JP2000143638A - ピペラジンアミド誘導体の製造方法 - Google Patents
ピペラジンアミド誘導体の製造方法Info
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- JP2000143638A JP2000143638A JP10326829A JP32682998A JP2000143638A JP 2000143638 A JP2000143638 A JP 2000143638A JP 10326829 A JP10326829 A JP 10326829A JP 32682998 A JP32682998 A JP 32682998A JP 2000143638 A JP2000143638 A JP 2000143638A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬中間体として有用な式（２）
【化１】
（式中、Ｂｎはベンジル基を、Ｒは、水素原子又はベン
ジル基を示す。）で表される化合物の工業的に優れた製
造方法の提供。 【解決手段】 式（１） 【化２】 で示される化合物の水酸基をメシル化し、ベンジルアミ
ンまたはアンモニアと反応させることにより達成され
る。
ジル基を示す。）で表される化合物の工業的に優れた製
造方法の提供。 【解決手段】 式（１） 【化２】 で示される化合物の水酸基をメシル化し、ベンジルアミ
ンまたはアンモニアと反応させることにより達成され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術範囲】本発明は、医薬・農薬中間体
として有用なピペラジンアミド類の製造方法に関する。
として有用なピペラジンアミド類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、医農薬中間体として有用なピペラ
ジンアミド類の製造方法に関して、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−ピラジンアミドを原料に、酸化白金触媒の存在
下、５０℃、１００気圧の条件において水素化還元をし
て、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンアミドを製
造するという報告がある（特開１−１１7８６９号）。
しかし、この方法では、高価な酸化白金触媒が必要であ
り、また１００気圧の高圧設備が必要で工業的には有利
でない為、安価かつ、収率良く、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル
−２−ピペラジンアミドを製造する方法が切望されてい
た。
ジンアミド類の製造方法に関して、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−ピラジンアミドを原料に、酸化白金触媒の存在
下、５０℃、１００気圧の条件において水素化還元をし
て、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンアミドを製
造するという報告がある（特開１−１１7８６９号）。
しかし、この方法では、高価な酸化白金触媒が必要であ
り、また１００気圧の高圧設備が必要で工業的には有利
でない為、安価かつ、収率良く、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル
−２−ピペラジンアミドを製造する方法が切望されてい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は経済性に優
れ、高収率で得られるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペ
ラジンアミドの製造方法を提供する事を目的とするもの
である。
れ、高収率で得られるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペ
ラジンアミドの製造方法を提供する事を目的とするもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、式（１）
【化３】 （式中、Ｂｎはベンジル基を示す。）で表されるＮ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−３−（Ｎ'−ベンジ
ルエタノールアミノ）−プロピルアミドの水酸基をメシ
ル化し、アミン類またはアンモニアと反応させて式
（２）
ｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−３−（Ｎ'−ベンジ
ルエタノールアミノ）−プロピルアミドの水酸基をメシ
ル化し、アミン類またはアンモニアと反応させて式
（２）
【化４】 （式中、Ｂｎはベンジル基を、Ｒは水素原子又はベンジ
ル基を示す。）で示されるピペラジンアミド類を合成す
ることを特徴とするＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラ
ジンアミドの製造方法である。
ル基を示す。）で示されるピペラジンアミド類を合成す
ることを特徴とするＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラ
ジンアミドの製造方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の式（１）で示される化合
物は、例えば下記反応式で示されるように式（３）で示
されるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−３−ハ
ロゲノプロピルアミド類とベンジルエタノールアミンを
塩基性物質存在下反応させる事によって製造できる。こ
こで、式（３）で示されるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
ヒドロキシ−３−ハロゲノプロピルアミド類は例えば下
記反応式に示す方法により製造することができる。
物は、例えば下記反応式で示されるように式（３）で示
されるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−３−ハ
ロゲノプロピルアミド類とベンジルエタノールアミンを
塩基性物質存在下反応させる事によって製造できる。こ
こで、式（３）で示されるＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
ヒドロキシ−３−ハロゲノプロピルアミド類は例えば下
記反応式に示す方法により製造することができる。
【０００６】
【化５】
【０００７】式（１）で示される化合物の製造で使用さ
れる塩基は特に制限はないが、ＤＢＵ、ＴＥＡなどの有
機塩基や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
塩基が使用できる。溶媒についても特に制限はないが、
例えばジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン系
炭化水素やトルエンなどの炭化水素系溶媒が使用され
る。
れる塩基は特に制限はないが、ＤＢＵ、ＴＥＡなどの有
機塩基や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
塩基が使用できる。溶媒についても特に制限はないが、
例えばジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン系
炭化水素やトルエンなどの炭化水素系溶媒が使用され
る。
【０００８】式（１）で示される化合物の水酸基のメシ
ル化は塩基性物質存在下、塩化メタンスルホニルと反応
させることによって製造することができる。この反応で
使用される塩基は特に制限はないが、例えばＤＢＵ、Ｔ
ＥＡなどの有機塩基が使用できる。溶媒についても特に
制限はないが、例えばジクロロメタンやクロロホルムな
どのハロゲン系炭化水素が使用される。
ル化は塩基性物質存在下、塩化メタンスルホニルと反応
させることによって製造することができる。この反応で
使用される塩基は特に制限はないが、例えばＤＢＵ、Ｔ
ＥＡなどの有機塩基が使用できる。溶媒についても特に
制限はないが、例えばジクロロメタンやクロロホルムな
どのハロゲン系炭化水素が使用される。
【０００９】本発明の製造方法を実施するには式（１）
で示される化合物をメシル化し、このメシル化物は単離
することなく、アミン類を添加し、加熱、反応すること
によってピペラジンアミド類を製造する。ここで、添加
するアミン類は一級アミンであれば反応は進行するが後
に、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンアミドとす
ることから、還元反応によって脱離が容易なベンジルア
ミンが使用される。アミン類の使用量は理論的には等量
で良いが、脱酸の効果から等量以上が望ましい。反応温
度については、反応速度と副反応の抑制を考慮して室温
〜１５０℃が望ましい。溶媒については原料が溶解する
ものであれば特に制限はないが、例えばジクロロメタン
やクロロホルムなどのハロゲン系炭化水素が使用され
る。本発明の製造方法を反応式で下記に示す。
で示される化合物をメシル化し、このメシル化物は単離
することなく、アミン類を添加し、加熱、反応すること
によってピペラジンアミド類を製造する。ここで、添加
するアミン類は一級アミンであれば反応は進行するが後
に、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピペラジンアミドとす
ることから、還元反応によって脱離が容易なベンジルア
ミンが使用される。アミン類の使用量は理論的には等量
で良いが、脱酸の効果から等量以上が望ましい。反応温
度については、反応速度と副反応の抑制を考慮して室温
〜１５０℃が望ましい。溶媒については原料が溶解する
ものであれば特に制限はないが、例えばジクロロメタン
やクロロホルムなどのハロゲン系炭化水素が使用され
る。本発明の製造方法を反応式で下記に示す。
【００１０】
【化６】
【００１１】また、式（１）で示される化合物のメシル
化物は単離することなく、密封反応容器中でアンモニア
と反応させることによって、Ｒが水素原子のピペラジン
アミドを合成することができる。アンモニアの吹き込み
量は過剰量であれば特に問題はないが、できれば、０．
１〜１.０Ｐａに加圧するのが望ましい。ここで使用さ
れる溶媒については原料とアンモニアが溶解するもので
あれば特に制限はないが、例えばクロロホルムなどのハ
ロゲン系炭化水素やメタノールなどのアルコール系溶媒
が使用される。下記に反応式を示す。
化物は単離することなく、密封反応容器中でアンモニア
と反応させることによって、Ｒが水素原子のピペラジン
アミドを合成することができる。アンモニアの吹き込み
量は過剰量であれば特に問題はないが、できれば、０．
１〜１.０Ｐａに加圧するのが望ましい。ここで使用さ
れる溶媒については原料とアンモニアが溶解するもので
あれば特に制限はないが、例えばクロロホルムなどのハ
ロゲン系炭化水素やメタノールなどのアルコール系溶媒
が使用される。下記に反応式を示す。
【００１２】
【化７】
【００１３】上記の方法によって得られたＮ−ｔｅｒｔ
−ブチル−１，４−ジベンジルピペラジンアミドまたは
Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ベンジルピペラジンアミド
は公知の方法によって脱ベンジル化を行い、Ｎ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−ピペラジンアミド式（４）を得ることがで
きる。
−ブチル−１，４−ジベンジルピペラジンアミドまたは
Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ベンジルピペラジンアミド
は公知の方法によって脱ベンジル化を行い、Ｎ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−ピペラジンアミド式（４）を得ることがで
きる。
【化８】
【００１４】
【実施例】以下に実施例によって本発明を詳細に説明す
るが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではな
い。 ［実施例１］Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロ−２−
ヒドロキシプロピルアミド５ｇをトルエン２０ｍｌに溶
解し、ベンジルエタノールアミン５．０４ｇとＤＢＵ
４．２３ｇを入れて２時間還流した。反応溶液を水洗、
飽和食塩水洗をして無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
硫酸マグネシウムを濾過後、濃縮を行った。濃縮後のｏ
ｉｌをシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって分
取し、目的物の式（１）で示される化合物を５．００ｇ
（収率６１．１％）得た。このものの分析値は以下の通
りである。
るが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではな
い。 ［実施例１］Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロ−２−
ヒドロキシプロピルアミド５ｇをトルエン２０ｍｌに溶
解し、ベンジルエタノールアミン５．０４ｇとＤＢＵ
４．２３ｇを入れて２時間還流した。反応溶液を水洗、
飽和食塩水洗をして無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
硫酸マグネシウムを濾過後、濃縮を行った。濃縮後のｏ
ｉｌをシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって分
取し、目的物の式（１）で示される化合物を５．００ｇ
（収率６１．１％）得た。このものの分析値は以下の通
りである。
【００１５】 ｏｉｌ 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、２７０ＭＨｚ） （ｐｐｍ）；１．３２ （９Ｈ、ｓ）、 ２．７０ （２Ｈ、ｔ、Ｊ＝４．９Ｈｚ）、 ２．８３ （１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．８ａｎｄ１３．２Ｈｚ） ２．９６ （１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．４ａｎｄ１３．２Ｈｚ） ３．６４ （２Ｈ、ｔ、Ｊ＝４．９Ｈｚ） ３．７３ （２Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ） ３．９５ （１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．４ａｎｄ６．８Ｈｚ） ６．８７ （１Ｈ、ｓ）、７．２２〜7．３８（５Ｈ、ｍ）
【００１６】［実施例２］Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルアミド０．５ｇをトル
エン５ｍｌに溶解し、ベンジルエタノールアミン０．５
１ｇと１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５ｍｌを入れて室温
で４時間攪拌した。反応溶液を分液し、水層をクロロホ
ルム１０ｍｌで抽出をした。有機層は、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過後、濃縮を
行った。濃縮後のｏｉｌをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーによって分取し、目的物の式（１）で示される
化合物を０．２６ｇ（収率３１．８％）得た。
クロロ−２−ヒドロキシプロピルアミド０．５ｇをトル
エン５ｍｌに溶解し、ベンジルエタノールアミン０．５
１ｇと１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５ｍｌを入れて室温
で４時間攪拌した。反応溶液を分液し、水層をクロロホ
ルム１０ｍｌで抽出をした。有機層は、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過後、濃縮を
行った。濃縮後のｏｉｌをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーによって分取し、目的物の式（１）で示される
化合物を０．２６ｇ（収率３１．８％）得た。
【００１７】［実施例３］式（１）で示される化合物
０．２６ｇをクロロホルム５ｍｌに溶解しトリエチエル
アミン０．２０ｇ、塩化メタンスルホニル０．２２ｇを
入れて、室温で２時間撹梓した。この反応液にベンジル
アミンを０．９５ｇ添加し、５時間還流した。室温まで
冷却した後、析出した結晶を濾別し、濾液を濃縮した。
濃縮後のｏｉｌをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
によって分取し、目的物のＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，
４−ジベンジルピペラジンアミドを０．２３ｇ（収率７
７．２％）得た。
０．２６ｇをクロロホルム５ｍｌに溶解しトリエチエル
アミン０．２０ｇ、塩化メタンスルホニル０．２２ｇを
入れて、室温で２時間撹梓した。この反応液にベンジル
アミンを０．９５ｇ添加し、５時間還流した。室温まで
冷却した後、析出した結晶を濾別し、濾液を濃縮した。
濃縮後のｏｉｌをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
によって分取し、目的物のＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，
４−ジベンジルピペラジンアミドを０．２３ｇ（収率７
７．２％）得た。
【００１８】［実施例４］式（１）で示される化合物
０．４９ｇをクロロホルム５ｍｌに溶解しトリエチエル
アミン０．３６ｇ、塩化メタンスルホニル０．４０ｇを
入れて、室温で２時間攪拌した。この反応液をメタノー
ルで置換濃縮し、５０ｍｌの簡易型オートクレーブに入
れた。密封後、容器内を減圧した後、気体アンモニアを
吹き込んで０．３Ｍｐａまで加圧した。この反応容器を
５０℃のオイルバスに浸して、４時間反応した。反応
後、容器を開けて反応溶液を取り出し、析出した結晶を
濾別し、濾液を濃縮した。濃縮後のｏｉｌをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーによって分取し、目的物のＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ベンジルピペラジンアミドを
０．３０ｇ（収率６５．８％）得た。
０．４９ｇをクロロホルム５ｍｌに溶解しトリエチエル
アミン０．３６ｇ、塩化メタンスルホニル０．４０ｇを
入れて、室温で２時間攪拌した。この反応液をメタノー
ルで置換濃縮し、５０ｍｌの簡易型オートクレーブに入
れた。密封後、容器内を減圧した後、気体アンモニアを
吹き込んで０．３Ｍｐａまで加圧した。この反応容器を
５０℃のオイルバスに浸して、４時間反応した。反応
後、容器を開けて反応溶液を取り出し、析出した結晶を
濾別し、濾液を濃縮した。濃縮後のｏｉｌをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーによって分取し、目的物のＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ベンジルピペラジンアミドを
０．３０ｇ（収率６５．８％）得た。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、医薬、農薬の原料とし
て有用な中間体のビペラジンアミド類を容易に合成する
事ができる。
て有用な中間体のビペラジンアミド類を容易に合成する
事ができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （式中、Ｂｎはベンジル基を示す。）で示される化合物
の水酸基をメシル化し、ベンジルアミンまたはアンモニ
アと反応させることを特徴とする下記式（２） 【化２】 （式中、Ｂｎはベンジル基を、Ｒは水素原子又はベンジ
ル基を示す。）で示されるピペラジンアミド類の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10326829A JP2000143638A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | ピペラジンアミド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10326829A JP2000143638A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | ピペラジンアミド誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143638A true JP2000143638A (ja) | 2000-05-26 |
Family
ID=18192190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10326829A Withdrawn JP2000143638A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | ピペラジンアミド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000143638A (ja) |
-
1998
- 1998-11-17 JP JP10326829A patent/JP2000143638A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060207 |