JP3388152B2 - 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置 - Google Patents

接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置

Info

Publication number
JP3388152B2
JP3388152B2 JP25707297A JP25707297A JP3388152B2 JP 3388152 B2 JP3388152 B2 JP 3388152B2 JP 25707297 A JP25707297 A JP 25707297A JP 25707297 A JP25707297 A JP 25707297A JP 3388152 B2 JP3388152 B2 JP 3388152B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
thermosetting adhesive
nozzle
bare chip
semiconductor bare
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP25707297A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1197484A (ja
Inventor
健二 小八重
秀彦 吉良
則夫 海沼
直樹 石川
哲 江本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=17301364&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP3388152(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP25707297A priority Critical patent/JP3388152B2/ja
Publication of JPH1197484A publication Critical patent/JPH1197484A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3388152B2 publication Critical patent/JP3388152B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は接着剤塗布方法及び
接着剤塗布装置に係り、特に、半導体ベアチップを圧着
接合のフリップチップ方式で基板上に実装する場合に適
用される接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置に関する。
【0002】携帯型情報機器の小型化に伴い、半導体装
置の基板への実装については高密度化が求められてい
る。また地球環境問題を考慮することが求められてい
る。そこで、パケージングされていない状態の裸のチッ
プである半導体ベアチップを圧着接合のフリップチップ
方式で実装する技術が開発されつつある。ここで、説明
の便宜上、半導体ベアチップ10の構成及び半導体ベア
チップ10が実装されている半導体ベアチップ実装モジ
ュール30の構造について説明する。
【0003】図15(A)に示すように、半導体ベアチ
ップ10は、ウェハから切り出された半導体ベアチップ
本体11の下面11aのAl製の各電極12上にスタッ
ドバンプ13が形成されており、且つ、スタッドバンプ
13の頂部を覆うように導電性接着剤14が付着されて
いる構成である。スタッドバンプ13はAu製である。
導電性接着剤14は、エポキシ樹脂にAgフィラーが含
有されているものである。スタッドバンプ13及び導電
性接着剤14は鉛を有しない。
【0004】半導体ベアチップ10は、プリント基板2
0の半導体ベアチップ実装予定領域20aにエポキシの
熱硬化性接着剤が塗布されたプリント基板20に、加圧
すると共に加熱することによって、図15(B)に示す
ように、圧着接合のフリップチップ方式で実装される。
図15(B)は図15(A)の半導体ベアチップ10が
実装された半導体ベアチップ実装モジュール30を示
す。半導体ベアチップ10は、スタッドバンプ13がプ
リント基板20上の電極21に圧着し且つ導電性接着剤
14によって電極21と接着されて、且つ、半導体ベア
チップ本体11を熱硬化されたエポキシの熱硬化性接着
剤26によってプリント基板11に接着されて実装され
ている。熱硬化性接着剤26は、半導体ベアチップ本体
11とプリント基板21との間の隙間27内に存在して
おり熱硬化されているため、半導体ベアチップ本体11
の下面11a全面がプリント基板20に接着してあり、
且つ、熱硬化性接着剤が熱硬化して収縮することによっ
て半導体ベアチップ本体11の下面11a全面が力Fで
プリント基板20側に引き寄せられている。この力Fで
もって、スタッドバンプ13が電極21に圧着してお
り、各スタッドバンプ13が対応する電極21と電気的
に接続されている。26aは熱硬化性接着剤26のフィ
レットであり、半導体ベアチップ本体11の全周に形成
されている。
【0005】
【従来の技術】従来は、図16(A),(B)に示すよ
うに、シリンジ40の先端のノズル41から熱硬化性接
着剤を押し出して、プリント基板20の半導体ベアチッ
プ実装予定領域20aの中央部に符号42で示すように
所定量塗布し、この状態で、半導体ベアチップを加圧す
ると共に加熱して実装していた。具体的には、図17に
示すように、空気の吸引を利用した吸着ヘッド50を使
用して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接着剤42が
塗布されたプリント基板20上の所定の部位に位置合わ
せして搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着ヘッド50
より空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド50を上動さ
せて、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体ベアチップ
10から離し、半導体ベアチップ10が仮付けされてい
るプリント基板20を別の場所に移し、加圧部56及び
ヒータ57が組み込まれている加圧加熱ヘッド55を仮
付けされている半導体ベアチップ10に約100秒間押
しつけて加圧すると共に加熱することによって実装して
いた。
【0006】塗布された熱硬化性接着剤42の量は、上
記の実装する半導体ベアチップのサイズに対応した量で
あり、半導体ベアチップの下面の全体を接着し、半導体
ベアチップの周囲にはみ出して上記のフィレット26a
が形成されるに足る量である。熱硬化性接着剤の塗布
は、従来は、図16(A),(B)に示すように、シリ
ンジ40の上部に空気圧をかけてノズル41から熱硬化
性接着剤を押し出すと共に、シリンジ40を下降させて
ノズル41の先端をプリント基板20に近づけてノズル
41から押し出された熱硬化性接着剤をプリント基板2
0に接着させ、この後にシリンジ40を上昇させて熱硬
化性接着剤を延ばしてノズル41の先端で切ることによ
って行っていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ここで、シリンジ40
は25℃に温度制御されているけれどもノズル41の先
端は温度制御が困難であり、熱硬化性接着剤のうちノズ
ル41の先端の部分の熱硬化性接着剤の温度は放置され
ている時間が長くなると温度が室温にまで下がってしま
う。温度が下がると熱硬化性接着剤の粘度が上がって、
空気圧によってノズル41から押し出される熱硬化性接
着剤の量が減る傾向に有り、また、シリンジ40を上昇
させたときに熱硬化性接着剤が延びて切れる位置がばら
つき、結果として、プリント基板20に塗布された熱硬
化性接着剤の量がばらついてしまう。
【0008】現在、半導体ベアチップ内に形成される集
積回路の高密度化に伴い、半導体ベアチップのサイズが
従来の20mm□から数mm□に小さくなってきてお
り、これに伴って半導体ベアチップの厚さも従来の1〜
2mmから0.5mmに薄くなってきている。半導体ベ
アチップのサイズが小さくなったことによって、熱硬化
性接着剤の基準塗布量が少なくなり、塗布量について許
容されるばらつきの量も少なくなる。熱硬化性接着剤の
量が少ないと上記のフィレット26aが十分に形成され
なくなる。逆に、熱硬化性接着剤の量が多いと、図16
(C)に示すように、半導体ベアチップ10の外周の一
部において熱硬化性接着剤42が半導体ベアチップ10
から多くはみ出てその一部が半導体ベアチップ10の上
面に回り込んで符号43で示すように吸着ヘッド50に
付くことが起きる場合があった。半導体ベアチップ10
の上面に回り込んだ熱硬化性接着剤41が吸着ヘッド5
0に付くと、悪いことには、吸着ヘッド50が半導体ベ
アチップ10から離れるときに、半導体ベアチップ10
が吸着ヘッド50に引きずられて仮付けした位置がずれ
てしまい、スタッドバンプ13が電極21から外れて電
気的接続が不完全な状態で実装されてしまい、実装不良
を起こしてしまうおそれがあった。
【0009】そこで、本発明は、上記課題を解決した接
着剤塗布方法及び接着剤塗布装置を提供することを目的
とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、ノズルの先端部分に留まってい
る接着剤を除くために捨て打ちを行い、この後に、ノズ
ルから接着剤を出して被接着体接着予定領域に塗布する
ようにしたものである。捨て打ちを行うことによって続
いての接着剤の塗布の条件が同一の条件となり、最初の
塗布から接着剤の塗布量の精度が高くなる。
【0011】請求項2の発明は、ノズルの先端部分に留
まっている接着剤を除くために捨て打ちを行い、次い
で、ノズルから接着剤を出して試し塗布を行い、試し塗
布によって塗布された接着剤の量の計量を行い、その
後、ノズルから接着剤を出して被接着体接着予定領域内
に塗布するようにしたものである。捨て打ちを行うこと
は、試し塗布が実際の塗布と同じ条件でなされるように
する。試し塗布の結果が良い場合に実際の塗布を行うこ
とによって、実際に塗布される接着剤の塗布量の精度が
高くなるようになる。
【0012】
【0013】
【0014】求項の発明は、ノズルの先端部分に留
まっている接着剤を除くための捨て打ち用台を備えた構
成としたものである。捨て打ち用台は捨て打ちに便利で
ある。
【0015】請求項の発明は、ノズルの先端部分に留
まっている接着剤を除くための捨て打ち用台及び捨て打
ち後にノズルから接着剤を出して試し塗布を行うための
試し塗布用台を備えた構成としたものである。捨て打ち
用台は捨て打ちに便利である。試し塗布用台は試し塗布
に便利である。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例になる半
導体ベアチップ実装方法に適用される第1の熱硬化性接
着剤塗布装置60を示す。熱硬化性接着剤塗布装置60
は、大略、XYロボット61と、図2に示す接着剤塗布
ヘッド62と、Z方向駆動シリンダ63と、図3に示す
捨て打ち用台90と、図3に示す試し塗布用台91と、
図3に示す重量計測装置92と、図3に示すクリーニン
グ装置93と、制御回路70と、各駆動回路71〜74
とを有する。
【0017】XYロボット61は、Xアーム65と、Y
アーム66と、Yアーム66をXアーム65に沿って移
動させるX方向駆動シリンダ67と、Z方向駆動シリン
ダ63をYアーム66に沿って移動させるY方向駆動シ
リンダ68とよりなる。Z方向駆動シリンダ63がYア
ーム66に支持されており、図2に示すように、接着剤
塗布ヘッド62がZ方向駆動シリンダ63に支持されて
いる。
【0018】制御回路70からの制御信号によってX駆
動回路71及びY駆動回路72が動作されることによっ
て、X方向駆動シリンダ67及びY方向駆動シリンダ6
8が駆動されてXYロボット61が動作して、接着剤塗
布ヘッド62がXY方向に移動させられる。また、制御
回路70からの制御信号によってZ駆動回路73が動作
されることによって、Z方向駆動シリンダ63が動作し
て、接着剤塗布ヘッド62がZ方向に移動させられる。
【0019】接着剤塗布ヘッド62は、シリンジ支持機
構部80がZ方向駆動シリンダ63のロッド63aに固
定してあり、このシリンジ支持機構部80に熱硬化性接
着剤81が入っているシリンジ82が先端のノズル83
が下を向いた垂直の向きで取り付けてあり、シリンジ8
2の上端がチューブ84でもってディスペンサ85と接
続してある構成である。制御回路70からの制御信号に
よってディスペンサ駆動回路74が動作されることによ
って、ディスペンサ85が動作され、所定の圧力の圧縮
空気を所定のタイミングで所定の時間送り出し、熱硬化
性接着剤81をノズル83から押し出す。ノズル83の
断面は円形であり、外径が0.9mm、内径が0.5m
mである。
【0020】図3に示すように、試し塗布用台(ダミー
塗布台)91はコンベア88の傍であって熱硬化性接着
剤塗布位置の近くに配設してある。試し塗布用台91は
重量計測装置92上に設けてある。重量計測装置92は
天秤式のものであり、0.1mgの単位まで測定出来、
精度は高い。重量計測装置92が試し塗布用台91上に
試し塗布された熱硬化性接着剤の重量を測定する。
【0021】捨て打ち用台90は試し塗布用台91の傍
に設けてある。試し塗布用台91に関連して、この上面
に試し塗布された熱硬化性接着剤を取り除いて除去する
クリーニング装置93が設けてある。クリーニング装置
93は、布製のクリーニング用ベルト94がローラ9
5、96間に張られており、クリーニング動作時には、
ローラ95の回転によってベルト94が走行すると共に
X1方向に移動して、試し塗布用台91の上面に試し塗
布された熱硬化性接着剤が取り除かれてクリーニングさ
れる。
【0022】制御回路70はマイクロコンピュータで構
成されている。次に上記構成になる熱硬化性接着剤塗布
装置60の動作について、図8(A)乃至(C)を参照
して説明する。上面にフレキシブルプリント基板100
が固定してあるステンレス製基板101がコンベア88
によって移動されてきて、基板101が熱硬化性接着剤
塗布位置に固定されたことが確認されると、制御回路7
0がプログラムされている通りに動作し、XYロボット
61が動作してシリンジ82が所定の位置に移動され、
の先端のノズル83を最初に熱硬化性接着剤塗布位置に
移動され、また、シリンジ82の上部に圧縮空気を送り
込むディスペンサ85が所定のタイミングで動作され
る。
【0023】先ず、捨て打ち工程110を行う。ここで
は、図8(B)に示すように、ノズル83が、捨て打ち
用台90上に移動し、ディスペンサ85が動作して、ノ
ズル83の先端部にあって粘度が高めの熱硬化性接着剤
がノズル83から押し出されて、捨て打ち用台90上に
捨て打ちされる。120は捨て打ちされた熱硬化性接着
剤である。ディスペンサ85の動作時間はフレキシブル
プリント基板100上に熱硬化性接着剤を塗布するとき
の動作時間と同じである必要はなく、粘度が高めの熱硬
化性接着剤を十分に押し出すためには、上記の時間より
長い方がよい。
【0024】この捨て打ちによってノズル83の先端部
分に留まっている粘度が高めの熱硬化性接着剤がノズル
83の先端部分から取り除かれこの代わりに正常の粘度
を有する熱硬化性接着剤がノズル83の先端部分に送り
込まれ、これによって所望の熱硬化性接着剤塗布条件を
満たすようになる。換言すれば、以後同じ条件で熱硬化
性接着剤を塗布出来るようになる。
【0025】次に、試し塗布工程111を行う。ここで
は、図4(B)に示すように、ノズル83が、試し塗布
台90上に移動し、ディスペンサ85が圧縮空気供給時
間及び圧縮空気の圧力等に関してフレキシブルプリント
基板100上に熱硬化性接着剤を塗布するときと同じ条
件で動作し、熱硬化性接着剤がノズル83から押し出さ
れて、試し塗布台90上に試し塗布される。121は試
し塗布された熱硬化性接着剤である。
【0026】次に、接着剤重量計測工程112を行う。
ここでは、重量計測装置92が、試し塗布台90上に試
し塗布された熱硬化性接着剤121の重量を計測する。
次に、必要に応じて補正工程113を行う。重量計測装
置92による重量計測の結果が所定の重量の範囲(フレ
キシブルプリント基板100上に塗布される予定の熱硬
化性接着剤の重量(例えば2.6mg)±許容範囲)か
ら外れている場合には、この結果をフィードバックして
ディスペンサ85からの圧縮空気供給時間及び圧縮空気
の圧力等を適宜調整し、再度試し塗布台90上に試し塗
布を行って重量計測を行う。この動作を重量計測装置9
2による重量計測の結果が上記の所定の重量の範囲内に
入っていることを確認するまで行う。
【0027】重量計測装置92による重量計測の結果が
上記の所定の重量の範囲内に入っている場合には、上記
の補正工程113は行わない。この後に、塗布工程11
4を行う。ここでは、図4(D)に示すように、ノズル
83が、ステンレス製基板101上のフレキシブルプリ
ント基板100上に移動し、ディスペンサ85が上記の
調整された時間及び圧力で圧縮空気を供給し、熱硬化性
接着剤がノズル83から押し出されて、フレキシブルプ
リント基板100上の被接着体接着予定領域としての半
導体ベアチップ実装予定領域に塗布される。122は塗
布された熱硬化性接着剤である。
【0028】上記のように、粘度が高めの熱硬化性接着
剤が捨て打ちによって除かれており、且つ、ディスペン
サ85が上記の調整された時間及び圧力で圧縮空気を供
給するため、熱硬化性接着剤122の量(重量)は、シ
リンジ82内の熱硬化性接着剤の残量、温度等の影響を
受けないで、所定の値となり、精度良く定まる。なお、
フレキシブルプリント基板100の一の半導体ベアチッ
プ実装領域100a内の2箇所に熱硬化性接着剤を塗布
する場合には、1回の塗布量は上記の半分となり、上記
の2.6mgは1.3mgとなる。
【0029】なお、フレキシブルプリント基板100上
に複数回の塗布を行っている間におけるシリンジ82内
の熱硬化性接着剤の残量、温度等の変化は殆ど無いた
め、同じステンレス製基板101上の複数の塗布につい
ては、いちいちディスペンサ85の条件を調整すること
なく、最初のディスペンサ85の条件で塗布を行なって
も問題はない。
【0030】被接着体としての半導体ベアチップ10
は、図5に示すように接着されて実装される。即ち、フ
レキシブルプリント基板100上に熱硬化性接着剤12
2を上記のように量を精度良く定めて塗布し、この後、
必要に応じて平坦化し、空気の吸引を利用した吸着ヘッ
ド50を使用して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接
着剤42が塗布されたプリント基板20上の所定の部位
に位置合わせして搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着
ヘッド50より空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド5
0を上動させて、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体
ベアチップ10から離し、次いで、半導体ベアチップ1
0が仮付けされているプリント基板20を別の場所に移
し、加圧部56及びヒータ57が組み込まれている加圧
加熱ヘッド55を仮付けされている半導体ベアチップ1
0に約100秒間押しつけて加圧すると共に加熱するこ
とによって実装される。
【0031】熱硬化性接着剤122の量が精度良く定ま
っているため、仮付けのときの熱硬化性接着剤の半導体
ベアチップ10の外周へのはみ出しは半導体ベアチップ
10の外周の全周に亘って均一に起こり、熱硬化された
熱硬化性接着剤のフィレット(図8(B)参照)は半導
体ベアチップ10の外周の全周に亘って均一に形成さ
れ、半導体ベアチップ10は正常に実装される。熱硬化
性接着剤が不足となって接着不良となったり、逆に、熱
硬化性接着剤が過剰なために、熱硬化性接着剤が多くは
み出すようなことは起きない。よって、はみ出た熱硬化
性接着剤が図9(C)に示すように半導体ベアチップ1
0の上面に回り込んで吸着ヘッド50に付いてしまうこ
とが起きない。よって、吸着ヘッド50が半導体ベアチ
ップ10から円滑に離れ、半導体ベアチップ10の仮付
けした位置がずれることが起きない。即ち、半導体ベア
チップ10は位置精度良く仮付けされる。よって、仮付
け時の位置ずれが原因で、スタッドバンプ13が電極2
1から外れて電気的接続が不完全となってしまう不良の
発生は無くなり、半導体ベアチップ実装モジュールを従
来に比べて歩留り良く製造出来、且つ、製造した半導体
ベアチップ実装モジュールの信頼性を向上させることが
出来る。
【0032】次に本発明の一実施例になる半導体ベアチ
ップ実装方法に適用される第2の熱硬化性接着剤塗布装
置60Aについて説明する。熱硬化性接着剤塗布装置6
0Aは、図6に示すように、上記の第1の熱硬化性接着
剤塗布装置60から試し塗布用台91と重量計測装置9
2とクリーニング装置93とが除かれており、図7に示
すように、捨て打ち用台90がコンベア88の傍であっ
て熱硬化性接着剤塗布位置の近くに配設してある構成を
有する。
【0033】次に上記構成になる熱硬化性接着剤塗布装
置60の動作について、図8(A)乃至(C)を参照し
て説明する。上面にフレキシブルプリント基板100が
固定してあるステンレス製基板101がコンベア88に
よって移動されてきて、基板101が熱硬化性接着剤塗
布位置に固定されたことが確認されると、制御回路70
がプログラムされている通りに動作し、XYロボット6
1が動作してシリンジ82が所定の位置に移動され、の
先端のノズル83を最初に熱硬化性接着剤塗布位置に移
動され、また、シリンジ82の上部に圧縮空気を送り込
むディスペンサ85が所定のタイミングで動作される。
【0034】先ず、捨て打ち工程110を行う。ここで
は、図8(B)に示すように、ノズル83が、捨て打ち
用台90上に移動し、ディスペンサ85が動作して、ノ
ズル83の先端部にあって粘度が高めの熱硬化性接着剤
がノズル83から押し出されて、捨て打ち用台90上に
捨て打ちされる。120は捨て打ちされた熱硬化性接着
剤である。この捨て打ちによってノズル83の先端部分
に留まっている粘度が高めの熱硬化性接着剤がノズル8
3の先端部分から取り除かれこの代わりに正常の粘度を
有する熱硬化性接着剤がノズル83の先端部分に送り込
まれ、これによって所望の熱硬化性接着剤塗布条件を満
たすようになる。換言すれば、以後同じ条件で熱硬化性
接着剤を塗布出来るようになる。
【0035】この後に、塗布工程114Aを行う。ここ
では、図8(C)に示すように、ノズル83が、ステン
レス製基板101上のフレキシブルプリント基板100
上に移動し、ディスペンサ85が所定の時間及び圧力で
圧縮空気を供給し、熱硬化性接着剤がノズル83から押
し出されて、フレキシブルプリント基板100上に塗布
される。122Aは試し塗布された熱硬化性接着剤であ
る。
【0036】上記のように、粘度が高めの熱硬化性接着
剤が捨て打ちによって除かれているため、熱硬化性接着
剤122Aの量(重量)は、ノズル83の先端部分の粘
度が高めの熱硬化性接着剤による影響を受けないで、所
定の値となり、精度良く定まる。次に本発明の一実施例
になる半導体ベアチップ実装方法に適用される第3の熱
硬化性接着剤塗布装置60Bについて説明する。
【0037】熱硬化性接着剤塗布装置60Bは、図9に
示すように、上記の図6の第2の熱硬化性接着剤塗布装
置60Aから捨て打ち用台90が除かれており、図10
(A),(B)に示すヒータ付きステージ装置130が
コンベア88の下側の位置に設けてある構成を有する。
ヒータ付きステージ装置130は、上面に凸の2つのス
テージ部131a及び131bを有するステージ本体1
31と、ステージ本体131に組み込まれている2つの
ヒータ132、133とよりなる。ステージ部131a
及び131bは、フレキシブルプリント基板100が固
定してあるステンレス製基板101が移動して来て停止
したときに、フレキシブルプリント基板100の被接着
体接着予定領域としての半導体ベアチップ実装予定領域
100aに対向する位置に配してある。ヒータ132、
133はステージ部131a及び131bの真下に位置
している。ステージ本体131には熱電対134が組み
込まれている。電源135よりの電力が、熱電対134
が接続されている制御装置136を経てヒータ132、
133に加えられてヒータ132、133が発熱してお
り、ステージ本体131のステージ部131a及び13
1bが50〜60℃に加熱されている。50〜60℃
は、熱硬化性接着剤の粘度が相当に低下する温度であ
る。
【0038】次に上記構成になる熱硬化性接着剤塗布装
置60Bの動作について、図11及び図12(A)乃至
(D)を参照して説明する。上面にフレキシブルプリン
ト基板100が固定してあるステンレス製基板101が
コンベア88によって移動されてきて、基板101が熱
硬化性接着剤塗布位置に固定されたことが確認される
と、制御回路70がプログラムされている通りに動作
し、XYロボット61が動作してシリンジ82が移動さ
れ、且つ、シリンジ82の上部に圧縮空気を送り込むデ
ィスペンサ85が所定のタイミングで動作される。
【0039】なお、上面にフレキシブルプリント基板1
00が固定してあるステンレス製基板101は、図12
(A)に示すように、ヒータ付きステージ装置130上
に載ってフレキシブルプリント基板100の半導体ベア
チップ実装予定領域100aがステージ部131a、1
31bの真上に位置する状態となって熱硬化性接着剤塗
布位置に固定される。よって、ステージ部131a、1
31bによってステンレス製基板101が加熱されフレ
キシブルプリント基板100の半導体ベアチップ実装予
定領域100aが50〜60℃に加熱さる。
【0040】先ず、熱硬化性接着剤玉形成工程140を
行う。ここでは、図12(A)に示すように、ノズル8
3が熱硬化性接着剤塗布位置の上方の位置に移動され、
ディスペンサ85が動作して、塗布すべき量の熱硬化性
接着剤をノズル83の先端から押し出す。熱硬化性接着
剤の温度は25℃であり粘度が高いため、ノズル83の
先端に熱硬化性接着剤の玉150が形成される。熱硬化
性接着剤の玉150の容積は、精度良く決まり、フレキ
シブルプリント基板100上に塗布すべき量である。
【0041】次に下降工程141を行う。ここでは、図
12(B)に示すように、ノズル83が、その下端の熱
硬化性接着剤の玉150がフレキシブルプリント基板1
00の半導体ベアチップ実装予定領域100aに接触す
る位置まで下降させ、ノズル83をこの位置に留める。
熱硬化性接着剤の玉150がフレキシブルプリント基板
100の半導体ベアチップ実装予定領域100aに接触
すると熱硬化性接着剤の玉150がフレキシブルプリン
ト基板100(ステンレス製基板101)の熱によって
50〜60℃に加熱され、熱硬化性接着剤の粘度が低下
する。これによって、図12(C),(D)に示すよう
に、玉150を形成している熱硬化性接着剤がフレキシ
ブルプリント基板100上に拡がり、ノズル83の先端
の位置でノズル83との接続が切れる。151は拡がっ
て塗布された熱硬化性接着剤である。
【0042】次に上昇工程142を行う。ここでは、図
12(E)に示すように、ノズル83が上昇される。上
記のように熱硬化性接着剤のノズル83に対する切れが
良く、ノズル83に熱硬化性接着剤の付着残りが無く、
玉150を形成している全部の熱硬化性接着剤がフレキ
シブルプリント基板100上に塗布され、塗布量は精度
良く定まる。
【0043】次に本発明の一実施例になる半導体ベアチ
ップ実装方法に適用される第4の熱硬化性接着剤塗布装
置60Cについて説明する。熱硬化性接着剤塗布装置6
0Bは、図13に示すように、上記の図9の第3の熱硬
化性接着剤塗布装置60Aから捨て打ち用台90が除か
れており、CCDカメラ160が熱硬化性接着剤塗布位
置の上方の位置に設けてある構成を有する。CCDカメ
ラ160は後述するように熱硬化性接着剤が平坦化され
て塗布された部分の面積を測定する。
【0044】次に上記構成になる熱硬化性接着剤塗布装
置60Cの動作について、図14(A)乃至(E)を参
照して説明する。上面にフレキシブルプリント基板10
0が固定してあるステンレス製基板101がコンベア8
8によって移動されてきて、基板101が熱硬化性接着
剤塗布位置に固定されたことが確認されると、制御回路
70がプログラムされている通りに動作し、XYロボッ
ト61が動作してシリンジ82が移動され、且つ、シリ
ンジ82の上部に圧縮空気を送り込むディスペンサ85
が所定のタイミングで動作される。
【0045】先ず、一点目塗布工程170を行う。ここ
では、図14(B)に示すように、ノズル83がフレキ
シブルプリント基板100の半導体ベアチップ実装予定
領域100a内のうちY1方向端寄りの第1の個所P1
に下降し、ディスペンサ85が動作して、第1の個所P
1に熱硬化性接着剤180を山状に塗布する。次に、二
点目塗布工程171を行う。ここでは、図14(C)に
示すように、ノズル83がフレキシブルプリント基板1
00の半導体ベアチップ実装予定領域100a内のうち
Y2方向端寄りの第2の個所P2に下降し、ディスペン
サ85が動作して、第2の個所P2に熱硬化性接着剤1
81を山状に塗布する。
【0046】次に、引き延ばし工程172を行う。ここ
では、図14(D)に示すように、ノズル83が、低い
高さのままP2−P1間を往復移動し、熱硬化性接着剤
180、181を引き延ばしてならして、平坦化する。
182は引き延ばしてならされて平坦化された熱硬化性
接着剤である。次に、計測工程173を行う。ここで
は、図14(E)に示すように、CCDカメラ160が
引き延ばしてならされて平坦化された熱硬化性接着剤1
82を撮像し、撮像した画像を処理して熱硬化性接着剤
182の面積を計測する。
【0047】計測した値が、所定の範囲(実装に必要な
熱硬化性接着剤の量を拡げた場合の面積)内にある場合
には、半導体ベアチップの実装を行う。計測した値が、
所定の範囲より外れている場合には、半導体ベアチップ
の実装を行わないようにすると共に、補正工程174を
行う。ここでは、計測の結果をフィードバックしてディ
スペンサ85からの圧縮空気供給時間及び圧縮空気の圧
力等を適宜調整する。
【0048】計測した値が所定の範囲より外れている場
合には半導体ベアチップの実装を行わないため、実装不
良が発生しにくい。ここで、塗布された熱硬化性接着剤
を引き延ばすことによって、塗布された接着剤の量のバ
ラツキがより顕著に現れる。よって、塗布された接着剤
の量が適当か否かの判断はし易い。
【0049】なお、上記各実施例において、塗布された
接着剤を利用して接着されるものは上記の半導体ベアチ
ップ10に限らず、バンプを有していない半導体ベアチ
ップでもよく、また、樹脂封止された半導体部品でもよ
い。半導体ベアチップ及び樹脂封止された半導体部品を
総称して半導体部品という。また、塗布される接着剤
は、熱硬化性のものに限らない。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、ノズルの先端部分に留まっている接着剤を除く
ために捨て打ちを行い、この後に、ノズルから接着剤を
出して被接着体接着予定領域に塗布するようにしたもの
であるため、捨て打ちを行うことによって続いての接着
剤の塗布の条件が正常(同一)の条件となって、最初の
塗布から接着剤の塗布量の精度を高くすることが出来、
接着剤の被接着体の外周へのはみ出しが外周の全周に亘
って均一に起こるようにすることが出来、被接着体の裏
面のうち接着剤が行き渡らない部分ができたり、接着剤
が被接着体の上面に回り込んだりする不都合の発生を防
止出来る。
【0051】請求項2の発明は、ノズルの先端部分に留
まっている接着剤を除くために捨て打ちを行い、次い
で、ノズルから接着剤を出して試し塗布を行い、試し塗
布によって塗布された接着剤の量の計量を行い、その
後、ノズルから接着剤を出して被接着体接着予定領域内
に塗布するようにしたものであるため、捨て打ちを行う
ことによって、試し塗布が実際の塗布と同じ条件でなさ
れるように出来、その後に実際の塗布を行うことによっ
て、実際に塗布される接着剤の塗布量の精度を高く出来
る。これによって、被接着体を信頼性高く接着出来る。
【0052】
【0053】
【0054】請求項の発明は、ノズルの先端部分に留
まっている接着剤を除くための捨て打ち用台を備えた構
成としたものであるため、捨て打ちを容易に行うことが
出来る。請求項の発明は、ノズルの先端部分に留まっ
ている接着剤を除くための捨て打ち用台及び捨て打ち後
にノズルから接着剤を出して試し塗布を行うための試し
塗布用台を備えた構成としたものであるため、捨て打ち
及び試し塗布を容易に行うことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される第1の熱硬化性接着剤塗布装置を示す
図である。
【図2】図1中の接着剤塗布ヘッドを示す図である。
【図3】図1中、捨て打ち用台、試し塗布用台、重量計
測装置、クリーニング装置を取り出して示す図である。
【図4】図1の熱硬化性接着剤塗布装置の動作を説明す
る図である。
【図5】本発明の一実施例の半導体ベアチップ実装方法
を示す図である。
【図6】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される第2の熱硬化性接着剤塗布装置を示す
図である。
【図7】図6中、捨て打ち用台を取り出して示す図であ
る。
【図8】図6の熱硬化性接着剤塗布装置の動作を説明す
る図である。
【図9】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される第3の熱硬化性接着剤塗布装置を示す
図である。
【図10】図9中、ヒータ付きステージ装置を示す図で
ある。
【図11】図9の熱硬化性接着剤塗布装置の動作の工程
図である。
【図12】図9の熱硬化性接着剤塗布装置の動作を示す
図である。
【図13】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実
装方法に適用される第4の熱硬化性接着剤塗布装置を示
す図である。
【図14】図13の熱硬化性接着剤塗布装置の動作を説
明する図である。
【図15】半導体ベアチップ及び半導体ベアチップ実装
モジュールを示す図である。
【図16】従来の熱硬化性接着剤の塗布を示す図であ
る。
【図17】従来の半導体ベアチップ実装方法を示す図で
ある。
【符号の説明】
10 半導体ベアチップ 13 スタッドバンプ 20 プリント基板 21 電極 30 半導体ベアチップ実装モジュール 50 吸着ヘッド 55 加圧加熱ヘッド 60,60A,60B,60C,60D 熱硬化性接着
剤塗布装置 61 XYロボット 62,62A 接着剤塗布ヘッド 70,70A 制御回路 71〜75 駆動回路 82 シリンジ 83、83A ノズル 85 ディスペンサ 90 捨て打ち用台 91 試し塗布用台 92 重量計測装置 93 クリーニング装置 110 捨て打ち工程 111 試し塗布工程 112 接着剤重量計測工程 113 補正工程 114 塗布工程 120 捨て打ちされた熱硬化性接着剤 121 試し塗布された熱硬化性接着剤 122 塗布された熱硬化性接着剤 130 ヒータ付きステージ装置 140 熱硬化性接着剤玉形成工程 141 下降工程 142 上昇工程 150 熱硬化性接着剤の玉 151 拡がって塗布された熱硬化性接着剤 160 CCDカメラ 170 一点目塗布工程 171 二点目塗布工程 172 引き延ばし工程 173 計測工程 174 補正工程 182 引き延ばしてならされて平坦化された熱硬化性
接着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 直樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 江本 哲 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−31853(JP,A) 特開 昭62−23125(JP,A) 特開 昭62−194632(JP,A) 実開 昭57−191045(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 311 B05C 5/00 101 B05D 1/26 B05D 7/24 301 H01L 21/52

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ノズルの先端部分に留まっている接着剤
    を除くために捨て打ちを行い、 この後に、ノズルから接着剤を出して被接着体接着予定
    領域に塗布するようにしたことを特徴とする接着剤塗布
    方法。
  2. 【請求項2】 ノズルの先端部分に留まっている接着剤
    を除くために捨て打ちを行い、 次いで、ノズルから接着剤を出して試し塗布を行い、 試し塗布によって塗布された接着剤の量の計量を行い、
    その後、ノズルから接着剤を出して被接着体接着予定領
    域内に塗布するようにしたことを特徴とする接着剤塗布
    方法。
  3. 【請求項3】 ノズルの先端部分に留まっている接着剤
    を除くための捨て打ち用台を備えた構成としたことを特
    徴とする接着剤塗布装置。
  4. 【請求項4】 ノズルの先端部分に留まっている接着剤
    を除くための捨て打ち用台及び捨て打ち後にノズルから
    接着剤を出して試し塗布を行うための試し塗布用台を備
    えた構成としたことを特徴とする接着剤塗布装置。
JP25707297A 1997-09-22 1997-09-22 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置 Ceased JP3388152B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25707297A JP3388152B2 (ja) 1997-09-22 1997-09-22 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25707297A JP3388152B2 (ja) 1997-09-22 1997-09-22 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1197484A JPH1197484A (ja) 1999-04-09
JP3388152B2 true JP3388152B2 (ja) 2003-03-17

Family

ID=17301364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25707297A Ceased JP3388152B2 (ja) 1997-09-22 1997-09-22 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3388152B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050001869A1 (en) * 2003-05-23 2005-01-06 Nordson Corporation Viscous material noncontact jetting system
JP4728201B2 (ja) * 2006-10-03 2011-07-20 パナソニック株式会社 部品実装機および部品実装方法
JP5535561B2 (ja) * 2009-09-15 2014-07-02 日本発條株式会社 接着剤塗布装置
WO2014064796A1 (ja) * 2012-10-25 2014-05-01 富士機械製造株式会社 印刷装置
SG11201910020VA (en) 2017-05-25 2019-11-28 Musashi Engineering Inc Liquid material coating device and liquid material coating method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1197484A (ja) 1999-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6172422B1 (en) Semiconductor device and a manufacturing method thereof
EP0954208A1 (en) Method and device for mounting electronic component on circuit board
US9609760B2 (en) Electronic component mounting method
KR100203603B1 (ko) 칩 크기의 패키지형 반도체 장치의 제조 방법
JP5719999B2 (ja) 電子部品実装方法、電子部品搭載装置および電子部品実装システム
US6537400B1 (en) Automated method of attaching flip chip devices to a substrate
JP2002096013A (ja) 樹脂塗布方法
JP3388152B2 (ja) 接着剤塗布方法及び接着剤塗布装置
JP3416032B2 (ja) 接着剤塗布方法、接着剤塗布装置、及び半導体部品実装方法
JP3540901B2 (ja) 電極へのフラックス転写方法及びバンプの製造方法
JP4780858B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH08107123A (ja) 半導体集積回路装置の製造方法、その製造装置および半導体集積回路装置
JP2004273541A (ja) 樹脂塗布装置、アンダーフィル材の充填方法、半導体チップの実装方法、半導体実装基板および電子機器
KR100529746B1 (ko) 제어된 양의 융제를 패키지에 도포하는 브러시 플럭싱 자동화 시스템
JPH11135572A (ja) 電子部品搭載装置
KR100459602B1 (ko) 범프본더
JP3270813B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
JPH1167825A (ja) 半導体チップ実装方法及び実装装置
US20060108399A1 (en) Method of manufacturing semiconductor apparatus and method of forming viscous liquid layer
JPH0350736A (ja) 半導体チップのバンプ製造方法
JPH10223687A (ja) フリップチップ実装モジュール及び製造方法、製造装置
JPH01143291A (ja) 電子部品の導電性ペースト塗布装置
JP3279192B2 (ja) 導電性ボールのボンディング用粘液の塗布装置
JPH11186325A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2770361B2 (ja) ダイボンディング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20021224

RVOP Cancellation by post-grant opposition