JP2000132873A - デジタルパターン形成方法 - Google Patents
デジタルパターン形成方法Info
- Publication number
- JP2000132873A JP2000132873A JP10301985A JP30198598A JP2000132873A JP 2000132873 A JP2000132873 A JP 2000132873A JP 10301985 A JP10301985 A JP 10301985A JP 30198598 A JP30198598 A JP 30198598A JP 2000132873 A JP2000132873 A JP 2000132873A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- holes
- resist
- substrate
- digital pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度のデジタルパターン形成を可能とする
こと。 【解決手段】 予めパターンを形成できる場所を限定し
ておき所望の位置に電子ビームを照射することでデジタ
ルパターンを形成する。
こと。 【解決手段】 予めパターンを形成できる場所を限定し
ておき所望の位置に電子ビームを照射することでデジタ
ルパターンを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル記憶素子
製作に用いるデジタルパターン形成方法に関する。
製作に用いるデジタルパターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年記憶媒体として従来の磁気テープに
代わってコンパクトデスクや光ビデオデスクの様なデジ
タル記録が主流となりつつある。デジタル記憶の方式に
は様々のものがあるが、基本的には所定の場所の信号が
オフかオンかのビット信号を記録し、それを光ピックア
ップを用いて読み出すというものである。ところで、要
求される記録密度に対する要求は今後更に大きくなる。
それに伴い記録の１ビット分に許容される面積は記録密
度に反比例して小さくなる。このため、従来用いられて
いる様な集束した光ビームでは解像できない様な面積に
なると記録を作るのは難しい。電子ビーム露光を用いれ
ば分解能的には光ビームよりも遥かに優れているがレジ
ストを用いてパターンを形成する場合に必要な照射量が
大きくなり描画速度が遅くなる。一方レジストを高感度
するとパターン精度が劣化するという問題がある。ま
た、電子ビームの照射位置を極めて高精度に制御するこ
とが必要となる。
代わってコンパクトデスクや光ビデオデスクの様なデジ
タル記録が主流となりつつある。デジタル記憶の方式に
は様々のものがあるが、基本的には所定の場所の信号が
オフかオンかのビット信号を記録し、それを光ピックア
ップを用いて読み出すというものである。ところで、要
求される記録密度に対する要求は今後更に大きくなる。
それに伴い記録の１ビット分に許容される面積は記録密
度に反比例して小さくなる。このため、従来用いられて
いる様な集束した光ビームでは解像できない様な面積に
なると記録を作るのは難しい。電子ビーム露光を用いれ
ば分解能的には光ビームよりも遥かに優れているがレジ
ストを用いてパターンを形成する場合に必要な照射量が
大きくなり描画速度が遅くなる。一方レジストを高感度
するとパターン精度が劣化するという問題がある。ま
た、電子ビームの照射位置を極めて高精度に制御するこ
とが必要となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】以上説明した如く、こ
れまでに考えられたデジタルパターンの形成方法では高
密度化に対応できなかった。
れまでに考えられたデジタルパターンの形成方法では高
密度化に対応できなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に含まれるデジタ
ルパターン形成方法においては予めパターン形成可能領
域を形成してある。この様に構成されたデジタルパター
ン形成方法においては予めパターン形成可能領域を形成
してある為に、高感度レジストを用いても正確なパター
ンニングが可能となる。
ルパターン形成方法においては予めパターン形成可能領
域を形成してある。この様に構成されたデジタルパター
ン形成方法においては予めパターン形成可能領域を形成
してある為に、高感度レジストを用いても正確なパター
ンニングが可能となる。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を実施例
を用いて説明する。図１はデジタルパターン形成方法の
一実施例を示す。まず、例えばアルミ製の円盤状の基板
１にレジストを塗布する。次に光リソグラフィーを用い
てラインアンドスペースパターンの光をレジストの上に
照射する。これには例えばレベンソン型の位相シフトマ
スクを用いると波長に比べて細いパターンを形成するの
に有利である。次に先に照射したラインアンドスペース
パターンと直交するラインアンドスペースパターンの光
をレジストに照射する。こうすることにより、この時レ
ジストに加えられたエネルギーはラインパターンが重な
ったところで最大である。このラインパターンがレジス
ト現像後除去される様に光の照射量を調節する。これに
より現像後には位置が正確な二次元の開口分布が得られ
る。次に残ったレジストをマスクとして基板をエッチン
グする。エッチングの後でレジストを除去すると、基板
に正確に二次元の孔分布が得られる。次に、この基板に
孔に埋まる様にレジストを塗布する。次に孔以外のレジ
ストを例えば研磨により除去する。この基板を電子ビー
ム描画装置のステージに載せて電子ビーム描画を行う。
描画では電子ビームを二次元状に開けられた孔のうちの
所望のものに照射する。電子ビーム描画の後レジストを
現像すると電子ビームを照射した孔のレジストは除か
れ、未照射の孔のレジストは残る。この様にして出来た
基板を型としてＮｉメッキを行い、基板を外せば、デジ
タルパターン基板が形成される。この基板を型とした射
出形成技術を用いてパターンニングを行えば複製は容易
にできる。これはデジタルパターン記録の大量生産に有
利である。パターン形成方法としては光リソグラフィー
を用いる代わりに電子ビーム露光を用いることも可能で
ある。また、図１でからに移るプロセスの代わりに
例えば図２に示す様に全面にパターンニングをした原盤
を図１の(11)までのプロセスで製作し、これを元原盤と
して、例えば射出成形により全面に孔配列を形成した原
盤を複製することが大量生産には有利である。信号の検
出には例えばコンパクトデスクで用いている様に集束し
た光を照射して、反射光の強度から信号の有無を判別す
る。本技術では電子ビーム描画の際に電子ビーム照射位
置の精度は所望の孔の内側であればどこでもよいから電
子ビーム描画の位置精度は緩くて良い。レジストとして
例えば化学増幅型のレジストを用いればレジスト感度は
極めて高くとることができる。レジスト領域は孔の壁に
よって限定されているので、通常のレジスト描画の様に
電子ビームの照射量の僅かなずれや現像プロセスの僅か
な違いによってパターン寸法が変動することは無い。
を用いて説明する。図１はデジタルパターン形成方法の
一実施例を示す。まず、例えばアルミ製の円盤状の基板
１にレジストを塗布する。次に光リソグラフィーを用い
てラインアンドスペースパターンの光をレジストの上に
照射する。これには例えばレベンソン型の位相シフトマ
スクを用いると波長に比べて細いパターンを形成するの
に有利である。次に先に照射したラインアンドスペース
パターンと直交するラインアンドスペースパターンの光
をレジストに照射する。こうすることにより、この時レ
ジストに加えられたエネルギーはラインパターンが重な
ったところで最大である。このラインパターンがレジス
ト現像後除去される様に光の照射量を調節する。これに
より現像後には位置が正確な二次元の開口分布が得られ
る。次に残ったレジストをマスクとして基板をエッチン
グする。エッチングの後でレジストを除去すると、基板
に正確に二次元の孔分布が得られる。次に、この基板に
孔に埋まる様にレジストを塗布する。次に孔以外のレジ
ストを例えば研磨により除去する。この基板を電子ビー
ム描画装置のステージに載せて電子ビーム描画を行う。
描画では電子ビームを二次元状に開けられた孔のうちの
所望のものに照射する。電子ビーム描画の後レジストを
現像すると電子ビームを照射した孔のレジストは除か
れ、未照射の孔のレジストは残る。この様にして出来た
基板を型としてＮｉメッキを行い、基板を外せば、デジ
タルパターン基板が形成される。この基板を型とした射
出形成技術を用いてパターンニングを行えば複製は容易
にできる。これはデジタルパターン記録の大量生産に有
利である。パターン形成方法としては光リソグラフィー
を用いる代わりに電子ビーム露光を用いることも可能で
ある。また、図１でからに移るプロセスの代わりに
例えば図２に示す様に全面にパターンニングをした原盤
を図１の(11)までのプロセスで製作し、これを元原盤と
して、例えば射出成形により全面に孔配列を形成した原
盤を複製することが大量生産には有利である。信号の検
出には例えばコンパクトデスクで用いている様に集束し
た光を照射して、反射光の強度から信号の有無を判別す
る。本技術では電子ビーム描画の際に電子ビーム照射位
置の精度は所望の孔の内側であればどこでもよいから電
子ビーム描画の位置精度は緩くて良い。レジストとして
例えば化学増幅型のレジストを用いればレジスト感度は
極めて高くとることができる。レジスト領域は孔の壁に
よって限定されているので、通常のレジスト描画の様に
電子ビームの照射量の僅かなずれや現像プロセスの僅か
な違いによってパターン寸法が変動することは無い。
【０００６】図3は本発明のさらに他の実施例を示し図4
は図3の一部を拡大して示している。この例では基板と
して円盤状のものを考える。ここに螺旋状に記録を形成
する。方法としては例えば螺旋に沿って予め孔列を形成
しておき基板を回転しながら電子ビームを螺旋上の所望
の孔に照射することで形成できる。ここで、螺旋上に孔
列を形成する方法としては電子ビームリソグラフィーを
用いることも可能だが、先に説明したように元原盤を作
っておき、それを用いて同一の孔列を持つ複数種類の試
料を形成する様にすれば原盤の生産に有利である。ま
た、次の様な方法も可能である。照射先に示した方法で
形成した二次元の孔配列に所望の螺旋を重ねる。ここで
螺旋のピッチよりも二次元配列の間隔は半分以下に狭く
とって置く。螺旋にそって記録すべく螺旋状の点に最も
近い孔を選択して電子ビームを照射する。或いは螺旋の
両側にある孔を選択して電子ビームを照射する。厳密に
はパターンは螺旋に沿わないが近似的には螺旋状のパタ
ーン配列が得られる。この様にして作られた螺旋状の記
録は例えばコンパクトデスクデッキやデジタルビデオデ
スクデッキの様に、回転機構を用いた信号再生機を用い
た再生方法に便利である。
は図3の一部を拡大して示している。この例では基板と
して円盤状のものを考える。ここに螺旋状に記録を形成
する。方法としては例えば螺旋に沿って予め孔列を形成
しておき基板を回転しながら電子ビームを螺旋上の所望
の孔に照射することで形成できる。ここで、螺旋上に孔
列を形成する方法としては電子ビームリソグラフィーを
用いることも可能だが、先に説明したように元原盤を作
っておき、それを用いて同一の孔列を持つ複数種類の試
料を形成する様にすれば原盤の生産に有利である。ま
た、次の様な方法も可能である。照射先に示した方法で
形成した二次元の孔配列に所望の螺旋を重ねる。ここで
螺旋のピッチよりも二次元配列の間隔は半分以下に狭く
とって置く。螺旋にそって記録すべく螺旋状の点に最も
近い孔を選択して電子ビームを照射する。或いは螺旋の
両側にある孔を選択して電子ビームを照射する。厳密に
はパターンは螺旋に沿わないが近似的には螺旋状のパタ
ーン配列が得られる。この様にして作られた螺旋状の記
録は例えばコンパクトデスクデッキやデジタルビデオデ
スクデッキの様に、回転機構を用いた信号再生機を用い
た再生方法に便利である。
【０００７】本実施例では電子ビームを用いた描画を示
したが、これはイオンビームや中性粒子ビームを用いて
もよい。また、点状に集束されたＸ線ビームや短波長の
紫外線ビームを用いてもより。必要に応じてレジストと
してポジ型レジストを使うこともネガ型レジストを用い
ることもできる。また、複製パターンの形成方法も上記
に限定されないのは明らかである。本発明の本質は反応
領域を予め形成された制限領域配列の中に限定すること
であり、これにより、通常のレジストを用いたリソグラ
フィー技術に求められる様なエネルギービームの量や位
置の精度あるいはレジストプロセス条件に対する要求が
大幅に緩和できることにある。その範囲で様々に変形し
て実施できることは明らかである。
したが、これはイオンビームや中性粒子ビームを用いて
もよい。また、点状に集束されたＸ線ビームや短波長の
紫外線ビームを用いてもより。必要に応じてレジストと
してポジ型レジストを使うこともネガ型レジストを用い
ることもできる。また、複製パターンの形成方法も上記
に限定されないのは明らかである。本発明の本質は反応
領域を予め形成された制限領域配列の中に限定すること
であり、これにより、通常のレジストを用いたリソグラ
フィー技術に求められる様なエネルギービームの量や位
置の精度あるいはレジストプロセス条件に対する要求が
大幅に緩和できることにある。その範囲で様々に変形し
て実施できることは明らかである。
【０００８】
【発明の効果】以上の説明から明らかな様に、本発明に
よれば、高精度なデジタルデータを容易に形成できる。
よれば、高精度なデジタルデータを容易に形成できる。
【図１】本発明のデジタルパターン形成方法の一つの実
施例を示す工程図である。
施例を示す工程図である。
【図２】本発明のデジタルパターン形成方法の他の実施
例を示す工程図である。
例を示す工程図である。
【図３】本発明のさらに他の実施例を示す基板の上面図
である。
である。
【図４】図３の一部を拡大して示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高松 潤 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 下村 尚治 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株 式会社東芝研究開発センター内 Ｆターム(参考） 5D121 BB02 BB21 BB25 BB26 BB28 BB33 BB34 BB38 CB07
Claims (7)
- 【請求項１】 試料上に予め形成された、内部にエネル
ギーを受けることにより性質を変える材料を埋め込まれ
た、複数の孔のうち所望の位置の孔に限定してエネルギ
ーを与えることによりパターンを形成することを特徴と
するデジタルパターン形成方法。 - 【請求項２】 エネルギーを与える手段は集束した光ま
たはＸ線または電子線またはイオン線または中性粒子線
であることを特徴とするデジタルパターン形成方法。 - 【請求項３】 エネルギーを受けることにより性質を変
える材料はエネルギーを受けることにより所定の薬液に
対する溶解度が変化するものであることを特徴とするデ
ジタルパターン形成方法。 - 【請求項４】 エネルギーを受けることにより性質を変
える材料はエネルギーを受けることにより所定の気体に
対する蒸発度が変化するものであることを特徴とするデ
ジタルパターン形成方法。 - 【請求項５】 試料上に予め形成された複数孔パターン
は第一の原盤を用いて作成しておきそれを用いてデジタ
ルパターンを形成することを特徴とする特許請求項第一
項乃至第四項記載のデジタルパターン形成方法。 - 【請求項６】 試料上に予め形成された複数孔パターン
ほぼ螺旋上に配置された孔列であることを特徴とする特
許請求項第一項乃至第五項記載のデジタルパターン形成
方法。 - 【請求項７】 試料上に予め形成された複数孔の各々の
内部にエネルギーを受けることにより性質を変える材料
を埋め込み、所望の位置の孔に限定してエネルギーを与
えることによりパターンを形成した原盤を用いて、同一
パターンのデジタルパターンを複数形成することを特徴
とする特許請求項第一項乃至第六項記載のデジタルパタ
ーン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30198598A JP3471235B2 (ja) | 1998-10-23 | 1998-10-23 | デジタルパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30198598A JP3471235B2 (ja) | 1998-10-23 | 1998-10-23 | デジタルパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000132873A true JP2000132873A (ja) | 2000-05-12 |
| JP3471235B2 JP3471235B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=17903505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30198598A Expired - Fee Related JP3471235B2 (ja) | 1998-10-23 | 1998-10-23 | デジタルパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3471235B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010194733A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Toppan Printing Co Ltd | ナノインプリント用モールドの製造方法 |
-
1998
- 1998-10-23 JP JP30198598A patent/JP3471235B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010194733A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Toppan Printing Co Ltd | ナノインプリント用モールドの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3471235B2 (ja) | 2003-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100946009B1 (ko) | 레지스트 재료 및 미세 가공 방법 | |
| KR100926858B1 (ko) | 광디스크용 원반의 제조 방법 및 광디스크의 제조 방법 | |
| US7642041B2 (en) | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) | |
| JP3034879B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| US20060076509A1 (en) | Electron beam irradiating method and manufacturing method of magnetic recording medium | |
| US6510129B1 (en) | Optical recording medium, manufacturing method of optical recording medium master disk, and cutting device used therefor | |
| US6773868B2 (en) | Method for producing recording medium, method for producing stamper of recording medium, apparatus for producing recording medium, and apparatus for producing stamper of recording medium | |
| US6898031B1 (en) | Method for replicating magnetic patterns on hard disk media | |
| JP3879726B2 (ja) | 光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法 | |
| JP3471235B2 (ja) | デジタルパターン形成方法 | |
| US7858268B2 (en) | Method for generating a circular periodic structure on a basic support material | |
| US5432047A (en) | Patterning process for bipolar optical storage medium | |
| JPS6029953A (ja) | 電子ビ−ム記録再生装置 | |
| JP4106847B2 (ja) | 記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置 | |
| JP2003233200A (ja) | 露光方法および露光装置 | |
| JPS58155550A (ja) | 異なる深さを持つ溝を同時に形成する方法 | |
| JPS6029952A (ja) | 電子ビーム記録装置 | |
| EP1447714A2 (en) | Method for generating a circular periodic structure on a basic support material | |
| JPS6128940A (ja) | 微細パタ−ン形成法及びその装置 | |
| JPH11273158A (ja) | 光学情報記録原盤作製方法 | |
| JPH11288527A (ja) | 記録媒体製造用原盤の製造装置及び製造方法 | |
| JPS5940342A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2000331313A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
| JPH0765302A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0552573B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070912 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080912 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080912 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100912 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |