JP2000127029A - 研磨装置 - Google Patents
研磨装置Info
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- JP2000127029A JP2000127029A JP28459999A JP28459999A JP2000127029A JP 2000127029 A JP2000127029 A JP 2000127029A JP 28459999 A JP28459999 A JP 28459999A JP 28459999 A JP28459999 A JP 28459999A JP 2000127029 A JP2000127029 A JP 2000127029A
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- polishing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
- B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
- B24B53/017—Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D13/00—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
- B24D13/02—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by their periphery
- B24D13/10—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by their periphery comprising assemblies of brushes
-
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- B24D13/14—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by the front face
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 剛毛が摩耗等により使用できなくなった場合
でも担体を再び使用することができ、また異なる適用の
ために異なる洗浄用剛毛を使用することが可能な研磨装
置を提供することを目的とする。 【解決手段】 研磨装置を洗浄するための剛毛担体１６
は、剛毛２０を担持するサブフレーム１９が解放可能に
取り付けられ得る多数の半径方向スロット１８を含む。
剛毛担体１６は通常の研磨動作中に使用される構成要素
担体の代わりに使用され、布付き研磨面を洗浄するため
に布付き研磨面の上でプラネタリ式に駆動される。摩耗
のため剛毛が置換されなくてはならない場合でも、新し
い剛毛を有するサブフレーム１９によって置換すること
によって同じ担体１６が使用されうる。
でも担体を再び使用することができ、また異なる適用の
ために異なる洗浄用剛毛を使用することが可能な研磨装
置を提供することを目的とする。 【解決手段】 研磨装置を洗浄するための剛毛担体１６
は、剛毛２０を担持するサブフレーム１９が解放可能に
取り付けられ得る多数の半径方向スロット１８を含む。
剛毛担体１６は通常の研磨動作中に使用される構成要素
担体の代わりに使用され、布付き研磨面を洗浄するため
に布付き研磨面の上でプラネタリ式に駆動される。摩耗
のため剛毛が置換されなくてはならない場合でも、新し
い剛毛を有するサブフレーム１９によって置換すること
によって同じ担体１６が使用されうる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は研磨装置に関する。
更に特定的には、特に水晶、セラミックス、フェライ
ト、圧電素子、半導体ウェーハ、酸化物ウェーハ、カー
ボン、金属及び超硬化合物といった種々の平坦な面を仕
上げするための研磨（及びラップ仕上）装置に関する。
典型的には、研磨装置は、共通軸の回りを相対的に回転
する下方の平坦な円盤及び上方の対向する平坦な円盤を
含む。対向する面は布又は他の同様の材料によって被覆
又は被膜され、研磨されるべき構成要素は円盤の相対的
な回転によってプラネタリ式に回転されるべく配置され
た担体の中に支持される。かかる配置は周知である。
更に特定的には、特に水晶、セラミックス、フェライ
ト、圧電素子、半導体ウェーハ、酸化物ウェーハ、カー
ボン、金属及び超硬化合物といった種々の平坦な面を仕
上げするための研磨（及びラップ仕上）装置に関する。
典型的には、研磨装置は、共通軸の回りを相対的に回転
する下方の平坦な円盤及び上方の対向する平坦な円盤を
含む。対向する面は布又は他の同様の材料によって被覆
又は被膜され、研磨されるべき構成要素は円盤の相対的
な回転によってプラネタリ式に回転されるべく配置され
た担体の中に支持される。かかる配置は周知である。
【０００２】
【従来の技術】研磨中、構成要素の表面から除去された
粒子及び研磨ペースト及び他の流体の残余物は円盤の布
表面へ付着される。構成要素担体の代わりに円盤の研磨
面を洗浄するための剛毛を有する担体を設けることが知
られている。現在、剛毛を有する担体は、螺旋状配列に
配置された担体の各面、即ち上面及び下面、を越えて延
びる複数の剛毛の植込みを有する。研磨装置が動作され
ると、剛毛を有する担体は円盤の布表面をブラシ掛け洗
浄するためプラネタリ式に駆動される。
粒子及び研磨ペースト及び他の流体の残余物は円盤の布
表面へ付着される。構成要素担体の代わりに円盤の研磨
面を洗浄するための剛毛を有する担体を設けることが知
られている。現在、剛毛を有する担体は、螺旋状配列に
配置された担体の各面、即ち上面及び下面、を越えて延
びる複数の剛毛の植込みを有する。研磨装置が動作され
ると、剛毛を有する担体は円盤の布表面をブラシ掛け洗
浄するためプラネタリ式に駆動される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】剛毛は恒久的に担体に
取り付けられ、剛毛が摩耗するか又は他の理由で使用で
きなくなった場合、剛毛を有する担体は廃棄されねばな
らない。これは担体を置換することを比較的高くつくも
のとし、時々異なる適用のために異なる洗浄用剛毛を有
することが要求される（即ち、時々より硬い／より強い
剛毛が要求される）ため、これは現在の剛毛を有する各
担体は最小の多目的性を有することを意味する。本発明
はこの問題を克服又は少なくとも軽減することを目的と
する。
取り付けられ、剛毛が摩耗するか又は他の理由で使用で
きなくなった場合、剛毛を有する担体は廃棄されねばな
らない。これは担体を置換することを比較的高くつくも
のとし、時々異なる適用のために異なる洗浄用剛毛を有
することが要求される（即ち、時々より硬い／より強い
剛毛が要求される）ため、これは現在の剛毛を有する各
担体は最小の多目的性を有することを意味する。本発明
はこの問題を克服又は少なくとも軽減することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、共通中
央軸の回りを相対的に回転するよう配置され、通常は構
成要素担体の中の構成要素を研磨するためにその間に上
記構成要素担体をプラネタリ式に駆動する上方及び下方
の研磨円盤と、剛毛担体とを含む研磨装置であって、上
記剛毛担体は、歯車付き周囲縁及び複数の半径方向スロ
ットを有する担体基部を含み、各上記スロットは中央縦
軸を有する細長サブフレームを受容するよう配置され、
各上記サブフレームは離間され概して上記縦軸に沿って
分布される剛毛を有し、上記サブフレームの第１の部分
は上記剛毛担体の上面に取り付けられ、上記サブフレー
ムの第２の部分は上記剛毛担体の下面に取り付けられる
研磨装置のための剛毛担体が提供される。
央軸の回りを相対的に回転するよう配置され、通常は構
成要素担体の中の構成要素を研磨するためにその間に上
記構成要素担体をプラネタリ式に駆動する上方及び下方
の研磨円盤と、剛毛担体とを含む研磨装置であって、上
記剛毛担体は、歯車付き周囲縁及び複数の半径方向スロ
ットを有する担体基部を含み、各上記スロットは中央縦
軸を有する細長サブフレームを受容するよう配置され、
各上記サブフレームは離間され概して上記縦軸に沿って
分布される剛毛を有し、上記サブフレームの第１の部分
は上記剛毛担体の上面に取り付けられ、上記サブフレー
ムの第２の部分は上記剛毛担体の下面に取り付けられる
研磨装置のための剛毛担体が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、例として添付の図面を参照
して本発明による研磨装置剛毛担体を説明する。図面を
参照するに、研磨装置は、上方の円盤１０及び下方の円
盤１１を含む。これらの円盤は共通軸１２の回りに相対
的に回転可能である。構成要素担体１３は、内部歯車１
４及び太陽歯車１５によって係合される歯車付き縁を有
する。研磨装置が動作されるとき、担体１３は、担体の
中の構成要素の平坦な面が上方及び下方の円盤の布付き
の対向する面によって研磨されるよう、プラネタリ式に
動かされる。かかる研磨装置は周知である。
して本発明による研磨装置剛毛担体を説明する。図面を
参照するに、研磨装置は、上方の円盤１０及び下方の円
盤１１を含む。これらの円盤は共通軸１２の回りに相対
的に回転可能である。構成要素担体１３は、内部歯車１
４及び太陽歯車１５によって係合される歯車付き縁を有
する。研磨装置が動作されるとき、担体１３は、担体の
中の構成要素の平坦な面が上方及び下方の円盤の布付き
の対向する面によって研磨されるよう、プラネタリ式に
動かされる。かかる研磨装置は周知である。
【０００６】図２中、プラスチックの剛毛担体１６は、
歯車付き周囲縁１７と、夫々が細長フレーム部材１９を
受容する複数の半径方向スロット１８とを有する。各フ
レームは、離間され概して各フレームの中央縦軸に沿っ
て又は平行に延びる１つ以上の剛毛の配列２０、本実施
例では３つの配列、を担持する。即ち、剛毛の配列は概
して担体１６の夫々の半径に沿って配置される。スロッ
ト１８の半分は剛毛が上方を「向いた」フレーム部材を
有し、他のスロットは下方を「向いた」剛毛を有し（従
って図２中では見えない）、それにより組み立てられた
剛毛担体では、剛毛は上方及び下方に対称に向いてい
る。しかしながら、図３中は便宜上、担体の上面のみが
示され、下方を向いたサブフレームのためのスロットは
図示されていない。
歯車付き周囲縁１７と、夫々が細長フレーム部材１９を
受容する複数の半径方向スロット１８とを有する。各フ
レームは、離間され概して各フレームの中央縦軸に沿っ
て又は平行に延びる１つ以上の剛毛の配列２０、本実施
例では３つの配列、を担持する。即ち、剛毛の配列は概
して担体１６の夫々の半径に沿って配置される。スロッ
ト１８の半分は剛毛が上方を「向いた」フレーム部材を
有し、他のスロットは下方を「向いた」剛毛を有し（従
って図２中では見えない）、それにより組み立てられた
剛毛担体では、剛毛は上方及び下方に対称に向いてい
る。しかしながら、図３中は便宜上、担体の上面のみが
示され、下方を向いたサブフレームのためのスロットは
図示されていない。
【０００７】図４中、サブフレーム１９の各端に向かっ
て、サブフレームを担体１６の各半径方向スロット１８
の中に解放可能に保持する２つの一体に形成されたクリ
ップ２１が設けられている。本発明の剛毛担体は従っ
て、剛毛が摩耗するか又は他の理由で使用できなくなっ
た場合にサブフレーム１９が新しい剛毛を有するサブフ
レームと置換されうるため、再使用されうる。また、所
望であれば、単にサブフレームを適当な異なるタイプ又
は特徴の剛毛を有するサブフレームによって置換するこ
とによって、同じ担体１６は異なる特徴を有する剛毛と
共に使用されうる。
て、サブフレームを担体１６の各半径方向スロット１８
の中に解放可能に保持する２つの一体に形成されたクリ
ップ２１が設けられている。本発明の剛毛担体は従っ
て、剛毛が摩耗するか又は他の理由で使用できなくなっ
た場合にサブフレーム１９が新しい剛毛を有するサブフ
レームと置換されうるため、再使用されうる。また、所
望であれば、単にサブフレームを適当な異なるタイプ又
は特徴の剛毛を有するサブフレームによって置換するこ
とによって、同じ担体１６は異なる特徴を有する剛毛と
共に使用されうる。
【０００８】また、剛毛の配列２０は、使用時は担体１
６の夫々の半径に沿って延びるよう配置されることに注
意すべきである。従来技術では、剛毛は同心状の配列で
支持される。半径方向配置は、円盤１０及び１１の研磨
布又はパッドのより均等な満足のいく洗浄を提供するこ
とが分かる。図５及び図６中、異なる剛毛担体２２は、
追加的な狭いスロット２３を有し、１つの追加的なスロ
ットは各スロット１８の片側に沿って延びる。スロット
２３は、ＮＥＯＰＲＥＮＥ又はＥＶＡといった適当な材
料によって形成される夫々のスキージ２４（図６参照）
を位置決めし保持するために設けられている。通常、ス
キージはそれらの夫々のスロットの中に落下又は滑り込
まされ、上述のようにフレーム１９がスロット１８の中
にクリップ留めされたときに所定の位置に保持されう
る。図５中、剛毛担体の上面にあるスロットのみが図示
され、図６中、上方の例示的な剛毛及びスキージが示さ
れる。通常、スキージは剛毛担体の上面及び下面に取り
付けられる。
６の夫々の半径に沿って延びるよう配置されることに注
意すべきである。従来技術では、剛毛は同心状の配列で
支持される。半径方向配置は、円盤１０及び１１の研磨
布又はパッドのより均等な満足のいく洗浄を提供するこ
とが分かる。図５及び図６中、異なる剛毛担体２２は、
追加的な狭いスロット２３を有し、１つの追加的なスロ
ットは各スロット１８の片側に沿って延びる。スロット
２３は、ＮＥＯＰＲＥＮＥ又はＥＶＡといった適当な材
料によって形成される夫々のスキージ２４（図６参照）
を位置決めし保持するために設けられている。通常、ス
キージはそれらの夫々のスロットの中に落下又は滑り込
まされ、上述のようにフレーム１９がスロット１８の中
にクリップ留めされたときに所定の位置に保持されう
る。図５中、剛毛担体の上面にあるスロットのみが図示
され、図６中、上方の例示的な剛毛及びスキージが示さ
れる。通常、スキージは剛毛担体の上面及び下面に取り
付けられる。
【０００９】スキージは典型的には４ｍｍ幅及びいくら
か尖った上縁を有し、剛毛担体１８の面から約９ｍｍ突
出して直立する。通常の使用時、スキージ２４は、使用
時に剛毛２０と略同じ有効高さであるよう、剛毛担体の
外側面に向かって押し下げられる。スキージは屑を除去
し、研磨される面を更に洗浄するよう作用する。望まし
い配置は上述のものであるが、全てのスロット２３が設
けられねばならないわけではなく、もし設けられている
のであれば使用時に全てがスキージを含まねばならない
ものではないことが理解されよう。スキージは両側又は
所望であれば片側のみで剛毛担体に嵌合しうる。図５及
び図６に示される配置では、スキージスロット２３は各
スロット１８の側方にあるかまたは各スロット１８の一
部であり得る。スロット２３はスロット１８から遠ざか
ってかなり離間されて配置されうる。また、収集された
屑が使用時に剛毛担体の中央軸から遠ざかる方向へ除去
されるよう、スロット２３は半径方向から幾らか角度を
付けられうる。
か尖った上縁を有し、剛毛担体１８の面から約９ｍｍ突
出して直立する。通常の使用時、スキージ２４は、使用
時に剛毛２０と略同じ有効高さであるよう、剛毛担体の
外側面に向かって押し下げられる。スキージは屑を除去
し、研磨される面を更に洗浄するよう作用する。望まし
い配置は上述のものであるが、全てのスロット２３が設
けられねばならないわけではなく、もし設けられている
のであれば使用時に全てがスキージを含まねばならない
ものではないことが理解されよう。スキージは両側又は
所望であれば片側のみで剛毛担体に嵌合しうる。図５及
び図６に示される配置では、スキージスロット２３は各
スロット１８の側方にあるかまたは各スロット１８の一
部であり得る。スロット２３はスロット１８から遠ざか
ってかなり離間されて配置されうる。また、収集された
屑が使用時に剛毛担体の中央軸から遠ざかる方向へ除去
されるよう、スロット２３は半径方向から幾らか角度を
付けられうる。
【図１】既知の研磨装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の剛毛担体を示す平面図である。
【図３】上側の剛毛のみを示す担体の上方からの斜視図
である。
である。
【図４】担体のサブフレームの２つの断面で切截した断
面図を示す図である。
面図を示す図である。
【図５】異なる剛毛担体を示す平面図である。
【図６】異なる剛毛担体を示す断面図である。
１０ 上方の円盤 １１ 下方の円盤 １２ 共通軸 １３ 構成要素担体 １４ 内部歯車 １５ 太陽歯車 １６ 剛毛担体 １７ 歯車付き周囲縁 １８ スロット １９ フレーム部材 ２０ 剛毛の配列 ２１ クリップ ２２ 異なる剛毛担体 ２３ 更なる狭いスロット ２４ スキージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリフォード ロス 香港，カウルーン モンコック ネイサ ン・ロード 594−596 チョンキン・コマ ーシャル・ビルディング トゥウェンティ ファーストフロア (72)発明者 マイケル クリストフ 香港，カウルーン モンコック ネイサ ン・ロード 594−596 チョンキン・コマ ーシャル・ビルディング トゥウェンティ ファーストフロア
Claims (6)
- 【請求項１】 共通中央軸の回りを相対的に回転するよ
う配置され、通常は構成要素担体の中の構成要素を研磨
するためにその間に該構成要素担体をプラネタリ式に駆
動する上方及び下方の研磨円盤と、剛毛担体とを含む研
磨装置であって、 該剛毛担体は、歯車付き周囲縁及び複数の半径方向スロ
ットを有する担体基部を含み、各該スロットは中央縦軸
を有する細長サブフレームを受容するよう配置され、各
該サブフレームは離間され概して該縦軸に沿って分布さ
れる剛毛を有し、該サブフレームの第１の部分は該剛毛
担体の上面に取り付けられ、該サブフレームの第２の部
分は該剛毛担体の下面に取り付けられる研磨装置。 - 【請求項２】 該サブフレームは該半径方向スロットの
中に解放可能に保持される、請求項１記載の研磨装置。 - 【請求項３】 該サブフレームは一体に形成されたばね
式クリップによって該半径方向スロットの中に保持され
る、請求項２記載の研磨装置。 - 【請求項４】 上記担体基部は、複数の追加的な半径方
向スロットと、幾つか又は全ての追加的なスロットの中
のスキージとを有する、請求項１記載の研磨装置。 - 【請求項５】 上記追加的なスロットは、上記担体基部
の上面及び下面の両方に設けられる、請求項４記載の研
磨装置。 - 【請求項６】 各追加的なスロットは、夫々の半径方向
スロットに近接して配置される、請求項４記載の研磨装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US176669 | 1971-08-31 | ||
| US09/176,669 US6142859A (en) | 1998-10-21 | 1998-10-21 | Polishing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000127029A true JP2000127029A (ja) | 2000-05-09 |
Family
ID=22645345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28459999A Pending JP2000127029A (ja) | 1998-10-21 | 1999-10-05 | 研磨装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6142859A (ja) |
| JP (1) | JP2000127029A (ja) |
| CN (1) | CN2386919Y (ja) |
| GB (1) | GB2342850A (ja) |
| SG (1) | SG72972A1 (ja) |
| TW (1) | TW377634U (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001162532A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-06-19 | Toshiba Corp | ドレッサ、研磨装置ならびに物品の製造方法 |
| US6386963B1 (en) * | 1999-10-29 | 2002-05-14 | Applied Materials, Inc. | Conditioning disk for conditioning a polishing pad |
| US6752687B2 (en) * | 2001-04-30 | 2004-06-22 | International Business Machines Corporation | Method of polishing disks |
| US20070087672A1 (en) * | 2005-10-19 | 2007-04-19 | Tbw Industries, Inc. | Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems |
| ITBO20060877A1 (it) * | 2006-12-22 | 2008-06-23 | Viet Spa | Utensile e mezzo abrasivo. |
| DE102008063228A1 (de) * | 2008-12-22 | 2010-06-24 | Peter Wolters Gmbh | Vorrichtung zur beidseitigen schleifenden Bearbeitung flacher Werkstücke |
| DE102010032501B4 (de) * | 2010-07-28 | 2019-03-28 | Siltronic Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Abrichten der Arbeitsschichten einer Doppelseiten-Schleifvorrichtung |
| CN102922429A (zh) * | 2011-08-12 | 2013-02-13 | 北汽福田汽车股份有限公司 | 用于精修白车身的打磨片的修复方法和白车身的精修方法 |
| DE102011082777A1 (de) * | 2011-09-15 | 2012-02-09 | Siltronic Ag | Verfahren zum beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe |
| TWI511841B (zh) * | 2013-03-15 | 2015-12-11 | Kinik Co | 貼合式化學機械硏磨修整器及其製法 |
| TWI616278B (zh) * | 2015-02-16 | 2018-03-01 | China Grinding Wheel Corp | 化學機械研磨修整器 |
| CN108000272A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-05-08 | 宁波鑫神泽汽车零部件有限公司 | 汽车配件打磨清洗设备 |
| EP4408614A1 (en) * | 2021-09-29 | 2024-08-07 | Entegris, Inc. | Double-sided pad conditioner |
| CN116922223B (zh) * | 2023-09-15 | 2023-11-24 | 江苏京成机械制造有限公司 | 一种具有收集灰尘功能的铸件生产用修整设备 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3753269A (en) * | 1971-05-21 | 1973-08-21 | R Budman | Abrasive cloth cleaner |
| JPH08168953A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Ebara Corp | ドレッシング装置 |
| US5616069A (en) * | 1995-12-19 | 1997-04-01 | Micron Technology, Inc. | Directional spray pad scrubber |
-
1998
- 1998-10-21 US US09/176,669 patent/US6142859A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-23 TW TW087217630U patent/TW377634U/zh unknown
-
1999
- 1999-05-28 GB GB9912578A patent/GB2342850A/en not_active Withdrawn
- 1999-06-19 CN CN99212915U patent/CN2386919Y/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-01 SG SG1999030454A patent/SG72972A1/en unknown
- 1999-10-05 JP JP28459999A patent/JP2000127029A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6142859A (en) | 2000-11-07 |
| GB9912578D0 (en) | 1999-07-28 |
| GB2342850A (en) | 2000-04-26 |
| CN2386919Y (zh) | 2000-07-12 |
| TW377634U (en) | 1999-12-21 |
| SG72972A1 (en) | 2000-05-23 |
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