JP2000114218A - ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オーバーフロー状態の洗浄液から洗浄槽の底
面を上昇させてウエハを露出させる場合、ウエハの振動
による摩擦でパーティクルが発生する。 【解決手段】 ウエハＷが収納される洗浄槽２と、洗浄
槽２に接続された洗浄液供給管３とを備えたウエハ洗浄
装置１において、洗浄槽２の周壁２１は、洗浄槽２内に
収納されたウエハＷの上端よりも高い位置からウエハＷ
の下短よりも低い位置に掛けてその上縁が移動する範囲
で上下動自在に構成されていることを特徴としている。
そして、洗浄槽２の周壁２１を下降させた状態で、ウエ
ハＷを洗浄槽２の底面上に載置する。洗浄槽２の周壁２
１を上昇させると共に洗浄槽２内に洗浄液Ｌを供給し、
ウエハＷを洗浄液Ｌ中に侵漬する。洗浄槽２の周壁２１
を下降させることで、洗浄槽２の周壁２１上方から洗浄
液Ｌをオーバーフロー排液すると共に、ウエハＷを洗浄
液Ｌの液面から露出させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ洗浄装置及
びウエハ洗浄方法に関し、特には半導体装置の製造工程
において洗浄液中にウエハを侵漬して洗浄するためのウ
エハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程でウエハを侵漬洗
浄する場合には、洗浄槽内の洗浄液を排液した状態でこ
の洗浄槽内へのウエハの出し入れを行っている。そし
て、この洗浄が純水リンスである場合には、ウエハの洗
浄が終了した後に排液管から洗浄液（純水）を排液する
ことによって洗浄液の水面を低下させながら、洗浄液の
上方にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気または
ＩＰＡのミストを供給することで、ウエハを乾燥させて
いる。

【０００３】ところが、上記ウエハ洗浄では、洗浄液中
からウエハを露出させる際には、当該洗浄液がオーバー
フローしないために、洗浄液の液面に浮かんでいるパー
ティクルがウエハの表面に付着すると言った問題が発生
する。さらに、この方法においては、洗浄槽内にウエハ
を出し入れする際、ウエハと共に搬送機構のアームが洗
浄槽内に挿入されるため、洗浄槽が大型化する。したが
って、ただ単に洗浄液の使用量が増加するだけではな
く、洗浄槽内における洗浄液の供給速度が低下して洗浄
効果（例えば洗浄液に純水を用いた場合のリンス洗浄の
効果）が落ちるため、洗浄時間が長引いてさらに多量の
洗浄液が必要となる。この結果、洗浄コストが高くなる
と共に、装置の専有面積が大きくなるという問題があ
る。

【０００４】そこで、洗浄槽内におけるウエハ載置面を
上下動自在に構成したウエハ洗浄装置が提案された。こ
のウエハ洗浄装置を用いたウエハ洗浄では、上記ウエハ
載置面を上昇させることで、洗浄液の液面からウエハを
徐々に露出させる。この際、洗浄槽内の洗浄液をオーバ
ーフローさせながら、洗浄液の上方にＩＰＡの蒸気また
はミストを供給しても良い。上記洗浄装置を用いた洗浄
方法によれば、洗浄液表面のパーティクルはオーバーフ
ローされる洗浄液と共に除去されるため、この洗浄液か
ら引き上げられるウエハの表面に上記パーティクルが付
着することはない。また、オーバーフロー状態の洗浄液
から露出させたウエハ表面はＩＰＡに晒されるため、マ
ランゴニ効果によってウエハ表面の乾燥効率を向上させ
ることができる。しかも、ウエハ載置面を持ち上げるこ
とによって、洗浄槽からウエハを露出させることができ
るため、洗浄槽内に搬送機構のアームを挿入せずにウエ
ハの出し入れが行え、洗浄槽を小型化できる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記ウエハ洗
浄装置及びウエハ洗浄方法には、以下のような課題があ
る。すなわち、上記ウエハ洗浄装置及び洗浄方法では、
洗浄槽内においてウエハを上下に移動させているため、
振動によってウエハとウエハ保持具との間で摩擦が生
じ、パーティクルが発生する。これは、ウエハを汚染す
る要因になる。

【０００６】そこで、本発明は、ウエハを移動すること
なく、洗浄液をオーバーフローさせた状態の洗浄槽に対
してウエハを出し入れ可能なウエハ洗浄装置及びウエハ
洗浄方法を提供し、洗浄工程においてウエハ表面の清浄
度を確保することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のウエハ洗浄装置は、ウエハが収納される洗浄
槽と、当該洗浄槽に接続された洗浄液供給管とを備えた
ウエハ洗浄装置において、洗浄槽の周壁が上下動自在に
構成されている。そして特に、上下動の範囲は、洗浄槽
内に収納されたウエハの上端よりも高い位置から当該ウ
エハの上端よりも低い位置に掛けてこの周壁の上縁が移
動する範囲であることを特徴としている。

【０００８】上記構成のウエハ洗浄装置では、洗浄槽の
周壁が上下動自在であることから、ウエハを移動させる
ことなく、ウエハに対する洗浄槽の上縁の高さ位置が調
整される。このため、洗浄液をオーバーフローさせた状
態の洗浄槽に対して、ウエハを移動することなく当該ウ
エハの出し入れが行われる。この結果、洗浄液がオーバ
ーフロー状態にある洗浄槽に対してウエハを出し入れす
る際、ウエハの振動によって摩擦が引き起こされること
はない。

【０００９】そして特に、洗浄槽の上縁が移動する範囲
のうちの前記ウエハの上端よりも低い位置を、当該ウエ
ハの下端よりも低くした場合には、ウエハを移動させる
ことなく、洗浄槽及びこの洗浄槽内の洗浄液から当該ウ
エハ全体が取り出される。

【００１０】また、上記構成のウエハ洗浄装置は、上記
洗浄槽を覆う乾燥チャンバと、この乾燥チャンバに接続
されたガス供給管とを備えたものであっても良い。この
ような構成にすることで、オーバーフローさせた状態の
洗浄液の液面から露出されるウエハが、上記ガス供給管
から乾燥チャンバ内に供給された所定のガス雰囲気に晒
される。

【００１１】また、本発明のウエハ洗浄方法は、先ず、
洗浄槽の周壁のを下降させた状態で、ウエハを当該洗浄
槽の底面上に載置する。次に、この洗浄槽の周壁を上昇
させると共に、この洗浄槽内に洗浄液を供給し、上記ウ
エハをこの洗浄液中に侵漬する。次いで、上記洗浄槽の
周壁を下降させることで、当該洗浄槽の周壁上方から上
記洗浄液をオーバーフロー排液すると共に、上記ウエハ
をこの洗浄液の液面から露出させる。しかる後、このウ
エハを上記洗浄槽から取り出す。

【００１２】上記ウエハ洗浄方法では、洗浄槽の底面上
にウエハを載置した後に当該洗浄槽の周壁を上昇させる
ことで、ウエハを移動させることなく当該洗浄槽内にウ
エハが収納される。また、洗浄槽の周壁を下降させるこ
とで、ウエハを移動させることなく洗浄槽内からウエハ
が取り出される。この際、ウエハが侵漬される状態に洗
浄液が満たされた洗浄槽の周壁を下降させることで、当
該洗浄槽の周壁上方から洗浄液がオーバーフロー排液さ
れるので、ウエハを移動させることなく、オーバーフロ
ー状態の洗浄液からウエハが露出される。したがって、
ウエハを移動させることなく、オーバーフロー状態の洗
浄液からウエハが露出されると共に、ウエハを移動させ
ることなく洗浄槽内へのウエハの収納及び取り出しが行
われる。

【００１３】そして特に、洗浄液の液面から露出させた
ウエハに、ＩＰＡの蒸気またはＩＰＡのミストを含むガ
スを供給することで、オーバーフローさせた洗浄液の液
面から露出されるウエハ表面がＩＰＡの蒸気またはＩＰ
Ａミストに晒される。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明のウエハ洗浄装置及
びウエハ洗浄方法の実施の形態を図面に基づいて説明す
る。

【００１５】（第１実施形態）図１（１）は、本発明の
ウエハ洗浄装置の第１実施形態を示す平面図であり、図
１（２）は図１（１）のＡ−Ａ’部の断面図である。こ
れら図に示すウエハ洗浄装置１は、洗浄槽２、洗浄槽２
に接続された洗浄液供給管３、洗浄槽２を覆う状態に設
けられた乾燥チャンバ４及び乾燥チャンバ４に接続され
た排液管５で構成されている。

【００１６】上記洗浄槽２は、洗浄槽２内の水密性を確
保した状態で上下動自在な周壁２１を備えている。ま
た、洗浄槽２の底部には、上記洗浄液供給管３が接続さ
れている。そして、洗浄槽２の底面上には整流板２２が
設けられており、この整流板２２上にはウエハＷを立設
させた状態で保持するためのウエハ保持具２３が設けら
れている。これによって、整流板２２で整流された洗浄
液Ｌがウエハ保持具２３上に保持されたウエハＷに供給
されるように構成されているのである。

【００１７】ここで、上記周壁２１の上下動の範囲は、
ウエハ保持具２３に保持された状態で洗浄槽２内に収納
されたウエハＷの上端よりも高い位置から、このウエハ
Ｗの下端よりも低い位置の間で洗浄槽２の上縁がこの範
囲で移動自在であることとする。また、洗浄槽２の上縁
は、水平に限定されることはなく、例えばのこぎり歯の
ようにカットされた形状であっても良い。

【００１８】図１におけるＢ部、すなわち周壁２１の拡
大図を図２に示した。図２（１）に示すように、この周
壁２１は、その対向する内壁面に、ウエハ保持具２３に
立設させたウエハＷの両側周が挿入される溝が形成され
たものであっても良い。周壁２１の内周面をこのような
構成にした場合には、図２（２）に示す平坦な内壁面を
有する周壁２１を用いた場合と比較して、洗浄槽２内に
おけるウエハＷの固定を確実にすることができると共
に、洗浄槽２を小型化することができる。

【００１９】さらに、図１に示したように、上記乾燥チ
ャンバ４は、洗浄槽２を覆う状態、すなわち洗浄槽２を
収納するように設けられている。この乾燥チャンバ４の
底面は、洗浄槽２の周壁２１を最も低い位置に移動させ
た状態において、この洗浄槽２の上縁よりも十分低い位
置に設けられている。

【００２０】そして、この乾燥チャンバ４の底面に、上
記排液管５が接続されている。これによって、周壁２１
が最も低い位置にある洗浄槽２からオーバーフローされ
た洗浄液Ｌであっても、洗浄槽２内に逆流することなく
排液管５から排液されるように構成されているのであ
る。尚、この排液管５に、循環ポンプ、フィルタ及び温
度調節器を介して洗浄液供給管３に接続させることで、
洗浄液Ｌを廃液することなく循環利用させることが可能
になる。

【００２１】上記構成のウエハ洗浄装置１によれば、洗
浄槽２の周壁２１が上下動自在であることから、ウエハ
Ｗを移動させることなく、ウエハＷに対する洗浄槽２の
上縁の高さ位置が調整される。このため、洗浄液Ｌをオ
ーバーフローさせた状態の洗浄槽２に対して、ウエハＷ
を移動することなく当該ウエハＷの出し入れが行われ
る。この結果、洗浄槽２に対してウエハＷを出し入れす
る際、ウエハＷが振動してウエハ保持部２３との間で摩
擦が引き起こされることがなくなり、この摩擦によるパ
ーティクルの発生を防止することが可能になる。したが
って、ウエハＷの清浄度を確保した洗浄を行うことが可
能になる。

【００２２】また、ウエハＷを搬送する搬送機構のアー
ム（図示省略）を洗浄槽２内に挿入することなく、洗浄
槽２内にウエハＷを出し入れすることが可能になるた
め、洗浄槽２を小型化することが可能になる。したがっ
て、洗浄液Ｌの使用量を削減することができると共に、
ウエハ洗浄装置１の設置面積を縮小することができる。
さらに、ウエハＷを搬送する際、上記アームが洗浄液Ｌ
に侵漬されることがない。このため、アームに付着した
物質（前工程の洗浄液や純水を含む）による洗浄液Ｌの
汚染（洗浄液の希釈を含む）が防止される。

【００２３】尚、洗浄槽２内には、ウエハキャリアに保
持させた状態のウエハＷを収納するようにしても良い。
この場合、図３（１）、図３（２）に示すように、ウエ
ハＷの直径よりも小さなウエハキャリア８を用いること
とする。このウエハキャリア８は、例えば皿状体の上面
にウエハＷを立設させた状態で保持するための溝が切ら
れた保持部材を設けた構成であることとする。これによ
って、ウエハキャリア８の大きさに係わらず、洗浄槽２
を小型化することができる。このようなウエハキャリア
８を用いた場合には、搬送機構のアーム９によってウエ
ハキャリア８を保持することで、ウエハＷを洗浄槽２内
（乾燥チャンバ４内）に出し入れすることとする。

【００２４】図４は、上記構成のウエハ洗浄装置１を用
いたウエハ洗浄方法の一例を説明する図であり、以下に
この図を用いてウエハ洗浄方法の一実施形態を説明す
る。ここでは、一般的な自動侵漬式洗浄装置の洗浄槽に
本発明のウエハ洗浄装置を適用した場合の洗浄方法を説
明する。自動侵漬式洗浄装置では、一枚または複数枚の
ウエハＷをローダにセットすると、各ウエハＷは搬送機
構によって洗浄槽（すなわち実施形態で説明したウエハ
洗浄装置）内に出し入れされるのである。

【００２５】すなわち、先ず、ここでは図示を省略した
ローダにウエハＷをセットすると、図４（１）に示すよ
うに、搬送機構のアーム９によって周縁部分を保持され
た状態のウエハＷが、ウエハ洗浄装置１に搬送されてく
る。尚、図３を用いて説明したウエハキャリア８を用い
た場合には、ウエハキャリア８に保持されたウエハＷが
アーム９によってウエハ洗浄装置１に搬送されてくる。

【００２６】そこで、先ず洗浄槽２の周壁２１をウエハ
保持具２３よりも下に下降させた状態で、アーム９によ
ってウエハＷを乾燥チャンバ４内に搬入する。

【００２７】そして、図４（２）に示すように、ウエハ
Ｗをウエハ保持具２３に保持させ、アーム９によるウエ
ハＷの保持を解除し、このアーム９を乾燥チャンバ４内
から引き上げる。これによって、洗浄液供給管３から供
給される洗浄液Ｌに対してアーム９を侵漬させることな
く、ウエハ保持具２３にウエハＷを保持させる。尚、以
上までの工程においては、洗浄液供給管３から洗浄液Ｌ
を供給していても、していなくても良い。

【００２８】次に、図４（３）に示すように、アーム
（９）が乾燥チャンバ４内から引き上げられた後、洗浄
槽２の周壁２１を上昇させる。この際、洗浄液供給管３
からの洗浄液Ｌの供給速度によって、洗浄槽２からの洗
浄液Ｌのオーバーフロー状態を調節する。尚、洗浄液供
給管３からの洗浄液Ｌの供給は、洗浄槽２の周壁２１が
最上部にまで上昇した後に開始しても良く、また洗浄槽
２からオーバーフローしない範囲で周壁２１の上昇と共
に洗浄液供給管３からの洗浄液Ｌの供給を行っても良
い。

【００２９】その後、図４（４）に示すように、ウエハ
Ｗが侵漬される程度の洗浄液Ｌを洗浄液供給管３から洗
浄槽２内に供給した状態、またはこの状態からさらに洗
浄液Ｌをオーバーフローさせた状態で、ウエハＷを洗浄
する。

【００３０】次に、図５（１）に示すように、所定の洗
浄時間が終了した後、洗浄槽２の周壁２１を下降させ
る。これによって、洗浄液Ｌを洗浄槽２からオーバーフ
ローさせて排液管５から排液すると共に、ウエハＷを洗
浄液Ｌの液面から露出させる。

【００３１】そして、図５（２）に示すように、周壁２
１が最も低い位置に下降した状態では、ウエハＷ全体が
洗浄液Ｌから露出される。この際、洗浄液供給管３から
は、洗浄液Ｌを供給し続けても停止しても良い。その
後、搬送機構のアーム９を乾燥チャンバ４内に挿入し、
このアーム９にウエハＷを保持させる。尚、図３を用い
て説明したウエハキャリア８を用いた場合には、ウエハ
Ｗを保持したウエハキャリア８をアーム９に保持させ
る。

【００３２】しかる後、図５（３）に示すように、アー
ム９に保持されたウエハＷを、乾燥チャンバ４内から搬
出し、ウエハ洗浄装置１による洗浄を終了させる。

【００３３】上記ウエハ洗浄方法では、洗浄槽２の底面
上のウエハ保持具２３にウエハＷを保持させて搬送機構
のアーム９を引き上げた後に洗浄槽２の周壁２１を上昇
させることで、上記アーム９を洗浄槽２１内に挿入させ
ることなく、かつウエハＷを移動させることなく当該洗
浄槽２内にウエハＷが収納される。また、洗浄槽２の周
壁２１を下降させることで、ウエハＷを洗浄液Ｌの液面
から露出させるので、ウエハＷを移動させることなく、
かつウエハＷの搬送装置を洗浄槽２内に挿入させること
なく当該洗浄液Ｌ中からウエハＷが取り出される。しか
も、洗浄槽２の周壁２１を下降させることで、当該洗浄
槽２の周壁２１上方から洗浄液Ｌがオーバーフロー排液
されるので、ウエハＷを移動させることなく、オーバー
フロー状態の洗浄液ＬからウエハＷを露出させることが
できる。したがって、ウエハＷを移動させることなく、
オーバーフロー状態の洗浄液Ｌ及び洗浄槽２１からウエ
ハＷが取り出されると共に、洗浄槽２内にウエハＷが収
納される。この結果、洗浄槽２１内においてウエハＷが
振動してウエハ保持部２３との間で摩擦が引き起こされ
ることがなくなり、この摩擦によるパーティクルの発生
を防止することが可能になる。したがって、ウエハの清
浄度を確保することが可能になる。

【００３４】次に、上記構成のウエハ洗浄装置１を用い
て、異なる種類の洗浄液Ｌを用いて連続的にウエハを洗
浄する方法を説明する。

【００３５】先ず、上記図４（１）〜図４（４）及び図
５（１）を用いて説明した工程までを行い、さらにウエ
ハＷ全体を洗浄液Ｌ（以降、この洗浄液Ｌを第１の洗浄
液Ｌと記す）から露出させ、この洗浄液Ｌによるウエハ
Ｗの洗浄を終了させる。

【００３６】次に、図６（１）に示すように、洗浄液供
給管３から供給されていた第１の洗浄液Ｌを、第２の洗
浄液Ｌ’に変更する。

【００３７】その後、図６（２）に示すように洗浄槽２
の周壁２１を上昇させると共に、洗浄液供給管３から第
２の洗浄液Ｌ’を供給してウエハＷを第２の洗浄液Ｌ’
中に侵漬させる。この際、洗浄液供給管３からの第２の
洗浄液Ｌ’の供給速度によって、洗浄槽２からの第２の
洗浄液Ｌ’のオーバーフロー状態を調節する。尚、洗浄
液供給管３からの第２の洗浄液Ｌ’の供給は、洗浄槽２
の周壁２１が最上部にまで上昇した後に開始しても良
く、洗浄槽２からオーバーフローしない範囲で周壁２１
の上昇と共に洗浄液供給管３からの第２の洗浄液Ｌ’の
供給を行っても良い。

【００３８】そして、図６（３）に示すように、ウエハ
Ｗが侵漬される程度の第２の洗浄液Ｌ’を洗浄槽２内に
供給した状態、またはこの状態からさらに第２の洗浄液
Ｌ’をオーバーフローさせた状態で、ウエハＷを洗浄す
る。

【００３９】次に、図６（４）に示すように、所定の洗
浄時間が終了した後、洗浄槽２の周壁２１を下降させ
る。これによって、第２の洗浄液Ｌ’を洗浄槽２からオ
ーバーフローさせて排液管５から排液すると共に、ウエ
ハＷを第２の洗浄液Ｌ’の液面から露出させる。そし
て、図６（５）に示すように、周壁２１が最も低い位置
に下降した状態では、ウエハＷ全体が第２の洗浄液Ｌ’
から露出される。この際、洗浄液供給管３からは、第２
の洗浄液Ｌ’を供給し続けても停止しても良い。

【００４０】さらに、第３の洗浄液による洗浄を繰り返
す場合には、洗浄液を取り替えて上記図６（１）〜図６
（５）を用いて説明した工程を繰り返し行う。

【００４１】一方、ウエハＷの洗浄を終了させる場合に
は、図６（６）に示すように、搬送機構のアーム９を乾
燥チャンバ４内に挿入し、このアーム９にウエハＷを保
持させる。

【００４２】しかる後、図６（７）に示すように、アー
ム９に保持されたウエハＷを、乾燥チャンバ４内から搬
出し、ウエハ洗浄装置１における洗浄を終了させる。

【００４３】上記ウエハ洗浄方法によれば、洗浄槽２内
においてウエハを移動させることなく、２種類の洗浄液
によるウエハＷの洗浄を行うことが可能になる。

【００４４】上記洗浄方法においては、洗浄液Ｌを交換
する場合に、洗浄槽２の周壁を降下させて先の洗浄液Ｌ
が洗浄槽２内から全て排液されるようにしている。しか
し、第１の洗浄液Ｌを第２の洗浄液Ｌ’で徐々に置換し
ていく場合には、図４（４）に示した状態で、洗浄液供
給管３から供給されていた第１の洗浄液Ｌを第２の洗浄
液Ｌ’に交換するだけでも良い。

【００４５】（第２実施形態）図７には、本発明の第２
実施形態のウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法を説明す
る図である。この図に示すウエハ洗浄装置１’は、上記
第１実施形態で説明したウエハ洗浄装置における乾燥チ
ャンバ４の上面に蓋４１を設けてなり、乾燥チャンバ４
内が密閉可能に構成されている。また、乾燥チャンバ４
の側壁には、洗浄槽２内のウエハ保持具２３よりも低い
位置に上記排気管６が接続されており、乾燥チャンバ４
の側壁における上部（蓋４１の直下）には上記ガス供給
管７が接続されている。このガス供給管７は、例えば、
乾燥チャンバ４内に挿入されるものであり、ここでは図
示を省略した複数の吹出口を乾燥チャンバ４内に備えて
いるものである。これによって、ガス供給管７から供給
されたガスが、ウエハ保持具２３に保持されたウエハＷ
に供給されるような構成になっている。

【００４６】上記構成のウエハ洗浄装置１’を用いたウ
エハ洗浄方法の一例として、ウエハの純水リンスと乾燥
とを行う方法を説明する。先ず、図７（１）に示すよう
に、例えば上記第１実施形態で説明したと同様にして、
洗浄槽２内にウエハＷを収納し、洗浄槽２の周壁２１を
上昇させた状態で、薬液供給管３から洗浄液Ｌとして純
水を供給する。そして、薬液供給管３からの洗浄液（純
水）Ｌの供給を続け、洗浄槽２から洗浄液（純水）Ｌを
オーバーフローさせることによって、ウエハＷの洗浄
（すなわち、ここでは純水によるリンス）を行う。

【００４７】次に、図７（２）に示すように、ガス供給
管７から乾燥チャンバ４内にＩＰＡ蒸気と窒素ガスとを
混合させたガスＧを供給し、かつ排気管６から乾燥チャ
ンバ４内のガスを排気することによって乾燥チャンバ４
内を上記ガスＧで満たしておく。

【００４８】そして、所定のリンス時間が経過した後、
薬液供給管３からの洗浄液（純水）Ｌの供給を続けた状
態、または停止させた状態で、洗浄槽２の周壁２１を下
降させていく。これによって、純水をオーバーフローさ
せた状態の洗浄槽２から、上記ガスＧ中にウエハＷを徐
々に露出させ、マランゴニ効果によって、ウエハＷの露
出面に効果的にＩＰＡを凝集させてウエハＷを効率良く
乾燥させる。

【００４９】この際、ガスＧにおけるＩＰＡ蒸気と窒素
ガスとの混合比や供給量及び温度、純水の供給量及び温
度、洗浄槽２の周壁２１の下降速度、排気管６からの排
気量は、ウエハＷの乾燥具合が最適になるように調整す
る。また、この際ガス供給管７から供給するガスＧは、
上記ガスに限定されることはなく、ＩＰＡ蒸気のみ、Ｉ
ＰＡ蒸気と水蒸気との混合蒸気、ＩＰＡ蒸気と不活性な
ガスとの混合ガスまたは上記の各ＩＰＡ蒸気に換えてミ
スト状のＩＰＡを含むガスでも良い。

【００５０】そして、図７（３）に示すように、ウエハ
Ｗが完全に洗浄液（純水）Ｌから引き上げられ、ウエハ
Ｗの表面の純水が十分にＩＰＡで置換されたた後、ガス
供給管７からの上記ガスＧの供給を停止する。

【００５１】その後、図７（４）に示すように、洗浄液
供給管３からの洗浄液（純水）Ｌの供給を停止した状態
で、ガス供給管７から窒素ガスＧ’を供給してウエハＷ
やウエハ洗浄装置１’の内壁に付着しているＩＰＡを蒸
発乾燥させる。以上の後、乾燥チャンバ４の蓋４１を外
してウエハＷを取り出し、洗浄工程を終了させる。

【００５２】上記ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法に
よれば、ウエハＷを移動させることなく、オーバーフロ
ーさせた状態の洗浄液Ｌの液面から露出されるウエハＷ
を、ＩＰＡを含む雰囲気中に取り出すことができる。し
たがって、マランゴニ効果によってウエハ表面の乾燥効
率を向上させることができる。

【００５３】尚、上記実施形態の図７（２）を用いて説
明した工程では、少なくともＩＰＡの蒸気またはＩＰＡ
のミストを含むガス雰囲気中にウエハＷを露出させるよ
うにした。しかし、ウエハＷは、ガス供給管７から供給
された窒素ガス雰囲気中、または乾燥チャンバ４内の閉
じられた大気中に露出させるようにしても良い。この場
合、図７（３）を用いて説明した工程では、ウエハＷが
完全に純水から引き上げられた後またはウエハＷを純水
から引き上げながら、ガス供給管７から少なくとも高温
のＩＰＡ蒸気を供給することとする。これによって、Ｉ
ＰＡ蒸気が温度の低いウエハ表面で凝集してウエハ表面
の水分を溶解する。水分を溶解したＩＰＡはウエハ表面
から流れ落ち、これによってウエハＷが乾燥される。

【００５４】この際、ガス供給管７から供給するＩＰＡ
蒸気の量、温度、供給時間は、ウエハＷの乾燥具合に合
わせて予め調節しておく。また、ここではＩＰＡ蒸気を
供給することとしたが、ＩＰＡ蒸気と窒素ガスの混合ガ
ス、ＩＰＡ蒸気と不活性なガスとの混合ガス、または上
記ＩＰＡ蒸気をＩＰＡミストに換えたガスであっても良
い。そして、こらのＩＰＡ蒸気やＩＰＡミストの温度
は、乾燥具合に応じて予め決めておく。

【００５５】尚、上記第１実施形態及び第２実施形態で
は、洗浄槽２の周壁２１全体が上下動自在であるものと
して説明を行った。しかし、本発明のウエハ洗浄装置
は、洗浄槽２の周壁２１の一部分（例えば、周壁２１を
構成する４面のうちの１面または複数の面またはさらに
その一部分）のみが上下動自在である構成であっても良
い。この場合、周壁２１のうちの上下動自在な部分の上
縁からのみ洗浄液Ｌがオーバーフローする。また、洗浄
槽２の周壁２１の一部分のみを上下動自在とした場合に
は、洗浄槽２のうちの対向する２面を上下動自在にす
る。これによって、洗浄槽２の底面にウエハＷを載置す
るまたは洗浄槽２の底面からウエハＷを引き上げるため
に、ウエハＷの周縁を両側から挟み込むアーム（搬送機
構の）を用いることが可能になる。

【００５６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
係るウエハ洗浄装置によれば、洗浄槽の周壁を上下動自
在に構成したことで、洗浄液をオーバーフローさせた状
態の洗浄槽に対して、ウエハを移動することなく当該ウ
エハの出し入れを行うことが可能になる。したがって、
マランゴニ効果の高い乾燥や液面からのパーティクルの
付着を防止したウエハ洗浄を、ウエハを振動させること
なく行うことが可能になる。この結果、ウエハの振動に
よる摩擦に起因したパーティクルの発生を防止でき、ウ
エハ表面の清浄度を確保したウエハ洗浄を行うことがで
きる。

【００５７】また、本発明の請求項５に係るウエハ洗浄
方法によれば、洗浄槽の周壁を上下動させることによっ
て、当該洗浄槽内へのウエハの出し入れを行うようにし
たことで、ウエハを移動することなく、洗浄液をオーバ
ーフローさせた状態の洗浄槽に対して当該ウエハの出し
入れを行うことが可能になる。したがって、マランゴニ
効果の高い乾燥や液面からのパーティクルの付着を防止
したウエハ洗浄を、ウエハを振動させることなく行うこ
とが可能になる。この結果、ウエハの振動による摩擦に
起因したパーティクルの発生を防止したウエハ洗浄を行
い、ウエハ表面の清浄度を確保できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（１）は第１実施形態のウエハ洗浄装置の構成
を示す平面図であり、（２）は図１（１）のＡ−Ａ部の
断面図である。

【図２】本発明のウエハ洗浄装置における洗浄槽の周壁
の要部拡大図である。

【図３】本発明のウエハ洗浄装置の他の例を説明する図
である。

【図４】本発明のウエハ洗浄装置を用いたウエハ洗浄方
法の一例を説明する図（その１）である。

【図５】本発明のウエハ洗浄装置を用いたウエハ洗浄方
法の一例を説明する図（その２）である。

【図６】本発明のウエハ洗浄装置を用いたウエハ洗浄方
法の変形例を説明する図である。

【図７】第２実施形態のウエハ洗浄装置の構成及びこの
ウエハ洗浄装置を用いたウエハ洗浄方法を説明する図で
ある。

【符号の説明】

１、１’…ウエハ洗浄装置、２…洗浄槽、３…洗浄液供
給管、４…乾燥チャンバ、７…ガス供給管、２１…周
壁、Ｌ…洗浄液，第１の洗浄液、Ｌ’…第２の洗浄液
（洗浄液）、Ｗ…ウエハ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエハが収納される洗浄槽と、当該洗浄
   槽に接続された洗浄液供給管とを備えたウエハ洗浄装置
   において、 前記洗浄槽の周壁は、当該洗浄槽内に収納されたウエハ
   の上端よりも高い位置から当該ウエハの上端よりも低い
   位置に掛けてその上縁が移動する範囲で上下動自在に構
   成されていることを特徴とするウエハ洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、 前記洗浄槽の上縁が移動する範囲における前記ウエハの
   上端よりも低い位置は、当該ウエハの下端よりも低いこ
   とを特徴とするウエハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、 前記洗浄槽の周壁は、その一部分が上下動自在であるこ
   とを特徴とするウエハ洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項１記載のウエハ洗浄装置におい
   て、 前記洗浄槽を覆う乾燥チャンバと、 前記乾燥チャンバに接続されたガス供給管とを備えたこ
   とを特徴とするウエハ洗浄装置。
5. 【請求項５】 洗浄槽の周壁を下降させた状態で、ウエ
   ハを当該洗浄槽の底面上に載置する工程と、 前記洗浄槽の周壁を上昇させると共に、当該洗浄槽内に
   洗浄液を供給し、前記ウエハを当該洗浄液中に侵漬する
   工程と、 前記洗浄槽の周壁を下降させることで、当該洗浄槽の周
   壁上方から前記洗浄液をオーバーフロー排液すると共
   に、前記ウエハを前記洗浄液の液面から露出させる工程
   と、 前記ウエハを前記洗浄槽から取り出す工程とを行うこと
   を特徴とするウエハ洗浄方法。
6. 【請求項６】 請求項４記載のウエハ洗浄方法におい
   て、 前記洗浄液の液面から露出させた前記ウエハに、イソプ
   ロピルアルコールの蒸気またはイソプロピルアルコール
   のミストを含むガスを供給することを特徴とするウエハ
   洗浄方法。