜鉛を堆積せしめるこ
とが可能であるとともに、複数の電析条件による膜を積
層した透明導電層を堆積せしめることが可能な電析装置
を提供する。 【解決手段】 基板上に酸化亜鉛膜を堆積するための電
析装置において、酸化亜鉛を電気化学的に堆積せしめる
電析浴を保持する電析槽２０６６，２１６６と、該電析
槽２０６６，２１６６に対してそれぞれの電析浴を所定
温度に加熱して送る循環槽２１２０，２２２２と、前記
電析槽２０６６，２１６６と前記循環槽２１２０，２２
２２とで保持する全電析浴を一度に溜めることのできる
独立した排液槽２１７２，２２７４との組み合わせを複
数有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸化亜鉛層、特に
太陽電池下引き層に適用する光閉込め効果を有する凹凸
を備えた酸化亜鉛膜を、電析法で形成するための電析装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、機能膜の堆積には、抵抗加熱
蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法、スプレー熱分解法、電
析法等のいくつかの方法があった。

【０００３】このうち、水溶液に溶け込んだ材料を電気
化学的に基板に堆積する電析法（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｌａ
ｔｉｎｇ…「めっき」と同義。「湿式プロセス」に含ま
れる）は、装置コストが安価となって償却費を低減する
ことができ、材料費が安価となり、さらにはスループッ
トの向上が期待されるので、膜のコストを大幅に低減で
きる可能性がある。

【０００４】このような従来の電析法では、全体として
１槽の電析槽を備えた電析装置が使用されており、この
電析槽により酸化亜鉛層が形成されていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者等が検討を行ったところ、上述した従来の電析法に用
いられている電析装置のように、電析槽を１槽だけとし
たのでは、所望の膜を形成することができないことが判
明した。

【０００６】図１に、このような電析法で形成される酸
化亜鉛層を有する太陽電池を示す。

【０００７】この太陽電池は、図１に示すように、導電
性の基板１００１上に、電析法による酸化亜鉛層よりな
る透明導電層１００２、半導体層１００３、透明電極層
１００４を設けたものである。この太陽電池は、半導体
層１００３が太陽光を受けて光起電力を発生するもの
で、透明導電層１００２が光を閉じ込めて、太陽光を有
効に利用することができるようになっている。また、太
陽電池の出力は、上部の透明電極層１００４と基板１０
０１との間に得られる。

【０００８】なお、基板１００１は、ＳＵＳの上にＡｌ
やＡｇなどの反射性の良い金属と、別方式で形成された
薄い酸化亜鉛膜を有するものを用いることもできる。

【０００９】ところで、太陽電池の透明導電層１００２
は、凹凸が適度に形成されているのはもちろんである
が、ある程度の膜厚を必要とする。本発明者等の実験で
は、膜厚が数千Åから数μｍであることが好ましく、特
に厚い膜厚の方が太陽電池の性能を向上させることがで
きた。ところが、数μｍの膜厚の酸化亜鉛を成膜するた
めには、１００Å／ｓという速い堆積速度であっても、
１０分近い時間を要する。したがって、透明導電層１０
０２を成膜させる長尺基板の搬送速度が数ｍ／ｍｉｎの
場合には、数十ｍの長さの電析経路が必要となる。

【００１０】また、長尺基板に対して電析を行う場合に
は、その電析途中において、基板成膜面に当たるローラ
ーなどの部材を最小限とすることが好ましい。この場
合、電析経路を数十ｍ確保するためには、長尺基板の搬
送経路を水平とすることが好ましく、結果として数十ｍ
の長さの電析槽が必要となる。このような数十ｍの長さ
の電析槽を１槽で形成した場合には、昇温時に、長尺基
板を支持するローラーの軸が変位し搬送不良となった
り、昇降温サイクルによる膨張収縮が繰り返されて、各
所に緩みやガタが発生するので好ましくない。本発明者
等の検討では、長尺基板の水平搬送経路をもつ槽の長さ
として好ましいのは、最長でも５ｍ程度であった。

【００１１】本発明は、上述した事情に鑑み提案された
もので、長尺基板上に、太陽電池の透明導電層として有
効で、十分な膜厚を有する酸化亜鉛を堆積せしめること
が可能な電析装置を提供するを目的とする。さらに、本
発明は、太陽電池の透明導電層として有効で、複数の電
析条件による膜を積層した酸化亜鉛層を堆積せしめるこ
とが可能な電析装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明に係る電析装置は、基板上に酸化亜鉛膜
を堆積するための電析装置において、酸化亜鉛を電気化
学的に堆積せしめる電析浴を保持する電析槽と、該電析
槽に対してそれぞれの電析浴を所定温度に加熱して送る
循環槽と、前記電析槽と前記循環槽とで保持する全電析
浴を一度に溜めることのできる独立した排液槽との組み
合わせを、複数有することを特徴とするものである。

【００１３】また、電析浴の組成と加熱温度が、複数の
電析槽と循環槽と排液槽の組で等しくなるように構成し
てもよい。

【００１４】また、電析浴の組成または加熱温度が、複
数の電析槽と循環槽と排液槽の組で異なるように構成し
てもよい。

【００１５】また、電析浴の濃度が、複数の電析槽と循
環槽と排液槽の組で異なるように構成してもよい。

【００１６】さらに、複数の電析槽と循環槽と排液槽の
組に、それぞれ攪拌空気を導入するための攪拌空気導入
手段を設け、該攪拌空気導入手段による空気攪拌の量
が、複数の電析槽と循環槽と排液槽の組で異なるように
構成してもよい。

【００１７】

【発明の実施の形態】［電析装置の主要構造］以下、本
発明に係る電析装置の実施形態を説明する。

【００１８】まず、本発明に係る電析装置の主要な構造
について説明する。

【００１９】本発明に係る電析装置は、主な装置とし
て、酸化亜鉛を電気化学的に堆積せしめる電析浴を保持
する電析槽と、電析槽に対してそれぞれの電析浴（電解
質溶液）を所定温度に加熱して送る循環槽と、電析槽と
循環槽とで保持する全電析浴を一度に溜めることのでき
る独立した排液槽電析槽とを二組備えている。

【００２０】本発明に係る電析装置で用いられる電析槽
は、耐食性のステンレスまたは耐熱塩化ビニールあるい
はＦＲＰなどで構成され、保温性をよくするために断熱
材を挟んだ二重構造とすることもある。電析槽は、その
内部にアノードと長尺基板との電析のために両電極を有
するため、これら両電極からの電流迷走を防ぐよう、槽
壁などの金属部が露出しない構成とするのがよく、金属
槽を用いる場合には、内部に絶縁体の内張りを設け、さ
らに、電析槽自体をフロート電位とすることが好まし
い。

【００２１】また、複数の電析槽について異なる濃度の
電析浴とすることも可能である。

【００２２】本発明に係る電析装置で用いられる循環槽
は、耐食性で耐熱性に優れたステンレスで構成され、ヒ
ーターが内蔵されて電析浴を加熱する。加熱の効率をよ
くするために、電析槽と同じく二重構造とすることもで
きる。また、加熱の効率をよくするために、循環槽を循
環していく電析浴が、ヒーターの周りを流れていく流れ
を形成するとよい。このためには、通常、循環槽の上部
から電析浴をもどし、下部から加熱済みの電析浴を電析
槽に送っていく構造とするのがよい。また、電析浴を電
析槽に送る経路を複数設けることにより、さらに加熱の
効率をよくすることができる。

【００２３】本発明に係る電析装置で用いられる排液槽
は、少なくとも電析槽の電析浴をすべて保持できる内容
量とし、電析槽と循環槽とを合わせた電析浴の容量を保
持できるように構成されていることが、一層好ましい。
排液槽は、必ずしも耐熱性である必要はないが、緊急時
に全ての電析浴を保持する目的のためには、電析槽のよ
うに耐熱性の材料で形成することが好ましい。

【００２４】本発明に係る電析装置で用いられる空気攪
拌手段は、電析浴が、電析槽内で長尺基板表面を浴交換
できるだけの電析浴の移動をもたらすもので、さらに長
尺基板を使用する場合、長尺基板面で空気溜りを形成し
ないように構成されているものとする。具体的な空気攪
拌手段としては、例えば、管に穿ったオリフィスから長
尺基板成膜面に浮力でバブルが当たるように形成するこ
とができる。この攪拌は、電析浴が常に新鮮なものとし
て長尺基板面に触れるようにするために、特に堆積速度
が大きい場合に重要となる。

【００２５】なお、本発明に係る電析装置を用いて形成
する酸化亜鉛膜を含んだ太陽電池は、図１に示すものと
同様の構造を有している。

【００２６】［電析装置の具体的構成］以下、図面に基
づいて、長尺基板に対して酸化亜鉛層を形成する場合に
使用する電析装置の具体的構成を詳しく説明する。

【００２７】図２は、長尺基板に酸化亜鉛層を形成する
場合に使用する電析装置の具体的構成を示す構成図であ
る。また、図３〜９は、図２に示す電析装置を構成する
各装置の拡大図であり、図３は、巻出装置の拡大図、図
４は、第一電析槽及び第一循環槽の拡大図、図５は、第
二電析槽及び第二循環槽の拡大図、図６は、第一排液槽
及び第二排液槽の拡大図、図７は、純水シャワー槽、第
一温水槽、第二温水槽、乾燥部、巻取装置の拡大図、図
８は、純水加熱槽の拡大図、図９は、排気ダクト付近の
拡大図をそれぞれ示す。

【００２８】図２に示すように、本発明の一実施形態に
係る電析装置は、大きく分けて、コイル状に巻かれた長
尺基板２００６を送り出すための巻出装置２０１２、第
一の電析膜を堆積または処理せしめる第一電析槽２０６
６、第二の電析膜を堆積または処理せしめる第二電析槽
２１１６、第一電析槽２０６６に加熱された電析浴を循
環供給するための第一循環槽２１２０、第二電析槽２１
１６に加熱された電析浴を循環供給するための第二循環
槽２２２２、第一電析槽２０６６の電析浴を排するに際
し一旦浴を貯めるための第一排液槽２１７２、第二電析
槽２１１６の電析浴を排するに際し一旦浴を貯めるため
の第二排液槽２２７４、第一電析槽２０６６内の電析浴
内の粉を取り除き電析浴を清浄化するためのフィルター
循環系（第一電析槽フィルター循環フィルター２１６１
に繋がる配管系（図４に詳しく示す））、第二電析槽２
１１６内の電析浴内の粉を取り除き電析浴を清浄化する
ためのフィルター循環系（第二電析槽フィルター循環フ
ィルター２２６３を用いる配管系（図５に詳しく示
す））、第一電析槽２０６６と第二電析槽２１１６にそ
れぞれ浴攪拌用の圧搾空気を送る配管系（圧搾空気導入
口２１８２から始まる配管系（図４，５，６に詳しく示
す））、電析膜を堆積された長尺基板２００６を純水の
シャワーで洗浄するための純水シャワー槽２３６０、第
一の純水リンス洗浄を行うための第一温水槽２３６１、
第二の純水リンス洗浄を行うための第二温水槽２３６
２、これら温水槽２３６１，２３６２に必要な純水の温
水を供給するための純水加熱槽２３３９、洗浄された長
尺基板２００６を乾燥させるための乾燥部２３６３、膜
堆積の完了した長尺基板２００６を再びコイル状に巻き
上げるための巻取装置２２９６、電析浴や純水の加熱段
階あるいは乾燥段階で発生する水蒸気の排気系（電析水
洗系排気ダクト２０２０または乾燥系排気ダクト２３７
０で構成される排気系（図４，５，７に詳しく示す））
とからなっている。

【００２９】なお、長尺基板２００６は、図２中左から
右へ向かって、巻出装置２０１２、第一電析槽２０６
６、第二電析槽２１１６、純水シャワー槽２３６０、第
一温水槽２３６１、第二温水槽２３６２、乾燥部２３６
３、巻取装置２２９６の順に流れてゆき、所定の電析膜
が堆積される。

【００３０】［巻出装置］図３に示すように、巻出装置
２０１２には、巻出装置長尺基板ボビン２００１に巻か
れたコイル状の長尺基板２００６がセットされており、
巻出装置繰出し調整ローラー２００３、巻出装置方向転
換ローラー２００４、巻出装置排出ローラー２００５を
順に経て長尺基板２００６を送出してゆく。

【００３１】コイル状の長尺基板２００６には、殊に下
引き層が予め堆積されている場合に、基板あるいは層保
護のために、インターリーフ（合紙）が巻き込まれた形
で供給されてくる。このため、巻出装置２０１２には、
巻出装置インターリーフ巻取りボビン２００２が設けら
れている。したがって、長尺基板２００６にインターリ
ーフが巻き込まれている場合には、長尺基板２００６の
繰出しとともに巻出装置インターリーフ巻取りボビン２
００２にインターリーフ２００７を巻き取る。長尺基板
２００６の搬送方向は矢印２０１０で示されており、巻
出装置長尺基板ボビン２００１の回転方向は矢印２００
９で示されており、巻出装置インターリーフ巻取りボビ
ン２００２の巻取り方向は矢印２００８で示されてい
る。

【００３２】巻出装置長尺基板ボビン２００１から排出
される長尺基板２００６と、巻出装置インターリーフ巻
取りボビン２００２に巻き上げられるインターリーフ
は、それぞれ搬送開始時の位置と搬送終了時の位置で干
渉が起きないようになっている。また、巻出装置２０１
２全体は、防塵のため、ヘパフィルターとダウンフロー
を用いた巻出し装置クリーンブース２０１１で覆われた
構造となっている。

【００３３】［第一電析槽］図４に示すように、第一電
析槽２０６６は、電析浴に対して腐食せずに電析浴を保
温できる第一電析浴保持槽２０６５中に、温度制御され
た電析浴が第一電析浴浴面２０２５となるように保持さ
れている。

【００３４】この第一電析浴浴面２０２５の位置は、第
一電析浴保持槽２０６５内に設けられた仕切板（図示せ
ず）によるオーバーフローで実現されている。仕切板
は、電析浴を第一電析浴保持槽２０６５全体で奥側に向
かって落とすように設置されており、樋構造により第一
電析槽オーバーフロー戻り口２０２４に集められて溢れ
た電析浴は、第一電析槽オーバーフロー戻り路２１１７
を経て第一循環槽２１２０へ至り、ここで加熱されて、
再び第一電析槽上流循環噴流管２０６３と第一電析槽下
流循環噴流管２０６４とから第一電析浴保持槽２０６５
に還流され、オーバーフローを促すに足るだけの電析浴
の流入を形成する。

【００３５】長尺基板２００６は、電析槽入口折返しロ
ーラー２０１３（図３に示す）、第一電析槽進入ローラ
ー２０１４、第一電析槽退出ローラー２０１５、電析槽
間折返しローラー２０１６を経て、第一電析槽２０６６
内を通過する。第一電析槽進入ローラー２０１４と第一
電析槽退出ローラー２０１５との間では、少なくも成膜
面である長尺基板２００６の下側面（以下、「表面（お
もてめん）」と記す）は、電析浴の中にあって、２８個
のアノード２０２６〜２０５３と対向している。実際の
電析は、長尺基板２００６に負の電位を与えるととも
に、アノード２０２６〜２０５３に正の電位を与えて、
電析浴中で両者の間に、電気化学反応を伴う電析電流を
流すことによって行う。

【００３６】第一電析槽２０６６におけるアノード２０
２６〜２０５３は、７つのアノード載置台２０５４〜２
０６０に、各４個ずつ載置されている。各アノード載置
台２０５４〜２０６０は、絶縁板を介してそれぞれのア
ノード２０２６〜２０５３を置く構造となっており、独
立の電源から独自の電位を印加されるようになってい
る。また、アノード載置台２０５４〜２０６０は、電析
浴中で長尺基板２００６とアノード２０２６〜２０５３
との間隔を保持する機能も担っている。このため、アノ
ード載置台２０５４〜２０６０は、予め決められた間隔
を保持するべく、高さ調整ができるように設計製作され
ていることが好ましい。

【００３７】第一電析槽退出ローラー２０１５の直前に
は、第一電析槽裏面電極２０６１が設けられている。こ
の第一電析槽裏面電極２０６１は、浴中で長尺基板２０
０６の成膜面と反対側の面（以下、「裏面（うらめ
ん）」と記す）に堆積された膜を電気化学的に除去する
ためのもので、長尺基板２００６に対して第一電析槽裏
面電極２０６１を負側の電位とすることで、これを実現
する。第一電析槽裏面電極２０６１が実際に効力を持つ
ことは、電界の回り込みによって長尺基板２００６の成
膜面と反対側の裏面に電気化学的に付着する膜であっ
て、長尺基板２００６の成膜面に形成されるものと同じ
材質の膜が、目視下でみるみる除去されてゆくことで確
認される。

【００３８】第一電析槽退出ローラー２０１５を通過し
電析浴から出た長尺基板２００６には、第一電析槽出口
シャワー２０６７から電析浴がかけられて、成膜面が乾
燥してムラを生じるのを防止している。また第一電析槽
２０６６と第二電析槽２１１６との渡り部分に設けられ
た電析槽間カバー２０１９も、電析浴から発生する蒸気
を閉じ込め、長尺基板２００６の成膜面が乾燥するのを
防止している。さらに、第二電析槽入口シャワー２０８
６も同様の働きをする。

【００３９】［第一循環槽］図４に示すように、第一循
環槽２１２０は、第一電析槽２０６６中の電析浴の加熱
保温ならびに噴流循環を担うものである。上述したよう
に、第一電析槽２０６６でオーバーフローした電析浴
は、第一電析槽オーバーフロー戻り口２０２４に集めら
れ、第一電析槽オーバーフロー戻り路２１１７を通り、
第一電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フランジ２１１８
を経て、第一循環槽加熱貯槽２１２１へ至る。第一循環
槽加熱貯槽２１２１内には、８本の第一循環槽ヒーター
２１２２〜２１２９が設けられており、室温の電析浴を
初期加熱する際や、循環によって浴温が低下する電析浴
を再加熱して、電析浴を所定の温度に保持する際に機能
する。

【００４０】第一循環槽加熱貯槽２１２１には、２つの
循環系が接続されている。すなわち、第一循環槽電析浴
上流循環元バルブ２１３０、第一循環槽電析浴上流循環
ポンプ２１３２、第一循環槽電析浴上流循環バルブ２１
３５、第一循環槽電析浴上流循環フレキシブルパイプ２
１３６、第一循環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管２
１３７を経て、第一電析槽上流循環噴流管２０６３から
第一電析浴保持槽２０６５へ戻る第一電析槽上流循環還
流系と、第一循環槽電析浴下流循環元バルブ２１３９、
第一循環槽電析浴下流循環ポンプ２１４２、第一循環槽
電析浴下流循環バルブ２１４５、第一循環槽電析浴下流
循環フレキシブルパイプ２１４８、第一循環槽電析浴下
流循環フランジ絶縁配管２１４９を経て、第一電析槽下
流循環噴流管２０６４から第一電析浴保持槽２０６５へ
戻る第一電析槽下流循環還流系とである。

【００４１】第一電析槽上流循環噴流管２０６３と第一
電析槽下流循環噴流管２０６４とから第一電析槽２０６
６に戻る電析浴は、第一電析浴保持槽２０６５内での電
析浴の交換を効果ならしめるように、第一電析浴保持槽
２０６５下部に設けられた第一電析槽上流循環噴流管２
０６３と第一電析槽下流循環噴流管２０６４から、それ
ぞれの噴流管に穿かれたオリフィスを経て噴流として還
流される。

【００４２】それぞれの循環還流系での還流量は、主に
第一循環槽電析浴上流循環バルブ２１３５または第一循
環槽電析浴下流循環バルブ２１４５の開閉度によって制
御され、さらに細かい調節は、第一循環槽電析浴上流循
環ポンプ２１３２または第一循環槽電析浴下流循環ポン
プ２１４２の出口と入口を短絡して接続したバイパス系
に設けられた第一循環槽電析浴上流循環ポンプバイパス
バルブ２１３３または第一循環槽電析浴下流循環ポンプ
バイパスバルブ２１４１によって制御される。

【００４３】バイパス系は、還流量を少なくした場合
や、浴温が極めて沸点に近い場合に、ポンプ内でのキャ
ビテーションを防止する役目も果たしている。すなわ
ち、浴液が沸騰気化して液体を送り込めなくなるキャビ
テーションは、ポンプの寿命を著しく短くしてしまうた
め、バイパス系によりこれを防止しているのである。

【００４４】第一電析槽上流循環噴流管２０６３と第一
電析槽下流循環噴流管２０６４とにオリフィスを穿って
噴流を形成する場合、還流量は、第一電析槽上流循環噴
流管２０６３と第一電析槽下流循環噴流管２０６４へ戻
す浴液の圧力によってほぼ定まる。これを知るために、
第一循環槽電析浴上流循環圧力ゲージ２１３４と第一循
環槽電析浴下流循環圧力ゲージ２１４３が設けられてお
り、還流量のバランスは、これらの圧力ゲージ２１３
４，２１４３により知ることができる。

【００４５】オリフィスから吹き出す還流浴液量は、正
確にはベルヌーイの定理に従うが、噴流管２９６３，２
０６４に穿ったオリフィスが数ミリ以下の径の場合に
は、第一電析槽上流循環噴流管２０６３ないし第一電析
槽下流循環噴流管２０６４全体にわたって噴流量を実質
的に一定とすることができる。さらに、還流量が十分に
大きい場合には、電析浴の交換が極めてスムーズに行わ
れるので、第一電析槽２０６６がかなり長くとも、電析
浴の濃度の均一化や温度の均一化を効果的に図ることが
できる。なお、第一電析槽オーバーフロー戻り路２１１
７は、十分な還流量を流しうる太さを有している。

【００４６】それぞれの循環還流系に設けられた第一循
環槽電析浴上流循環フレキシブルパイプ２１３６と第一
循環槽電析浴下流循環フレキシブルパイプ２１４８は、
配管系の歪みを吸収するものであり、特に歪みに対して
機械的強度が不足しがちなフランジ絶縁配管などを用い
る場合には有効である。

【００４７】それぞれの循環還流系に設けられた第一循
環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管２１３７と第一循
環槽電析浴下流循環フランジ絶縁配管２１４９は、第一
電析槽オーバーフロー戻り路２１１７の途中に設けられ
た第一電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フランジ２１１
８とともに第一循環槽２１２０と第一電析槽２０６６と
を電気的に浮かせるものである。これは、不要な電流経
路の形成を絶つことにより、迷走電流を防止して電析電
流のほとんどを電気化学的な成膜反応にいることができ
る、という本発明者等の知見に基づくものである。

【００４８】一方の循環還流系には、直接第一循環槽加
熱貯槽２１２１へ戻る第一循環槽電析浴バイパス循環フ
レキシブルパイプ２１４６及び第一循環槽電析浴バイパ
ス循環バルブ２１４７からなるバイパス還流系が設けら
れている。このバイパス環流系は、第一電析槽２０６６
に浴液を還流することなく電析浴の循環を行わしめたい
場合、例えば室温から所定温度への昇温時などに用いる
ものである。

【００４９】また、第一循環槽２０６６からの一方の循
環還流系には、第一電析槽退出ローラー２０１５を通過
し電析浴から出た長尺基板２００６に対して、電析浴を
かけるための第一電析槽出口シャワー２０６７へ至る送
液系が設けられている。この送液系は、第一電析槽出口
シャワーバルブ２１５０を介して第一電析槽出口シャワ
ー２０６７へ繋がっている。第一電析槽出口シャワー２
０６７からの電析液噴霧量は、第一電析槽出口シャワー
バルブ２１５０の開閉度を調節することによって調整さ
れる。

【００５０】第一循環槽加熱貯槽２１２１には、蓋（図
示せず）が設けられており、蒸気となって水が失われゆ
くのを防止する構造となっている。浴温が高い場合に
は、蓋の温度も高くなるので、作業の安全面から、蓋の
表面に断熱材を貼るなどの考慮が必要である。

【００５１】第一電析槽電析浴中の粉体を除去するため
に、フィルター循環系が設けられている。第一電析槽２
０６６に対するフィルター循環系は、第一電析槽フィル
ター循環戻りフレキシブルパイプ２１５１、第一電析槽
フィルター循環戻りフランジ絶縁配管２１５２、第一電
析槽フィルター循環元バルブ２１５４、第一電析槽フィ
ルター循環サクションフィルター２１５６、第一電析槽
フィルター循環ポンプ２１５７、第一電析槽フィルター
循環ポンプバイパスバルブ２１５８、第一電析槽フィル
ター循環圧力スイッチ２１５９、第一電析槽フィルター
循環圧力ゲージ２１６０、第一電析槽フィルター循環フ
ィルター２１６１、第一電析槽フィルター循環フレキシ
ブルパイプ２１６４、第一電析槽フィルター循環フラン
ジ絶縁配管２１６５、第一電析槽フィルター循環バルブ
２１６６、第一電析槽フィルター循環系電析浴上流戻り
バルブ２１６７、第一電析槽フィルター循環系電析浴中
流戻りバルブ２１６８、第一電析槽フィルター循環系電
析浴下流戻りバルブ２１６９、からなっている。

【００５２】電析浴は、この経路を第一電析槽フィルタ
ー循環方向２１５５、同２１６２、同２１６３の方向に
流れてゆく。除去されるべき粉体は、機外から飛び込む
こともあるし、また電析反応に応じて、電極表面や浴中
で形成されることもある。除去されるべき粉体の最小の
大きさは、第一電析槽フィルター循環フィルター２１６
１のフィルターサイズで定まる。

【００５３】第一電析槽フィルター循環戻りフレキシブ
ルパイプ２１５１ならびに第一電析槽フィルター循環フ
レキシブルパイプ２１６４は、配管の歪みを吸収して、
配管接続部からの液漏れを極小化するとともに、機械強
度に劣る絶縁配管を保護し、ポンプを始めとする循環系
の構成部品の配置自由度を上げるためのものである。

【００５４】第一電析槽フィルター循環戻りフランジ絶
縁配管２１５２ならびに第一電析槽フィルター循環フラ
ンジ絶縁配管２１６５は、大地アースからフロートとし
た第一電析浴保持槽２０６５が大地アースに落ちること
を防止するため、電気的に浮かせることを目的としたも
のである。

【００５５】第一電析槽フィルター循環サクションフィ
ルター２１５６は、いわゆる「茶漉し」のような金網で
あり、大きなごみを取り除き、後に続く第一電析槽フィ
ルター循環ポンプ２１５７や第一電析槽フィルター循環
フィルター２１６１を保護するためのものである。

【００５６】第一電析槽フィルター循環フィルター２１
６１は、この循環系の主役であり、電析浴中に混入ある
いは発生した粉体を除去するためのものである。

【００５７】本循環系の電析浴の循環流量は、主に第一
電析槽フィルター循環バルブ２１６６により微調整され
るとともに、従として第一電析槽フィルター循環ポンプ
２１５７に並列に設けられた第一電析槽フィルター循環
ポンプバイパスバルブ２１５８により微調整される。こ
れらのバルブ調整による循環流量を把握するために、第
一電析槽フィルター循環圧力ゲージ２１６０が設けられ
ている。また、第一電析槽フィルター循環ポンプバイパ
スバルブ２１５８は、流量の微調整の他、フィルター循
環流量全体を絞った時に、キャビテーションが発生して
第一電析槽フィルター循環ポンプ２１５７が破損するこ
とを防止している。

【００５８】［第一排液槽］図４，６に示すように、第
一電析槽フィルター循環戻りフランジ絶縁配管２１５２
を経て、第一電析槽排水バルブ２１５３から第一排液槽
２１７２へ電析浴を移送することができる。この移送
は、電析浴交換、電析装置のメンテナンス、さらには緊
急時に行われるものである。移送される排液としての電
析浴は、重力落下にて第一排液槽排液貯槽２１４４へ落
とされる。メンテナンスや緊急時の目的のためには、第
一排液槽排液貯槽２１４４が、第一電析槽２０６６およ
び第一循環槽２１２０の浴容量の合計を貯めるだけの容
量をもつことが好ましい。第一排液槽排液貯槽２１４４
には、第一排液槽排液貯槽上蓋２２７７が設置されてい
るとともに、電析浴の重力落下移送を効果的ならしめる
ために、第一排液槽空気抜き２１７１及び第一排液槽空
気抜きバルブ２１７０が設けられている。

【００５９】図６に示すように、一旦、第一排液槽排液
貯槽２１４４に落とされた電析浴は、温度が下がった
後、第一排液槽排水バルブ２１７３より建物側の廃水処
理施設に送られるか、あるいは第一排液槽排液回収バル
ブ２１７４、排液回収元バルブ２１７５、排液回収サク
ションフィルター２１７６と排液回収ポンプ２１７７を
経てドラム缶（図示せず））に回収され、然るべき処分
が行われる。回収や処分に先立って、第一排液槽排液貯
槽２１４４内で、水による希釈や薬液による処理などを
行ってもよい。

【００６０】［攪拌空気導入手段］図４に示すように、
電析浴を攪拌し電析成膜を均一化ならしめるために、第
一電析浴保持槽２０６５底部に設置された第一電析槽攪
拌空気導入管２０６２に穿った複数のオリフィスから、
空気バブルを噴出させるようになっている。

【００６１】空気バブルとなる空気は、工場に供給され
る圧搾空気を圧搾空気導入口２１８２（図６に示す）か
ら取り込み、電析浴攪拌用圧搾空気圧力スイッチ２１８
３を経て、第一電析槽圧搾空気導入方向２１８４に示さ
れる方向で、順に第一電析槽圧搾空気元バルブ２１８
５、第一電析槽圧搾空気流量計２１８６、第一電析槽圧
搾空気レギュレーター２１８７、第一電析槽圧搾空気ミ
ストセパレーター２１８８、第一電析槽圧搾空気導入バ
ルブ２１８９、第一電析槽圧搾空気フレキシブルパイプ
２１９０、第一電析槽圧搾空気絶縁配管２１９１、そし
て第一電析槽圧搾空気上流側制御バルブ２１９３または
第一電析槽圧搾空気下流側制御バルブ２１９２を通り第
一電析槽攪拌空気導入管２０６２へ至る。

【００６２】電析槽間折返しローラー２０１６を経て第
二電析槽２１１６に搬送された長尺基板２００６は、第
二の電析膜を堆積または処理される。第二の電析膜は第
一の電析膜と同一のものであるが、第一の電析膜と第二
の電析膜とが一つの膜を形成することもあるし、また同
じ材質ながら別の特性を付与された二層の積層であるこ
ともあるし（例えば、酸化亜鉛で粒径の異なる層の積層
など）、同じ特性を持ちながら別の材質からなる二層の
積層であることもあるし（例えば、透明導電膜として酸
化インジウムと酸化亜鉛の積層など）、あるいは全く異
なる二層の積層であることもある。

【００６３】さらに、第一電析槽２０６６で低酸化物を
堆積し、第二電析槽２１１６で酸化進行処理を行った
り、第一電析槽２０６６で低酸化物を堆積し、第二電析
槽２１１６で食刻処理を行ったり、といった組み合わせ
が可能となる。

【００６４】したがって、電析浴あるいは処理浴、浴温
度、浴循環量、電流密度、攪拌量等の電析または処理条
件は、それぞれの目的に合わせて選択される。例えば、
電析または処理時間を第一電析槽２０６６と第二電析槽
２１１６とで変える必要がある場合には、長尺基板２０
０６の通過時間を第一電析槽２０６６と第二電析槽２１
１６とで変えればよい。そのためには、第一電析槽２０
６６と第二電析槽２１１６とで槽の長さを変えたり、ま
たは長尺基板２００６の折り返しを行うことで調整す
る。

【００６５】［第二電析槽］図５に示すように、第二電
析槽２１１６は、電析浴に対して腐食せずに電析浴を保
温できる第二電析浴保持槽２１１５中に、温度制御され
た電析浴が第二電析浴浴面２０２５となるように保持さ
れている。

【００６６】この第二電析浴浴面２０２５の位置は、第
二電析浴保持槽２１１５内に設けられた仕切板（図示せ
ず）によるオーバーフローで実現されている。仕切板
は、電析浴を第二電析浴保持槽２１１５全体で奥側に向
かって落とすように設置されており、樋構造により第二
電析槽オーバーフロー戻り口２０７５に集められて溢れ
た電析浴は、第二電析槽オーバーフロー戻り路２２１９
を経て第二循環槽２２２２へ至り、ここで加熱されて、
再び第二電析槽上流循環噴流管２１１３と第二電析槽下
流循環噴流管２１１４とから第二電析浴保持槽２１１５
へ還流され、オーバーフローを促すに足るだけの電析浴
の流入を形成する。

【００６７】長尺基板２００６は、電析槽間折返しロー
ラー２０１６（図４に示す）、第二電析槽進入ローラー
２０６９、第二電析槽退出ローラー２０７０、純水シャ
ワー槽折返し進入ローラー２２７９を経て、第二電析槽
２１１６内を通過する。

【００６８】第二電析槽進入ローラー２０６９と第二電
析槽退出ローラー２０７０との間で、長尺基板２００６
の表面は、電析浴の中にあって、２８個の第二電析槽ア
ノード２０７６〜２１０３と対向している。実際の電析
は、長尺基板２００６に負の電位を与えるとともに、ア
ノードに正の電位を与えて、電析浴中で両者の間に、電
気化学反応を伴う電析電流を流すことによって行う。

【００６９】第二電析槽２１１６におけるアノード２０
７６〜２１０３は、７つの第二電析槽アノード載置台２
１０４〜２１１０に、各４個ずつ載置されている。アノ
ード載置台２１０４〜２１１０は、絶縁板を介してそれ
ぞれのアノード２０７６〜２１０３を置く構造となって
おり、独立の電源から独自の電位を印加されるようにな
っている。また、アノード載置台２１０４〜２１１０
は、電析浴中で長尺基板２００６とアノード２０７６〜
２１０３との間隔を保持する機能も担っている。このた
め、アノード載置台２１０４〜２１１０は、予め決めら
れた間隔を保持するべく、高さ調整ができるように設計
製作されていることが好ましい。

【００７０】第二電析槽退出ローラー２０７０の直前に
設けられた第二電析槽裏面電極２１１１は、電析浴中で
長尺基板２００６の裏面に堆積された膜を電気化学的に
除去するためのもので、長尺基板２００６に対して第二
電析槽裏面電極２１１１を負側の電位とすることで、こ
れを実現する。第二電析槽裏面電極２１１１が実際に効
力を持つことは、電界の回り込みによって長尺基板２０
０６の成膜面と反対側の裏面に電気化学的に付着する膜
であって、長尺基板２００６の成膜面に形成されるもの
と同じ材質の膜が、目視下でみるみる除去されてゆくこ
とで確認される。

【００７１】第二電析槽退出ローラー２０７０を通過し
電析浴から出た長尺基板２００６には、第二電析槽出口
シャワー２２９７から電析浴がかけられて、成膜面が乾
燥してムラを生じるのを防止している。また、第二電析
槽２１１６と純水シャワー槽２３６０との渡り部分に設
けられた純水シャワー槽折返し進入ローラーカバー２３
１８も、電析浴から発生する蒸気を閉じ込め、長尺基板
２００６の成膜面が乾燥するのを防止している。さら
に、純水シャワー槽入口表面純水シャワー２２９９や純
水シャワー槽入口裏面純水シャワー２３００（図７に示
す）も、電析浴を洗浄して落とすだけでなく、同様の働
きをする。

【００７２】［第二循環槽］図５に示すように、第二循
環槽２２２２は、第二電析槽２１１６中の電析浴の加熱
保温ならびに噴流循環を担うものである。上述したよう
に、第二電析槽２１１６でオーバーフローした電析浴
は、第二電析槽オーバーフロー戻り口２０７５に集めら
れ、第二電析槽オーバーフロー戻り路２２１９を通り、
第二電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フランジ２２２０
を経て、第二循環槽加熱貯槽２２２３へ至る。第二循環
槽加熱貯槽２２２３内には、８本の第二循環槽ヒーター
２２２４〜２２３１が設けられており、室温の電析浴を
初期加熱する際や、循環によって浴温が低下する電析浴
を再加熱して、電析浴を所定の温度に保持する際に機能
する。

【００７３】第二循環槽加熱貯槽２２２３には、２つの
循環系が接続されている。すなわち、第二循環槽電析浴
上流循環元バルブ２２３２、第二循環槽電析浴上流循環
ポンプ２２３４、第二循環槽電析浴上流循環バルブ２２
３７、第二循環槽電析浴上流循環フレキシブルパイプ２
２３８、第二循環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管２
２３９を経て、第二電析槽上流循環噴流管２１１３から
第二電析浴保持槽２１１５に戻る第二電析槽上流循環還
流系と、第二循環槽電析浴下流循環元バルブ２２４２、
第二循環槽電析浴下流循環ポンプ２２４５、第二循環槽
電析浴下流循環バルブ２２４７、第二循環槽電析浴下流
循環フレキシブルパイプ２２４８、第二循環槽電析浴下
流循環フランジ絶縁配管２２４９を経て、第二電析槽下
流循環噴流管２１１４から第二電析浴保持槽２１１５に
戻る第二電析槽下流循環還流系とである。

【００７４】第二電析槽上流循環噴流管２１１３と第二
電析槽下流循環噴流管２１１４とから第二電析槽２１１
６に戻る電析浴は、第二電析浴保持槽２１１５内での電
析浴の交換を効果ならしめるように、第二電析浴保持槽
２１１５下部に設けられた第二電析槽上流循環噴流管２
１１３と第二電析槽下流循環噴流管２１１４から、それ
ぞれの噴流管に穿かれたオリフィスを経て噴流として還
流される。

【００７５】それぞれの循環還流系での還流量は、主に
第二循環槽電析浴上流循環バルブ２２３７または第二循
環槽電析浴下流循環バルブ２２４７の開閉度によって制
御され、さらに細かい調節は、第二循環槽電析浴上流循
環ポンプ２２３４または第二循環槽電析浴下流循環ポン
プ２２４５の出口と入口を短絡して接続したバイパス系
に設けられた第二循環槽電析浴上流循環ポンプバイパス
バルブ２２３５または第二循環槽電析浴下流循環ポンプ
バイパスバルブ２２４４によって制御される。

【００７６】バイパス系は、還流量を少なくした場合
や、浴温が極めて沸点に近い時に、ポンプ内でのキャビ
テーションを防止する役目も果たしている。第一電析槽
２０６６の説明でも述べたが、浴液が沸騰気化して液体
を送り込めなくなるキャビテーションは、ポンプの寿命
を著しく短くしてしまうため、バイパス系によりこれを
防止しているのである。

【００７７】第二電析槽上流循環噴流管２１１３と第二
電析槽下流循環噴流管２１１４とにオリフィスを穿って
噴流を形成する場合、還流量は第二電析槽上流循環噴流
管２１１３と第二電析槽下流循環噴流管２１１４へ戻す
浴液の圧力によってほぼ定まる。これを知るために、第
二循環槽電析浴上流循環圧力ゲージ２２３６と第二循環
槽電析浴下流循環圧力ゲージ２２４６が設けられてお
り、還流量のバランスはこれらの圧力ゲージ２２３６，
２２４６により知ることができる。

【００７８】オリフィスから吹き出す還流浴液量は、正
確にはベルヌーイの定理に従うが、噴流管２１１３，２
１１４に穿ったオリフィスが数ミリ以下の径の時には、
第二電析槽上流循環噴流管２１１３ないし第二電析槽下
流循環噴流管２１１４全体にわたって噴流量を実質的に
一定とすることができる。さらに、還流量が十分に大き
い場合には、電析浴の交換が極めてスムーズに行われる
ので、第二電析槽２１１６がかなり長くとも、電析浴の
濃度の均一化や温度の均一化を効果的に図ることができ
る。なお、第二電析槽オーバーフロー戻り路２２１９
は、十分な還流量を流しうる太さを有している。

【００７９】それぞれの循環還流系に設けられた第二循
環槽電析浴上流循環フレキシブルパイプ２２３８と第二
循環槽電析浴下流循環フレキシブルパイプ２２４８は、
配管系の歪みを吸収するものであり、特に歪みに対して
機械的強度が不足しがちなフランジ絶縁配管などを用い
る場合には有効である。

【００８０】それぞれの循環還流系に設けられた第二循
環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管２２３９と第二循
環槽電析浴下流循環フランジ絶縁配管２２４９は、第二
電析槽オーバーフロー戻り路２２１９の途中に設けられ
た第二電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フランジ２２２
０とともに第二循環槽２２２２と第二電析槽２１１６と
を電気的に浮かせるものである。これは、不要な電流経
路の形成を絶つことにより、迷走電流を防止して電析電
流のほとんどを電気化学的な成膜反応に用いることがで
きる、という本発明者等の知見に基づくものである。

【００８１】一方の循環還流系には、直接第二循環槽加
熱貯槽２２２３へ戻る第二循環槽電析浴バイパス循環フ
レキシブルパイプ２２５０及び第二循環槽電析浴バイパ
ス循環バルブ２２５１からなるバイパス還流系が設けら
れている。このバイパス環流系は、第二電析槽２１１６
に浴液を還流することなく電析浴の循環を行わしめたい
場合、例えば室温から所定温度への昇温時などに用いる
ものである。

【００８２】また、第二循環槽２１６６からの両循環還
流系には、第二電析槽進入ローラー２０６９に至る直前
に長尺基板２００６に電析浴をかけるための第二電析槽
入口シャワー２０６８へ至る送液系と、第二電析槽退出
ローラー２０７０を通過し電析浴から出た長尺基板２０
０６に電析浴をかけるための第二電析槽出口シャワー２
２９７へ至る２つの送液系が設けられている。前者の送
液系は、第二電析槽入口シャワーバルブ２２４１を介し
て第二電析槽入口シャワー２０６８へ繋がっており、後
者の送液系は、第二電析槽出口シャワーバルブ２２５２
を介して第二電析槽出口シャワー２２９７へ繋がってい
る。

【００８３】第二電析槽入口シャワー２０６８からの電
析液噴霧量は、第二電析槽入口シャワーバルブ２２４１
の開閉度を調節することによって、また、第二電析槽出
口シャワー２２９７からの電析液噴霧量は、第二電析槽
出口シャワーバルブ２２５２の開閉度を調節することに
よって調整される。

【００８４】第二循環槽加熱貯槽２２２３は、蓋（図示
せず）が設けられており、蒸気となって水が失われゆく
のを防止する構造となっている。浴温が高い場合には、
蓋の温度も高くなるので、作業の安全面から、蓋の表面
に断熱材を貼るなどの考慮が必要である。

【００８５】第二電析槽電析浴中の粉体を除去するため
に、フィルター循環系が設けられている。第二電析槽２
１１６に対するフィルター循環系は、第二電析槽フィル
ター循環戻りフレキシブルパイプ２２５３、第二電析槽
フィルター循環戻りフランジ絶縁配管２２５４、第二電
析槽フィルター循環元バルブ２２５６、第二電析槽フィ
ルター循環サクションフィルター２２５８、第二電析槽
フィルター循環ポンプ２２６０、第二電析槽フィルター
循環ポンプバイパスバルブ２２５９、第二電析槽フィル
ター循環圧力スイッチ２２６１、第二電析槽フィルター
循環圧力ゲージ２２６２、第二電析槽フィルター循環フ
ィルター２２６３、第二電析槽フィルター循環フレキシ
ブルパイプ２２６６、第二電析槽フィルター循環フラン
ジ絶縁配管２２６７、第二電析槽フィルター循環バルブ
２２６８、第二電析槽フィルター循環系電析浴上流戻り
バルブ２２６９、第二電析槽フィルター循環系電析浴中
流戻りバルブ２２７０、第二電析槽フィルター循環系電
析浴下流戻りバルブ２２７１からなっている。

【００８６】電析浴は、この経路を第二電析槽フィルタ
ー循環方向２２５７、同２２６４、同２２６５の方向に
流れてゆく。除去されるべき粉体は、機外から飛び込む
こともあるし、また電析反応に応じて、電極表面や浴中
で形成されることもある。除去されるべき粉体の最小の
大きさは、第二電析槽フィルター循環フィルター２２６
３のフィルターサイズで定まる。

【００８７】第二電析槽フィルター循環戻りフレキシブ
ルパイプ２２５３ならびに第二電析槽フィルター循環フ
レキシブルパイプ２２６６は、配管の歪みを吸収して、
配管接続部からの液漏れを極小化するとともに、機械強
度に劣る絶縁配管を保護し、ポンプを始めとする循環系
の構成部品の配置自由度を上げるためのものである。

【００８８】第二電析槽フィルター循環戻りフランジ絶
縁配管２２５４ならびに第二電析槽フィルター循環フラ
ンジ絶縁配管２２６７は、大地アースからフロートとし
た第二電析浴保持槽２１１５が大地アースに落ちること
を防止するため、電気的に浮かせることを目的としたも
のである。

【００８９】第二電析槽フィルター循環サクションフィ
ルター２２５８は、いわゆる「茶漉し」のような金網で
あり、大きなごみを取り除き、後に続く第二電析槽フィ
ルター循環ポンプ２２６０や第二電析槽フィルター循環
フィルター２２６３を保護するためのものである。

【００９０】第二電析槽フィルター循環フィルター２２
６３は、この循環系の主役であり、電析浴中に混入ある
いは発生した粉体を除去するためのものである。

【００９１】本循環系の電析浴の循環流量は、主に第二
電析槽フィルター循環バルブ２２６８により微調整され
るとともに、従として第二電析槽フィルター循環ポンプ
２２６０に並列に設けられた第二電析槽フィルター循環
ポンプバイパスバルブ２２５９により微調整される。こ
れらのバルブ調整による循環流量を把握するために、第
二電析槽フィルター循環圧力ゲージ２２６２が設けられ
ている。また、第二電析槽フィルター循環ポンプバイパ
スバルブ２２５９は、流量の微調整の他、フィルター循
環流量全体を絞った時に、キャビテーションが発生して
第二電析槽フィルター循環ポンプ２２６０が破損するの
を防止している。

【００９２】［第二排液槽］図５，６に示すように、第
二電析槽フィルター循環戻りフランジ絶縁配管２２５４
を経て、第二電析槽排水バルブ２２５５から第二排液槽
２２７４へ電析浴を移送することができる。この移送
は、電析浴交換、電析装置のメンテナンス、さらには緊
急時に行われるものである。移送される排液としての電
析浴は、重力落下により第二排液槽排液貯槽２２７３に
落とされる。メンテナンスや緊急時の目的のためには、
第二排液槽排液貯槽２２７３が、第二電析槽２１１６お
よび第二循環槽２２２２の浴容量の合計を貯めるだけの
容量をもつことが好ましい。第二排液槽排液貯槽２２７
３には、第二排液槽排液貯槽上蓋２２７８が設置されて
いるとともに、電析浴の重力落下移送を効果的ならしめ
るために、第二排液槽空気抜き２２７６及び第二排液槽
空気抜きバルブ２２７５が設けられている。

【００９３】図６に示すように、一旦、第二排液槽排液
貯槽２２７３に落とされた電析浴は、温度が下がった
後、第二排液槽排水バルブ２１８０より建物側の廃水処
理施設に送られるか、あるいは第二排液槽排液回収バル
ブ２１８１、排液回収元バルブ２１７５、排液回収サク
ションフィルター２１７６と排液回収ポンプ２１７７を
経てドラム缶（図示せず））に回収され、然るべき処分
が行われる。回収や処分に先立って、第二排液槽排液貯
槽２２７３内で、水による希釈や薬液による処理などを
行ってもよい。

【００９４】［攪拌空気導入手段］図５に示すように、
電析浴を攪拌し電析成膜を均一化ならしめるために、第
二電析浴保持槽２１１５底部に設置された第二電析槽攪
拌空気導入管２１１２に穿った複数のオリフィスから空
気バブルを噴出させるようになっている。

【００９５】空気バブルとなる空気は、工場に供給され
る圧搾空気を圧搾空気導入口２１８２（図６に示す）か
ら取り込み、電析浴攪拌用圧搾空気圧力スイッチ２１８
３を経て、第二電析槽圧搾空気導入方向２１９４に示さ
れる方向で、順に第二電析槽圧搾空気元バルブ２１９
５、第二電析槽圧搾空気流量計２１９６、第二電析槽圧
搾空気レギュレーター２１９７、第二電析槽圧搾空気ミ
ストセパレーター２１９８、第二電析槽圧搾空気導入バ
ルブ２１９９、第二電析槽圧搾空気フレキシブルパイプ
２２２０、第二電析槽圧搾空気絶縁配管２２０１、そし
て第二電析槽圧搾空気上流側制御バルブ２２０２または
第二電析槽圧搾空気下流側制御バルブ２２７２を通り第
二電析槽攪拌空気導入管２１１２へ至る。

【００９６】［予備導入系］図４，５，６に示すよう
に、第一電析槽２０６６や第二電析槽２１１６には、予
備の液体または気体が導入できるように、予備導入系が
設置されている。電析槽予備導入口２２１３からの液体
または気体は、電析槽予備導入バルブ２２１４を介し
て、第一電析槽予備導入バルブ２２１５、第一電析槽予
備導入絶縁配管２２１６を経て第一電析槽２０６６へ送
られる。同様に、電析槽予備導入口２２１３からの液体
または気体は、電析槽予備導入バルブ２２１４を介し
て、第二電析槽予備導入バルブ２２１７、第二電析槽予
備導入絶縁配管２２１８を経て第二電析槽２１１６へ送
られる。

【００９７】予備導入系で最も可能性の高いものは、電
析浴の能力を長時間一定に保つための保持剤や補充薬で
あるが、場合によっては、電析浴に溶かす気体であった
り、また粉体を除去する酸であったりする。

【００９８】［洗浄］図７に示すように、洗浄は、純水
シャワー槽２３６０、第一温水槽２３６１、第二温水槽
２３６２の３段で行われる。この洗浄では、第二温水槽
２３６２に加温された純水が供給され、その排液が第一
温水槽２３６１で用いられ、さらにその排液が純水シャ
ワー槽２３６０で用いられる構成となっている。このこ
とにより、長尺基板２００６は、電析槽での電析を終了
した後、次第に純度の高い水で洗われてゆく。

【００９９】第二温水槽２３６２は、最も高純度の純水
を用いる。この純水は、長尺基板２００６が退出してゆ
く直前の第二温水槽出口裏面純水シャワー２３０９、第
二温水槽出口表面純水シャワー２３１０へ供給される。

【０１００】図８に示すように、供給すべき純水は、水
洗系純水口２３３７から水洗系純水供給元バルブ２３３
８を経て一旦純水加熱槽２３３９に貯められ、純水加熱
槽純水加熱ヒーター２３４０〜２３４３で所定の温度に
暖められ、純水加熱槽純水送出バルブ２３４４、純水加
熱槽純水送出ポンプ２３４６、純水加熱槽圧力スイッチ
２３４７、純水加熱槽カートリッジ式フィルター２３４
９、純水加熱槽流量計２３５０を通り、一方は第二温水
槽出口裏面シャワーバルブ２３５１から第二温水槽出口
裏面純水シャワー２３０９（図７に示す）へ至り、他方
は第二温水槽出口表面シャワーバルブ２３５２から第二
温水槽出口表面純水シャワー２３１０（図７に示す）へ
至る。なお、純水を加温するのは、洗浄効果を向上させ
るためである。

【０１０１】図７に示すように、シャワー２３０９，２
３１０ヘ供給されて第二温水槽温水保持槽２３１７へ溜
まった純水は、純水リンス浴を形成する。ここで、長尺
基板２００６は静水での洗浄が行われる。また、純水の
温度が下がらないようにするため、第二温水槽２３６１
には、第二温水槽温水保温ヒーター２３０７が設けられ
ている。

【０１０２】第一温水槽２３６１へは、第二温水槽温水
保持槽２３１７から溢れた純水が、第二温水槽２３６２
に設けられた温水槽間連結管２２３２を介して、第一温
水槽温水保持槽２３６２へ供給される。第一温水槽温水
保持槽２３６２には、第二温水槽２３１７と同様に、第
一温水槽温水保温ヒーター２３０４が設置されており、
純水の温度を保持するようになっている。さらに、第一
温水槽２３６１には、超音波源２３０６が設置されてお
り、積極的に長尺基板２００６表面の汚れを、第一温水
槽ローラー２２８２と第二温水槽折返し進入ローラー２
２８３の間で除去するようになっている。

【０１０３】図８に示すように、第一温水槽温水保持槽
２３１６からの純水は、純水シャワー槽純水シャワー供
給元バルブ２３２３に続いて、純水シャワー槽純水シャ
ワー供給ポンプ２３２５、純水シャワー槽純水シャワー
供給圧力スイッチ２３２６、純水シャワー槽純水シャワ
ー供給カートリッジ式フィルター２３２８、純水シャワ
ー槽純水シャワー供給流量計２３２９を経て、純水シャ
ワー槽入口表面純水シャワーバルブ２３３０から純水シ
ャワー槽入口表面純水シャワー２２９９（図７に示す）
へ送られるとともに、純水シャワー槽入口裏面純水シャ
ワーバルブ２３３１から純水シャワー槽入口裏面純水シ
ャワー２３００（図７に示す）へ送られる。

【０１０４】また、この純水は、純水シャワー槽出口裏
面純水シャワーバルブ２３３２から純水シャワー槽出口
裏面純水シャワー２３０２（図７に示す）へ送られると
ともに、純水シャワー槽出口表面純水シャワーバルブ２
３３３から純水シャワー槽出口表面純水シャワー２３０
３（図７に示す）へ送られる。

【０１０５】そして、図７に示すように、純水シャワー
槽２３６０の入口と出口で、それぞれ長尺基板２００６
の表面と裏面に洗浄用シャワー流がかけられる。

【０１０６】シャワー後の水は、純水シャワー槽受け槽
２３１５で受けられ、そのまま第一温水槽温水保持槽２
３１６と第二温水槽温水保持槽２３１７の一部と合流し
て水洗系排水２３３６に捨てられる。通常は、洗浄済み
の水にはイオンその他が含まれているため、所定の処理
を必要とする。

【０１０７】洗浄のための純水シャワー槽２３６０、第
一温水槽２３６１、第二温水槽２３６２では、長尺基板
２００６は、純水シャワー槽折返し進入ローラー２２７
９、純水シャワー槽ローラー２２８０、第一温水槽折返
し進入ローラー２２８１、第一温水槽ローラー２２８
２、第二温水槽折返し進入ローラー２２８３、第二温水
槽ローラー２２８４、乾燥折返しローラー２２８５へ送
られてゆく。また、純水シャワー槽折返し進入ローラー
２２７９の直後には、純水シャワー槽裏面ブラシ２２９
８が設けられており、長尺基板２００６の裏面に付着す
る比較的大きな粉や付着力の弱い生成物を取り除けるよ
うになっている。

【０１０８】乾燥部２３６３に至った長尺基板２００６
は、まず乾燥部入口で乾燥部入口裏面エアーナイフ２３
１１、乾燥部入口表面エアーナイフ２３１２による水切
りが行われる。エアーナイフヘの空気の導入は、図８に
示すように、乾燥系圧搾空気導入口２３５３、乾燥系圧
搾空気圧力スイッチ２３５４、乾燥系圧搾空気フィルタ
ーレギュレーター２３５５、乾燥系圧搾空気ミストセパ
レーター２３５６、乾燥系圧搾空気供給バルブ２３５７
を経て、乾燥部入口裏面エアーナイフバルブ２３５８ま
たは乾燥部入口表面エアーナイフバルブ２３５９という
経路でなされる。

【０１０９】乾燥部２３６３に供給される空気は、特に
水滴等を含むと不都合なので、乾燥系圧搾空気ミストセ
パレーター２３５６の役割は重要である。すなわち、乾
燥部２３６３に供給される空気は、乾燥系圧搾空気ミス
トセパレーター２３５６により水滴等が除去される。

【０１１０】図７に示すように、長尺基板２００６は、
続いて乾燥折返しローラー２２８５から巻取装置進入ロ
ーラー２２８６に搬送される過程で、並列して設けたＩ
Ｒランプ２３１３の輻射熱によって乾燥が行われる。Ｉ
Ｒランプ２３１３の輻射熱が十分であれば、電析膜を成
膜後、長尺基板２００６をＣＶＤ装置などの真空装置に
投入しても不都合は生じない。長尺基板２００６の乾燥
時には、水切りによる霧の発生と、ＩＲランプ輻射によ
る水蒸気の発生があるため、排気ダクトに繋がる乾燥部
排気口２３１４は不可欠である。

【０１１１】図９に示すように、乾燥系排気ダクト２３
７０に集められた水蒸気は、乾燥系凝縮器２３７１でそ
のほとんどが水に戻り、乾燥系凝縮器排水ドレイン２３
７３へ捨てられ、一部は乾燥系排気２３７４へ捨てられ
てゆく。なお、水蒸気に有害気体を含む場合には、排気
は所定の処理を行うべきである。

【０１１２】［巻取装置］図７に示すように、巻取装置
２２９６には、巻取装置進入ローラー２２８６、巻取装
置方向転換ローラー２２８７、巻取り調整ローラー２２
８８が設けられており、この順で長尺基板２００６を長
尺基板巻上げボビン２２８９にコイル状に巻取ってゆ
く。また、巻取装置２２９６には、インターリーフ繰り
出しボビン２２９０が設けられており、堆積した層保護
が必要な場合には、インターリーフ繰出しボビン２２９
０からインターリーフを繰出し、長尺基板２００６に巻
き込ませる。

【０１１３】長尺基板２００６の搬送方向は、矢印２２
９２で示されており、長尺基板巻上げボビン２２８９の
回転方向は矢印２２９３で示されており、インターリー
フ繰出しボビン２２９０の巻取り方向は矢印２２９４で
示されている。図７中、長尺基板巻上げボビン２２８９
へ巻き上げられる長尺基板２００６と、インターリーフ
繰出しボビン２２９０から繰り出されるインターリーフ
は、それぞれ搬送開始時の位置と搬送終了時の位置で干
渉が起きないようになっている。また、巻取装置２２９
６の全体は、防塵のために、ヘパフィルターとダウンフ
ローを用いた巻取装置クリーンブース２２９５で覆われ
た構造となっている。

【０１１４】巻取装置２２９６に設けた巻取装置方向転
換ローラー２２８７には、長尺基板２００６の蛇行を修
正する機能が付与されている。すなわち、巻取装置方向
転換ローラー２２８７と巻取り調整ローラー２２８８と
の間に設置された蛇行検知器（図示せず）からの信号に
基づいて、油圧のサーボで巻取装置方向転換ローラー２
２８７を巻取装置進入ローラー２２８６側にセットされ
た軸を中心として振ってやることで、蛇行の修正が可能
となる。

【０１１５】巻取装置方向転換ローラー２２８７の制御
は、図７中、近似的に手前側あるいは奥側へのローラー
の移動であり、その移動の向きは、蛇行検出器からの長
尺基板蛇行検出方向と逆である。また、サーボのゲイン
は、長尺基板２００６の搬送速度によるが、一般に大き
なものを必要としない。数百メートルの長さの長尺基板
２００６を巻き上げても、その端面はサブミリの精度で
揃えられる。

【０１１６】［排気ダクト］電析浴や温水を室温より高
い温度で使うと、必然的に水蒸気が発生する。特に８０
℃を越える温度の場合には、水蒸気の発生はかなりのも
のとなる。槽の浴面から発生する水蒸気は、槽の浴面上
に溜まり、電析装置の隙間から勢いよく吹き出したり、
蓋の開閉時に大量の放出を見たり、また電析装置の隙間
から水滴となって流れ落ちたりして、電析装置の操作環
境を悪化させる。このため、電析水洗系排気ダクト２０
２０を介して強制的に吸引排気させるのが好ましい。

【０１１７】図４に示すように、第一電析槽２０６６の
第一電析槽上流排気口２０２１、第一電析槽中流排気口
２０２２、第一電析槽下流排気口２０２３には、電析水
洗系排気ダクト２０２０が連通接続されている。

【０１１８】また、図５に示すように、第二電析槽２１
１６の第二電析槽上流排気口２０７１、第二電析槽中流
排気口２０７２、第二電析槽下流排気口２０７３には、
電析水洗系排気ダクト２０２０が連通接続されている。

【０１１９】さらに、図９に示すように、純水シャワー
槽２３６０の純水シャワー槽排気口２３０１、第一温水
槽２３６１の第一温水槽排気口２３０５、第二温水槽２
３６２の第二温水槽排気口２３０８には、電析水洗系排
気ダクト２０２０が連通接続されている。

【０１２０】図９に示すように、電析水洗系排気ダクト
２０２０に集められた水蒸気は、絶縁フランジ２３６５
を通り、電析水洗系排気ダクト凝縮器２３６６でそのほ
とんどが水に戻り、電析水洗系排気ダクト凝縮器排水ド
レイン２３６８へ捨てられ、一部は電析水洗系排気２３
６９へ捨てられてゆく。なお、水蒸気に有害気体を含む
場合には、排気は所定の処理を行うべきである。

【０１２１】また、本実施形態に係る電析装置では、排
気ダクト２０２０をステンレスで構成したので、第一電
析槽２０６６の第一電析浴保持槽２０６５及び第二電析
槽２１１６の第二電析浴保持槽２１１５を大地アースか
らフロート電位とするために、電析水洗系排気ダクト基
幹絶縁フランジ２３６５と電析水洗系排気ダクト水洗側
絶縁フランジ２３６４を設け、電気的に切り離した。

【０１２２】［基板］本実施形態に係る電析装置で用い
られる基板材料は、膜成膜面に電気的な導通がとれ、電
析浴に侵されないものならどのような材料であってもよ
く、例えばＳＵＳ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、などの金属が用
いられる。また、金属コーティングを施したＰＥＴフィ
ルムなども利用可能である。これらの中で、素子化プロ
セスを後工程で行うには、ＳＵＳが長尺基板２００６と
して優れている。

【０１２３】ＳＵＳは、非磁性ＳＵＳ、磁性ＳＵＳのい
ずれも適用することができる。代表的な非磁性ＳＵＳは
ＳＵＳ３０４であり、研磨性に優れていて０．１ｓ程度
の鏡面とすることも可能である。代表的な磁性ＳＵＳは
フェライト系のＳＵＳ４３０であり、磁力を利用した搬
送において有効に利用される。

【０１２４】基板表面は、平滑であってもよいし、粗面
でもあってもよい。ＳＵＳの表面性は、その圧延プロセ
スにおいて圧延ローラーの種類を変えたりすることによ
り変更することができる。例えば、ＢＡと称するＳＵＳ
は鏡面に近く、２Ｄと称するＳＵＳは凹凸が顕著であ
る。いずれの面においても、ＳＥＭ（電子顕微鏡）下で
の観察では、ミクロン単位の快れなどが目立つことがあ
る。太陽電池基板としては、大きなうねり状の凹凸より
も、ミクロン単位の構造の方が、太陽電池の特性に対し
て良い方向にも悪い方向にも大きく反映する。

【０１２５】さらに、これら基板は別の導電性材料が成
膜されていてもよく、電析の目的に応じて選択される。
場合によっては、酸化亜鉛のごく薄層を予め他の方法で
形成しておくことが、電析法での堆積速度を安定的に向
上することができて好ましい。確かに、電析法はコスト
が安く済むのがメリットであるが、多少高価な方法を付
加的に採用しても、総合的にコストダウンが可能なら
ば、２方式の併用は有利である。

【０１２６】［インターリーフ］堆積された膜を保護す
るインターリーフとしては、ノーメックスを代表とする
不織布や、ＰＥＴを代表とする樹脂フィルム等を利用す
ることができる。ＰＥＴなどの樹脂フィルムは、さらに
柔らかいＣｕやＡｌの金属を薄くコートしたものを利用
することも可能である。もちろん、樹脂のフィルムは、
あまり高温だと溶けたり融着を起こしたりするので、予
め基板が十分な温度にまで冷えていることを確認する必
要がある。インターリーフは、結局のところ捨ててしま
うことになるので、低価格化技術の点から、高価な材料
はできるだけ避けることが好ましい。

【０１２７】［テンション］長尺基板２００６を巻出装
置長尺基板ボビン２００１と長尺基板巻上げボビン２２
８９との間に張る張力は、基板の幅ｌｃｍあたり０．０
５〜５０ｋｇとする。テンションが弱すぎると、基板が
不用意に垂れ下がったり、所定の搬送パスから外れた
り、ローラーからずれて端部を擦ったり、あるいは蛇行
修正の制御性を著しく悪化させる。反対に、テンション
が強すぎると、基板自体が伸びたり、あるいは搬送に片
寄りがある場合には、端部だけ伸びていわゆる「ワカ
メ」状になって、装置全体を歪ませることがある。

【０１２８】テンションは、長尺基板巻上げボビン２２
８９を巻き上げる力と、巻出装置長尺基板ボビン２００
１の軸に取り付けられたクラッチ（パウダークラッチな
どが利用される）との滑りから、発生させることができ
る。この場合、テンションの大きさにかかわらず搬送経
路がほとんど変わらないとともに、中間のローラーをす
べて従動ローラーとすることができるので、ローラーを
始めとする搬送構成部品配置の設計自由度は極めて高く
なる。一方、非搬送時にはテンションが発生しないの
で、基板が静止時に垂れ下がるのを防止するために、別
のロック手段が必要となる。

【０１２９】テンションは、その軸を移動できるテンシ
ョンローラーの類を用いることでも発生させることがで
きる。この場合、テンションの制御やモニターは容易で
あるが、テンションローラーの位置が変化するため、そ
のストロークをとるための設計が必要であり、またロー
ラーの平行度がずれて蛇行が発生しやすい。

【０１３０】さらにまた、テンションは、中間のローラ
ーを、基板と摩擦が起こる方向に積極的に動かすことに
よっても発生させることができる。この方法では、搬送
経路は変わらず、また、静止中でもテンションが働くと
いう利点がある。一方、動摩擦と静止摩擦が大きく異な
るような材料では、設計は面倒である。

【０１３１】テンションは、当然のことながら、水平に
接触するローラーよりも、その周を大きく覆う形で搬送
されるローラーに対して、その効果をもたらす。その効
果を期待するものとしては、巻取りローラーはもちろ
ん、給電ローラーや蛇行修正ローラーが挙げられる。

【０１３２】［搬送速度］長尺基板２００６の搬送速度
は、専ら、必要な電析膜の膜厚と、その成膜速度との兼
ね合いから決定される。実際には、第一電析槽２０６６
と第二電析槽２１１６に合計５６個のアノードがあり、
それぞれの膜堆積速度の総和で、長尺基板２００６の搬
送速度が決められる。

【０１３３】本実施形態に係る電析装置では、基板２０
０６の搬送速度を、０．５ｍ／ｍｉｎ〜５ｍ／ｍｉｎの
範囲で設計した。また、実験において、最低の設計速度
であっても、最高の設計速度であっても、５００ｍ以上
の長尺基板２００６に対して、８５℃の昇温状態で良好
なる搬送のもと、酸化亜鉛の堆積が可能であることを実
証した。

【０１３４】［ローラー］本実施形態に係る電析装置に
用いられるローラーは、長尺基板２００６の搬送の経路
を定めることの他に、長尺基板２００６に必要な電位を
印加することと、不必要な電流迷走経路を形成しない等
の機能を満たすべきである。

【０１３５】搬送の経路を定めることは特に重要で、初
期に平行度がしっかりと出ていることはもちろん、電析
浴の温度が高温（例えば９０℃）に上がって、大きな浴
槽が熱膨張を起こしても、位置の変位が最小に抑えられ
ているべきである。実際には、サブミリのガタは許容で
きるが、平行度に関しては１００分台の精度が昇温時に
確保されていることが好ましい。平行度のずれ、ねじれ
は、特に電析槽内での長尺基板２００６の片寄りを生じ
てしまい、この場合には、非常にしばしば端部擦れを起
こすとともに、いわゆる「ワカメ」が発生してしまう。

【０１３６】長尺基板２００６のコシがある場合には、
平行ローラーを用いて、特に表面加工を考慮する必要は
ないが、Ａｌホイルなどの様に軟らかな基板の場合に
は、ローラーをクラウンと呼ぶ太鼓型に膨らませたり、
水切り用の溝を設けることが好ましい。また、その場合
には、ローラーを従動にするだけのテンションがかから
ないこともあって、ローラーを同期駆動することが効果
的である。

【０１３７】ローラーを電気的に浮かせるために、ナイ
ロンやポリエチレンなどの樹脂によりローラーを形成す
ることもできるし、また、金属ローラーの軸を樹脂製と
することもできる。さらに、軸受けの設置部に樹脂の部
材を挟み込んで絶縁をとることもできる。

【０１３８】基板に直接ブラシ等で給電を行ったり、あ
るいは浴を介して給電するのでなければ、給電ローラー
と呼ばれる電位を与えるローラーを、少なくとも一本設
けることが好ましい。電析部分に近いローラーを給電ロ
ーラーとすることができれば、電析電流に係る電気経路
の設計は最もすっきりとする。

【０１３９】電析浴と触って電析浴中の化学物質が反応
するため、給電ローラーをアノード近傍に置けない場合
には、ブラシ給電や浴給電など他方式の代替もしくは併
用を考慮すべきである。これは、長尺基板２００６の抵
抗がメートルあたり０．０１Ω程度あって、数十Ａの電
析電流を用いる場合には、極めて大きな熱損失が発生す
るからである。

【０１４０】蛇行修正では、概念として、ローラーの平
行度を出すことにより、ほとんどずれない搬送系を確立
し、ほんの少しずれる分を巻上げ直前で修正することが
好ましい。この場合、修正量を検知し、フィードフォワ
ードまたはフィードバック系で修正量を蛇行修正ローラ
ーに返してやればよい。フィードフォワード系は、計算
は厄介であるが、秒あたり数ｍを越える高速のシステム
に向いている。一方、フィードバック系は、高速の搬送
には不向きであるが、構成を簡便なものとすることがで
きる。

【０１４１】いずれの場合にも、修正しようとする方向
に基板を動かす蛇行修正ローラーを持つことが好まし
い。本実施形態に係る電析装置では、巻取装置方向転換
ローラー２２８７が、蛇行修正ローラーを兼ねている。
修正しようとする方向に基板を動かすためには、長尺基
板２００６との摩擦が大きい方が好ましい。一方、修正
移動を起こしたことによる長尺基板２００６の歪みを吸
収するためには、長尺基板が蛇行修正ローラー上で滑る
ことが好ましい。実際に用いられる摩擦の大きさは、テ
ンションを含めて、実験的に決められる。場合によって
は、基板との間で摩擦を最適化する材質を選んだり、表
面を粗面加工すると効果がある。修正しようとする方向
に基板を動かすために、ローラー全体が平行移動するよ
うに構成されてもよいし、また、ある程度離れた軸を支
点に、首振り運動をするような形（タンジェント・ロー
ラーと呼ぶ）でもよい。平行移動ローラーは大きなずれ
に対して効果がある。一方、タンジェント・ローラー
は、装置構成が簡単になる。

【０１４２】［槽・管・その他浴保持材の電気的構成］
迷走電流を減らして、流れる電流をほとんどすべて電析
に寄与させ、基板とアノード間に流れる電流とするため
に、電析槽、それに繋がる配管、さらには浴保持槽内の
部品などは、絶縁処理をすることが好ましい。基本的に
は、アノードと基板とを直接に、あるいは浴を介して、
接する金属部分を最小とすることにより、流れる電流を
ほとんどすべて電析に寄与させることができる。

【０１４３】また、フロート電位とすることにより迷走
電流を少なくすることができるため、本実施形態に係る
電析装置では、電析槽や基板搬送ローラーを構成する金
属部分を大地アースから浮かした構造としている。絶縁
配管、径の太いフランジ絶縁配管、オーバーフロー戻り
系に製作した絶縁フランジ、排気ダクト中に設けた絶縁
フランジなどは、すべてこの目的のためのものである。

【０１４４】［絶縁フランジ］電気的に切り離しておき
たい配管部には、塩化ビニールや耐熱塩化ビニール等の
絶縁体で形成されたフランジ付き配管を用いることが好
ましい。本実施形態に係る電析装置の第一電析槽オーバ
ーフロー戻り路２１１７に設けられた第一電析槽オーバ
ーフロー戻り路絶縁フランジ２１１８、第二電析槽オー
バーフロー戻り路２２１９に設けられた第二電析槽オー
バーフロー戻り路絶縁フランジ２２２０、電析水洗系排
気ダクト２０２０に設けられた電析水洗系排気ダクト水
洗側絶縁フランジ２３６４および電析水洗系排気ダクト
基幹絶縁フランジ２３６５などは、四角の断面をもつ導
管に設けられており、導管端部に口金を製作し、それら
を絶縁性ゴムを挟んで絶縁ボルトで締め付けている。絶
縁性のゴムは、例えばバイトン（商品名）のように高温
下において使用することができるが、圧縮すると突然導
電性を示すものがあり、その選択には注意が必要であ
る。

【０１４５】［電析浴］電析浴は、基本的にビーカーな
どの小さな実験装置で確認したものを使用することがで
きる。太陽電池下引き層に適用する光閉込め効果を有
し、凹凸を有する酸化亜鉛の堆積については、例えば、
少なくとも硝酸イオンと、亜鉛イオンを含有してなる水
溶液が好ましく使用できる。硝酸イオン、亜鉛イオン濃
度は、好ましくは０．００２ｍｏｌ／ｌ〜３．０ｍｏｌ
／ｌ、さらに好ましくは０．０ｍｏｌ／ｌ〜１．５ｍｏ
ｌ／ｌ、最適には０．０５ｍｏｌ／ｌ〜０．７ｍｏｌ／
ｌである。また、異常性成長防止のために、サッカロー
スまたはデキストリンを含む電析浴を用いる場合には、
サッカロースの濃度は、好ましくは５００ｇ／ｌ〜１ｇ
／ｌ、さらに好ましくは１００ｇ／ｌ〜３ｇ／ｌとし、
デキストリンの濃度は、好ましくは１０ｇ／ｌ〜０．０
１ｇ／ｌ、さらに好ましくは１ｇ／ｌ〜０．０２５ｇ／
ｌとすることにより、光閉じ込め効果に適したテクスチ
ャー構造の酸化亜鉛薄膜を効率よく形成することができ
る。

【０１４６】また、電析浴の温度を６０℃以上とするこ
とにより、異常成長の少ない均一な酸化亜鉛薄膜を効率
よく形成することができる。

【０１４７】電析浴が高温で、蒸気の発生が顕著な場合
は、排気ダクトを設けて蒸気を吸引することが好まし
い。排気ダクトを設けることにより、電析装置の隙間か
ら蒸気やその凝結した水滴が出てくるのを防止すること
ができる。

【０１４８】また、槽に蓋が設置されている場合には、
蓋を開けた際に水蒸気が吹き出してきて危険である。し
たがって、この場合にも、排気ダクトを設けることが好
ましい。

【０１４９】電析浴からの蒸気発生・排気吸引によって
液量が減る場合には、純水を定期的に補給するとよい。

【０１５０】［槽・配管の断熱構造］昇温された浴や純
水を保持・給排水する槽・配管は、断熱構造とすること
が、省エネルギーならびに危険防止の意味から好まし
い。槽の断熱構造は、グラスウール等の断熱材を挟んだ
二重壁構造とする他、外側に断熱材を張ることでも実現
することができる。配管の断熱構造は、一般に、断熱材
でカバーすることで実現することができる。

【０１５１】［電析条件］電析を行うにあたっては、長
尺基板２００６に負の電位を印加するとともに、アノー
ドに正の電位を印加して、電気化学反応を駆動する。膜
厚の制御を行うために、電流制御により電析を行うのが
適当である。電流は、電流密度で規定することが好まし
く、０．３〜１００ｍＡ／ｃｍ²の範囲で設定する。

【０１５２】［アノード］アノードとしては、溶解性ア
ノードとして純度２Ｎないし４Ｎの亜鉛板を使用するこ
とができる。基板の表面が汚れている場合には、希硝酸
で軽く洗えばよい。アノードヘの給電線は、ＳＵＳボル
トで締め付ける構成にすることが、確実な電気接触を長
期間保証できて好ましい。非溶解性アノードとして、Ｓ
ＵＳやＰｔを使うこともできる。

【０１５３】特に、溶解性アノードを使用する場合に
は、発生する酸化亜鉛粉が電析浴中に発塵してゆくこと
を防止するために、溶解性アノードをアノードバッグで
包むことが好ましい。アノードバッグの材質としては、
浴中で侵されない木綿やアミド樹脂繊維などが使用で
き、適当なメッシュ状とすることが好ましい。メッシュ
の目の大きさは、電析浴が確実に表面に触り、かつ発塵
する粉の最大の大きさを規定して定める。例えば、一般
的なメッシュ目の大きさは、０．５ｍｍから数ｍｍを選
択する。

【０１５４】［電析電源］電析を行うための各電源は、
フロート出力を持っていることが好ましい。また、電圧
制御として、所定の電位を印加すると、電流が吸い込み
方向に流れる可能性がある場合には、吸い込み型の電源
とすべきである。

【０１５５】各電源は、単一の、あるいは取りまとめら
れた複数のアノードに電位を印加し、電流を流す。電源
同士の干渉を防ぐために、アノード同士を結ぶ電流の経
路は、できるだけ出現しないようにしておくことが好ま
しい。このために、テフロンや塩化ビニールなどの絶縁
板を浴中に設置することが効果的である。

【０１５６】［ポンプ］ポンプは、基本的に十分な流量
を稼げることが必要であるが、同時に、キャビテーショ
ンを防止することができる配置とすべきである。特に、
９０℃を越える温度では、吸引しようとする負圧で一気
に水が蒸発してしまい、ポンプ内部の送液フィンを気体
が空回りするという、キャビテーション現象を起こしや
すい。一旦、キャビテーションが起きるとポンプが空転
し、しばしば焼き付きが生じたり、フィンが割れたりす
る等、ポンプの破損につながる。キャビテーションの発
生によるポンプの破損を防止するためには、ポンプをな
るべく低い位置に配置して浴液が押し込まれる構成、す
なわち負圧が発生しにくい構成とすることが好ましい。

【０１５７】［バルブ］バルブは、手動のものであって
もよく、自動のものであってもよい。また、誤動作を減
らすために、自動弁と手動弁を直列に配置してもよい。

【０１５８】本実施形態に係る電析装置のバルブのいく
つかは、所定の条件に基づいて調整され、流量を制御す
るものである。その代表が、第一循環槽電析浴上流循環
バルブ２１３５、第一循環槽電析浴下流循環バルブ２１
４５、第一電析槽フィルター循環系電析浴上流戻りバル
ブ２１６７、第一電析槽フィルター循環系電析浴中流戻
りバルブ２１６８、第一電析槽フィルター循環系電析浴
下流戻りバルブ２１６９、第一電析槽フィルター循環バ
ルブ２１６６、第一電析槽圧搾空気導入バルブ２１８
９、第一電析槽攪拌空気上流側制御バルブ２１９３、第
一電析槽攪拌空気下流側制御バルブ２１９２あるいは、
第二循環槽電析浴上流循環バルブ２２３７、第二循環槽
電析浴下流循環バルブ２２４７、第二電析槽フィルター
循環系電析浴上流戻りバルブ２２６９、第二電析槽フィ
ルター循環系電析浴中流戻りバルブ２２７０、第二電析
槽フィルター循環系電析浴下流戻りバルブ２２７１、第
二電析槽フィルター循環バルブ２２６８、第二電析槽圧
搾空気導入バルブ２１９９、第二電析槽攪拌空気上流側
制御バルブ２２０２、第二電析槽攪拌空気下流側制御バ
ルブ２２７２などである。また、シャワーやエアーナイ
フに至るバルブも、所定の条件に基づいて調整され、流
量を制御している。

【０１５９】［フィルター］浴液系に用いられるフィル
ターは、カートリッジ式フィルターで代表されるサブミ
クロンから１０ミクロン程度の粒子を除去するためのフ
ィルターと、数ミリ以上の大きさのゴミを除去するため
の、基本的に金網からなるサクションフィルターの類に
大別される。

【０１６０】粒子除去フィルターは、内部で発生する粉
体を浴液系から積極的に除去するために必要とされる。
このフィルターサイズにより、最終的に巻き上がる長尺
基板２００６上に成膜された膜に残るゴミのサイズが定
められる。したがって、必要なフィルターサイズは、膜
の必要な特性に基づいて決定される。

【０１６１】サクションフィルターは、ポンプやバルブ
の破損防止のために用いられる。

【０１６２】空気系に用いられるフィルターは、主に圧
搾空気に混じるオイルミストや水分を取り除くためのも
のである。

【０１６３】［配管］配管の太さは、当該配管における
必要な流量から定められるが、大きな流量が必要な部分
では、呼び径４０Ａ以上とすることが好ましい。本実施
形態に係る電析装置にあっては、図２において、太い管
として示した部分は呼び径４０Ａを用い、細い管として
示した部分は呼び径２５Ａを用いている。

【０１６４】管の材質は、ステンレスが極めて好条件で
使用されるが、電気的接続が好ましくない場合には、耐
熱塩化ビニールなどの管を一部だけ使用することも可能
である。また、継手による接続は、細い管や同一材料で
はインサートで十分であるが、塩化ビニールとステンレ
スの太い管の接続には、熱膨張収縮の繰り返しで液漏れ
が発生するのを防止するために、フランジ継手を使うこ
とが好ましい。

【０１６５】［循環量］浴液の循環量は、温度を均一化
し、使用されてゆく電析浴の濃度を均一化するために十
分な量を確保すべきである。例えば、数百リットルの電
析浴に対して、数十ｌ／ｍｉｎ以上あればよい。循環浴
液は、アノード面や基板面を動いて、常に新たな電析浴
を補給する流れを形成していることが好ましい。

【０１６６】［攪拌空気量］空気攪拌は、本実施形態に
係る電析装置においては、極めて有効な浴液の攪拌手段
である。例えば、数百リットルの電析浴に対して、数ｍ
³／ｈｒ程度以上の流量であることが好ましい。空気攪
拌を行うには、空気を小さなバブルとして放出すること
が、攪拌効果を高める上で好ましい。このためには、例
えば、攪拌空気をオリフィスから電析浴に吹き出す構成
とすればよい。

【０１６７】また、基板下に空気溜りができてしまう
と、電析反応が進まないので、成膜が進まない。このた
め、吹き出された空気は、淀まずに浮き上がってゆくこ
と必要である。

【０１６８】［裏面電極］基板の裏面に成膜される不必
要な電析膜は、裏面電極で除去される。裏面電極には、
基板に対して負の電位を印加する。このため、特に電析
用の電源との干渉を防ぐために、両者は互いにフロート
出力である必要がある。一つの電析槽に設置した裏面電
極あたり、１Ａ〜３０Ａの電流が用いられる。

【０１６９】裏面電極の材質は、水素過電圧の高いＴｉ
やＳＵＳなどが好ましい。基板の裏面より剥ぎ取られて
裏面電極部に溜まる酸化亜鉛などの電析物は、繰り返し
利用するために、装置外で機械的に剥ぎ取ってもよい
し、また裏面電極を使い捨てとして電極ごとに廃棄して
もよい。

【０１７０】

【実施例】上述した本実施形態に係る電析装置を用いた
実験結果を、実施例１〜５に基づいて説明する。各実施
例では、長尺基板２００６の幅および搬送速度、第一電
析槽２０６６と第二電析槽２１１６の長さ、第一電析槽
２０６６と第二電析槽２１１６で用いる電析浴の組成お
よび温度、アノード２０２６〜２０５３、２０７６〜２
１０３における電流密度、第一電析槽２０６６と第二電
析槽２１１６における空気攪拌量について、条件を変え
て実験を行った。

【０１７１】［実施例１］実施例１では、以下の条件に
基づいて実験を行った。

【０１７２】 長尺基板幅３５５ｍｍ、長尺基板搬送速度１ｍ／ｓ 第一電析槽の長さ５ｍ、第二電析槽の長さ５ｍ 第一電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第二電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第一電析槽の電析浴温度８５℃ 第二電析槽の電析浴温度８５℃ 全てのアノードにおける電流密度１ｍＡ／ｃｍ² 第一及び第二電析槽の空気攪拌量２０ｍ³／ｈｒ

【０１７３】この結果、太陽電池の透明導電層１００２
として十分な特性の２μｍの膜厚を有するとともに良好
な凹凸表面を有する酸化亜鉛の電析を、長尺基板２００
６上に均一に成膜することができた。

【０１７４】［実施例２］実施例２では、以下の条件に
基づいて実験を行った。なお、この実施例２では、２段
成膜を行い、各電析槽中および各電析槽間における電流
が異なっている。

【０１７５】 長尺基板幅３５５ｍｍ、長尺基板搬送速度１ｍ／ｓ 第一電析槽の長さ５ｍ、第二電析槽の長さ５ｍ 第一電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第二電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第一電析槽の電析浴温度８５℃ 第二電析槽の電析浴温度８５℃ 第一電析槽中のアノードにおける電流密度１０ｍＡ／ｃ
ｍ²〜２ｍＡ／ｃｍ²（漸減） 第二電析槽中のアノードにおける電流密度２ｍＡ／ｃｍ
²〜０．５ｍＡ／ｃｍ²（漸減） 第一及び第二電析槽の空気攪拌量２０ｍ³／ｈｒ

【０１７６】この結果、太陽電池の透明導電層１００２
として十分な特性の１．７μｍの膜厚を有するとともに
良好な凹凸表面を有する酸化亜鉛の電析を、長尺基板２
００６上に均一に成膜することができた。

【０１７７】［実施例３］実施例３では、以下の条件に
基づいて実験を行った。なお、この実施例３では、２段
成膜を行い、各電析槽における電析浴の濃度が異なって
いる。

【０１７８】 長尺基板幅３５５ｍｍ、長尺基板搬送速度２．５ｍ／ｓ 第一電析槽の長さ５ｍ、第二電析槽の長さ５ｍ 第一電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．００１Ｍ／ｌ、
デキストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第二電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第一電析槽の電析浴温度８５℃ 第二電析槽の電析浴温度８５℃ 第一電析槽中のアノードにおける電流密度２ｍＡ／ｃｍ
² 第二電析槽中のアノードにおける電流密度２ｍＡ／ｃｍ
² 第一及び第二電析槽の空気攪拌量２０ｍ³／ｈｒ

【０１７９】この結果、太陽電池の透明導電層１００２
として十分な特性の１．２μｍの膜厚を有するとともに
良好な凹凸表面を有する酸化亜鉛の電析を、長尺基板２
００６上に均一に成膜することができた。

【０１８０】［実施例４］実施例４では、以下の条件に
基づいて実験を行った。なお、この実施例４では、２段
成膜を行い、各電析槽における電析浴の温度が異なって
いる。

【０１８１】 長尺基板幅３５５ｍｍ、長尺基板搬送速度２ｍ／ｓ 第一電析槽の長さ５ｍ、第二電析槽の長さ５ｍ 第一電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第二電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第一電析槽の電析浴温度７５℃ 第二電析槽の電析浴温度９０℃ 第一電析槽中のアノードにおける電流密度５ｍＡ／ｃｍ
² 第二電析槽中のアノードにおける電流密度５ｍＡ／ｃｍ
² 第一及び第二電析槽の空気攪拌量２０ｍ³／ｈｒ

【０１８２】この結果、太陽電池の透明導電層１００２
として十分な特性の１．５μｍの膜厚を有するとともに
良好な凹凸表面を有する酸化亜鉛の電析を、長尺基板２
００６上に均一に成膜することができた。

【０１８３】［実施例５］実施例５では、以下の条件に
基づいて実験を行った。なお、この実施例５では、２段
成膜を行い、各電析槽における空気攪拌量が異なってい
る。

【０１８４】 長尺基板幅３５５ｍｍ、長尺基板搬送速度２ｍ／ｓ 第一電析槽の長さ５ｍ、第二電析槽の長さ５ｍ 第一電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第二電析槽の電析浴の硝酸亜鉛濃度０．２Ｍ／ｌ、デキ
ストリン濃度０．１ｇ／ｌ 第一電析槽の電析浴温度８５℃ 第二電析槽の電析浴温度８５℃ 第一電析槽中のアノードにおける電流密度１５ｍＡ／ｃ
ｍ² 第二電析槽中のアノードにおける電流密度５ｍＡ／ｃｍ
² 第一電析槽の空気攪拌量８０ｍ³／ｈｒ 第二電析槽の空気攪拌量２０ｍ³／ｈｒ

【０１８５】この結果、太陽電池の透明導電層１００２
として十分な特性の２μｍの膜厚を有するとともに良好
な凹凸表面を有する酸化亜鉛の電析を、長尺基板２００
６上に均一に成膜することができた。

【０１８６】なお、上述した実施形態においては、長尺
基板２００６を用いて説明したが、本発明に係る電析装
置は、長尺基板２００６を用いたものに限定されず、例
えば枚葉式等の他の生産装置に応用することができ、こ
の場合にも同様の作用効果を奏することができる。

【０１８７】

【発明の効果】本発明に係る電析装置は、長尺基板上に
酸化亜鉛膜を堆積するもので、酸化亜鉛を電気化学的に
堆積せしめる電析浴を保持する電析槽、該電析槽に対し
てそれぞれの電析浴を所定温度に加熱して送る循環槽、
前記電析槽と前記循環槽とで保持する全電析浴を一度に
溜めることのできる独立した排液槽の組み合わせを複数
有している。

【０１８８】したがって、電析槽を分割することによ
り、一つの電析槽の長さを短くすることができるので
（例えば５ｍ以下）、昇温時の槽やその構成体（フレー
ム、ステーなど）の熱膨張に伴うローラーの捻じれを最
小限に抑えて、基板の搬送不良を発生させることがな
い。また、一つの電析槽の長さを短くすることにより、
熱膨張収縮を伴う昇降温サイクルの繰り返しによる装置
の歪みやガタの発生を最小限に抑えることができるの
で、電析装置の寿命を延ばすことができる。

【０１８９】また、本発明に係る電析装置は、電析浴の
組成と加熱温度が、複数の電析槽と循環槽と排液槽の組
で等しくなっている。

【０１９０】したがって、一つの循環槽を用いる場合と
比較して、電析浴の昇温時間を最小とすることができ、
電析装置におけるスループットを高めることができる。

【０１９１】また、本発明に係る電析装置は、電析浴の
組成または加熱温度が、複数の電析槽と循環槽と排液槽
の組で異なっている。

【０１９２】したがって、異なるモルフォロジーをもつ
電析膜を、インラインで成膜することができる。

【０１９３】また、本発明に係る電析装置は、電析浴の
濃度が、複数の電析槽と循環槽と排液槽の組で異なって
いる。

【０１９４】したがって、異なる配向性を持つ酸化亜鉛
膜を、連続的にインラインで成膜することができる。

【０１９５】さらに、本発明に係る電析装置は、複数の
電析槽と循環槽と排液槽の組に、それぞれ攪拌空気を導
入するための攪拌空気導入手段を設け、該攪拌空気導入
手段による空気攪拌の量が、複数の電析槽と循環槽と排
液槽の組で異なっている。

【０１９６】したがって、電流が大きく成膜速度の高い
成膜部分をもつ電析槽では、電析浴の攪拌を確実に行う
ために、攪拌量を多くすることができる。一方、これ以
外の電析槽では、攪拌空気量を少なくすることができ
る。このため、圧搾空気の使用量を最小化することがで
きる。

【０１９７】上述した各効果に伴って、本発明に係る電
析装置によれば、長尺基板上に、太陽電池の透明導電層
として有効で、十分な膜厚を有する酸化亜鉛を堆積せし
めることができるとともに、複数の電析条件による膜を
積層した透明導電層を堆積せしめることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】電析装置を用いて形成する酸化亜鉛膜を含んだ
太陽電池の模式的断層図。

【図２】本発明に係る電析装置の一実施形態を示す構成
図。

【図３】図２に示す巻出装置の拡大図。

【図４】図２に示す第一電析槽及び第一循環槽の拡大
図。

【図５】図２に示す第二電析槽及び第二循環槽の拡大
図。

【図６】図２に示す第一排液槽及び第二排液槽の拡大
図。

【図７】図２に示す純水シャワー槽、第一温水槽、第二
温水槽、乾燥部、巻取装置の拡大図。

【図８】図２に示す純水加熱槽の拡大図。

【図９】図２に示す排気ダクト付近の拡大図。

【符号の説明】

１００１ 基板 １００２ 透明導電層 １００３ 半導体層 １００４ 透明電極 ２００１ 巻出装置長尺基板ボビン ２００２ 巻出装置インターリーフ巻取りボビン ２００３ 巻出装置繰出し調整ローラー ２００４ 巻出装置方向転換ローラー ２００５ 巻出装置排出ローラー ２００６ 長尺基板 ２００７ 巻取りインターリーフ ２００８ インターリーフ巻取り方向 ２００９ 巻出装置長尺基板ボビン回転方向 ２０１０ 長尺基板巻出し方向 ２０１１ 巻出装置クリーンブース ２０１２ 巻出装置 ２０１３ 電析槽入口折返しローラー ２０１４ 第一電析槽進入ローラー ２０１５ 第一電析槽退出ローラー ２０１６ 電析槽間折返しローラー ２０１７ 電析槽入口折返しローラーカバー ２０１８ 第一電析浴保持槽カバー ２０１９ 電析槽間カバー ２０２０ 電析水洗系排気ダクト ２０２１ 第一電析槽上流排気口 ２０２２ 第一電析槽中流排気口 ２０２３ 第一電析槽下流排気口 ２０２４ 第一電析槽オーバーフロー戻り口 ２０２５ 第一電析浴浴面 ２０２６〜２０５３ 第一電析槽アノード ２０５４〜２０６０ 第一電析槽アノード載置台 ２０６１ 第一電析槽裏面電極 ２０６２ 第一電析槽攪拌空気導入管 ２０６３ 第一電析槽上流循環噴流管 ２０６４ 第一電析槽下流循環噴流管 ２０６５ 第一電析浴保持槽 ２０６６ 第一電析槽 ２０６７ 第一電析槽出口シャワー ２０６８ 第二電析槽入口シャワー ２０６９ 第二電析槽進入ローラー ２０７０ 第二電析槽退出ローラー ２０７１ 第二電析槽上流排気口 ２０７２ 第二電析槽中流排気口 ２０７３ 第二電析槽下流排気口 ２０７４ 第二電析浴浴面 ２０７５ 第二電析槽オーバーフロー戻り口 ２０７６〜２１０３ 第二電析槽アノード ２１０４〜２１１０ 第二電析槽アノード載置台 ２１１１ 第二電析槽裏面電極 ２１１２ 第二電析槽攪拌空気導入管 ２１１３ 第二電析槽上流還流噴流管 ２１１４ 第二電析槽下流還流噴流管 ２１１５ 第二電析浴保持槽 ２１１６ 第二電析槽 ２１１７ 第一電析槽オーバーフロー戻り路 ２１１８ 第一電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フラン
ジ ２１１９ 第一電析槽オーバーフロー戻り方向 ２１２０ 第一循環槽 ２１２１ 第一循環槽加熱貯槽 ２１２２〜２１２９ 第一循環槽ヒーター ２１３０ 第一循環槽電析浴上流循環元バルブ ２１３１ 第一循環槽電析浴上流循環方向 ２１３２ 第一循環槽電析浴上流循環ポンプ ２１３３ 第一循環槽電析浴上流循環ポンプバイパスバ
ルブ ２１３４ 第一循環槽電析浴上流循環圧力ゲージ ２１３５ 第一循環槽電析浴上流循環バルブ ２１３６ 第一循環槽電析浴上流循環フレキシブルパイ
プ ２１３７ 第一循環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管 ２１３８ 第二電析浴保持槽カバー ２１３９ 第一循環槽電析浴下流循環元バルブ ２１４０ 第一循環槽電析浴下流循環方向 ２１４１ 第一循環槽電析浴下流循環ポンプバイパスバ
ルブ ２１４２ 第一循環槽電析浴下流循環ポンプ ２１４３ 第一循環槽電析浴下流循環圧力ゲージ ２１４４ 第一排液槽排液貯槽 ２１４５ 第一循環槽電析浴下流循環バルブ ２１４６ 第一循環槽電析浴バイパス循環フレキシブル
パイプ ２１４７ 第一循環槽電析浴バイパス循環バルブ ２１４８ 第一循環槽電析浴下流循環フレキシブルパイ
プ ２１４９ 第一循環槽電析浴下流循環フランジ絶縁配管 ２１５０ 第一循環槽出口シャワーバルブ ２１５１ 第一電析槽フィルター循環戻りフレキシブル
パイプ ２１５２ 第一電析槽フィルター循環戻りフランジ絶縁
配管 ２１５３ 第一電析槽排水バルブ ２１５４ 第一電析槽フィルター循環元バルブ ２１５５ 第一電析槽フィルター循環方向 ２１５６ 第一電析槽フィルター循環サクションフィル
ター ２１５７ 第一電析槽フィルター循環ポンプ ２１５８ 第一電析槽フィルター循環ポンプバイパスバ
ルブ ２１５９ 第一電析槽フィルター循環圧力スイッチ ２１６０ 第一電析槽フィルター循環圧力ゲージ ２１６１ 第一電析槽フィルター循環フィルター ２１６２ 第一電析槽フィルター循環方向 ２１６３ 第一電析槽フィルター循環方向 ２１６４ 第一電析槽フィルター循環フレキシブルパイ
プ ２１６５ 第一電析槽フィルター循環フランジ絶縁配管 ２１６６ 第一電析槽フィルター循環バルブ ２１６７ 第一電析槽フィルター循環系電析浴上流戻り
バルブ ２１６８ 第一電析槽フィルター循環系電析浴中流戻り
バルブ ２１６９ 第一電析槽フィルター循環系電析浴下流戻り
バルブ ２１７０ 第一排液槽空気抜きバルブ ２１７１ 第一排液槽空気抜き ２１７２ 第一排液槽 ２１７３ 第一排液槽排水バルブ ２１７４ 第一排液槽排液回収バルブ ２１７５ 排液回収元バルブ ２１７６ 排液回収サクションフィルター ２１７７ 排液回収ポンプ ２１７８ 排液回収口 ２１７９ 排液槽共通排水口 ２１８０ 第二排液槽排水バルブ ２１８１ 第二排液槽排液回収バルブ ２１８２ 圧搾空気導入口 ２１８３ 電析浴攪拌用圧搾空気圧力スイッチ ２１８４ 第一電析槽圧搾空気導入方向 ２１８５ 第一電析槽圧搾空気元バルブ ２１８６ 第一電析槽圧搾空気流量計 ２１８７ 第一電析槽圧搾空気レギュレーター ２１８８ 第一電析槽圧搾空気ミストセパレーター ２１８９ 第一電析槽圧搾空気導入バルブ ２１９０ 第一電析槽圧搾空気フレキシブルパイプ ２１９１ 第一電析槽圧搾空気絶縁配管 ２１９２ 第一電析槽攪拌空気下流側制御バルブ ２１９３ 第一電析槽攪拌空気上流側制御バルブ ２１９４ 第二電析槽圧搾空気導入方向 ２１９５ 第二電析槽圧搾空気元バルブ ２１９６ 第二電析槽圧搾空気流量計 ２１９７ 第二電析槽圧搾空気レギュレーター ２１９８ 第二電析槽圧搾空気ミストセパレーター ２１９９ 第二電析槽圧搾空気導入バルブ ２２００ 第二電析槽圧搾空気フレキシブルパイプ ２２０１ 第二電析槽圧搾空気絶縁配管 ２２０２ 第二電析槽攪拌空気上流側制御バルブ ２２０３ 電析槽系純水導入口 ２２０４ 電析槽系純水導入バルブ ２２０５ 第一加熱貯槽純水導入フレキシブルパイプ ２２０６ 第一加熱貯槽純水導入バルブ ２２０７ 第一電析槽純水導入バルブ ２２０８ 第一電析槽純水導入絶縁配管 ２２０９ 第二加熱貯槽純水導入フレキシブルパイプ ２２１０ 第二加熱貯槽純水導入バルブ ２２１１ 第二電析槽純水導入バルブ ２２１２ 第二電析槽純水導入絶縁配管 ２２１３ 電析槽予備導入口 ２２１４ 電析槽予備導入バルブ ２２１５ 第一電析槽予備導入バルブ ２２１６ 第一電析槽予備導入絶縁配管 ２２１７ 第二電析槽予備導入バルブ ２２１８ 第二電析槽予備導入絶縁配管 ２２１９ 第二電析槽オーバーフロー戻り路 ２２２０ 第二電析槽オーバーフロー戻り路絶縁フラン
ジ ２２２１ 第二電析槽オーバーフロー戻り方向 ２２２２ 第二循環槽 ２２２３ 第二循環槽加熱貯槽 ２２２４〜２２３１ 第二循環槽ヒーター ２２３２ 第二循環槽電析浴上流循環元バルブ ２２３３ 第二循環槽電析浴上流循環方向 ２２３４ 第二循環槽電析浴上流循環ポンプ ２２３５ 第二循環槽電析浴上流循環ポンプバイパスバ
ルブ ２２３６ 第二循環槽電析浴上流循環圧力ゲージ ２２３７ 第二循環槽電析浴上流循環バルブ ２２３８ 第二循環槽電析浴上流循環フレキシブルパイ
プ ２２３９ 第二循環槽電析浴上流循環フランジ絶縁配管 ２２４０ 第二循環槽入口シャワーフレキシブルパイプ ２２４１ 第二循環槽入口シャワーバルブ ２２４２ 第二循環槽電析浴下流循環元バルブ ２２４３ 第二循環槽電析浴下流循環方向 ２２４４ 第二循環槽電析浴下流循環ポンプバイパスバ
ルブ ２２４５ 第二循環槽電析浴下流循環ポンプ ２２４６ 第二循環槽電析浴下流循環圧力ゲージ ２２４７ 第二循環槽電析浴下流循環バルブ ２２４８ 第二循環槽電析浴下流循環フレキシブルパイ
プ ２２４９ 第二循環槽電析浴下流循環フランジ絶縁配管 ２２５０ 第二循環槽電析浴バイパス循環フレキシブル
パイプ ２２５１ 第二循環槽電析浴バイパス循環バルブ ２２５２ 第二電析槽出口シャワーバルブ ２２５３ 第二電析槽フィルター循環戻りフレキシブル
パイプ ２２５４ 第二電析槽フィルター循環戻りフランジ絶縁
配管 ２２５５ 第二電析槽排水バルブ ２２５６ 第二電析槽フィルター循環元バルブ ２２５７ 第二電析槽フィルター循環方向 ２２５８ 第二電析槽フィルター循環サクションフィル
ター ２２５９ 第二電析槽フィルター循環ポンプバイパスバ
ルブ ２２６０ 第二電析槽フィルター循環ポンプ ２２６１ 第二電析槽フィルター循環圧力スイッチ ２２６２ 第二電析槽フィルター循環圧力ゲージ ２２６３ 第二電析槽フィルター循環フィルター ２２６４ 第二電析槽フィルター循環方向 ２２６５ 第二電析槽フィルター循環方向 ２２６６ 第二電析槽フィルター循環フレキシブルパイ
プ ２２６７ 第二電析槽フィルター循環フランジ絶縁配管 ２２６８ 第二電析槽フィルター循環バルブ ２２６９ 第二電析槽フィルター循環系電析浴上流戻り
バルブ ２２７０ 第二電析槽フィルター循環系電析浴中流戻り
バルブ ２２７１ 第二電析槽フィルター循環系電析浴下流戻り
バルブ ２２７２ 第二電析槽攪拌空気下流側制御バルブ ２２７３ 第二排液槽排液貯槽 ２２７４ 第二排液槽 ２２７５ 第二排液槽空気抜きバルブ ２２７６ 第二排液槽空気抜き ２２７７ 第一排液槽排液貯槽上蓋 ２２７８ 第二排液槽排液貯槽上蓋 ２２７９ 純水シャワー槽折返し進入ローラー ２２８０ 純水シャワー槽ローラー ２２８１ 第一温水槽折返し進入ローラー ２２８２ 第一温水槽ローラー ２２８３ 第二温水槽折返し進入ローラー ２２８４ 第二温水槽ローラー ２２８５ 乾燥折返しローラー ２２８６ 巻取装置進入ローラー ２２８７ 巻取装置方向転換ローラー ２２８８ 巻取り調整ローラー ２２８９ 長尺基板巻上げボビン ２２９０ インターリーフ繰出しボビン ２２９２ 長尺基板巻取り方向 ２２９３ 長尺基板巻取りボビン回転方向 ２２９４ インターリーフ繰出しボビン回転方向 ２２９５ 巻取装置クリーンブース ２２９６ 巻取装置 ２２９７ 第二電析槽出口シャワー ２２９８ 純水シャワー槽裏面ブラシ ２２９９ 純水シャワー槽入口表面純水シャワー ２３００ 純水シャワー槽入口裏面純水シャワー ２３０１ 純水シャワー槽排気口 ２３０２ 純水シャワー槽出口裏面純水シャワー ２３０３ 純水シャワー槽出口表面純水シャワー ２３０４ 第一温水槽温水保温ヒーター ２３０５ 第一温水槽排気口 ２３０６ 第一温水槽超音波源 ２３０７ 第二温水槽温水保温ヒーター ２３０８ 第二温水槽排気口 ２３０９ 第二温水槽出口裏面純水シャワー ２３１０ 第二温水槽出口表面純水シャワー ２３１１ 乾燥部入口裏面エアーナイフ ２３１２ 乾燥部入口表面エアーナイフ ２３１３ ＩＲランプ ２３１４ 乾燥部排気口 ２３１５ 純水シャワー槽受け槽 ２３１６ 第一温水槽温水保持槽 ２３１７ 第二温水槽温水保持槽 ２３１８ 純水シャワー槽折返し進入ローラーカバー ２３１９ 第一温水槽折返し進入ローラーカバー ２３２０ 第二温水槽折返し進入ローラーカバー ２３２１ 乾燥部カバー ２３２２ 温水槽間連結管 ２３２３ 純水シャワー槽純水シャワー供給元バルブ ２３２４ 純水シャワー槽純水シャワー供給ポンプバイ
パスバルブ ２３２５ 純水シャワー槽純水シャワー供給ポンプ ２３２６ 純水シャワー槽純水シャワー供給圧力スイッ
チ ２３２７ 純水シャワー槽純水シャワー供給圧力ゲージ ２３２８ 純水シャワー槽純水シャワー供給カートリッ
ジ式フィルター ２３２９ 純水シャワー槽純水シャワー供給流量計 ２３３０ 純水シャワー槽入口表面純水シャワーバルブ ２３３１ 純水シャワー槽入口裏面純水シャワーバルブ ２３３２ 純水シャワー槽出口裏面純水シャワーバルブ ２３３３ 純水シャワー槽出口表面純水シャワーバルブ ２３３４ 第一温水槽温水保持槽排水バルブ ２３３５ 第二温水槽温水保持槽排水バルブ ２３３６ 水洗系排水 ２３３７ 水洗系純水口 ２３３８ 水洗系純水供給元バルブ ２３３９ 純水加熱槽 ２３４０〜２３４３ 純水加熱槽純水加熱ヒーター ２３４４ 純水加熱槽純水送出バルブ ２３４５ 純水加熱槽純水送出ポンプバイパスバルブ ２３４６ 純水加熱槽純水送出ポンプ ２３４７ 純水加熱槽圧力スイッチ ２３４８ 純水加熱槽圧力ゲージ ２３４９ 純水加熱槽カートリッジ式フィルター ２３５０ 純水加熱槽流量計 ２３５１ 第二温水槽出口裏面シャワーバルブ ２３５２ 第二温水槽出口表面シャワーバルブ ２３５３ 乾燥系圧搾空気導入口 ２３５４ 乾燥系圧搾空気圧力スイッチ ２３５５ 乾燥系圧搾空気フィルターレギュレーター ２３５６ 乾燥系圧搾空気ミストセパレータ ２３５７ 乾燥系圧搾空気供給バルブ ２３５８ 乾燥部入口裏面エアーナイフバルブ ２３５９ 乾燥部入口表面エアーナイフバルブ ２３６０ 純水シャワー槽 ２３６１ 第一温水槽 ２３６２ 第二温水槽 ２３６３ 乾燥部 ２３６４ 電析水洗系排気ダクト水洗側絶縁フランジ ２３６５ 電析水洗系排気ダクト基幹絶縁フランジ ２３６６ 電析水洗系排気ダクト凝縮器 ２３６７ 電析水洗系排気ダクト熱交換グリッド ２３６８ 電析水洗系排気ダクト凝縮器排水ドレイン ２３６９ 電析水洗系排気 ２３７０ 乾燥系排気ダクト ２３７１ 乾燥系凝縮器 ２３７２ 乾燥系熱交換グリッド ２３７３ 乾燥系凝縮器排水ドレイン ２３７４ 乾燥系排気

フロントページの続き (72)発明者 園田 雄一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 宮本 祐介 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 5F051 AA05 BA12 BA14 CB11 CB27 CB29 CB30 FA02 FA15 FA19 GA02

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に酸化亜鉛膜を堆積するための電
   析装置において、酸化亜鉛を電気化学的に堆積せしめる
   電析浴を保持する電析槽と、該電析槽に対してそれぞれ
   の電析浴を所定温度に加熱して送る循環槽と、前記電析
   槽と前記循環槽とで保持する全電析浴を一度に溜めるこ
   とのできる独立した排液槽との組み合わせを、複数有す
   ることを特徴とする電析装置。
2. 【請求項２】 電析浴の組成と加熱温度が、複数の電析
   槽と循環槽と排液槽の組で等しいことを特徴とする請求
   項１記載の電析装置。
3. 【請求項３】 電析浴の組成または加熱温度が、複数の
   電析槽と循環槽と排液槽の組で異なることを特徴とする
   請求項１記載の電析装置。
4. 【請求項４】 電析浴の濃度が、複数の電析槽と循環槽
   と排液槽の組で異なることを特徴とする請求項１〜３記
   載の電析装置。
5. 【請求項５】 複数の電析槽と循環槽と排液槽の組に、
   それぞれ攪拌空気を導入するための攪拌空気導入手段を
   設け、該攪拌空気導入手段による空気攪拌の量が、複数
   の電析槽と循環槽と排液槽の組で異なることを特徴とす
   る請求項１〜４記載の電析装置。