JP2000124663A - 電磁波シールドフィルム - Google Patents
電磁波シールドフィルムInfo
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- JP2000124663A JP2000124663A JP10294917A JP29491798A JP2000124663A JP 2000124663 A JP2000124663 A JP 2000124663A JP 10294917 A JP10294917 A JP 10294917A JP 29491798 A JP29491798 A JP 29491798A JP 2000124663 A JP2000124663 A JP 2000124663A
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- shielding film
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、高い電磁波シールド性と高い全光線
透過率とを両立する、安価なディスプレー用電磁波シー
ルドフィルムを提供する物である。 【構成】透明高分子フィルムの少なくとも片面の表面形
状が三角柱を並べたような鋸状の形状をしており、表面
に出ている三角柱の２面の内の片方の面のみに、良導電
性金属がコーティングされていることを特徴とする電磁
波シールドフィルム。
透過率とを両立する、安価なディスプレー用電磁波シー
ルドフィルムを提供する物である。 【構成】透明高分子フィルムの少なくとも片面の表面形
状が三角柱を並べたような鋸状の形状をしており、表面
に出ている三角柱の２面の内の片方の面のみに、良導電
性金属がコーティングされていることを特徴とする電磁
波シールドフィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁波シールドに
関するもので、特にディスプレー用途において全光線透
過率が高く、かつ、電磁波シールド性も高い電磁波シー
ルドフィルムに関するのもである。
関するもので、特にディスプレー用途において全光線透
過率が高く、かつ、電磁波シールド性も高い電磁波シー
ルドフィルムに関するのもである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ディスプレー用に用いられる、電
磁波シールド材として、種々の検討が為されており、以
下にその一例を示す。 （１）薄い金属板をフォトリソグラフィー法を用いて、
微細にエッチングしメッシュを形成したもの。 （２）高分子繊維の表面に良導電性金属をメッキし、こ
れを織り込みメッシュ状にしたもの。 （３）金属繊維を織り込みメッシュ状にしたもの。 （４）酸化インジウムや酸化錫をスパッタリング等の手
法を用いて基板上に薄く堆積させたもの （５）銀、金等の良導電性金属をスパッタリング等の手
法を用いて基板上に極めて薄く堆積させたもの。 があげられる。さらに、これらを組合わせたもの等が数
多く提案されている。
磁波シールド材として、種々の検討が為されており、以
下にその一例を示す。 （１）薄い金属板をフォトリソグラフィー法を用いて、
微細にエッチングしメッシュを形成したもの。 （２）高分子繊維の表面に良導電性金属をメッキし、こ
れを織り込みメッシュ状にしたもの。 （３）金属繊維を織り込みメッシュ状にしたもの。 （４）酸化インジウムや酸化錫をスパッタリング等の手
法を用いて基板上に薄く堆積させたもの （５）銀、金等の良導電性金属をスパッタリング等の手
法を用いて基板上に極めて薄く堆積させたもの。 があげられる。さらに、これらを組合わせたもの等が数
多く提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来使用されて
きた電磁波吸収材には、それぞれ以下に示すような問題
点がある。前述（１）の方式ではフォトリソグラフィー
法を用いるため、大型化が難しく、できても非常に高価
なものになってしまう。また、メッシュの部分は光が透
過しないので、全光線の透過率が下がってしまう欠点が
ある。前述（２）の方式の場合、基本的に大型化が容易
であるが、実際にディスプレーの前に置かれた場合、デ
ィスプレーの表示ドットとの間に、モアレが発生し、こ
れが、メッシュ精度が悪い場合、斑になってしまう。こ
のため、高精度な、編み込みが必要で量産が困難である
欠点がある。さらに、この方式も前述（１）と同様、メ
ッシュの部分は光が透過しないので、全光線の透過率が
下がってしまう欠点がある。前記（３）の方式について
も、問題点は（２）と同様である。前記（４）の方式
は、全光線透過率、生産性共に問題はないが、抵抗値の
低い導電膜を作るのは極めて困難で、容易に実現できる
薄膜では高いシールド性を得ることは出来ない。前記
（５）の方式は、薄膜系で抵抗値を下げることが可能と
なり、シールド性を向上できるが、それと引き換えに全
光線透過率が下がってしまい、両立させるのが困難であ
る。
きた電磁波吸収材には、それぞれ以下に示すような問題
点がある。前述（１）の方式ではフォトリソグラフィー
法を用いるため、大型化が難しく、できても非常に高価
なものになってしまう。また、メッシュの部分は光が透
過しないので、全光線の透過率が下がってしまう欠点が
ある。前述（２）の方式の場合、基本的に大型化が容易
であるが、実際にディスプレーの前に置かれた場合、デ
ィスプレーの表示ドットとの間に、モアレが発生し、こ
れが、メッシュ精度が悪い場合、斑になってしまう。こ
のため、高精度な、編み込みが必要で量産が困難である
欠点がある。さらに、この方式も前述（１）と同様、メ
ッシュの部分は光が透過しないので、全光線の透過率が
下がってしまう欠点がある。前記（３）の方式について
も、問題点は（２）と同様である。前記（４）の方式
は、全光線透過率、生産性共に問題はないが、抵抗値の
低い導電膜を作るのは極めて困難で、容易に実現できる
薄膜では高いシールド性を得ることは出来ない。前記
（５）の方式は、薄膜系で抵抗値を下げることが可能と
なり、シールド性を向上できるが、それと引き換えに全
光線透過率が下がってしまい、両立させるのが困難であ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、高い電磁波シ
ールド性と高い全光線透過率とを両立する、安価なディ
スプレー用電磁波シールドフィルムを提供する物であ
る。即ち本発明は、透明高分子フィルムの少なくとも片
面の表面形状が三角柱を並べたような鋸状の形状をして
おり、表面に出ている三角柱の２面の内の片方の面のみ
に、良導電性金属がコーティングされていることを特徴
とする電磁波シールドフィルムである。本発明の代表的
な表面形状を図１から図５に示す。更に、本発明での該
三角柱の２面の内の導電層が形成されていない面と透明
高分子フィルムとなす角度が30度以下であることが好ま
しい。これ以上角度が大きい場合、ディスプレー前面に
配置された時に、画像がずれて見えてしまう問題があ
る。本発明の該三角柱の２面の内の導電層が形成されて
いる面と透明高分子フィルムとがなす角度は好ましくは
４５から９０度、より好ましくは６０から９０度であ
る。この角度が小さいと、全光線透過率が低下し、大き
いと透過率は向上し、良好なフィルムが得られる。ま
た、本発明での透明高分子フィルムから該三角柱の頂点
の高さが１５０μｍ以下であることが望ましい。高さが
これよりも高い場合、本発明フィルムをロール状に巻い
た場合ロール径が大きくなり、生産性が悪化してしま
う。
ールド性と高い全光線透過率とを両立する、安価なディ
スプレー用電磁波シールドフィルムを提供する物であ
る。即ち本発明は、透明高分子フィルムの少なくとも片
面の表面形状が三角柱を並べたような鋸状の形状をして
おり、表面に出ている三角柱の２面の内の片方の面のみ
に、良導電性金属がコーティングされていることを特徴
とする電磁波シールドフィルムである。本発明の代表的
な表面形状を図１から図５に示す。更に、本発明での該
三角柱の２面の内の導電層が形成されていない面と透明
高分子フィルムとなす角度が30度以下であることが好ま
しい。これ以上角度が大きい場合、ディスプレー前面に
配置された時に、画像がずれて見えてしまう問題があ
る。本発明の該三角柱の２面の内の導電層が形成されて
いる面と透明高分子フィルムとがなす角度は好ましくは
４５から９０度、より好ましくは６０から９０度であ
る。この角度が小さいと、全光線透過率が低下し、大き
いと透過率は向上し、良好なフィルムが得られる。ま
た、本発明での透明高分子フィルムから該三角柱の頂点
の高さが１５０μｍ以下であることが望ましい。高さが
これよりも高い場合、本発明フィルムをロール状に巻い
た場合ロール径が大きくなり、生産性が悪化してしま
う。
【０００５】本発明の三角柱のなす各面は、一律に同一
方向を向いているのみではなく、ランダムにいかなる方
向を向いていても良い。また、本発明において、透明高
分子フィルムとしては、特に限定される物ではないが、
ポリエステル系、アクリル系、セルロース系、ポリエチ
レン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩
化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタ
ン系樹脂などが挙げられるが、好ましくは、環境負荷な
どの観点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。
方向を向いているのみではなく、ランダムにいかなる方
向を向いていても良い。また、本発明において、透明高
分子フィルムとしては、特に限定される物ではないが、
ポリエステル系、アクリル系、セルロース系、ポリエチ
レン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩
化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタ
ン系樹脂などが挙げられるが、好ましくは、環境負荷な
どの観点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。
【０００６】本発明に用いられる、導電層はいかなる導
電膜でも良いが、好ましくは、銀、金、銅、アルミニウ
ム、クロム、ニッケル等であることが望ましい。これに
よって、より高い導電性を得られ、良好な電磁波シール
ド性が得られる。導電層を形成する方法はいかなる方式
でも良く。一例を挙げるとすれば、スパッタリング法、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD 法などの真
空製膜技術を用いたり、無電解メッキ等の方法を用いて
も良いが、好ましくは、斜め真空蒸着法が良い。
電膜でも良いが、好ましくは、銀、金、銅、アルミニウ
ム、クロム、ニッケル等であることが望ましい。これに
よって、より高い導電性を得られ、良好な電磁波シール
ド性が得られる。導電層を形成する方法はいかなる方式
でも良く。一例を挙げるとすれば、スパッタリング法、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD 法などの真
空製膜技術を用いたり、無電解メッキ等の方法を用いて
も良いが、好ましくは、斜め真空蒸着法が良い。
【０００７】また、本発明の三角柱は、透明性の高い高
分子材料であればいかなる物でも良いが、好ましくは硬
化性樹脂が好ましい。この硬化性樹脂としては、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラ
ミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂などの単体もしくは混合したものが好まし
い。
分子材料であればいかなる物でも良いが、好ましくは硬
化性樹脂が好ましい。この硬化性樹脂としては、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラ
ミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂などの単体もしくは混合したものが好まし
い。
【０００８】また、硬化させる手段としては、熱、可視
光、紫外線、電子線、等を照射して硬化させても良い。
三角柱を形成する手段としては、特に限定されないが、
ヒートプレス、型ローラー、グラビア転写、フォトリソ
グラフィー法などがあげられる。この反射防止処理層
（AR）は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD 法、イ
オンプレーティング法などのドライコーティングプロセ
スでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などの
ウェットコーティングプロセスでもよい。
光、紫外線、電子線、等を照射して硬化させても良い。
三角柱を形成する手段としては、特に限定されないが、
ヒートプレス、型ローラー、グラビア転写、フォトリソ
グラフィー法などがあげられる。この反射防止処理層
（AR）は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD 法、イ
オンプレーティング法などのドライコーティングプロセ
スでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などの
ウェットコーティングプロセスでもよい。
【０００９】
【実施例１】透明ポリエステルフィルム（東洋紡績社製
コスモシャイン A4100）にアクリル系UV硬化型樹脂を
ダイコート法を用いてコートし、ゲル状になるまでUV光
を照射し、ゲル状になったところで、三角柱の型を形成
してあるローラーを押し当てて、フィルム上に塗布され
たUV硬化型アクリル樹脂を三角柱状に整形する。さらに
UV光を照射し、アクリル樹脂を完全硬化させて、三角柱
形状をフィルム状上に作成した。作成した三角柱の形状
は、フィルムと三角柱の各２面となす角度は、それぞ
れ、10度と90度であった。また、三角柱のピッチは約２
００μｍ、高さは35μｍであった。第６図に製造概略図
を示す。次に、製作したフィルムを真空蒸装置に入れ、
蒸着源とフィルム法線とのなす角度が８０度となるよう
にセットし、アルミニウムを蒸着した。蒸着したアルミ
ニウムの厚さは約５００Åであった。第７図に蒸着装置
模式図を示す。製作した電磁波シールドフィルムの全光
線透過率を測定したところ、約９０％と極めて良好で、
電磁波シールド特性は、５０ｄB 以上であった。
コスモシャイン A4100）にアクリル系UV硬化型樹脂を
ダイコート法を用いてコートし、ゲル状になるまでUV光
を照射し、ゲル状になったところで、三角柱の型を形成
してあるローラーを押し当てて、フィルム上に塗布され
たUV硬化型アクリル樹脂を三角柱状に整形する。さらに
UV光を照射し、アクリル樹脂を完全硬化させて、三角柱
形状をフィルム状上に作成した。作成した三角柱の形状
は、フィルムと三角柱の各２面となす角度は、それぞ
れ、10度と90度であった。また、三角柱のピッチは約２
００μｍ、高さは35μｍであった。第６図に製造概略図
を示す。次に、製作したフィルムを真空蒸装置に入れ、
蒸着源とフィルム法線とのなす角度が８０度となるよう
にセットし、アルミニウムを蒸着した。蒸着したアルミ
ニウムの厚さは約５００Åであった。第７図に蒸着装置
模式図を示す。製作した電磁波シールドフィルムの全光
線透過率を測定したところ、約９０％と極めて良好で、
電磁波シールド特性は、５０ｄB 以上であった。
【００１０】
【比較例１】透明ポリエステルフィルム（東洋紡績社製
コスモシャイン A4100）に高周波マグネトロンスパッ
タリング装置を用いて３８０Åの酸化錫を積層し、続い
てDCマグネトロンスパッタ装置を用いて、２００Åの銀
薄膜を積層し、更に、４１０Åの酸化錫層を積層して電
磁波シールド層を形成した。この時の表面抵抗は、約４
Ω／□であった。製作した電磁波シールドフィルムの全
光線透過率を測定したところ、約７３.5％とやや暗く、
電磁波シールド特性は、４０ｄB 程度であった。
コスモシャイン A4100）に高周波マグネトロンスパッ
タリング装置を用いて３８０Åの酸化錫を積層し、続い
てDCマグネトロンスパッタ装置を用いて、２００Åの銀
薄膜を積層し、更に、４１０Åの酸化錫層を積層して電
磁波シールド層を形成した。この時の表面抵抗は、約４
Ω／□であった。製作した電磁波シールドフィルムの全
光線透過率を測定したところ、約７３.5％とやや暗く、
電磁波シールド特性は、４０ｄB 程度であった。
【００１１】
【発明の効果】本発明の全光線透過率は、約９０％と極
めて良好でかつ、電磁波シールド特性は、５０ｄB 以上
であった。
めて良好でかつ、電磁波シールド特性は、５０ｄB 以上
であった。
【図１】本発明の三角柱を構成した電磁波シールドフィ
ルムの一例を示す。
ルムの一例を示す。
１．樹脂三角柱 ２．導電層 ３．透明高分子フィルム
【図２】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を示
す。
す。
【図３】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を示
す。
す。
【図４】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を示
す。
す。
【図５】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を示
す。
す。
【図６】本発明の三角柱の製造工程の略図を示す。
１．巻き出しロール ２．ダイコーター ３．プレＵＶランプ ４．金型ローラー ５．ポストＵＶランプ ６．巻き取りローラー ７．ガイドローラー ８．フィルム
【図７】蒸着装置の一例を示す。
１．巻き出しロール ２．チルロール ３．フィルム ４．巻き取りローラー ５．蒸発源 ６．遮蔽板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 陽三 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4F100 AB01B AB10 AK01A AK42A BA02 BA07 DC30B DD04A EH66 EH66B GB41 JD08 JG01B JN01 JN01A YY00A 5E321 AA04 BB03 BB23 BB44 GG05 GH01
Claims (6)
- 【請求項１】透明高分子フィルムの少なくとも片面の表
面形状が三角柱を並べたような鋸状の形状をしており、
表面に出ている三角柱の２面の内の片方の面のみに、良
導電性金属がコーティングされていることを特徴とする
電磁波シールドフィルム。 - 【請求項２】請求項１記載の三角柱の２面の内の導電層
が形成されていない面と透明高分子フィルムとなす角度
が30度以下であることを特徴とする電磁波シールドフィ
ルム。 - 【請求項３】請求項１乃至２記載のいずれかにおいて、
前記三角柱の２面の内の導電層が形成されている面と透
明高分子フィルムとがなす角度が４５から90度であるこ
とを特徴とする電磁波シールドフィルム。 - 【請求項４】請求項１乃至３記載のいずれかにおいて、
透明高分子フィルムから該三角柱の頂点の高さが１５０
μｍ以下であることを特徴とする電磁波シールドフィル
ム。 - 【請求項５】請求項１乃至４記載のいずれかにおいて、
良導電性金属が斜め真空蒸着法によって形成されること
を特徴とする電磁波シールドフィルム。 - 【請求項６】請求項１乃至５記載のいずれかにおいて、
透明高分子フィルムがポリエステルフィルムであること
を特徴とする電磁波シールドフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10294917A JP2000124663A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 電磁波シールドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10294917A JP2000124663A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 電磁波シールドフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000124663A true JP2000124663A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17813936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10294917A Pending JP2000124663A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 電磁波シールドフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000124663A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005187969A (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Toppan Printing Co Ltd | 電磁波シールド紙およびそれを用いた紙製包装材、紙容器用積層材 |
| JP4852547B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2012-01-11 | オーファウデー キネグラム アーゲー | 電気伝導性の膜を有する各種のミクロ構造領域を備えた多層体 |
-
1998
- 1998-10-16 JP JP10294917A patent/JP2000124663A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005187969A (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Toppan Printing Co Ltd | 電磁波シールド紙およびそれを用いた紙製包装材、紙容器用積層材 |
| JP4852547B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2012-01-11 | オーファウデー キネグラム アーゲー | 電気伝導性の膜を有する各種のミクロ構造領域を備えた多層体 |
| KR101184096B1 (ko) * | 2004-08-30 | 2012-09-18 | 오우브이디이 키네그램 악티엔개젤샤프트 | 전기 전도성 코팅을 구비한 상이한 미세구조 영역을 갖는다층체 |
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