KR20070000193A - Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 - Google Patents
Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070000193A KR20070000193A KR1020050055725A KR20050055725A KR20070000193A KR 20070000193 A KR20070000193 A KR 20070000193A KR 1020050055725 A KR1020050055725 A KR 1020050055725A KR 20050055725 A KR20050055725 A KR 20050055725A KR 20070000193 A KR20070000193 A KR 20070000193A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- insulating layer
- liquid crystal
- substrate
- layer
- display device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
- G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/40—Arrangements for improving the aperture ratio
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
Claims (18)
- 기판 상에 소정 형상으로 제1절연층을 패턴 형성하는 제1공정;상기 제1절연층을 포함한 기판 전면에 공통전극 및 화소전극용 전극층을 형성하는 제2공정;상기 전극층 전면에 제2절연층을 형성하는 제3공정;상기 제1절연층의 측면부에만 상기 제2절연층이 남도록 상기 제2절연층을 식각하는 제4공정;상기 남겨진 제2절연층을 마스크로 하여 상기 전극층을 식각함으로써, 서로 평행하게 배열되는 공통전극 및 화소전극을 형성하는 제5공정을 포함하여 이루어진 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 제4공정은 식각가스를 이용한 건식식각공정을 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 제3공정에서 형성하는 제2절연층은 SiO2 또는 SiNx인 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 남겨진 제2절연층을 제거하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 기판 상에 서로 교차되도록 게이트라인 및 데이터라인을 형성하는 공정; 및상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차영역에 박막트랜지스터를 형성하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제5항에 있어서,상기 기판에 대향하며, 그 위에 차광층 및 컬러필터층이 구비된 대향기판을 준비하는 공정; 및상기 양 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 양 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정층을 적하하는 공정; 및상기 양 기판을 합착하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자의 제조방법.
- 서로 대향하며 화소영역이 구비된 제1기판과 제2기판;상기 양 기판 사이에 형성된 액정층;상기 제1기판 상에 패턴 형성된 제1절연층;상기 제1절연층의 측면부에 교대로 형성되어 서로 평행하게 배열되는 공통전극 및 화소전극을 포함하여 이루어진 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 공통전극 및 화소전극 상부에 제2절연층이 추가로 형성된 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 공통전극과 화소전극의 폭은 0.1 내지 2 ㎛인 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 공통전극과 화소전극은 투명금속 또는 불투명금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 제1절연층은 무기절연물질 또는 유기절연물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 제2절연층은 무기절연물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제13항에 있어서,상기 제2절연층은 SiO2 또는 SiNx로 이루어진 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 공통전극 및 화소전극의 단면은 제1절연층의 측면에 수직하면서 제1절연층의 상면 및 제1기판면으로 수평 연장된 구조인 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 제1기판 상에는 서로 교차되도록 형성된 게이트라인 및 데이터라인; 및상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차영역에 박막트랜지스터가 형성된 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 제2기판 상에는 차광층 및 컬러필터층이 형성된 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
- 제8항에 있어서,상기 제1기판 및 제2기판 사이에는 셀갭유지를 위한 스페이서가 추가로 형성된 것을 특징으로 하는 IPS모드 액정표시소자.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050055725A KR100685936B1 (ko) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
US11/474,498 US7492430B2 (en) | 2005-06-27 | 2006-06-26 | In-plane switching mode liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
CNB2006100905451A CN100474054C (zh) | 2005-06-27 | 2006-06-27 | 共平面开关模式液晶显示器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050055725A KR100685936B1 (ko) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060136163A KR20060136163A (ko) | 2007-01-02 |
KR20070000193A true KR20070000193A (ko) | 2007-01-02 |
KR100685936B1 KR100685936B1 (ko) | 2007-02-22 |
Family
ID=37566878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050055725A KR100685936B1 (ko) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7492430B2 (ko) |
KR (1) | KR100685936B1 (ko) |
CN (1) | CN100474054C (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190065923A (ko) * | 2017-12-04 | 2019-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100685936B1 (ko) * | 2005-06-27 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
KR101289041B1 (ko) * | 2010-03-25 | 2013-07-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 고투과 수평 전계형 액정표시장치 및 그 제조 방법 |
JP2012220575A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Japan Display East Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP5797956B2 (ja) * | 2011-07-13 | 2015-10-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
JP5865088B2 (ja) * | 2012-01-19 | 2016-02-17 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
CN102749767B (zh) * | 2012-06-19 | 2015-05-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蓝相液晶显示面板及蓝相液晶显示装置 |
US9612490B2 (en) * | 2012-12-28 | 2017-04-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
CN103472635B (zh) * | 2013-09-05 | 2015-04-08 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 阵列基板及其制造方法和显示装置 |
KR20160084908A (ko) * | 2015-01-06 | 2016-07-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치, 이의 제조 방법 및 마스크 |
US9927666B2 (en) | 2016-04-20 | 2018-03-27 | a.u. Vista Inc. | Liquid crystal display systems and related methods |
CN106597698A (zh) * | 2016-11-10 | 2017-04-26 | 深圳天珑无线科技有限公司 | 液晶显示面板及液晶显示装置、显示控制方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5010027A (en) * | 1990-03-21 | 1991-04-23 | General Electric Company | Method for fabricating a self-aligned thin-film transistor utilizing planarization and back-side photoresist exposure |
US5130263A (en) * | 1990-04-17 | 1992-07-14 | General Electric Company | Method for photolithographically forming a selfaligned mask using back-side exposure and a non-specular reflecting layer |
US6005648A (en) * | 1996-06-25 | 1999-12-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
KR100336886B1 (ko) * | 1998-08-24 | 2003-06-09 | 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 | 고개구율및고투과율을갖는반사형액정표시장치및그제조방법 |
KR100660813B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2006-12-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 엑스레이 디텍터용 어레이기판 제조방법 |
JP2002026333A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-25 | Nec Corp | アクティブマトリクス基板の製造方法 |
KR20040025472A (ko) * | 2002-09-19 | 2004-03-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계모드 액정표시소자 |
KR100685936B1 (ko) * | 2005-06-27 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
KR100685938B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 |
-
2005
- 2005-06-27 KR KR1020050055725A patent/KR100685936B1/ko active IP Right Grant
-
2006
- 2006-06-26 US US11/474,498 patent/US7492430B2/en active Active
- 2006-06-27 CN CNB2006100905451A patent/CN100474054C/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190065923A (ko) * | 2017-12-04 | 2019-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
KR20190065925A (ko) * | 2017-12-04 | 2019-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7492430B2 (en) | 2009-02-17 |
KR100685936B1 (ko) | 2007-02-22 |
US20060290868A1 (en) | 2006-12-28 |
CN1892328A (zh) | 2007-01-10 |
CN100474054C (zh) | 2009-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100685936B1 (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
KR20060136163A (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
US20160274424A1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2001242466A (ja) | マルチドメイン液晶表示素子 | |
KR19990086581A (ko) | 액정표시장치 | |
JP3042491B2 (ja) | 液晶表示パネルおよび液晶表示装置 | |
US20100259469A1 (en) | Liquid crystal display panel and liquid crystal display device | |
JP4156342B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR19980022593A (ko) | 액정표시소자 | |
KR100685938B1 (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
JP3356273B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20020001235A (ko) | 멀티 도메인 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
JP3549177B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20060075502A (ko) | 광시야각을 갖는 액정표시장치 | |
JP2002214613A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR100685937B1 (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
KR20050000572A (ko) | 위상차 필름의 제조방법 및 이를 이용한 액정표시장치의제조방법 | |
US7463322B2 (en) | Multi-domain liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
KR100685935B1 (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
JP2002244145A (ja) | フリンジフィールド駆動モード液晶表示装置 | |
KR20060136209A (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
KR20030090079A (ko) | 액정표시장치 | |
KR20060136161A (ko) | Ips모드 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
KR100958036B1 (ko) | 멀티 도메인 광배향을 위한 배향막 노광용 마스크 장치 | |
US8253902B2 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121228 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131227 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150127 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160128 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170116 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190114 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200116 Year of fee payment: 14 |