JP2000137238A - 広視野角液晶表示装置およびその基板並びにそれらの製造方法 - Google Patents

広視野角液晶表示装置およびその基板並びにそれらの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示装置の視野角を広げること。 【解決手段】 液晶表示装置のカラーフィルタをパタニ
ングして溝５００を形成し、その上に共通電極を形成し
カラーフィルタがパタニングされた部分において共通電
極に溝を形成させる。共通電極の溝によって電場の歪み
が形成され、これによって液晶分子の配列が溝の中心線
を基準に対象な二つの電場領域が形成されて視野角が広
くなる。溝により発生する光漏れを減少するために、溝
と重畳するようにブラックマトリックスを形成する。カ
ラーフィルタに形成された溝５００のまわりにおいて電
極が切れないようにするためＩＴＯを二回薄く蒸着して
共通電極を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は広視野角液晶表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、液晶表示装置は二枚の基板の
間に液晶を注入し、ここに加える電場の強さを調節し光
透過量を調節する構造からなっている。
【０００３】垂直配向ツイストネマチック(vertically
aligned twisted nematic；VATN）方式の液晶表示装
置は、内側面に透明電極が形成されている１対の透明基
板と、二つの透明基板の間の液晶物質と、それぞれの透
明基板の外側面に取り付けられて光を偏光させる二枚の
偏光板とで構成される。電場を印加しない状態において
は、液晶分子は二つの基板に対し垂直に配向されてい
る。電場を印加すると、二つの基板の間に詰められた液
晶分子が基板に平行になり一定のピッチを有して螺旋状
にねじれる。
【０００４】ＶＡＴＮ液晶表示装置の場合、電界が印加
されない状態において液晶分子が基板に対し垂直に配向
されているので、直交する偏光板を用いる場合電界が印
加されない状態において完全に光を遮断することができ
る。すなわち、ノーマルブラックモードにおいてオフ状
態の輝度が非常に低いので、従来のツイストネマチック
液晶表示装置に比べて高いコントラスト比を得られる。
しかしながら、電界が印加された状態、特に階調電圧が
印加された状態においては、通常のツイストネマチック
モードと同様に液晶表示装置をみる方向によって光の遅
延（retardation）に大きい差異を生じ、視野角が狭い
という問題点がある。
【０００５】かかる問題点を解決するために電極をパタ
ニングしこれに従うフリンジフィールド（fringe fiel
d）を用いて多重領域を形成する各種の方法が提示され
ている。米国特許第5,309,264号において、Lienは共通
電極にＸ字状の開口部を形成する方法を提示している。
また、Histakeなどは米国特許第5,434,690号において、
上及び下基板に形成されている電極に、交互に開口部を
形成する方法を提示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような方法を用いて分割配向を形成する場合、共通電極
をパタニングするために別途のマスクが必要になる。カ
ラーフィルタ上に保護膜がない構造においてはカラーフ
ィルタの顔料が液晶物質に影響を与えることになるの
で、カラーフィルタ上に保護膜を形成しなければならな
い。さらに、パタニングされた電極のエッジにおいてテ
クスチャーが激しく発生するなどの問題点がある。
【０００７】従って、本発明の目的は、かかる問題点を
解決するためのものであって、液晶表示装置の視野角を
広げることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の液晶表示装置においてはカラーフィルタに
溝を形成し、その上に共通電極を形成し液晶分子を分割
配向する。
【０００９】具体的には、本願発明は、基板と、前記基
板上に形成されており溝を有しているカラーフィルタ
と、前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極
と、を含む液晶表示装置用基板を提供する。
【００１０】この液晶表示装置用基板において、前記溝
の深さは前記カラーフィルタの厚さより薄いことが好ま
しい。また、前記基板上には、さらにブラックマトリッ
クスが形成されていると好適である。
【００１１】前記溝は、前記ブラックマトリックスによ
り定義される画素領域内に位置するとよい。前記ブラッ
クマトリックスの少なくとも一部は、前記溝と重畳する
ように形成されていると好ましい。溝と重畳されるよう
ブラックマトリックスを形成して光漏れを減少すること
ができる。
【００１２】また、本発明は、開口部を有する画素電極
を含んでいる第１基板と、溝を有しているカラーフィル
タ及び前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極
を含み前記第１基板と向かい合っている第２基板と、を
含む液晶表示装置を提供する。
【００１３】この液晶表示装置において、前記カラーフ
ィルタに形成されている溝は、前記画素電極と重畳する
部分に位置することが好ましい。また、前記溝の深さは
前記カラーフィルタの厚さより薄く形成されていること
が好ましい。
【００１４】さらに、前記第２基板上にブラックマトリ
ックスがさらに形成されていると好適である。前記と同
様に、前記ブラックマトリックスの一部分は、前記溝と
重畳するように形成されていると好ましい。
【００１５】前記画素電極に形成されている開口部と、
カラーフィルタに形成されている溝とは、平面視で実質
的に閉鎖領域を形成することが推奨される。また、前記
溝と開口部とは互いに対称的に配置されていることが好
ましい。反対側の基板である薄膜トランジスタ基板の画
素電極に開口部を形成し、開口部とカラーフィルタに形
成された溝が平行に交互に配列されるようにすると安定
した配列と広い視野角が得られる。
【００１６】前記開口部は、第１方向に延長されている
第１部分と、前記第１方向とは異なる第２方向に延長さ
れている第２部分とを含むと好適である。ここで、前記
第１方向と前記第２方向とが互いに直交すると、さらに
好適である。
【００１７】さらに、前記第１基板と前記第２基板との
間に注入されており、電場が印加されない状態において
長軸が前記第１および第２基板と直交するように配向さ
れている液晶層をさらに含む液晶表示装置は好ましく用
いられる。ここで、前記液晶層の液晶物質として、負の
誘電率異方性を有するものを用いることが出来、前記液
晶層の液晶物質として不斉分子を有するものを用いるこ
ともできる。
【００１８】液晶層を含む場合に、前記第１および第２
基板の外面にそれぞれ取り付けられている第１および第
２偏光板をさらに含み、前記第１および第２偏光板の偏
光軸は互いに交差する液晶表示装置は好ましく用いられ
る。
【００１９】また、液晶層を含む場合に、前記溝および
開口部によって一つの画素領域内に複数のドメインが形
成されている液晶表示装置は好適である。ここで、前記
ドメイン内における液晶分子の平均長軸方向は、一つの
画素領域内において２つまたは４つであるとよい。前記
平均長軸方向は、前記第１および第２偏光板の偏光軸と
４０度ないし５０度をなすことが好ましい。
【００２０】さらに、本願発明は、第１基板と、前記第
１基板上に形成されている複数の画素電極と、前記第１
基板と対向している第２基板と、前記第２基板上に形成
されている共通電極とを含み、前記共通電極は、前記画
素電極と対応する部分に凹凸形状を有する液晶表示装置
を提供する。
【００２１】この液晶表示装置において、前記第２基板
と前記共通電極との間に形成され、溝を有するカラーフ
ィルタをさらに含み、前記共通電極の凹凸は、前記カラ
ーフィルタの溝により形成されると好適である。また、
前記第２基板に形成されており、前記共通電極の凹凸部
と一部が重畳するブラックマトリックスをさらに含む前
記液晶表示装置は好ましく用いられる。
【００２２】さらに、本願発明は、基板上にブラックマ
トリックスを形成する段階と、溝を有するカラーフィル
タを形成する段階と、共通電極を形成する段階とを含む
液晶表示装置用基板の製造方法を提供する。
【００２３】この方法において、ＩＴＯを２回蒸着して
前記共通電極を形成することが好ましい。ＩＴＯを薄く
二回にわたって蒸着して共通電極を形成すると、溝の周
りにおいて共通電極が切れることを防止することができ
る。
【００２４】前記カラーフィルタを形成する段階は、赤
色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマト
リックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝
を有する赤色カラーフィルタを形成する段階と、緑色レ
ジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリッ
クスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有
する緑色カラーフィルタを形成する段階と、青色レジス
トを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックス
により定義される画素領域の内部に位置する溝を有する
青色カラーフィルタを形成する段階と、を含むとよい。
【００２５】または、前記カラーフィルタを形成する段
階は、赤、緑及び青色のレジストを順に塗布し、パタニ
ングし、赤、緑及び青色カラーフィルタをそれぞれ形成
する段階と、前記赤、緑及び青色カラーフィルタをパタ
ニングして溝を形成する段階と、を含むとよい。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態例について詳細に説明する。図１（Ａ）およ
び（Ｂ）は、本発明の実施形態例に従う垂直配向液晶表
示装置を概略的に示す図面である。図１（Ａ）は、電場
が印加されない状態における液晶分子の配列を示すもの
である。図１（Ｂ）は、電場が十分に印加された状態に
おける液晶分子の配列を示すものである。
【００２７】図１（Ａ）および（Ｂ）においては、ガラ
スや石英などからなる二つの絶縁基板１０，２０が互い
に向かい合っており、二つの基板１０，２０の内側面に
は導電物質、特にＩＴＯ（indium tin oxide）などの
透明導電物質からなる電極１１，２１および垂直配向膜
１２，２２が順に形成されている。二つの配向膜１２，
２２の間には負の誘電率異方性を有する液晶物質からな
る液晶層１００が介在している。ここで、液晶層１００
は、不斉分子を有すると、配向膜の処理などを通じて電
界が印加されるとねじれる。それぞれの基板１０，２０
の外側面には液晶層１００を通過して出力する光および
液晶層１００に入射する光を偏光させる偏光板１３，２
３がそれぞれ取り付けられており、二つの偏光板１３，
２３の偏光軸は互いに９０度の角をなしている。図１
（Ｂ）において、配向膜１２，２２にはラービング処理
が施されていても施されていなくても良い。
【００２８】図１（Ａ）に示すように、二つの電極１
１，２１の電位差がない場合、すなわち、液晶層１００
に電場が印加されない場合には、液晶層１００の液晶分
子１１０の長軸方向が配向膜１２，２２の配向力によっ
て二つの基板１０，２０の表面に対し垂直方向に配列さ
れている。
【００２９】かかる状態において、下部基板２０に取り
付けられている偏光板２３を通過して偏光された光は偏
光方向を変更せず液晶層１００を通過する。従って、こ
の光は上部基板１０に取り付けられている偏光板１３に
より遮断され、これによって液晶表示装置はブラック状
態を示す。
【００３０】二つの電極１１，２１に電位差を与える
と、基板１０，２０の表面に対し垂直である電場が生成
され、これによって液晶分子１１０が再配列される。図
１（Ｂ）に示すように、二つの電極１１，２１の電位差
が非常に大きくて液晶層１００に十分な大きさの電場が
生成されると、誘電率異方性によって液晶分子１１０の
長軸方向は電場に対し垂直である方向または基板１０，
２０に対し平行な方向に配列する。ただし、配向膜１
２，２２の付近の液晶分子１１０は誘電率異方性による
力により配向膜１２，２２の配向力による力をもっと多
く受けるために初期状態を保持する。一方、液晶分子１
１０は不斉分子などにより互いにツイストされて螺旋状
にねじれることになる。液晶層１００の不斉分子を適切
に調節すると、下部配向膜２２から上部配向膜１２に至
るまで液晶方向子が９０度ほど回転するようにすること
ができる。
【００３１】このとき、下部基板２０に取り付けられた
偏光板２３を通過して偏光された光は、液晶層１００を
通過しながらその偏光軸が液晶方向子のツイストに沿い
９０度回転し、これによって反対側の基板１０に取り付
けられている偏光板１３を通過する。従って、液晶表示
装置はホワイト状態を表示することになる。
【００３２】図２は、本発明の第１実施形態例に従う垂
直配向液晶表示装置のカラーフィルタ基板を示す平面図
である。図３は、図２におけるIII−III’方向からみた
カラーフィルタ基板の断面図である。
【００３３】図２および図３に示すように、透明な絶縁
基板１０上に画素領域を定義するブラックマトリックス
１４がクロムなどの金属や有機ブラックレジストなどで
形成されており、ブラックマトリックス１４の間の画素
領域には赤、緑、青色のカラーフィルタ１５が形成され
ている。カラーフィルタ１５はその中に縦方向に長い開
口部１５０を有している。カラーフィルタ１５上には、
全面にわたってＩＴＯなどの透明導電物質からなる共通
電極１１が形成されている。
【００３４】図４は、図３に示す実施形態例に従うカラ
ーフィルタ基板を、反対側の基板である薄膜トランジス
タ基板と結合したとき、二つの基板の間の液晶分子の動
きを示す断面図である。
【００３５】液晶表示装置に電界を印加しない状態にお
いては、図１（Ａ）に示すように、液晶分子１１０は二
つの基板１０，２０に垂直に配列された状態を保持する
ので、カラーフィルタをパタニングしないときと同一の
ブラック状態を示す。
【００３６】電界を印加すると、図４に示すように、大
部分においては基板１０，２０に垂直である電場が形成
される。しかし、カラーフィルタ１５が除去されて形成
された開口部１５０の近辺においては、共通電極１１が
カラーフィルタ１５のパターンによって屈曲形態で形成
されているので、二つの基板の間の電場は二つの基板１
０，２０に対し完全に垂直に形成せず共通電極１１の形
状によって曲がった等電位面を有する電場が生成され
る。
【００３７】液晶が負の誘電率異方性を有するので、液
晶分子１１０の配列方向は電場の方向と垂直になること
になる。従って、開口部１５０の近辺の液晶分子１１０
の長軸は、二つの基板１０，２０の表面に対し傾いたま
まツイストされることになる。このようになると、開口
部１５０の中心線を基準に両側において液晶分子の傾く
方向が反対になる二つの領域が生じることになり、二つ
の領域の光学的特性が互いに補償されて視野角が広くな
ることになる。
【００３８】図２ないし図４に示すように、カラーフィ
ルタ１５の一部を除去して開口部１５０を形成すると、
ラビングなどの方法に比べ簡単な工程で分割配向を形成
することができるばかりでなく、液晶分子の配列が異な
る領域を非常に微細に調整するか各種の形状につくるこ
とができるという利点がある。
【００３９】一方、カラーフィルタ１５の厚さのうち、
一部のみを除去し一部は残っている状態に形成すること
もできる。また、上板のカラーフィルタに開口部を形成
する以外に下板の画素電極にも開口部を形成することが
できる。
【００４０】図５は、本発明の第２実施形態例に従う液
晶表示装置の平面図である。図６は、図５におけるVI−
VI’方向から見た液晶表示装置の断面図である。図５に
おいて、両側を矢印で示したものは偏光板の偏光軸を示
す。
【００４１】液晶表示装置は、通常、多数の画素領域か
らなるが、図５および図６においては一つの画素領域３
００のみを示しており、薄膜トランジスタと配線などそ
の他の構成要素は省略し、上板のカラーフィルタおよび
下板の電極に形成されている開口部のパターンのみを示
している。
【００４２】図５および図６において、一つの長方形の
画素領域３００内に多数の線形開口部２１１，２１２，
２１６，２１７が形成されている。すなわち、上板１０
のカラーフィルタ１５には横および縦方向の第１および
第２開口部２１１，２１２が形成されており、下板２０
の電極２１には縦方向の第１方向の第１部分２１６と横
方向の第２部分２１７からなる十字形状の開口部２１
６，２１７が形成されている。
【００４３】上板１０上の第１開口部２１１と第２開口
部２１２とは、互いに分離されており、ほぼ閉じている
四つの大きい正四角形を形成している。下板１０上の開
口部２１６，２１７の第１部分２１６は、画素３００の
中央を縦方向に貫通することにより、第１および第２開
口部２１１，２１２がなす大きい正四角形領域の中央を
縦方向に貫通している。さらに、第１部分２１６は、両
端が第２開口部２１２にほぼ接触している。反面、横方
向の多数の第２部分２１７は第１および第２開口部２１
１，２１２がなすそれぞれの正四角形領域の中央を横方
向に貫通しており、両端は第１開口部２１１にほぼ接触
している。
【００４４】従って、二つの基板１０，２０に形成され
ている開口部２１１，２１２，２１６，２１７は小さい
正四角形状の微細領域をつくり、四角形の四辺のうち、
隣り合う二辺は上板１０に形成された開口部２１１，２
１２になり、残りの隣り合う二辺は下板２０に形成され
た開口部２１６，２１７になる。
【００４５】そこで、かかる液晶表示装置において液晶
分子の配列について図６を参照して説明する。図６に示
すように、液晶分子１１０は開口部付近のフリンジフィ
ールドにより傾く。このとき、互いに隣接した上板１０
と下板２０との開口部２１１，２１６は、両者の間に位
置する液晶分子を同一の方向、すなわち、下板２０の開
口部２１６において上板１０の開口部２１１に向く方向
に配列することにするフリンジフィールドをつくる。こ
れにより、各開口部２１１，２１６を境界に液晶分子の
配列方向が異なることになる。
【００４６】ところが、微細領域を定義する開口部のう
ち、隣接した開口部は互いに垂直をなしているので、位
置に従って液晶分子の長軸方向が異なることになる。し
かし、正四角形領域内において液晶分子の平均長軸方向
は、図５において矢印で示すように、下板２０の開口部
２１６，２１７の二つの部分２１６，２１７の交差点に
おいて上板１０の第１および第２開口部２１１，２１２
が隣接する地点に向く方向、言い換えると、上板の第１
および第２開口部２１１，２１２がなす大きい正四角形
の中心から正方形の頂点に向く方向になる。
【００４７】このように開口部を配置すると、１画素に
総数１６個の小さい正四角形の微細領域が生じ、各微細
領域における液晶分子の平均長軸方向は四つの方向のう
ちの一つになる。また、隣接した二つの微細領域におけ
る液晶分子の平均長軸方向は、基板上からみるとき、互
いに９０度をなす。
【００４８】また、横方向と縦方向とに互いに垂直にな
るように二つの偏光板の透過軸Ｐ１、Ｐ２を配置する
と、電場を印加したとき、各微細領域における液晶分子
の平均長軸方向と偏光板の透過軸が４５度をなす。
【００４９】下板と上板に形成される開口部の形状は様
々な形状にすることができ、図７に示す形態でも可能で
ある。すなわち、下板の画素電極にはＸ字形状の開口部
４００が形成されており、上板のカラーフィルタには開
口部４００の中央を縦に横切る開口部５００が形成され
ている。
【００５０】一方、次の第３実施形態例は、カラーフィ
ルタ基板に形成されるブラックマトリックスを、分割配
向を形成するための溝と重畳するように形成して溝によ
り発生する光漏れを減少させることができる構造につい
て図８を参照して説明する。
【００５１】図８に示すように、透明な絶縁基板１０上
にクロムなどの金属や黒色レジストのような不透明な物
質からなるブラックマトリックス１４が形成されてい
る。ブラックマトリックス１４は、画素領域を定義する
周り部分だけではなく、カラーフィルタに形成された溝
１５０と重畳する部分にも形成されている。その上には
溝１５０を有するカラーフィルタ１５が形成されてお
り、その上に共通電極１１が形成されている。
【００５２】本発明の実施形態例に従う液晶表示装置用
カラーフィルタ基板を製造する方法について説明する。
まず、クロムなどの金属や黒色レジストを基板上に１層
形成し、パタニングしてブラックマトリックスを形成す
る。
【００５３】次に、赤、緑、青色のうち、一色のレジス
トを塗布し、パタニングして溝を有するカラーフィルタ
を形成する。順に、残りの二色のレジストを塗布し、パ
タニングする過程を経て三つの色のカラーフィルタを完
成する。
【００５４】または、赤、緑、青色のレジストを順に塗
布し、パタニングしカラーフィルタを形成した後、一度
に三色のカラーフィルタに溝を形成することができる。
最後に、ブラックマトリックスとカラーフィルタとの上
に、ＩＴＯなどの透明導電物質を蒸着して共通電極を形
成する。共通電極を形成するときには、カラーフィルタ
に形成された溝の近辺において段差によって共通電極が
切れる恐れがあるので、薄く２回にわたって蒸着するこ
とが好ましい。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、本発明の実施形態例での
ように、カラーフィルタに溝を形成して分割配向の液晶
表示装置を形成すると、単純な工程で液晶表示装置の視
野角を広くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ），（Ｂ）本発明の実施形態例に従う垂直
配向液晶表示装置において液晶分子の配向をブラックモ
ードおよびホワイトモードによって示す概念図。
【図２】本発明の実施形態例に従う液晶表示装置用カラ
ーフィルタ基板の平面図。
【図３】III−III’線方向から見た図２のカラーフィル
タ基板の断面図。
【図４】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置用
カラーフィルタ基板を含む液晶表示装置の断面図。
【図５】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置の
平面図。
【図６】VI−VI’線方向から見た図５の液晶表示装置の
断面図。
【図７】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置の
平面図。
【図８】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置用
カラーフィルタ基板の断面図。
【符号の説明】
１０、２０ 絶縁基板 １１、２１ 電極 １２、２２ 配向膜 １３、２３ 偏光板 １４ ブラックマトリックス １５ カラーフィルタ １００ 液晶層 １１０ 液晶分子 ３００ 画素領域

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基板と、 前記基板上に形成されており溝を有しているカラーフィ
    ルタと、 前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極と、 を含む液晶表示装置用基板。
  2. 【請求項２】前記溝の深さは前記カラーフィルタの厚さ
    より薄い、請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
  3. 【請求項３】前記基板上には、さらにブラックマトリッ
    クスが形成されている、請求項１に記載の液晶表示装置
    用基板。
  4. 【請求項４】前記溝は、前記ブラックマトリックスによ
    り定義される画素領域内に位置する、請求項３に記載の
    液晶表示装置用基板。
  5. 【請求項５】前記ブラックマトリックスの少なくとも一
    部は、前記溝と重畳するように形成されている、請求項
    ４に記載の液晶表示装置用基板。
  6. 【請求項６】開口部を有する画素電極を含んでいる第１
    基板と、 溝を有しているカラーフィルタ及び前記カラーフィルタ
    上に形成されている共通電極を含み前記第１基板と向か
    い合っている第２基板と、 を含む液晶表示装置。
  7. 【請求項７】前記カラーフィルタに形成されている溝
    は、前記画素電極と重畳する部分に位置する、請求項６
    に記載の液晶表示装置。
  8. 【請求項８】前記溝の深さは前記カラーフィルタの厚さ
    より薄い、請求項６に記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項９】前記第２基板上にブラックマトリックスが
    さらに形成されている、請求項６に記載の液晶表示装
    置。
  10. 【請求項１０】前記ブラックマトリックスの一部分は、
    前記溝と重畳するように形成されている、請求項９に記
    載の液晶表示装置。
  11. 【請求項１１】前記画素電極に形成されている開口部
    と、カラーフィルタに形成されている溝とは、平面視で
    実質的に閉鎖領域を形成する、請求項６に記載の液晶表
    示装置。
  12. 【請求項１２】前記溝と開口部とは互いに対称的に配置
    されている、請求項６に記載の液晶表示装置。
  13. 【請求項１３】前記開口部は、第１方向に延長されてい
    る第１部分と、前記第１方向とは異なる第２方向に延長
    されている第２部分と、を含む請求項６に記載の液晶表
    示装置。
  14. 【請求項１４】前記第１方向と前記第２方向とは互いに
    直交する、請求項１３に記載の液晶表示装置。
  15. 【請求項１５】前記第１基板と前記第２基板との間に注
    入されており、電場が印加されない状態において長軸が
    前記第１および第２基板と直交するように配向されてい
    る液晶層をさらに含む、請求項６に記載の液晶表示装
    置。
  16. 【請求項１６】前記液晶層の液晶物質は負の誘電率異方
    性を有する、請求項１５に記載の液晶表示装置。
  17. 【請求項１７】前記液晶層の液晶物質は不斉分子を有す
    る、請求項１６に記載の液晶表示装置。
  18. 【請求項１８】前記第１および第２基板の外面にそれぞ
    れ取り付けられている第１および第２偏光板をさらに含
    み、 前記第１および第２偏光板の偏光軸は互いに交差する、
    請求項１５に記載の液晶表示装置。
  19. 【請求項１９】前記溝および開口部によって一つの画素
    領域内に複数のドメインが形成されている、請求項１５
    に記載の液晶表示装置。
  20. 【請求項２０】前記ドメイン内における液晶分子の平均
    長軸方向は、一つの画素領域内において２つまたは４つ
    である、請求項１９に記載の液晶表示装置。
  21. 【請求項２１】前記平均長軸方向は、前記第１および第
    ２偏光板の偏光軸と４０度ないし５０度をなす、請求項
    ２０に記載の液晶表示装置。
  22. 【請求項２２】第１基板と、 前記第１基板上に形成されている複数の画素電極と、 前記第１基板と対向している第２基板と、 前記第２基板上に形成されている共通電極とを含み、 前記共通電極は、前記画素電極と対応する部分に凹凸形
    状を有する、液晶表示装置。
  23. 【請求項２３】前記第２基板と前記共通電極との間に形
    成され、溝を有するカラーフィルタをさらに含み、 前記共通電極の凹凸は、前記カラーフィルタの溝により
    形成される、請求項２２に記載の液晶表示装置。
  24. 【請求項２４】前記第２基板に形成されており、前記共
    通電極の凹凸部と一部が重畳するブラックマトリックス
    をさらに含む、請求項２２に記載の液晶表示装置。
  25. 【請求項２５】基板上にブラックマトリックスを形成す
    る段階と、 溝を有するカラーフィルタを形成する段階と、 共通電極を形成する段階とを含む、液晶表示装置用基板
    の製造方法。
  26. 【請求項２６】ＩＴＯを２回蒸着して前記共通電極を形
    成する、請求項２５に記載の液晶表示装置用基板の製造
    方法。
  27. 【請求項２７】前記カラーフィルタを形成する段階は、 赤色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマ
    トリックスにより定義される画素領域の内部に位置する
    溝を有する赤色カラーフィルタを形成する段階と、 緑色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマ
    トリックスにより定義される画素領域の内部に位置する
    溝を有する緑色カラーフィルタを形成する段階と、 青色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマ
    トリックスにより定義される画素領域の内部に位置する
    溝を有する青色カラーフィルタを形成する段階と、を含
    む請求項２５に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
  28. 【請求項２８】前記カラーフィルタを形成する段階は、 赤、緑及び青色のレジストを順に塗布し、パタニング
    し、赤、緑及び青色カラーフィルタをそれぞれ形成する
    段階と、 前記赤、緑及び青色カラーフィルタをパタニングして溝
    を形成する段階と、を含む請求項２５に記載の液晶表示
    装置用基板の製造方法。
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