JP2000114288A - ポッティング方法および装置ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents

ポッティング方法および装置ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法

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JP2000114288A
JP2000114288A JP10283633A JP28363398A JP2000114288A JP 2000114288 A JP2000114288 A JP 2000114288A JP 10283633 A JP10283633 A JP 10283633A JP 28363398 A JP28363398 A JP 28363398A JP 2000114288 A JP2000114288 A JP 2000114288A
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potting
liquid resin
tubular container
syringe
resin
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Norihiko Kasai
紀彦 葛西
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
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Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液状樹脂の塗布の高速化および塗布量の高精
度化を図る。 【解決手段】 封止用樹脂2が充填されかつ封止用樹脂
2を吐出する吐出口が設けられた変形自在なチューブ式
のシリンジ10と、シリンジ10の外側からシリンジ1
0を加圧変形させてシリンジ10内に充填された封止用
樹脂2を前記吐出口から押し出す加圧ローラ11と、シ
リンジ10の吐出側と反対側の端部のシリンジ被支持部
10bに係合してシリンジ10を支持するシリンジホル
ダ12と、シリンジ10の前記吐出側の端部のニードル
装着部10aに取り付けられたニードル13とによって
構成され、加圧ローラ11によりシリンジ10を加圧変
形させ、前記吐出口を介して封止用樹脂2を吐出させて
封止用樹脂2の塗布を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、液状樹脂のポッティングの高速化と塗布量
の高精度化に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
【0003】半導体製造工程における半導体チップの封
止工程では、液状樹脂である封止用樹脂を用いる方法が
知られており、これには、モールド金型を用いたモール
ド方法と、封止用樹脂を直接滴下するポッティング方法
(ディスペンス法)とがある。
【0004】このうち、ポッティング方法では、封止用
樹脂を吐出するニードルが先端に設けられたシリンジ
(管状容器)を用いている。
【0005】そこで、封止用樹脂の塗布を行う場合に
は、シリンジの上方からその内部の封止用樹脂に対して
エアーを付与して加圧し、さらに、封止用樹脂の滴下を
停止させる場合には、真空排気によってシリンジの内部
圧力を減圧して停止させる。
【0006】なお、シリンジを用いたポッティング技術
(ディスペンス法)については、例えば、日経BP社、
1993年5月31日発行、「実践講座VLSIパッケ
ージング技術(下)」香山晋、成瀬邦彦(監修)、19
頁に記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のポッティング方法においては、封止用樹脂の樹脂自
体の粘度のバラツキや作業時の温度による樹脂粘度のバ
ラツキがあり、そのため、封止用樹脂の塗布量の管理が
困難であることが問題とされる。
【0008】さらに、作業過程でのシリンジ内のエアー
領域と樹脂領域との割合変化に対応させて、吐出圧力、
吐出時間、吐出後の真空排気などの作業条件の変更が必
要となり、シリンジ内のエアー領域と樹脂領域との割合
変化の管理が困難であることが問題となる。
【0009】また、ポッティング方法において定量塗布
を高精度に行うためには、吐出用のニードルの先端径を
細くして低圧吐出を行うことが有効であるが、ポッティ
ングに時間がかかり、その結果、生産性が悪いという問
題が起こる。
【0010】一方、高速塗布を行うためには、吐出用の
ニードルの先端径を太くして高圧吐出を行うことが有効
であるが、その際、定量精度が低下するという問題が起
こる。
【0011】すなわち、塗布量を高精度に制御して、か
つ高速に塗布を行うことが可能なポッティング方法が無
いという技術的問題が発生している。
【0012】本発明の目的は、塗布の高速化および塗布
量の高精度化を図るポッティング方法および装置ならび
にそれを用いた半導体装置の製造方法を提供することに
ある。
【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0015】すなわち、本発明のポッティング方法は、
液状樹脂が充填された変形自在な管状容器およびこれを
加圧する加圧部材を準備する工程と、前記管状容器の外
側から前記加圧部材によって前記管状容器を加圧変形さ
せ、前記管状容器内に充填された前記液状樹脂を前記管
状容器の吐出口から押し出して前記液状樹脂の塗布を行
う工程とを有するものである。
【0016】これにより、管状容器内には液状樹脂が充
填されているため、管状容器内がエアー領域と樹脂領域
とに分かれることはなくなる。したがって、ポッティン
グにおける吐出圧力、吐出時間、吐出後の真空排気など
の作業条件の設定を低減できる。また、液状樹脂が充填
された変形自在な管状容器を用いることにより、管状容
器を使い捨て方式とすることができる。
【0017】これらにより、管状容器を交換する際の条
件設定時間を低減できる。
【0018】さらに、本発明のポッティング装置は、液
状樹脂が充填され、前記液状樹脂を吐出する吐出口が設
けられた変形自在な管状容器と、前記管状容器の外側か
ら前記管状容器を加圧変形させて前記管状容器内に充填
された前記液状樹脂を前記吐出口から押し出す加圧部材
とを有し、前記加圧部材により前記管状容器を加圧変形
させ、前記吐出口から前記液状樹脂を吐出させて前記液
状樹脂の塗布を行うものである。
【0019】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
前記ポッティング装置を用いたものであり、液状樹脂が
充填された変形自在な管状容器およびこれを加圧する加
圧部材を準備する工程と、半導体ウェハを切削して前記
半導体ウェハから個々の半導体チップを分離させる工程
と、前記半導体チップとチップ支持部材とを接合する工
程と、前記半導体チップの表面電極と外部端子に電気的
に接続されるリード部とを電気的に接続する工程と、前
記管状容器の外側から前記加圧部材によって前記管状容
器を加圧変形させ、前記管状容器内に充填された前記液
状樹脂を前記管状容器の吐出口から前記半導体チップに
対して押し出して前記液状樹脂の塗布を行って前記半導
体チップを樹脂封止する工程とを有するものである。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【0021】図1は本発明によるポッティング装置の構
造の実施の形態の一例を示す構成概略図、図2は図1に
示すポッティング装置のポッティング機構に設けられた
シリンジ(管状容器)の構造の一例を示す断面図、図3
は図2に示すシリンジが設けられたポッティング機構の
構造の一例を示す断面図、図4は図1に示すポッティン
グ装置により樹脂封止されて製造された半導体装置の一
例であるBGAの構造を示す断面図、図5、図6および
図7は本発明のポッティング方法における塗布手順の実
施の形態の一例を示す断面図である。
【0022】図1に示す本実施の形態のポッティング装
置は、半導体製造工程の封止工程において、液状樹脂を
半導体チップに対して滴下して前記半導体チップを樹脂
封止するものである。
【0023】したがって、本実施の形態における前記液
状樹脂は、封止用樹脂2であり、例えば、熱硬化性のエ
ポキシ系樹脂などである。
【0024】図1〜図4を用いて、図1に示すポッティ
ング装置の基本構成について説明すると、ポッティング
が行われる塗布対象物であるワーク4を順次搬入して収
容するローダ5と、ワーク4に対して液状樹脂である封
止用樹脂2のポッティング(塗布)を行う図3に示すポ
ッティング機構3と、ポッティング機構3を搭載しかつ
ポッティング機構3をXY方向に移動させるXYロボッ
ト7と、ポッティング済みのワーク4を順次収容して搬
出するアンローダ6と、ワーク4をローダ5からアンロ
ーダ6まで搬送するとともにワーク4の加熱を行う加熱
ブロックを備えたフィーダ8と、ポッティング機構3に
よるポッティング動作やワーク4の搬送もしくはXYロ
ボット7の動作などを制御する制御部9とによって構成
されている。
【0025】なお、本実施の形態のポッティング装置の
制御部9は、少なくともポッティング機構3によるポッ
ティング動作を制御するものであればよく、ワーク4の
搬送もしくはXYロボット7の動作については、他の制
御系が行ってもよい。
【0026】また、XYロボット7は、ポッティング機
構3をX方向に移動させるXロボット7aと、ポッティ
ング機構3をY方向に移動させるYロボット7bとから
なる。
【0027】ここで、図3に示すポッティング機構3に
ついて説明すると、封止用樹脂2が充填されかつ封止用
樹脂2を吐出する吐出口10c(図2参照)が設けられ
た変形自在なチューブ式の管状容器であるシリンジ10
と、シリンジ10の外側からシリンジ10を加圧変形さ
せてシリンジ10内に充填された封止用樹脂2を吐出口
10cから押し出す加圧ローラ11(加圧部材)と、シ
リンジ10の吐出側と反対側の端部のシリンジ被支持部
10bに係合してしシリンジ10を支持するシリンジホ
ルダ12と、シリンジ10の前記吐出側の端部のニード
ル装着部10aに取り付けられたノズルであるニードル
13とによって構成され、加圧ローラ11によりシリン
ジ10を加圧変形させ、吐出口10cから封止用樹脂2
を吐出させて封止用樹脂2の塗布を行う。
【0028】なお、シリンジ10の吐出側の端部のニー
ドル装着部10aには、図3に示すように、ニードル1
3が取り付けられるため、ポッティングの際には封止用
樹脂2はシリンジ10の吐出口10cを介してニードル
13の先端部から外部に吐出させる。
【0029】また、図2に示すシリンジ10は、封止用
樹脂2が充填されたチューブ式の細長い変形自在な容器
であり、その吐出側の端部に封止用樹脂2を吐出する吐
出口10cが設けられており、それ以外の箇所は、密閉
されている。
【0030】したがって、シリンジ10の外部からシリ
ンジ10を加圧すると、シリンジ10の内部に充填され
た封止用樹脂2が吐出口10cを介して外部に押し出さ
れ、これにより、封止用樹脂2をポッティングする構造
となっている。
【0031】そのため、シリンジ10は、吐出時の封止
用樹脂2からの内圧に耐え得る強度を持つとともに、外
部からの圧力には容易に変形し得る材料によって形成さ
れている。
【0032】さらに、シリンジ10は、吐出口10c以
外の箇所が密閉されているため、吐出時の水頭差を無視
できる効果を兼ね備えている。
【0033】また、本実施の形態のポッティング装置に
取り付けられるシリンジ10は、チューブ式のものであ
るため、使い捨て方式として用いることができ、これに
より、シリンジ10の使用後の面倒な洗浄作業を省略す
ることができる。
【0034】なお、シリンジ10を形成する材料の一例
としては、シリコンであり、シリンジ10としてシリコ
ンチューブを用いることが好ましい。
【0035】ただし、シリンジ10の材料は、シリコン
に限定されるものではなく、前記条件を満たすものであ
れば、他の材料であってもよい。
【0036】また、ポッティング機構3において、シリ
ンジ10の吐出側と反対側の端部には、シリンジ10を
加圧する加圧部材として回転自在な移動式の加圧ローラ
11が取り付けられており、この加圧ローラ11をシリ
ンジホルダ12に沿って回転移動させ、シリンジ10の
吐出側と反対側の端部から吐出側に向かってシリンジ1
0を外部から加圧変形させ、これにより、シリンジ10
の内部の封止用樹脂2を押し出す。
【0037】すなわち、本実施の形態のポッティング装
置におけるポッティング機構3では、加圧ローラ11の
加圧移動によってシリンジ10を加圧変形させ、これに
より、吐出口10cを介して図3に示すニードル13の
先端部から液状樹脂である封止用樹脂2を吐出させる。
【0038】なお、前記ポッティング装置では、加圧ロ
ーラ11の動作を制御する。
【0039】その際、加圧ローラ11の加圧移動をモニ
タし、制御部9により、加圧の際の加圧ローラ11の移
動量に基づいて封止用樹脂2の塗布量の制御を行う。
【0040】なお、加圧ローラ11の移動をモニタする
ことにより、加圧ローラ11の移動距離や移動速度を算
出することも可能になる。
【0041】その結果、制御部9により、封止用樹脂2
の塗布量の制御、塗布時間の管理などが行える。
【0042】次に、本実施の形態のポッティング装置を
用いて製造された半導体装置について説明する。
【0043】なお、前記半導体装置は、半導体製造工程
の封止工程において、図1に示す本実施の形態のポッテ
ィング装置を用いて樹脂封止を行うものであり、その一
例として、図4に示すBGA(Ball Grid Array)20を
取り上げて説明する。
【0044】BGA20の構成は、半導体集積回路が形
成された半導体チップ1を支持するチップ支持部材であ
るパッケージ基板21と、半導体チップ1の表面電極で
あるパッド1aとパッケージ基板21のリード部21a
とを電気的に接続するボンディングワイヤ23と、半導
体チップ1およびボンディングワイヤ23を封止用樹脂
2によって樹脂封止して形成した封止部24と、パッケ
ージ基板21の露出面に取り付けられ、かつリード部2
1aと電気的に接続された外部端子であるバンプ22と
によって構成される。
【0045】すなわち、BGA20は、半導体チップ1
の封止工程において、図1に示すポッティング装置のポ
ッティング機構3(図3参照)を用いて半導体チップ1
の樹脂封止を行って組み立てたものである。
【0046】ここで、半導体チップ1は、プラスチック
またはセラミックなどからなるパッケージ基板21に接
着剤25によって固定されている。
【0047】さらに、半導体チップ1とパッケージ基板
21とを電気的に接続するボンディングワイヤ23は、
例えば、金などによって形成され、また、封止部24
は、熱硬化性のエポキシ系樹脂などを硬化して形成した
ものである。
【0048】なお、パッケージ基板21の露出面(半導
体チップ1が搭載された面と反対側の面)に取り付けら
れたバンプ22は、半田などによって形成され、前記露
出面に格子状に配列されて取り付けられている。
【0049】次に、本実施の形態のポッティング方法に
ついて説明する。
【0050】本実施の形態では、前記ポッティング方法
をBGA20(半導体装置)の製造方法に含めて説明す
る。
【0051】すなわち、本実施の形態のポッティング方
法は、BGA20の製造工程における封止工程で、図3
に示すポッティング機構3を用いて半導体チップ1に封
止用樹脂2を滴下して半導体チップ1を樹脂封止する際
の塗布方法である。
【0052】まず、図示しない半導体ウェハを切削(ダ
イシング)して格子状に切り溝を形成し、続いて、この
半導体ウェハから個々の半導体チップ1を分離して半導
体チップ1を取得する。
【0053】その後、接着剤25を用いて、半導体チッ
プ1とチップ支持部材であるパッケージ基板21とを接
合する。
【0054】すなわち、パッケージ基板21の所定箇所
に接着剤25を用いて半導体チップ1を固定するダイボ
ンドを行う。
【0055】その後、半導体チップ1の表面電極である
パッド1aと、これに対応するとともに、外部端子であ
るバンプ22に電気的に接続されるパッケージ基板21
のリード部21aとを電気的に接続する。
【0056】ここでは、ボンディングワイヤ23を用い
たワイヤボンディングによって半導体チップ1のパッド
1aとこれに対応するパッケージ基板21のリード部2
1aとを電気的に接続する。
【0057】なお、本実施の形態では、半導体チップ1
を搭載し、かつ前記ワイヤボンディングを終了したパッ
ケージ基板21を、図1に示すポッティング装置による
ポッティングの塗布対象物としてワーク4と呼ぶことに
する。
【0058】続いて、BGA20の封止工程を行う。
【0059】まず、液状樹脂が充填された変形自在な管
状容器であるシリンジ10およびこれを外部から加圧す
る加圧部材である加圧ローラ11を準備する。
【0060】つまり、図2に示す液状樹脂が充填された
チューブ式のシリンジ10を準備し、このシリンジ10
を、図3に示すように、ポッティング機構3のシリンジ
ホルダ12にシリンジ被支持部10bを介して取り付け
る。
【0061】なお、本実施の形態では、図1に示すポッ
ティング装置が半導体チップ1の樹脂封止を行うもので
あるため、前記液状樹脂は、半導体チップ1を封止する
封止用樹脂2である。
【0062】したがって、チューブ式のシリンジ10の
内部には、封止用樹脂2が充填されており、シリンジ1
0の吐出側の先端のニードル装着部10aには、ニード
ル13が取り付けられている。
【0063】ここで、図1に示すポッティング装置のポ
ッティング機構3(図3参照)において、加圧ローラ1
1は、図5に示すように、シリンジ10の前記吐出側と
反対側の端部にシリンジ10を加圧かつ移動可能なよう
に取り付けられている。
【0064】その結果、本実施の形態のポッティング装
置のポッティング機構3では、シリンジ10の外側から
加圧ローラ11によってシリンジ10を加圧変形し、シ
リンジ10内に充填された封止用樹脂2をシリンジ10
の吐出口10cを介してニードル13から半導体チップ
1に対して押し出して封止用樹脂2の塗布を行い、これ
により、半導体チップ1を樹脂封止する。
【0065】つまり、シリンジ10の前記吐出側と反対
側の端部から加圧ローラ11によってシリンジ10を加
圧していき、シリンジ10内の封止用樹脂2を押し出し
て滴下させる。
【0066】なお、本実施の形態のポッティング装置で
は、加圧ローラ11の加圧移動をモニタし、加圧の際の
加圧ローラ11の移動量に基づいて、制御部9により封
止用樹脂2の塗布量を制御かつ管理する。
【0067】これにより、加圧の際の加圧ローラ11の
移動距離や移動時間も計測可能になる。
【0068】まず、ワーク4をローダ5に順次収容し、
その後、フィーダ8上にワーク4を送り出す。
【0069】続いて、フィーダ8によってワーク4をポ
ッティング機構3の下方まで搬送し、そこで、Xロボッ
ト7aおよびYロボット7bによりポッティング機構3
をワーク4上の塗布位置に移動させてポッティング機構
3の位置決めを行い、これにより、半導体チップ1やボ
ンディングワイヤ23(ワーク4)に対してポッティン
グを行う。
【0070】なお、図5に示すポッティング機構3で
は、シリンジ10の吐出側と反対側の端部が、加圧ロー
ラ11とシリンジホルダ12とによって挟み込まれて支
持され、この際にニードル13に封止用樹脂2が充填さ
れ、これにより、ニードル13を介して連続塗布可能な
状態を形成している。
【0071】続いて、封止用樹脂2の塗布を行う際に
は、まず、図5に示すシリンジホルダ12を、図6に示
すように下降させるとともに、加圧ローラ11をその初
期位置である位置Aから位置Bに移動させる。
【0072】ここで、本実施の形態のポッティング装置
では、加圧ローラ11の加圧の際の移動をモニタしてお
り、制御部9によって封止用樹脂2の塗布量を加圧ロー
ラ11の移動量に置き換えて前記塗布量の制御および管
理を行っている。
【0073】したがって、封止用樹脂2の塗布量に基づ
いて、制御部9によって、加圧ローラ11の移動量を制
御し、その結果、加圧ローラ11を位置Aから位置Bに
所定量移動させる。
【0074】これにより、定められた量の封止用樹脂2
をシリンジ10から吐出口10cおよびニードル13を
介して吐出でき、これにより、半導体チップ1に対して
定量塗布を高精度にできる。
【0075】さらに、加圧ローラ11の移動をモニタす
ることにより、塗布時間も管理できる。
【0076】その後、図7に示すように、ポッティング
機構3を上昇させ、ワーク4とニードル13とを離すこ
とにより、ニードル13の先端と封止用樹脂2とが離れ
る。
【0077】この時、本実施の形態のポッティング装置
では、封止用樹脂2を吐出した後、加圧ローラ11を折
り返し(元に戻す方向に)移動させてシリンジ10の内
部圧力を無くすようにする。
【0078】すなわち、図7に示すように、ポッティン
グ機構3を上昇させるとともに、加圧ローラ11を位置
Bから位置Cに僅かに戻す(僅かに上昇させる)。
【0079】これにより、加圧ローラ11の位置Aから
位置Bへの移動(図6参照)によって加圧されて膨張し
たシリンジ10の前記膨張を元に戻すことができ、その
結果、シリンジ10の内部圧力を無くすことができると
ともに、シリンジ10の内部には空気が入っていないこ
とにより、ニードル13の先端での水頭差による樹脂垂
れを防止できる。
【0080】なお、図1に示すポッティング装置のフィ
ーダ8には、図示しない加熱ブロックが設置されてお
り、封止用樹脂2のポッティング中に、ワーク4を所定
温度に加熱する。ここでの加熱ブロックによる加熱は、
パッケージ基板21上に塗布した封止用樹脂2の厚さ
(高さ)を均一にするためのものである。
【0081】ポッティング終了後、フィーダ8の案内に
よってワーク4をアンローダ6に搬送し、そこにワーク
4を順次収容していく。
【0082】続いて、封止工程を終えたワーク4のパッ
ケージ基板21の露出面(半導体チップ1の搭載面と反
対側の面)に外部端子となる所定数のバンプ22を格子
状に配置させて取り付ける。
【0083】例えば、フラックスなどを用いて仮固定し
た後、ワーク4をリフロー炉などに通してバンプ22を
溶融し、これにより、複数のバンプ22をパッケージ基
板21に取り付ける。
【0084】その後、所定の検査を行い、その結果、図
4に示すBGA20の組み立てを終了する。
【0085】本実施の形態のポッティング方法および装
置ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法によれ
ば、以下のような作用効果が得られる。
【0086】すなわち、液状樹脂である封止用樹脂2が
充填された変形自在なチューブ式のシリンジ10(管状
容器)をその外側から加圧変形させてシリンジ10内の
封止用樹脂2を吐出口10cから押し出して封止用樹脂
2の塗布を行うことにより、シリンジ10内には封止用
樹脂2が充填されているため、シリンジ10内がエアー
領域と樹脂領域とに分かれることはなくなる。
【0087】したがって、シリンジ10内に前記エアー
領域が形成されなくなるため、吐出圧力や吐出時間など
が変動する要因が少なくなるとともに、前記エアー領域
と前記樹脂領域との割合変化の管理も必要なくなる。
【0088】その結果、ポッティングにおける吐出圧
力、吐出時間、吐出後の真空排気などの作業条件の設定
を低減できる。
【0089】また、封止用樹脂2が充填された変形自在
なシリンジ10を用いることにより、シリンジ10を使
い捨て方式とすることができる。
【0090】これらにより、シリンジ10を交換する際
の条件設定時間を低減できる。
【0091】さらに、シリンジ10を加圧する部材とし
て回転自在な加圧ローラ11を設け、この加圧ローラ1
1の加圧移動をモニタし、加圧の際の加圧ローラ11の
移動量に基づいて封止用樹脂2の塗布量を制御すること
により、作業温度などにより変化する封止用樹脂2の粘
度と無関係に封止用樹脂2の塗布量を管理できる。
【0092】つまり、本実施の形態のポッティング方法
は、封止用樹脂2の粘度のバラツキを吸収してポッティ
ングを行えるようにするものである。
【0093】これにより、封止用樹脂2の塗布量を高精
度に制御でき、その結果、高精度な定量塗布を実現でき
る。
【0094】また、加圧ローラ11の加圧移動をモニタ
することにより、加圧の際の加圧ローラ11の移動速度
を求めることができる。
【0095】これにより、塗布時間も管理することがで
きるため、高速塗布を行うことが可能になる。
【0096】その結果、ポッティング工程における生産
性を向上させることができる。
【0097】なお、ポッティング工程における生産性を
向上できるとともに、シリンジ10を交換する際の条件
設定時間を低減できることにより、ポッティング工程の
製造原価を低減できる。
【0098】また、シリンジ10内には封止用樹脂2が
充填されていることにより、シリンジ10内にはエアー
領域が形成されないため、塗布後、シリンジ10の先端
に取り付けられたニードル13をワーク4(塗布対象
物)から離した際の水頭差による樹脂垂れの発生を防止
できる。
【0099】なお、本実施の形態のポッティング装置に
設けられたポッティング機構3によれば、大容量のシリ
ンジ10であっても、水頭差を防止できる。
【0100】また、吐出口10cから封止用樹脂2を吐
出して塗布した後、加圧ローラ11を折り返し(元に戻
す方向に)移動させてシリンジ10の内部圧力を無くす
ことにより、前記樹脂垂れの発生をさらに防止できる。
【0101】これにより、ポッティングを行った樹脂封
止製品(本実施の形態では、BGA20)の不良を低減
でき、前記樹脂封止製品の歩留りと品質を向上できる。
【0102】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
【0103】例えば、前記実施の形態において、BGA
20(半導体装置)を製造する際の外部端子であるバン
プ22のパッケージ基板21への取付けについては、予
め、バンプ22が取り付けられたパッケージ基板21を
準備し、このパッケージ基板21を用いてBGA20の
組み立てを行ってもよく、あるいは、前記実施の形態で
説明したように、樹脂封止を行った後にバンプ22を取
り付けてもよい。
【0104】また、前記実施の形態では、図3に示すポ
ッティング機構3が、半導体チップ1の封止用に樹脂封
止工程で用いられるポッティング装置(図1参照)に設
置されている場合を説明したが、図3に示すポッティン
グ機構3は、ダイボンディング工程におけるダイボンダ
(チップマウンタなども含む)に設置されるものであっ
てもよい。
【0105】すなわち、半導体チップ1を固定する際
に、リードフレームなどのチップ支持部材にダイボンド
剤を塗布する機構として、ポッティング機構3がダイボ
ンダに設置されていてもよく、その際の液状樹脂は、ダ
イボンド剤の一例であるペースト剤などである。
【0106】また、前記実施の形態においては、半導体
装置がBGA20の場合について説明したが、前記半導
体装置は、図3に示すポッティング機構3を用いてポッ
ティングによる液状樹脂の塗布を行うものであれば、T
CP(Tape Carrier Package) などの他の半導体装置で
あってもよい。
【0107】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0108】(1).液状樹脂が充填された変形自在な
管状容器をその外側から加圧変形させて管状容器内の液
状樹脂を押し出して液状樹脂の塗布を行うことにより、
管状容器内には液状樹脂が充填されているため、ポッテ
ィングにおける吐出圧力、吐出時間などの作業条件の設
定を低減できる。また、液状樹脂が充填された変形自在
な管状容器を用いることにより、管状容器を使い捨て方
式とすることができる。これらにより、管状容器を交換
する際の条件設定時間を低減できる。
【0109】(2).加圧部材として回転自在な加圧ロ
ーラを設け、この加圧ローラの加圧移動をモニタし、加
圧の際の加圧ローラの移動量に基づいて液状樹脂の塗布
量を制御することにより、作業温度などにより変化する
液状樹脂の粘度と無関係に液状樹脂の塗布量を管理でき
る。その結果、液状樹脂の塗布量を高精度に制御でき、
これにより、高精度な定量塗布を実現できる。
【0110】(3).加圧ローラの加圧移動をモニタす
ることにより、加圧の際の加圧ローラの移動速度を求め
ることができる。これにより、塗布時間も管理すること
ができるため、高速塗布を行うことが可能になる。その
結果、ポッティング工程における生産性を向上させるこ
とができる。
【0111】(4).ポッティング工程における生産性
を向上できるとともに、管状容器を交換する際の条件設
定時間を低減できることにより、ポッティング工程の製
造原価を低減できる。
【0112】(5).管状容器内には液状樹脂が充填さ
れていることにより、管状容器内にはエアー領域が形成
されないため、塗布後、管状容器の先端に取り付けられ
たニードルを塗布対象物から離した際の水頭差による樹
脂垂れの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるポッティング装置の構造の実施の
形態の一例を示す構成概略図である。
【図2】図1に示すポッティング装置のポッティング機
構に設けられたシリンジ(管状容器)の構造の一例を示
す断面図である。
【図3】図2に示すシリンジが設けられたポッティング
機構の構造の一例を示す断面図である。
【図4】図1に示すポッティング装置により樹脂封止さ
れて製造された半導体装置の一例であるBGAの構造を
示す断面図である。
【図5】本発明のポッティング方法における塗布手順の
実施の形態の一例を示す断面図である。
【図6】本発明のポッティング方法における塗布手順の
実施の形態の一例を示す断面図である。
【図7】本発明のポッティング方法における塗布手順の
実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ 1a パッド(表面電極) 2 封止用樹脂(液状樹脂) 3 ポッティング機構 4 ワーク(塗布対象物) 5 ローダ 6 アンローダ 7 XYロボット 7a Xロボット 7b Yロボット 8 フィーダ 9 制御部 10 シリンジ(管状容器) 10a ニードル装着部 10b シリンジ被支持部 10c 吐出口 11 加圧ローラ(加圧部材) 12 シリンジホルダ 13 ニードル 20 BGA(半導体装置) 21 パッケージ基板(チップ支持部材) 21a リード部 22 バンプ(外部端子) 23 ボンディングワイヤ 24 封止部 25 接着剤

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液状樹脂を塗布するポッティング方法で
    あって、 前記液状樹脂が充填された変形自在な管状容器およびこ
    れを加圧する加圧部材を準備する工程と、 前記管状容器の外側から前記加圧部材によって前記管状
    容器を加圧変形させ、前記管状容器内に充填された前記
    液状樹脂を前記管状容器の吐出口から押し出して前記液
    状樹脂の塗布を行う工程とを有することを特徴とするポ
    ッティング方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のポッティング方法であっ
    て、前記加圧部材として回転自在な加圧ローラを設け、
    前記加圧ローラの加圧移動をモニタし、加圧の際の前記
    加圧ローラの移動量に基づいて前記液状樹脂の塗布量を
    制御することを特徴とするポッティング方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のポッティング方
    法であって、前記加圧部材として回転自在な加圧ローラ
    を設け、前記加圧ローラの加圧移動により前記管状容器
    を加圧変形させて前記吐出口から前記液状樹脂を吐出さ
    せた後、前記加圧ローラを折り返し移動させて前記管状
    容器の内部圧力を無くすことを特徴とするポッティング
    方法。
  4. 【請求項4】 請求項1,2または3記載のポッティン
    グ方法であって、前記液状樹脂として、半導体チップを
    封止する封止用樹脂を用いることを特徴とするポッティ
    ング方法。
  5. 【請求項5】 液状樹脂の塗布を行うポッティング装置
    であって、 前記液状樹脂が充填され、前記液状樹脂を吐出する吐出
    口が設けられた変形自在な管状容器と、 前記管状容器の外側から前記管状容器を加圧変形させて
    前記管状容器内に充填された前記液状樹脂を前記吐出口
    から押し出す加圧部材とを有し、 前記加圧部材により前記管状容器を加圧変形させ、前記
    吐出口から前記液状樹脂を吐出させて前記液状樹脂の塗
    布を行うことを特徴とするポッティング装置。
  6. 【請求項6】 請求項5記載のポッティング装置であっ
    て、前記加圧部材として回転自在な加圧ローラが設けら
    れ、前記加圧ローラの加圧移動によって前記管状容器を
    加圧変形させて前記吐出口から前記液状樹脂を吐出させ
    ることを特徴とするポッティング装置。
  7. 【請求項7】 請求項5または6記載のポッティング装
    置であって、前記加圧部材として回転自在な加圧ローラ
    が設けられ、前記加圧ローラの加圧移動をモニタし、加
    圧の際の前記加圧ローラの移動量に基づいて前記液状樹
    脂の塗布量の制御を行うことを特徴とするポッティング
    装置。
  8. 【請求項8】 請求項5,6または7記載のポッティン
    グ装置であって、前記液状樹脂として、半導体チップを
    封止する封止用樹脂が用いられることを特徴とするポッ
    ティング装置。
  9. 【請求項9】 請求項5,6,7または8記載のポッテ
    ィング装置を用いた半導体装置の製造方法であって、 液状樹脂が充填された変形自在な管状容器およびこれを
    加圧する加圧部材を準備する工程と、 半導体ウェハを切削して前記半導体ウェハから個々の半
    導体チップを分離させる工程と、 前記半導体チップとチップ支持部材とを接合する工程
    と、 前記半導体チップの表面電極と外部端子に電気的に接続
    されるリード部とを電気的に接続する工程と、 前記管状容器の外側から前記加圧部材によって前記管状
    容器を加圧変形させ、前記管状容器内に充填された前記
    液状樹脂を前記管状容器の吐出口から前記半導体チップ
    に対して押し出して前記液状樹脂の塗布を行って前記半
    導体チップを樹脂封止する工程とを有することを特徴と
    する半導体装置の製造方法。
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