JP2000117091A - 真空マニホルド隔離を備えた処理装置 - Google Patents
真空マニホルド隔離を備えた処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 付加的な隔離弁（２４）が真空処理装置
（１０）内に組み込まれて、装置の機械的なポンプ（２
８）の寿命を増大させ、メンテナンスコスト及び中断時
間を減少させ、粒子の逆流を阻止し、メンテナンスを行
う者への危険性を減少させる。装置は少なくとも１つの
ポート（１４）を備えた処理室（１２）と、ポートに接
続された予備ライン弁（１６）と、予備ライン弁に流体
連通する真空マニホルド（２６）とを有する。機械的な
ポンプ（２８）が真空マニホルドに接続され、処理室の
内容物を真空排気する。隔離弁は予備ライン弁と真空マ
ニホルドとの間で接続され、予備ライン弁と一体的に又
は主として一体的に作動する。
（１０）内に組み込まれて、装置の機械的なポンプ（２
８）の寿命を増大させ、メンテナンスコスト及び中断時
間を減少させ、粒子の逆流を阻止し、メンテナンスを行
う者への危険性を減少させる。装置は少なくとも１つの
ポート（１４）を備えた処理室（１２）と、ポートに接
続された予備ライン弁（１６）と、予備ライン弁に流体
連通する真空マニホルド（２６）とを有する。機械的な
ポンプ（２８）が真空マニホルドに接続され、処理室の
内容物を真空排気する。隔離弁は予備ライン弁と真空マ
ニホルドとの間で接続され、予備ライン弁と一体的に又
は主として一体的に作動する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に真空処理装置
に関し、特にそのような装置における真空マニホルドの
隔離に関する。
に関し、特にそのような装置における真空マニホルドの
隔離に関する。
【０００２】
【従来の技術】数ある中でも、半導体デバイスは普通、
大気圧以下に維持された気密室の内部で一連の処理工程
を遂行することにより製造される。半導体製造のための
装置は典型的には真空マニホルドを介して処理室を真空
排気するための機械的なポンプを有する。製造処理にお
ける残留粒子や副産物を含む処理室の内容物は燃焼箱へ
吸い上げられ、分解される。処理室は予備ライン弁によ
り機械的なポンプ及び真空マニホルドから隔離される。
予備ライン弁は処理中は開いた状態にあり、装置のメン
テナンス作業中は閉じた状態にある。
大気圧以下に維持された気密室の内部で一連の処理工程
を遂行することにより製造される。半導体製造のための
装置は典型的には真空マニホルドを介して処理室を真空
排気するための機械的なポンプを有する。製造処理にお
ける残留粒子や副産物を含む処理室の内容物は燃焼箱へ
吸い上げられ、分解される。処理室は予備ライン弁によ
り機械的なポンプ及び真空マニホルドから隔離される。
予備ライン弁は処理中は開いた状態にあり、装置のメン
テナンス作業中は閉じた状態にある。
【０００３】スロットル弁が予備ライン弁のすぐ下流側
に位置し、処理室内の圧力を制御する。スロットル弁は
普通予備ライン可撓ホースと呼ばれる可撓性のホースに
より真空マニホルドに接続される。可撓ホースの可撓性
特性がスロットル弁と真空マニホルドとの間の接続を容
易にする。また、可撓ホースは機械的なポンプの作動中
に収縮することができ、装置の他の素子上の応力を減少
させる。
に位置し、処理室内の圧力を制御する。スロットル弁は
普通予備ライン可撓ホースと呼ばれる可撓性のホースに
より真空マニホルドに接続される。可撓ホースの可撓性
特性がスロットル弁と真空マニホルドとの間の接続を容
易にする。また、可撓ホースは機械的なポンプの作動中
に収縮することができ、装置の他の素子上の応力を減少
させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような処理装置は
計画された及び計画されていない多数のメンテナンス作
業を必要とする。例えば、スロットル弁及び可撓ホース
はクリーニングのために周期的に取り外す必要がある。
処理室内での作動が典型的には室温より遥かに高い温度
で実行されるため、処理室内に存在する副産物は高い温
度を有し、ほぼ室温にあるスロットル弁及び可撓ホース
の内表面上で凝縮する傾向がある。このような凝縮物の
形成は絞り部を生じさせることがあり、予備ライン内の
絞り部は背圧を生じさせ、すべての残留粒子の吸い上げ
を失敗させることがある。
計画された及び計画されていない多数のメンテナンス作
業を必要とする。例えば、スロットル弁及び可撓ホース
はクリーニングのために周期的に取り外す必要がある。
処理室内での作動が典型的には室温より遥かに高い温度
で実行されるため、処理室内に存在する副産物は高い温
度を有し、ほぼ室温にあるスロットル弁及び可撓ホース
の内表面上で凝縮する傾向がある。このような凝縮物の
形成は絞り部を生じさせることがあり、予備ライン内の
絞り部は背圧を生じさせ、すべての残留粒子の吸い上げ
を失敗させることがある。
【０００５】スロットル弁に（及び、必要なら可撓ホー
スにも）嵌合するように作られたあつらえの加熱ジャケ
ットを利用することができる。処理室の一層高い温度に
囲い込んだ素子を加熱することにより、このようなジャ
ケットは使用場所での凝縮を阻止するのに実質上有効と
なる。しかし、これは、形成された凝縮物がジャケット
の下流へ単に移動することを意味する。更に、このよう
なジャケットの使用はエネルギコストを増大させ、ジャ
ケットの取り外しのためにメンテナンス時間を増大させ
る。
スにも）嵌合するように作られたあつらえの加熱ジャケ
ットを利用することができる。処理室の一層高い温度に
囲い込んだ素子を加熱することにより、このようなジャ
ケットは使用場所での凝縮を阻止するのに実質上有効と
なる。しかし、これは、形成された凝縮物がジャケット
の下流へ単に移動することを意味する。更に、このよう
なジャケットの使用はエネルギコストを増大させ、ジャ
ケットの取り外しのためにメンテナンス時間を増大させ
る。
【０００６】クリーニング又は他のメンテナンスのため
に可撓ホース及びスロットル弁を取り外すためには、機
械的なポンプを停止させ、可撓ホースを取り外し、真空
マニホルドの入口に覆いキャップを設置し、次いで機械
的なポンプを再始動させねばならない。この処理は多数
の欠点を有する。第１に、処理時間が比較的長くなり、
過剰の中断時間及び高いメンテナンスコストをもたらす
こととなる。第２に、乾式機械ポンプの場合、この処理
はポンプの焼付きの危険性を増大させる。その理由は、
このようなポンプがオフされるときに一層焼付き易くな
るからである。焼付いたポンプは交換又は再生しなけれ
ばならない。最後に、可撓ホースの接続を解除したとき
に、予備ライン内の予期せぬ高圧が副産物を可撓ホース
から吹き出させることがあるので、メンテナンスを行う
者にとっては、可撓ホースの取り外しの際に有害な副産
物に晒される可能性が最も高い。
に可撓ホース及びスロットル弁を取り外すためには、機
械的なポンプを停止させ、可撓ホースを取り外し、真空
マニホルドの入口に覆いキャップを設置し、次いで機械
的なポンプを再始動させねばならない。この処理は多数
の欠点を有する。第１に、処理時間が比較的長くなり、
過剰の中断時間及び高いメンテナンスコストをもたらす
こととなる。第２に、乾式機械ポンプの場合、この処理
はポンプの焼付きの危険性を増大させる。その理由は、
このようなポンプがオフされるときに一層焼付き易くな
るからである。焼付いたポンプは交換又は再生しなけれ
ばならない。最後に、可撓ホースの接続を解除したとき
に、予備ライン内の予期せぬ高圧が副産物を可撓ホース
から吹き出させることがあるので、メンテナンスを行う
者にとっては、可撓ホースの取り外しの際に有害な副産
物に晒される可能性が最も高い。
【０００７】燃焼箱の頻繁なサービスはこのような処理
装置に必要な別のメンテナンス作業の必要性を生じさせ
る。機械的なポンプは燃焼箱のメンテナンス中停止さ
れ、装置は機械的なポンプが作動していないときに窒素
でパージされる。乾式の機械的ポンプに関連するポンプ
の焼付きの危険性のほかに、この処置は、窒素によるパ
ージ中に予備ライン内の絞り部が残留粒子を処理室へ戻
し移動させる傾向を有するため、残留粒子を完全に除去
できないという付加的な問題を生じさせる。
装置に必要な別のメンテナンス作業の必要性を生じさせ
る。機械的なポンプは燃焼箱のメンテナンス中停止さ
れ、装置は機械的なポンプが作動していないときに窒素
でパージされる。乾式の機械的ポンプに関連するポンプ
の焼付きの危険性のほかに、この処置は、窒素によるパ
ージ中に予備ライン内の絞り部が残留粒子を処理室へ戻
し移動させる傾向を有するため、残留粒子を完全に除去
できないという付加的な問題を生じさせる。
【０００８】従って、装置のメンテナンス中に機械的な
ポンプを停止させる必要性を最小化して機械的なポンプ
の寿命を増大させ、粒子の逆流を阻止し、装置の利用可
能時間を増大させるためにメンテナンスコスト及び中断
時間を減少させ、メンテナンスを行う技術者の安全に対
する危険性を減少させる真空処理装置の要求がある。
ポンプを停止させる必要性を最小化して機械的なポンプ
の寿命を増大させ、粒子の逆流を阻止し、装置の利用可
能時間を増大させるためにメンテナンスコスト及び中断
時間を減少させ、メンテナンスを行う技術者の安全に対
する危険性を減少させる真空処理装置の要求がある。
【０００９】
【課題を解決するための手段並びに作用効果】上述の要
求は、少なくとも１つのポートを備えた処理室と、ポー
トに接続された予備ライン弁と、予備ライン弁に流体連
通する真空マニホルドとを有する真空処理装置を提供す
る本発明により満たされる。ポンプは真空マニホルドに
接続され、処理室の内容物を真空排気し、隔離弁は予備
ライン弁と上記真空マニホルドとの間を接続する。隔離
弁は予備ライン弁と一体的に又は主として一体的に作動
し、好ましくはポンプの方向に設置された弁座を有す
る。
求は、少なくとも１つのポートを備えた処理室と、ポー
トに接続された予備ライン弁と、予備ライン弁に流体連
通する真空マニホルドとを有する真空処理装置を提供す
る本発明により満たされる。ポンプは真空マニホルドに
接続され、処理室の内容物を真空排気し、隔離弁は予備
ライン弁と上記真空マニホルドとの間を接続する。隔離
弁は予備ライン弁と一体的に又は主として一体的に作動
し、好ましくはポンプの方向に設置された弁座を有す
る。
【００１０】予備ライン弁に加えて隔離弁を設けること
により、本発明は従来の処理装置の上述の欠点を克服す
る。すなわち、メンテナンスのために可撓性のホースを
取り外す前に隔離弁を閉じることにより、機械的なポン
プの停止の必要性を排除する。これにより、機械的なポ
ンプの寿命が増大し、メンテナンスコスト及び中断時間
が減少する。また、メンテナンス中に隔離弁を閉じるこ
とにより、真空マニホルドから可撓性のホースを隔離
し、粒子の逆流を阻止すると共にメンテナンスを行う技
術者の安全に対する危険性を減少させる。
により、本発明は従来の処理装置の上述の欠点を克服す
る。すなわち、メンテナンスのために可撓性のホースを
取り外す前に隔離弁を閉じることにより、機械的なポン
プの停止の必要性を排除する。これにより、機械的なポ
ンプの寿命が増大し、メンテナンスコスト及び中断時間
が減少する。また、メンテナンス中に隔離弁を閉じるこ
とにより、真空マニホルドから可撓性のホースを隔離
し、粒子の逆流を阻止すると共にメンテナンスを行う技
術者の安全に対する危険性を減少させる。
【００１１】本発明の他の利点は添付図面を参照しての
以下の詳細な説明から明らかとなろう。
以下の詳細な説明から明らかとなろう。
【００１２】
【発明の実施の形態】全体を通して同じ素子を同一の符
号にて示す図面を参照すると、図１は本発明に係る真空
処理装置１０を示す。装置１０は半導体デバイスの如き
加工片を処理する処理室１２を有する。（本発明は半導
体処理装置に限定されない；本発明は真空処理室を使用
する任意の種類の処理装置に適用できる。）処理室１２
は閉じられた気密の構造体で、大気圧以下に維持するこ
とができ、真空ポート１４を備え、このポートを通して
室１２の内容物が真空排気される。
号にて示す図面を参照すると、図１は本発明に係る真空
処理装置１０を示す。装置１０は半導体デバイスの如き
加工片を処理する処理室１２を有する。（本発明は半導
体処理装置に限定されない；本発明は真空処理室を使用
する任意の種類の処理装置に適用できる。）処理室１２
は閉じられた気密の構造体で、大気圧以下に維持するこ
とができ、真空ポート１４を備え、このポートを通して
室１２の内容物が真空排気される。
【００１３】予備ライン弁１６が真空ポート１４の出口
に接続されている。予備ライン弁１６は処理室１２を装
置１０の残りのものから隔離し、好ましくは通常閉じた
空気作動式の弁である。スロットル弁１８は予備ライン
弁１６に接続され、処理室の圧力を規制する。処理室１
２はまた、処理室の圧力を監視するためのコンデンサ形
マノメータの如き圧力センサ２０を有する。
に接続されている。予備ライン弁１６は処理室１２を装
置１０の残りのものから隔離し、好ましくは通常閉じた
空気作動式の弁である。スロットル弁１８は予備ライン
弁１６に接続され、処理室の圧力を規制する。処理室１
２はまた、処理室の圧力を監視するためのコンデンサ形
マノメータの如き圧力センサ２０を有する。
【００１４】スロットル弁１８はまたアコーディオン型
又は蛇腹型のホースの如き可撓性のホース２２の一端に
接続される。従来の装置に関連して既述したように、可
撓性のホース２２は装置１０の残りのものに対する室１
２、予備ライン弁１６及びスロットル弁１８の接続を容
易にし、他の装置の素子上の応力を減少させる。可撓性
ホース２２の他端は隔離弁２４に接続される。予備ライ
ン弁１６と同様、隔離弁２４は好ましくは通常閉じた空
気作動式の弁である。後に一層詳細に説明するが、隔離
弁２４は予備ライン弁１６と一体的に作動される；すな
わち、隔離弁２４は、予備ライン弁１６が開いたときに
開き、予備ライン弁１６が閉じたときに閉じる。
又は蛇腹型のホースの如き可撓性のホース２２の一端に
接続される。従来の装置に関連して既述したように、可
撓性のホース２２は装置１０の残りのものに対する室１
２、予備ライン弁１６及びスロットル弁１８の接続を容
易にし、他の装置の素子上の応力を減少させる。可撓性
ホース２２の他端は隔離弁２４に接続される。予備ライ
ン弁１６と同様、隔離弁２４は好ましくは通常閉じた空
気作動式の弁である。後に一層詳細に説明するが、隔離
弁２４は予備ライン弁１６と一体的に作動される；すな
わち、隔離弁２４は、予備ライン弁１６が開いたときに
開き、予備ライン弁１６が閉じたときに閉じる。
【００１５】真空マニホルド２６は一端で隔離弁２４に
接続し、他端で機械的なポンプ２８に接続する。ポンプ
２８は乾式又は湿式の機械的なポンプとすることができ
る。従って、予備ライン及び隔離弁１６、２４が開き、
機械的なポンプ２８が作動しているとき、処理室１２の
内容物は可撓性ホース２２及び真空マニホルド２６を介
して真空排気され、室１２内に真空を生じさせる。機械
的なポンプ２８は普通の方法で分解を行うための燃焼箱
（図示せず）へ内容物を吸い上げる。代わりに、安全な
場合は、室の内容物を周囲へ排出することができる。真
空マニホルド２６はバラスト弁３４を介して窒素ガス源
３２に接続された入口ポート３０を有する。必要なとき
に装置１０が窒素でパージされるように、バラスト弁３
４が制御される。
接続し、他端で機械的なポンプ２８に接続する。ポンプ
２８は乾式又は湿式の機械的なポンプとすることができ
る。従って、予備ライン及び隔離弁１６、２４が開き、
機械的なポンプ２８が作動しているとき、処理室１２の
内容物は可撓性ホース２２及び真空マニホルド２６を介
して真空排気され、室１２内に真空を生じさせる。機械
的なポンプ２８は普通の方法で分解を行うための燃焼箱
（図示せず）へ内容物を吸い上げる。代わりに、安全な
場合は、室の内容物を周囲へ排出することができる。真
空マニホルド２６はバラスト弁３４を介して窒素ガス源
３２に接続された入口ポート３０を有する。必要なとき
に装置１０が窒素でパージされるように、バラスト弁３
４が制御される。
【００１６】装置１０の制御はコントローラ３６により
達成され、コントローラはオペレータの入力を受け取る
ことのできるマイクロプロセッサの如き任意の型式の制
御ユニットとすることができる。特に、コントローラ３
６は予備ライン弁１６及び隔離弁２４の開閉を制御する
と共に、機械的なポンプ２８の作動をも制御する。好ま
しい実施の形態においては、予備ライン弁１６及び隔離
弁２４は同期し、その結果、コントローラのソフトウエ
アが一方の弁を開いたとき又は閉じたとき（すなわち、
オペレータがいずれかの弁の開弁又は閉弁の指令をコン
トローラ３６へ入力したとき）、他方の弁はそれぞれ自
動的に開弁又は閉弁する。弁１６、２４は処理中は開い
ており、大半のメンテナンス作業中は閉じている。処理
サイクル間、即ち、仕上がった加工片を処理室１２から
取り出して新たな加工片を挿入するまでの時間期間、弁
１６、２４は、行われている処理の型式に応じて、開弁
又は閉弁できる。コントローラ３６はまた、処理室１２
内の圧力を制御するように、圧力センサ２０に応答して
スロットル弁１８を規制する。
達成され、コントローラはオペレータの入力を受け取る
ことのできるマイクロプロセッサの如き任意の型式の制
御ユニットとすることができる。特に、コントローラ３
６は予備ライン弁１６及び隔離弁２４の開閉を制御する
と共に、機械的なポンプ２８の作動をも制御する。好ま
しい実施の形態においては、予備ライン弁１６及び隔離
弁２４は同期し、その結果、コントローラのソフトウエ
アが一方の弁を開いたとき又は閉じたとき（すなわち、
オペレータがいずれかの弁の開弁又は閉弁の指令をコン
トローラ３６へ入力したとき）、他方の弁はそれぞれ自
動的に開弁又は閉弁する。弁１６、２４は処理中は開い
ており、大半のメンテナンス作業中は閉じている。処理
サイクル間、即ち、仕上がった加工片を処理室１２から
取り出して新たな加工片を挿入するまでの時間期間、弁
１６、２４は、行われている処理の型式に応じて、開弁
又は閉弁できる。コントローラ３６はまた、処理室１２
内の圧力を制御するように、圧力センサ２０に応答して
スロットル弁１８を規制する。
【００１７】別の好ましい実施の形態においては、弁１
６、２４は処理サイクル間で独立に作動される。この時
間中、両方の弁１６、２４が閉じるのではなく、予備ラ
イン弁１６は閉じ、隔離弁２４は開く。他のすべてのと
きは、弁１６、２４は一体的に作動される。この実施の
形態は特に「汚い」処理、即ち、多量の副産物を発生す
る材料を使用し、大きな流量で作動する処理に有用であ
る。
６、２４は処理サイクル間で独立に作動される。この時
間中、両方の弁１６、２４が閉じるのではなく、予備ラ
イン弁１６は閉じ、隔離弁２４は開く。他のすべてのと
きは、弁１６、２４は一体的に作動される。この実施の
形態は特に「汚い」処理、即ち、多量の副産物を発生す
る材料を使用し、大きな流量で作動する処理に有用であ
る。
【００１８】作動においては、加工片を処理室１２内に
置き、機械的なポンプ２８を作動させて、室１２内に真
空状態を生じさせる。予備ライン及び隔離弁１６、２４
を開き、処理が行われている限り開いた状態を維持す
る。半導体製造の場合、半導体デバイスから取り除かれ
た処理副産物及び粒子は処理室１２から吸い出される。
上述のように、副産物は比較的高温で処理室１２から出
て、スロットル弁１８及び可撓性ホース２２の外表面上
で凝縮する傾向を有する。これらの凝縮物は蓄積し、す
べての残留粒子の吸い出しを失敗させると共に処理室の
性能に悪影響を与えることとなる絞り部を形成すること
がある。
置き、機械的なポンプ２８を作動させて、室１２内に真
空状態を生じさせる。予備ライン及び隔離弁１６、２４
を開き、処理が行われている限り開いた状態を維持す
る。半導体製造の場合、半導体デバイスから取り除かれ
た処理副産物及び粒子は処理室１２から吸い出される。
上述のように、副産物は比較的高温で処理室１２から出
て、スロットル弁１８及び可撓性ホース２２の外表面上
で凝縮する傾向を有する。これらの凝縮物は蓄積し、す
べての残留粒子の吸い出しを失敗させると共に処理室の
性能に悪影響を与えることとなる絞り部を形成すること
がある。
【００１９】スロットル弁１８及び可撓性ホース２２は
周期的にクリーニングする必要がある。これを行うた
め、技術者はコントローラ３６への適当な入力を介して
隔離弁２４及び予備ライン弁１６の双方を閉じ、次い
で、普通の方法でクリーニングのために可撓性ホース２
２を取り外せばよい。取り外し前に可撓性ホース２２を
ガス抜きする目的で手動Ｎ2 パージ弁を隔離弁２４の処
理室側に付加することができる。機械的なポンプ２８を
停止させる必要はなく、従って、ポンプの焼付きを起こ
すような危険性もない。隔離弁２４の使用は消費時間を
少なくし、工具の利用可能時間を増大させると共にメン
テナンスコストを減少させる。更に、隔離弁２４がホー
ス取り外し前に加圧窒素源３２から可撓性ホース２２を
分離するので、取り外し時には、ホース２２は加圧され
ていない。これにより、ホースのメンテナンス中技術者
が副産物に晒される可能性が大幅に減少する。
周期的にクリーニングする必要がある。これを行うた
め、技術者はコントローラ３６への適当な入力を介して
隔離弁２４及び予備ライン弁１６の双方を閉じ、次い
で、普通の方法でクリーニングのために可撓性ホース２
２を取り外せばよい。取り外し前に可撓性ホース２２を
ガス抜きする目的で手動Ｎ2 パージ弁を隔離弁２４の処
理室側に付加することができる。機械的なポンプ２８を
停止させる必要はなく、従って、ポンプの焼付きを起こ
すような危険性もない。隔離弁２４の使用は消費時間を
少なくし、工具の利用可能時間を増大させると共にメン
テナンスコストを減少させる。更に、隔離弁２４がホー
ス取り外し前に加圧窒素源３２から可撓性ホース２２を
分離するので、取り外し時には、ホース２２は加圧され
ていない。これにより、ホースのメンテナンス中技術者
が副産物に晒される可能性が大幅に減少する。
【００２０】隔離弁２４はまた燃焼箱のメンテナンス中
閉じられる。閉じた隔離弁２４は、窒素によるパージ中
に従来の真空処理装置において生じていたような処理室
１２の方への残留粒子の戻り移動を阻止する。
閉じられる。閉じた隔離弁２４は、窒素によるパージ中
に従来の真空処理装置において生じていたような処理室
１２の方への残留粒子の戻り移動を阻止する。
【００２１】好ましくは、隔離弁２４が通常閉じた状態
にあるときに、機械的なポンプ２８により生じた真空が
弁２４を開かせる傾向を有しないように、隔離弁が設置
される。この特性を示すため、図２は隔離弁２４の１つ
の可能な実施の形態を略示する。この図示は単なる例示
であって、本発明をこの型式の弁に何等限定する意図の
ものではない；任意の多くの適当な弁を隔離弁２４とし
て使用できる。
にあるときに、機械的なポンプ２８により生じた真空が
弁２４を開かせる傾向を有しないように、隔離弁が設置
される。この特性を示すため、図２は隔離弁２４の１つ
の可能な実施の形態を略示する。この図示は単なる例示
であって、本発明をこの型式の弁に何等限定する意図の
ものではない；任意の多くの適当な弁を隔離弁２４とし
て使用できる。
【００２２】図２に示すように、隔離弁２４は内部に形
成された内部空洞４２を備えたハウジング４０を有す
る。第１のポート４４はハウジング４０の側部に位置
し、第２のポート４６はハウジング４０の底部の中央に
形成される。両方のポート４４、４６は内部空洞４２に
流体連通する。弁ステム４８はハウジング４０の内側に
位置し、コントローラ３６に応答して作動手段（図示せ
ず）により長手軸線に沿って変位できる。Ｏ−リング５
２を担持するプランジャ５０が弁ステム４８の端部に位
置する。弁座５４は、内部空洞４２と第２のポート４６
との接続部において、弁ステム４８と同心的に整合して
形成される。従って、弁ステム４８が弁座５４の方へ変
位したとき、Ｏ−リング５２は弁座５４と密封係合し、
弁２４を閉じる。
成された内部空洞４２を備えたハウジング４０を有す
る。第１のポート４４はハウジング４０の側部に位置
し、第２のポート４６はハウジング４０の底部の中央に
形成される。両方のポート４４、４６は内部空洞４２に
流体連通する。弁ステム４８はハウジング４０の内側に
位置し、コントローラ３６に応答して作動手段（図示せ
ず）により長手軸線に沿って変位できる。Ｏ−リング５
２を担持するプランジャ５０が弁ステム４８の端部に位
置する。弁座５４は、内部空洞４２と第２のポート４６
との接続部において、弁ステム４８と同心的に整合して
形成される。従って、弁ステム４８が弁座５４の方へ変
位したとき、Ｏ−リング５２は弁座５４と密封係合し、
弁２４を閉じる。
【００２３】第１のポート４４は（可撓性ホース２２、
スロットル弁１８及び予備ライン弁１６を介して）処理
室１２に接続され、第２のポート４６は（真空マニホル
ド２６を介して）機械的なポンプ２８に接続される。こ
の構成においては、弁座５４は機械的なポンプ２８の方
向に設置される。従って、弁２４が閉じ、機械的なポン
プ２８が作動しているとき、ポンプ２８により生じた真
空が弁２４を閉じた状態に維持し、その弁を開かせよう
としない。
スロットル弁１８及び予備ライン弁１６を介して）処理
室１２に接続され、第２のポート４６は（真空マニホル
ド２６を介して）機械的なポンプ２８に接続される。こ
の構成においては、弁座５４は機械的なポンプ２８の方
向に設置される。従って、弁２４が閉じ、機械的なポン
プ２８が作動しているとき、ポンプ２８により生じた真
空が弁２４を閉じた状態に維持し、その弁を開かせよう
としない。
【００２４】以上、装置のメンテナンス及び安全性を改
善するための隔離弁を有する真空処理装置について説明
した。本発明の特定の実施の形態を説明したが、当業者
なら、本発明の要旨を逸脱することなく種々の修正が可
能であること明白である。
善するための隔離弁を有する真空処理装置について説明
した。本発明の特定の実施の形態を説明したが、当業者
なら、本発明の要旨を逸脱することなく種々の修正が可
能であること明白である。
【図１】本発明の真空処理装置の概略図である。
【図２】本発明の真空処理装置における隔離弁の簡略断
面図である。
面図である。
１０ 真空処理装置 １２ 処理室 １４ 真空ポート １６ 予備ライン弁 １８ スロットル弁 ２２ 可撓性のホース ２４ 隔離弁 ２６ 真空マニホルド ２８ ポンプ ３６ コントローラ ５４ 弁座
Claims (15)
- 【請求項１】 処理装置において、 少なくとも１つのポートを備えた処理室と；上記少なく
とも１つのポートに接続された予備ライン弁と；上記予
備ライン弁に流体連通する真空マニホルドと；上記真空
マニホルドに接続されたポンプと；上記予備ライン弁と
上記真空マニホルドとの間に接続された隔離弁と；を有
することを特徴とする処理装置。 - 【請求項２】 上記予備ライン弁及び上記隔離弁を制御
するためのコントローラを更に有することを特徴とする
請求項１に記載の処理装置。 - 【請求項３】 上記コントローラが上記予備ライン弁及
び上記隔離弁を一体的に開閉することを特徴とする請求
項２に記載の処理装置。 - 【請求項４】 上記予備ライン弁と上記隔離弁との間に
接続されたスロットル弁を更に有することを特徴とする
請求項１に記載の処理装置。 - 【請求項５】 上記スロットル弁を制御するためのコン
トローラを更に有することを特徴とする請求項４に記載
の処理装置。 - 【請求項６】 処理室圧力センサを更に有し、上記コン
トローラが上記圧力センサに応答して上記スロットル弁
を制御することを特徴とする請求項５に記載の処理装
置。 - 【請求項７】 上記スロットル弁と上記隔離弁との間を
接続する可撓性ホースを更に有することを特徴とする請
求項４に記載の処理装置。 - 【請求項８】 上記予備ライン弁と上記隔離弁との間に
接続された可撓性ホースを更に有することを特徴とする
請求項１に記載の処理装置。 - 【請求項９】 上記真空マニホルドに接続された窒素源
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の処理装
置。 - 【請求項１０】 上記隔離弁が上記ポンプの方向に設置
された弁座を有することを特徴とする請求項１に記載の
処理装置。 - 【請求項１１】 処理装置において、 少なくとも１つのポートを備えた処理室と；上記少なく
とも１つのポートに接続された予備ライン弁と；上記予
備ライン弁に接続されたスロットル弁と；上記スロット
ル弁に接続された隔離弁と；上記隔離弁に接続され、上
記予備ライン弁、上記スロットル弁及び当該隔離弁を介
して上記処理室を真空排気するポンプと；上記ポンプ、
上記予備ライン弁、上記スロットル弁及び当該隔離弁に
接続されたコントローラと；を有することを特徴とする
処理装置。 - 【請求項１２】 上記コントローラが上記予備ライン弁
及び上記隔離弁を一体的に開閉することを特徴とする請
求項１１に記載の処理装置。 - 【請求項１３】 処理室圧力センサを更に有し、上記コ
ントローラが上記圧力センサに応答して上記スロットル
弁を制御することを特徴とする請求項１１に記載の処理
装置。 - 【請求項１４】 上記予備ライン弁と上記隔離弁との間
に接続された可撓性ホースを更に有することを特徴とす
る請求項１１に記載の処理装置。 - 【請求項１５】 上記隔離弁が上記ポンプの方向に設置
された弁座を有することを特徴とする請求項１１に記載
の処理装置。
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|---|---|---|---|
| US09/138174 | 1998-08-21 | ||
| US09/138,174 US6041817A (en) | 1998-08-21 | 1998-08-21 | Processing system having vacuum manifold isolation |
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|---|---|
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| JP3363408B2 JP3363408B2 (ja) | 2003-01-08 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1998-08-21 US US09/138,174 patent/US6041817A/en not_active Expired - Fee Related
-
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- 1999-08-19 TW TW088114201A patent/TW418425B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-08-20 DE DE19939613A patent/DE19939613A1/de not_active Withdrawn
- 1999-08-23 JP JP23563999A patent/JP3363408B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3363408B2 (ja) | 2003-01-08 |
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