JP2000109554A - ポリエ―テルポリオ―ルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルキレンオキシドと活性水素原子出発化合
物とからポリエーテルポリオールを製造する方法を提供
する。 【解決手段】 アルキレンオキシドと活性水素含有化合
物とを、触媒としての特異的ルイス酸金属化合物の存在
下に反応させることにより、ポリエーテルポリオールを
製造する方法、元素周期表第13族の元素の新規のビス
(ペルフルオロアルキルスルホン酸)化合物、その製造
方法および環状エーテル開環重合用触媒としての使用。
物とからポリエーテルポリオールを製造する方法を提供
する。 【解決手段】 アルキレンオキシドと活性水素含有化合
物とを、触媒としての特異的ルイス酸金属化合物の存在
下に反応させることにより、ポリエーテルポリオールを
製造する方法、元素周期表第13族の元素の新規のビス
(ペルフルオロアルキルスルホン酸)化合物、その製造
方法および環状エーテル開環重合用触媒としての使用。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルキレンオキシ
ドと活性水素含有化合物とを、触媒として特定のルイス
酸金属化合物の存在下に反応させることにより、ポリエ
ーテルポリオールを製造する方法、元素周期表第13族
の元素の新規のビス(ペルフルオロアルキルスルホン
酸)化合物、その製造方法および環状エーテル開環重合
用触媒としての使用に関する。
ドと活性水素含有化合物とを、触媒として特定のルイス
酸金属化合物の存在下に反応させることにより、ポリエ
ーテルポリオールを製造する方法、元素周期表第13族
の元素の新規のビス(ペルフルオロアルキルスルホン
酸)化合物、その製造方法および環状エーテル開環重合
用触媒としての使用に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリエーテルポリオールは、アルキレン
オキシド、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドと、活性水素原子含有化合物、例
えばアルコール、アミン、酸アミド、フェノールとの間
の重付加反応によって生成でき、特にウレタンプラスチ
ック、界面活性剤および潤滑剤の製造に使用される。エ
ポキシドと出発化合物との間の工業的重付加反応は通
常、アルカリ触媒によって生起する。一般的に使用され
ているアルカリ触媒は水酸化アルカリである。水酸化ア
ルカリを触媒とするポリエーテルポリオールの製造に
は、反応時間が長い(即ち5時間を超える)、アルカリ
性ポリマーの中和により生成物の厄介な処理が必要とな
るといった欠点がある(例えば米国特許第4,129,
718号、第4,482,750号および第4,02
9,879号、日本国特許第7,326,391号、E
ncyclopedia of Polymer Sc
ience& Eng.,Vol.6,New Yor
k 1986,273〜307ページ参照)。別の問題
は、塩基触媒(base-catalyzed)によるエポキシド、例え
ばプロピレンオキシドからアリルまたはプロペニルアル
コールへの転位反応である。これは副反応として生起す
るものであり、末端二重結合を有する単官能性ポリエー
テルを生成する。
オキシド、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドと、活性水素原子含有化合物、例
えばアルコール、アミン、酸アミド、フェノールとの間
の重付加反応によって生成でき、特にウレタンプラスチ
ック、界面活性剤および潤滑剤の製造に使用される。エ
ポキシドと出発化合物との間の工業的重付加反応は通
常、アルカリ触媒によって生起する。一般的に使用され
ているアルカリ触媒は水酸化アルカリである。水酸化ア
ルカリを触媒とするポリエーテルポリオールの製造に
は、反応時間が長い(即ち5時間を超える)、アルカリ
性ポリマーの中和により生成物の厄介な処理が必要とな
るといった欠点がある(例えば米国特許第4,129,
718号、第4,482,750号および第4,02
9,879号、日本国特許第7,326,391号、E
ncyclopedia of Polymer Sc
ience& Eng.,Vol.6,New Yor
k 1986,273〜307ページ参照)。別の問題
は、塩基触媒(base-catalyzed)によるエポキシド、例え
ばプロピレンオキシドからアリルまたはプロペニルアル
コールへの転位反応である。これは副反応として生起す
るものであり、末端二重結合を有する単官能性ポリエー
テルを生成する。
【0003】アルキレンオキシドと出発化合物との間の
重付加反応では、塩基触媒作用の他に酸触媒作用、特に
例えば三フッ化ホウ素のようなルイス酸を用いる触媒作
用も以前から知られていた。ポリエーテルポリオールを
製造するための酸触媒作用は、副反応(例えば揮発性低
分子量環状エーテルの形成)がより発生し易い、ヒドロ
キシル基が酸アニオンに置換される、塩基触媒作用で生
成された類似生成物と比べて、ポリオールの相対分子質
量分布が典型的に生起するものより広いといった欠点を
有する。更に、(ルイス)酸触媒は分離が難しく、加水
分解に感応するため、使用する反応装置に特別の材料
(例えばエナメル)を使用しなければならないという欠
点もある。また、酸触媒は触媒反応性が大きいため、反
応の制御が難しい。米国特許第4,543,430号
は、トリフルオロメタンスルホン酸塩の存在下でヒドロ
キシル化化合物をモノアルコキシル化する方法を開示し
ている。単付加物のみを生成するために、アルコール−
エポキシ比は必ず≧2でなければならない。EP第49
3,916号には、金属トリフラート(triflate)塩の存
在下でジエポキシドをジヒドロキシドと反応させること
によりポリエーテルを製造する方法が開示されている。
この方法は触媒の失活を必要とする。
重付加反応では、塩基触媒作用の他に酸触媒作用、特に
例えば三フッ化ホウ素のようなルイス酸を用いる触媒作
用も以前から知られていた。ポリエーテルポリオールを
製造するための酸触媒作用は、副反応(例えば揮発性低
分子量環状エーテルの形成)がより発生し易い、ヒドロ
キシル基が酸アニオンに置換される、塩基触媒作用で生
成された類似生成物と比べて、ポリオールの相対分子質
量分布が典型的に生起するものより広いといった欠点を
有する。更に、(ルイス)酸触媒は分離が難しく、加水
分解に感応するため、使用する反応装置に特別の材料
(例えばエナメル)を使用しなければならないという欠
点もある。また、酸触媒は触媒反応性が大きいため、反
応の制御が難しい。米国特許第4,543,430号
は、トリフルオロメタンスルホン酸塩の存在下でヒドロ
キシル化化合物をモノアルコキシル化する方法を開示し
ている。単付加物のみを生成するために、アルコール−
エポキシ比は必ず≧2でなければならない。EP第49
3,916号には、金属トリフラート(triflate)塩の存
在下でジエポキシドをジヒドロキシドと反応させること
によりポリエーテルを製造する方法が開示されている。
この方法は触媒の失活を必要とする。
【0004】EP−A第569,331号は、選択性を
高めるために、アルコールとエポキシド化合物との反応
により付加物を製造する方法を提案している。この方法
では、触媒が元素周期表の族または亜族の金属とペルフ
ルオロ含有アルカンスルホン酸のスルホネート基との金
属錯化合物からなり、少なくとも1種類の弱結合中性単
座もしくは多座配位子が使用される。この方法には、式
La(CH3 CN)x(H2 O)y (CF3 SO3)3 で
示される金属錯化合物が特に適している(EP−A第5
69,331号の請求項12参照)。前記金属錯体触媒
は、ポリエーテルポリオールの製造では、ポリオール反
応混合物から金属ペルフルオロアルキルスルホネートと
配位子との錯体系を完全に分離し回収することが難し
い、この種の金属錯化合物は触媒活性が低いためポリエ
ーテルの製造に多量の触媒を使用しなければならないと
いった欠点を有する。従って、前記金属錯化合物を用い
るポリエーテル製造は極めて不経済である。米国特許第
4,721,816号および第4,721,817号
は、1種類以上のアルミニウム化合物と硫黄含有または
リン含有酸との反応によって得られる触媒の存在下で、
アルカノール−アルコキシレート生成物を製造する方法
を開示している。この方法は、前述の欠点を有する腐食
性酸の使用を特徴とする。また、記載されているような
二成分系は、2種類の成分の正確な分配に関する要求が
極めて厳しい。比較実施例は、アルミニウム成分のみで
は触媒活性が極めて低いことを明らかにしている。
高めるために、アルコールとエポキシド化合物との反応
により付加物を製造する方法を提案している。この方法
では、触媒が元素周期表の族または亜族の金属とペルフ
ルオロ含有アルカンスルホン酸のスルホネート基との金
属錯化合物からなり、少なくとも1種類の弱結合中性単
座もしくは多座配位子が使用される。この方法には、式
La(CH3 CN)x(H2 O)y (CF3 SO3)3 で
示される金属錯化合物が特に適している(EP−A第5
69,331号の請求項12参照)。前記金属錯体触媒
は、ポリエーテルポリオールの製造では、ポリオール反
応混合物から金属ペルフルオロアルキルスルホネートと
配位子との錯体系を完全に分離し回収することが難し
い、この種の金属錯化合物は触媒活性が低いためポリエ
ーテルの製造に多量の触媒を使用しなければならないと
いった欠点を有する。従って、前記金属錯化合物を用い
るポリエーテル製造は極めて不経済である。米国特許第
4,721,816号および第4,721,817号
は、1種類以上のアルミニウム化合物と硫黄含有または
リン含有酸との反応によって得られる触媒の存在下で、
アルカノール−アルコキシレート生成物を製造する方法
を開示している。この方法は、前述の欠点を有する腐食
性酸の使用を特徴とする。また、記載されているような
二成分系は、2種類の成分の正確な分配に関する要求が
極めて厳しい。比較実施例は、アルミニウム成分のみで
は触媒活性が極めて低いことを明らかにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、特定
の金属化合物は、配位子、促進剤または助触媒を同時に
存在させなくても、高度の選択性および触媒活性をもっ
て、エポキシドと活性水素原子含有出発化合物との間の
重付加反応を生起させることができると判明した。これ
らの化合物は触媒活性量で(加水分解後でも)中性〜や
や酸性の挙動を示す。即ち、これらの化合物はpH値≦
7.0である。そのため、反応終了後の触媒の中和を省
略することができる。従って本発明は、アルキレンオキ
シドと活性水素原子含有出発化合物とからポリエーテル
ポリオールを製造する方法を提供する。
の金属化合物は、配位子、促進剤または助触媒を同時に
存在させなくても、高度の選択性および触媒活性をもっ
て、エポキシドと活性水素原子含有出発化合物との間の
重付加反応を生起させることができると判明した。これ
らの化合物は触媒活性量で(加水分解後でも)中性〜や
や酸性の挙動を示す。即ち、これらの化合物はpH値≦
7.0である。そのため、反応終了後の触媒の中和を省
略することができる。従って本発明は、アルキレンオキ
シドと活性水素原子含有出発化合物とからポリエーテル
ポリオールを製造する方法を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、下記の
一般式I: (X)nM(E−R−E′l)m (I) で示される金属化合物の存在下で実施する。前記式中、
Xはハリド、アルコキシド、アリールオキシド、チオレ
ート、スルフィネート、スルホネート、スルフェート、
アミド、ホスフィネート、ホスホネート、ホスフェート
またはカルボキシレートを表し、Mは元素周期表第13
族の金属を表し、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 また
はPR1 を表し、但しR1 はH、またはアルキルもしく
はアリールであってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、
Rはアルキレン、アリーレンまたはアラルキレン橋であ
ってよいC1 〜C30炭化水素橋を表し、R1 と一緒に1
個以上の環を形成し得、E′はH、アルキルもしくはア
リールであってよいC1 〜C10炭化水素基、OR2 、N
R2 R3 、ハロゲン、SR2 またはPR2 R3 を表し、
但しR2 およびR3 は互いに同じかまたは異なり、各々
が独立して水素原子、またはアルキル、アリールもしく
はアラルキルであってよいC1 〜C10炭化水素基を表
し、R2 がR3 もしくはRと一緒に1個以上の環を形成
し得、および/またはR3 がRもしくはR2 と一緒に1
個以上の環を形成し得、および/または2個以上のER
E′単位が1個以上の環を形成し得、nは0〜3の整数
であり、mは1〜3の整数であり、lは0〜10の整数
である。本発明の方法は一般的には40〜200℃の温
度、0〜20バールの全圧で、任意に不活性有機溶媒の
存在下で実施する。
一般式I: (X)nM(E−R−E′l)m (I) で示される金属化合物の存在下で実施する。前記式中、
Xはハリド、アルコキシド、アリールオキシド、チオレ
ート、スルフィネート、スルホネート、スルフェート、
アミド、ホスフィネート、ホスホネート、ホスフェート
またはカルボキシレートを表し、Mは元素周期表第13
族の金属を表し、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 また
はPR1 を表し、但しR1 はH、またはアルキルもしく
はアリールであってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、
Rはアルキレン、アリーレンまたはアラルキレン橋であ
ってよいC1 〜C30炭化水素橋を表し、R1 と一緒に1
個以上の環を形成し得、E′はH、アルキルもしくはア
リールであってよいC1 〜C10炭化水素基、OR2 、N
R2 R3 、ハロゲン、SR2 またはPR2 R3 を表し、
但しR2 およびR3 は互いに同じかまたは異なり、各々
が独立して水素原子、またはアルキル、アリールもしく
はアラルキルであってよいC1 〜C10炭化水素基を表
し、R2 がR3 もしくはRと一緒に1個以上の環を形成
し得、および/またはR3 がRもしくはR2 と一緒に1
個以上の環を形成し得、および/または2個以上のER
E′単位が1個以上の環を形成し得、nは0〜3の整数
であり、mは1〜3の整数であり、lは0〜10の整数
である。本発明の方法は一般的には40〜200℃の温
度、0〜20バールの全圧で、任意に不活性有機溶媒の
存在下で実施する。
【0007】使用するアルキレンオキシドの具体例は、
C1 〜C20アルキレンオキシド、好ましくはエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドおよび
これらの混合物である。アルコキシル化によるポリエー
テル鎖の構築は、単一のモノマーエポキシドを用いて実
施し得るが、2種または3種の異なるモノマーエポキシ
ドを用いて、ランダムまたはブロックのいずれかの方法
で生起させてもよい。詳細は“Ullmanns En
cyclopaedie der industrie
llen Chemie”,英語版,1992,Vo
l.A21,670〜671ページに記載されている。
C1 〜C20アルキレンオキシド、好ましくはエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドおよび
これらの混合物である。アルコキシル化によるポリエー
テル鎖の構築は、単一のモノマーエポキシドを用いて実
施し得るが、2種または3種の異なるモノマーエポキシ
ドを用いて、ランダムまたはブロックのいずれかの方法
で生起させてもよい。詳細は“Ullmanns En
cyclopaedie der industrie
llen Chemie”,英語版,1992,Vo
l.A21,670〜671ページに記載されている。
【0008】好ましくは分子量が18〜400であり、
1〜8個のヒドロキシル、チオールおよび/またはアミ
ノ基を有する化合物を含む活性水素含有化合物が、本発
明における出発化合物として適している。具体例として
は下記の化合物が挙げられる:エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、
1,4−ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、
ビスフェノールA、トリメチルプロパン、グリセロー
ル、ペンタエリトリトール、ソルビトール、蔗糖、減成
(degraded)澱粉、水、メチルアミン、エチルアミン、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、アニリン、ベンジルアミ
ン、o−およびp−トルイジン、α,β−ナフチルアミ
ン、アンモニア、エチレンジアミン、プロピレンジアミ
ン、1,4−ブチレンジアミン、1,2−、1,3−、
1,4−、1,5−および/または1,6−ヘキサメチ
レンジアミン、o−、m−およびp−フェニレンジアミ
ン、2,4−、2,6−トリレンジアミン、2,2′
−、2,4−および4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン並びにジエチレンジアミン。ハリド、アルコキシド、
アリールオキシド、アラルキルオキシド、チオレート、
スルフィネート、スルホネート、アミド、カルボン酸、
ホスホネートまたはホスフェートが前記式(I)中のX
として適している。Xがハリドを表す場合は、F、C
l、BrおよびIが本発明における適当な具体例と考え
られる。
1〜8個のヒドロキシル、チオールおよび/またはアミ
ノ基を有する化合物を含む活性水素含有化合物が、本発
明における出発化合物として適している。具体例として
は下記の化合物が挙げられる:エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、
1,4−ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、
ビスフェノールA、トリメチルプロパン、グリセロー
ル、ペンタエリトリトール、ソルビトール、蔗糖、減成
(degraded)澱粉、水、メチルアミン、エチルアミン、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、アニリン、ベンジルアミ
ン、o−およびp−トルイジン、α,β−ナフチルアミ
ン、アンモニア、エチレンジアミン、プロピレンジアミ
ン、1,4−ブチレンジアミン、1,2−、1,3−、
1,4−、1,5−および/または1,6−ヘキサメチ
レンジアミン、o−、m−およびp−フェニレンジアミ
ン、2,4−、2,6−トリレンジアミン、2,2′
−、2,4−および4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン並びにジエチレンジアミン。ハリド、アルコキシド、
アリールオキシド、アラルキルオキシド、チオレート、
スルフィネート、スルホネート、アミド、カルボン酸、
ホスホネートまたはホスフェートが前記式(I)中のX
として適している。Xがハリドを表す場合は、F、C
l、BrおよびIが本発明における適当な具体例と考え
られる。
【0009】前記式(I)中でXがアルコキシドを表す
場合は、適当なアルコキシドの具体例として、飽和また
は不飽和脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタ
ノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、
ノナノール、デカノール、ドデカノール、ヘキサデカノ
ール、シクロヘキサノール、メントールおよび/または
ネオメントールが挙げられる。Xが前記式(I)中でア
リールオキシドを表す場合は、適当な化合物の具体例と
して、置換フェノール、ナフトール、アントラセノール
またはフェナントレノール、例えばフェノール、o−、
m−もしくはpメチルフェノール、2,4,6−もしく
は3,4,5−トリメチルフェノール、2,6−ジ−t
ert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェノール、α−もしくはβ−ナフト
ール、1−もしくは2−アントロールまたは9−ヒドロ
キシフェナントレンが挙げられる。前記式(I)でXが
アラルコキシドを表す場合は、ベンジルアルコール、2
−もしくは3−メチルベンジルアルコールまたは1−フ
ェニルエタノールといったような化合物が本発明で使用
するのに適している。
場合は、適当なアルコキシドの具体例として、飽和また
は不飽和脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタ
ノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、
ノナノール、デカノール、ドデカノール、ヘキサデカノ
ール、シクロヘキサノール、メントールおよび/または
ネオメントールが挙げられる。Xが前記式(I)中でア
リールオキシドを表す場合は、適当な化合物の具体例と
して、置換フェノール、ナフトール、アントラセノール
またはフェナントレノール、例えばフェノール、o−、
m−もしくはpメチルフェノール、2,4,6−もしく
は3,4,5−トリメチルフェノール、2,6−ジ−t
ert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェノール、α−もしくはβ−ナフト
ール、1−もしくは2−アントロールまたは9−ヒドロ
キシフェナントレンが挙げられる。前記式(I)でXが
アラルコキシドを表す場合は、ベンジルアルコール、2
−もしくは3−メチルベンジルアルコールまたは1−フ
ェニルエタノールといったような化合物が本発明で使用
するのに適している。
【0010】前記式(I)でXがチオレートを表す場合
は、適当なチオールの具体例として、メチルチオール、
エチルチオール、n−プロピルチオール、1−プロピル
チオール、n−ブチルチオール、s−ブチルチオール、
tert−ブチルチオール、ノニルチオール、デシルチ
オール、ドデシルチオール、ヘキサデシルチオール、シ
クロヘキシルチオール、メンチルチオール、ネオメンチ
ルチオール、チオフェノール、o−、m−もしくはp−
メチルチオフェノール、2,4,6−もしくは3,4,
5−トリメチルチオフェノール、α−もしくはβ−チオ
ナフトール、1−もしくは2−チオアントロール、ベン
ジルチオール、2−もしくは3−メチルベンジルチオー
ル又はフェニルエチルチオールのような化合物が挙げら
れる。Xがスルフィネートを表す場合は、適当な化合物
の具体例として、置換アルキルスルフィン酸またはアリ
ールスルフィン酸、例えばメチルスルフィネート、エチ
ルスルフィネート、トリフルオロメチルスルフィネート
またはフェニルスルフィネートが挙げられる。
は、適当なチオールの具体例として、メチルチオール、
エチルチオール、n−プロピルチオール、1−プロピル
チオール、n−ブチルチオール、s−ブチルチオール、
tert−ブチルチオール、ノニルチオール、デシルチ
オール、ドデシルチオール、ヘキサデシルチオール、シ
クロヘキシルチオール、メンチルチオール、ネオメンチ
ルチオール、チオフェノール、o−、m−もしくはp−
メチルチオフェノール、2,4,6−もしくは3,4,
5−トリメチルチオフェノール、α−もしくはβ−チオ
ナフトール、1−もしくは2−チオアントロール、ベン
ジルチオール、2−もしくは3−メチルベンジルチオー
ル又はフェニルエチルチオールのような化合物が挙げら
れる。Xがスルフィネートを表す場合は、適当な化合物
の具体例として、置換アルキルスルフィン酸またはアリ
ールスルフィン酸、例えばメチルスルフィネート、エチ
ルスルフィネート、トリフルオロメチルスルフィネート
またはフェニルスルフィネートが挙げられる。
【0011】Xがスルホネートを表す場合は、適当な化
合物の具体例として、置換アルキルスルホン酸またはア
リールスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペ
ンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、ドデカンスル
ホン酸、ヘキサデカンスルホン酸、シクロヘキシルスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオ
ロエタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン、
ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ヘプタデカンフル
オロクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
−スルホン酸またはスチレンスチレン酸が挙げられる。
Xがスルフェートを表す場合は、適当なスルフェートの
具体例として、置換モノアルキル硫酸またはモノアリー
ル硫酸エステルのような化合物、例えばメチル硫酸、エ
チル硫酸、トリフルオロメチル硫酸又はフェニル硫酸が
挙げられる。前記式(I)でXがアミドを表す場合は、
適当な化合物の具体例として、ジメチルアミド、ジエチ
ルアミド、ジプロピルアミド、メチルエチルアミド、メ
チルプロピルアミド、ジイソプロピルアミド、ジ−te
rtブチルアミド、メチルフェニルアミド、ジフェニル
アミドまたはメチルナフチルアミドが挙げられる。
合物の具体例として、置換アルキルスルホン酸またはア
リールスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペ
ンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、ドデカンスル
ホン酸、ヘキサデカンスルホン酸、シクロヘキシルスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオ
ロエタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン、
ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ヘプタデカンフル
オロクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
−スルホン酸またはスチレンスチレン酸が挙げられる。
Xがスルフェートを表す場合は、適当なスルフェートの
具体例として、置換モノアルキル硫酸またはモノアリー
ル硫酸エステルのような化合物、例えばメチル硫酸、エ
チル硫酸、トリフルオロメチル硫酸又はフェニル硫酸が
挙げられる。前記式(I)でXがアミドを表す場合は、
適当な化合物の具体例として、ジメチルアミド、ジエチ
ルアミド、ジプロピルアミド、メチルエチルアミド、メ
チルプロピルアミド、ジイソプロピルアミド、ジ−te
rtブチルアミド、メチルフェニルアミド、ジフェニル
アミドまたはメチルナフチルアミドが挙げられる。
【0012】前記式(I)でXがホスフィネートを表す
場合は、適当な化合物の具体例として、アルキルホスフ
ィン酸またはアリールホスフィン酸のアニオン、例えば
メチルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、トリフルオ
ロメチル−ホスフィン酸またはフェニルホスフィン酸が
挙げられる。これらの化合物は置換されていてもよい。
前記式(I)でXがホスホネートを表す場合は、使用す
べき適当な化合物の具体例として、ホスホン酸置換エス
テル、例えばメチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ト
リフルオロメチルホスホン酸又はフェニルホスホン酸が
挙げられる。Xがホスフェートを表す場合は、適当なホ
スフェートの具体例として、リン酸ジエテスル、例えば
ジメチル−リン酸、ジエチルリン酸、ビス(トリフルオ
ロメチル)リン酸またはジフェニルリン酸が挙げられ
る。これらは置換されていてもよい。前記式(I)でX
がカルボキシレートを表す場合は、適当なカルボキシレ
ートの具体例として、置換飽和または不飽和脂肪族カル
ボン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン
酸、酪酸、ヘキサン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸、プロピオール酸、クロトン
酸、ソルビン酸もしくはオレイン酸、脂環式カルボン
酸、例えばヘキサヒドロ安息香酸、芳香族カルボン酸、
例えば安息香酸、ナフトエ酸もしくはトルイル酸、また
は芳香脂肪族カルボン酸、例えばヒドロトロピン酸、ア
トロピン酸もしくはケイ皮酸が挙げられる。
場合は、適当な化合物の具体例として、アルキルホスフ
ィン酸またはアリールホスフィン酸のアニオン、例えば
メチルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、トリフルオ
ロメチル−ホスフィン酸またはフェニルホスフィン酸が
挙げられる。これらの化合物は置換されていてもよい。
前記式(I)でXがホスホネートを表す場合は、使用す
べき適当な化合物の具体例として、ホスホン酸置換エス
テル、例えばメチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ト
リフルオロメチルホスホン酸又はフェニルホスホン酸が
挙げられる。Xがホスフェートを表す場合は、適当なホ
スフェートの具体例として、リン酸ジエテスル、例えば
ジメチル−リン酸、ジエチルリン酸、ビス(トリフルオ
ロメチル)リン酸またはジフェニルリン酸が挙げられ
る。これらは置換されていてもよい。前記式(I)でX
がカルボキシレートを表す場合は、適当なカルボキシレ
ートの具体例として、置換飽和または不飽和脂肪族カル
ボン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン
酸、酪酸、ヘキサン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸、プロピオール酸、クロトン
酸、ソルビン酸もしくはオレイン酸、脂環式カルボン
酸、例えばヘキサヒドロ安息香酸、芳香族カルボン酸、
例えば安息香酸、ナフトエ酸もしくはトルイル酸、また
は芳香脂肪族カルボン酸、例えばヒドロトロピン酸、ア
トロピン酸もしくはケイ皮酸が挙げられる。
【0013】Mとしては、元素周期表第13族の元素、
例えばホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムま
たはタリウムが適当である。Eとしては、酸素(O)、
硫黄(S)、セレン(Se)、NR1 またはPR1〔式
中R1 は水素(H)、またはアルキル基もしくはアリー
ル基であってよいC 1 〜C10炭化水素基、例えばメチ
ル、エチル、tert−ブチルもしくはフェニルを表
す〕を使用するのが適している。E′は水素(H)、ア
ルキル基、アリール基、ハロゲン、R2 O基、R2 C
(O)O−基、R2 S−基、R2 R3 N−基、R2 C
(O)N(R3)−基、R2 R 3 P−基、O2 N−基、H
(O)C−基、R2(O)C−基、R2 O(O)C−基、
NC−基、R2 OS(O)2−基またはR2 OS(O)2基
を表し得る。本発明では、R2 およびR3 は互いに同じ
か又は異なっていてよく、各々が独立して水素原子
(H)、アルキル基、アリール基またはアラルキル基の
から選択される。R 2 および/またはR3 が結合してR
と一緒に、および/または互いと一緒になって1個以上
の環を形成することも可能である。本発明では、アルキ
レン、アリーレンおよびアラルキレン橋がRとして適し
ている。アルキレン橋は、ここでは例えば下記の式II
で示される構造単位であると理解されたい。
例えばホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムま
たはタリウムが適当である。Eとしては、酸素(O)、
硫黄(S)、セレン(Se)、NR1 またはPR1〔式
中R1 は水素(H)、またはアルキル基もしくはアリー
ル基であってよいC 1 〜C10炭化水素基、例えばメチ
ル、エチル、tert−ブチルもしくはフェニルを表
す〕を使用するのが適している。E′は水素(H)、ア
ルキル基、アリール基、ハロゲン、R2 O基、R2 C
(O)O−基、R2 S−基、R2 R3 N−基、R2 C
(O)N(R3)−基、R2 R 3 P−基、O2 N−基、H
(O)C−基、R2(O)C−基、R2 O(O)C−基、
NC−基、R2 OS(O)2−基またはR2 OS(O)2基
を表し得る。本発明では、R2 およびR3 は互いに同じ
か又は異なっていてよく、各々が独立して水素原子
(H)、アルキル基、アリール基またはアラルキル基の
から選択される。R 2 および/またはR3 が結合してR
と一緒に、および/または互いと一緒になって1個以上
の環を形成することも可能である。本発明では、アルキ
レン、アリーレンおよびアラルキレン橋がRとして適し
ている。アルキレン橋は、ここでは例えば下記の式II
で示される構造単位であると理解されたい。
【0014】
【化1】 ここでは、R4 および/またはR5 は互いに同じかまた
は異なる基であってよく、各々が独立して水素原子
(H)、アルキル基、アリール基、ハリド、アルコキシ
ドまたはアリールオキシドの中から選択される。R4 お
よびR5 が結合してR1 、R2 、R3 、R4 および/ま
たはR5 と一緒に1個以上の環を形成し得ることも可能
である。また、R4 および/またはR5 が隣接炭素原子
のR4 および/またはR5 と結合することも可能であ
り、その結果二つの炭素原子の間に二重または三重結合
が存在することになる。前記式(II)中、Oは1〜1
0の値を有する整数を表す。本発明では、アリーレンま
たはアラルキレン橋は、例えば下記の式III〜Xを満
たす構造単位であると理解される。
は異なる基であってよく、各々が独立して水素原子
(H)、アルキル基、アリール基、ハリド、アルコキシ
ドまたはアリールオキシドの中から選択される。R4 お
よびR5 が結合してR1 、R2 、R3 、R4 および/ま
たはR5 と一緒に1個以上の環を形成し得ることも可能
である。また、R4 および/またはR5 が隣接炭素原子
のR4 および/またはR5 と結合することも可能であ
り、その結果二つの炭素原子の間に二重または三重結合
が存在することになる。前記式(II)中、Oは1〜1
0の値を有する整数を表す。本発明では、アリーレンま
たはアラルキレン橋は、例えば下記の式III〜Xを満
たす構造単位であると理解される。
【0015】
【化2】
【0016】*印の位置は置換基EおよびE′の位置を
明らかにする。これらの位置におけるEおよびE′の配
置は反転し得る。前記式IIIでは、ベンゼン環のo
−、m−またはp−位置に架橋が生起し得る。式IVで
は、ナフタレン骨格の1,2−、1,3−、1,4−、
1,5−、1,6−、1,7−または1,8−位置に架
橋が生起し得る。式Vでは、ナフタレン骨格の2,3
−、2,4−、2,5−、2,6−、2,7−又は2,
8−位置に架橋が生起し得る。式VIでは、アントラセ
ン骨格の1,2−、1,3−、1,4−、1,5−、
1,6−、1,7−、1,8−、1,9−または1,1
0−位置に架橋が生起し得る。式VIIでは、アントラ
セン骨格の2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、
2,7−、2,8−、2,9−または2,10−位置に
架橋が生起し得る。
明らかにする。これらの位置におけるEおよびE′の配
置は反転し得る。前記式IIIでは、ベンゼン環のo
−、m−またはp−位置に架橋が生起し得る。式IVで
は、ナフタレン骨格の1,2−、1,3−、1,4−、
1,5−、1,6−、1,7−または1,8−位置に架
橋が生起し得る。式Vでは、ナフタレン骨格の2,3
−、2,4−、2,5−、2,6−、2,7−又は2,
8−位置に架橋が生起し得る。式VIでは、アントラセ
ン骨格の1,2−、1,3−、1,4−、1,5−、
1,6−、1,7−、1,8−、1,9−または1,1
0−位置に架橋が生起し得る。式VIIでは、アントラ
セン骨格の2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、
2,7−、2,8−、2,9−または2,10−位置に
架橋が生起し得る。
【0017】式VIIIでは、アントラセン骨格の1,
9−、2,9−,3,9−、4−9または9,10−位
置に架橋が生起し得る。式IXでは、ビフェニル骨格の
2,2′−、2,3′−、2,4′−、2,5′−、
2,6′−、3,3′−、3,4′−、3,5′−、
3,6′−、4−4′−、4,5′−、4,6′−、
5,5′−、5,6′−または6,6′−位置に架橋が
生起し得る。式Xでは、ビナフチル骨格の2,2′−、
2,3′−、2,4′−、2,5′−、2,6′−、
2,7′−、2,8′−、3,3′−、3,4′−、
3,5′−、3,6′−、3,7′−、3,8′−、
4,4′−、4,5′−、4,6′−、4,7′−、
4,8′−、5,5′−、5,6′−、5,7′−、
5,8′−、6,6′−、6,7′−、6,8′−、
7,7′−、7,8′−または8,8′−位置に架橋が
生起し得る。
9−、2,9−,3,9−、4−9または9,10−位
置に架橋が生起し得る。式IXでは、ビフェニル骨格の
2,2′−、2,3′−、2,4′−、2,5′−、
2,6′−、3,3′−、3,4′−、3,5′−、
3,6′−、4−4′−、4,5′−、4,6′−、
5,5′−、5,6′−または6,6′−位置に架橋が
生起し得る。式Xでは、ビナフチル骨格の2,2′−、
2,3′−、2,4′−、2,5′−、2,6′−、
2,7′−、2,8′−、3,3′−、3,4′−、
3,5′−、3,6′−、3,7′−、3,8′−、
4,4′−、4,5′−、4,6′−、4,7′−、
4,8′−、5,5′−、5,6′−、5,7′−、
5,8′−、6,6′−、6,7′−、6,8′−、
7,7′−、7,8′−または8,8′−位置に架橋が
生起し得る。
【0018】R6 および/またはR7 は互いに同じかま
たは異なっていてよく、各々が独立して水素(H)、ア
ルキル、アリール、ハリド、アルコキシドまたはアリー
ルオキシドの中から選択される。R6 および/またはR
7 はR6 および/またはR7との結合により1個以上の
環を形成し得る。この場合のハリド、アルコキシドおよ
びアリールオキシドは前述の定義に従う。R4 および/
またはR5 はR1 、R2 、R3 、R4 および/またはR
5 と一緒になって1個以上の環を形成し得る。R6 およ
び/またはR7 は隣接炭素原子のR6 および/またはR
7 と結合することもでき、その結果二つのC原子の間に
二重または三重結合が形成され得る。各R8 基は互いに
同じかまたは異なっていてよく、各々が独立して水素
(H)、アルキル、アリール、アラルキル、ハロゲン、
R2 O、R2 C(O)O−、R 2 S−、R2 R3 N、R
2 C(O)N(R3)、R2 R3 P−、O2 N−、H
(O)C−、R2 (O)C−、R2 O(O)C−、NC
−、R2 S(O)2−またはR 2 OS(O)2基の中から選
択される。R4 、R5 、R6 およびR7 は互いに同じか
または異なっていてよく、各々が独立して水素(H)、
アルキル、アリール、ハリド、アルコキシド、またはア
リールオキシドの中から選択される。R4 、R5 、R6
および/またはR7 はR1、R2 、R3 と、および/ま
たは互いに結合して1個以上の環を形成し得る。この場
合のハリド、アルコキシドおよびアリールオキシドは前
述の定義に従う。
たは異なっていてよく、各々が独立して水素(H)、ア
ルキル、アリール、ハリド、アルコキシドまたはアリー
ルオキシドの中から選択される。R6 および/またはR
7 はR6 および/またはR7との結合により1個以上の
環を形成し得る。この場合のハリド、アルコキシドおよ
びアリールオキシドは前述の定義に従う。R4 および/
またはR5 はR1 、R2 、R3 、R4 および/またはR
5 と一緒になって1個以上の環を形成し得る。R6 およ
び/またはR7 は隣接炭素原子のR6 および/またはR
7 と結合することもでき、その結果二つのC原子の間に
二重または三重結合が形成され得る。各R8 基は互いに
同じかまたは異なっていてよく、各々が独立して水素
(H)、アルキル、アリール、アラルキル、ハロゲン、
R2 O、R2 C(O)O−、R 2 S−、R2 R3 N、R
2 C(O)N(R3)、R2 R3 P−、O2 N−、H
(O)C−、R2 (O)C−、R2 O(O)C−、NC
−、R2 S(O)2−またはR 2 OS(O)2基の中から選
択される。R4 、R5 、R6 およびR7 は互いに同じか
または異なっていてよく、各々が独立して水素(H)、
アルキル、アリール、ハリド、アルコキシド、またはア
リールオキシドの中から選択される。R4 、R5 、R6
および/またはR7 はR1、R2 、R3 と、および/ま
たは互いに結合して1個以上の環を形成し得る。この場
合のハリド、アルコキシドおよびアリールオキシドは前
述の定義に従う。
【0019】前記式III〜Xでは、文字pおよびqは
0〜8の整数を表し、互いに同じかまたは異なっていて
よい。橋は、p=q=0の場合にはアリーレン橋である
と定義され、p+q>1の場合にはアラルキレン橋であ
ると定義される。
0〜8の整数を表し、互いに同じかまたは異なっていて
よい。橋は、p=q=0の場合にはアリーレン橋である
と定義され、p+q>1の場合にはアラルキレン橋であ
ると定義される。
【0020】構造単位E−R−E′の具体例としては、
メタノレート、エタノレート、i−プロパノレート、ベ
ンジルアルコレート、2−メトキシエタノレート、2−
(2−ピペリジル)エタノレート、2,2,2−トリフ
ルオロエタノレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロイソプロパノレート、2,4−(メチルメルカ
プト)エタノレート、3−ジメチルホスファニルフェノ
レート、2−ジメチルアミノシクロヘキサノレート、エ
チルチオレート、ベンジルチオレート、2−メトキシ−
エタンチオレート、メチルセレネート、N−メチルアニ
リド、6−メトキシ−2,3−ジヒドロ−インドレー
ト、フェノレート、キノリン−7−オレート、3−メト
キシフェノレート、3,5−メトキシ−フェノレート、
3−メチル−4−ジメチルアミノ−フェノレート、3−
ジメチルアミノフェノレート、2−フルオロフェノレー
ト、ペンタ−フルオロフェノレート、3−tert−ブ
チルフェノレート、2,6−ジ−tert−ブチル−4
−メチルフェノレート、3−メチルメルカプトフェノレ
ート、3,5−トリフルオロメチルフェノレート、3,
5−ジメトキシフェノレート、2−(2−ピリジル)フ
ェノレート、6−メトキシインドレート、2′−メトキ
シビフェニル−2−オレート、2′−メトキシ−1,
1′−ビナフタレニル−2−オレートまたは8−メトキ
シ−2−ナフトレートが挙げられる。
メタノレート、エタノレート、i−プロパノレート、ベ
ンジルアルコレート、2−メトキシエタノレート、2−
(2−ピペリジル)エタノレート、2,2,2−トリフ
ルオロエタノレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロイソプロパノレート、2,4−(メチルメルカ
プト)エタノレート、3−ジメチルホスファニルフェノ
レート、2−ジメチルアミノシクロヘキサノレート、エ
チルチオレート、ベンジルチオレート、2−メトキシ−
エタンチオレート、メチルセレネート、N−メチルアニ
リド、6−メトキシ−2,3−ジヒドロ−インドレー
ト、フェノレート、キノリン−7−オレート、3−メト
キシフェノレート、3,5−メトキシ−フェノレート、
3−メチル−4−ジメチルアミノ−フェノレート、3−
ジメチルアミノフェノレート、2−フルオロフェノレー
ト、ペンタ−フルオロフェノレート、3−tert−ブ
チルフェノレート、2,6−ジ−tert−ブチル−4
−メチルフェノレート、3−メチルメルカプトフェノレ
ート、3,5−トリフルオロメチルフェノレート、3,
5−ジメトキシフェノレート、2−(2−ピリジル)フ
ェノレート、6−メトキシインドレート、2′−メトキ
シビフェニル−2−オレート、2′−メトキシ−1,
1′−ビナフタレニル−2−オレートまたは8−メトキ
シ−2−ナフトレートが挙げられる。
【0021】二つのERE′単位は互いに結合すること
によって1個以上の環、例えば6,6′−ジ−tert
−ブチル−4,4′−ジメチル−2,2′−メタンジイ
ル−ジ−フェノレートまたは6,6′−ジ−tert−
ブチル−4,4′−ジメチル−2,2′−スルファンジ
イル−ジ−フェノレートを形成することもできる。
によって1個以上の環、例えば6,6′−ジ−tert
−ブチル−4,4′−ジメチル−2,2′−メタンジイ
ル−ジ−フェノレートまたは6,6′−ジ−tert−
ブチル−4,4′−ジメチル−2,2′−スルファンジ
イル−ジ−フェノレートを形成することもできる。
【0022】本発明の方法では、式中のXがハリド、ア
ルコキシド、アリールオキシドまたはスルホネート、好
ましくはスルホネートを表し、好ましくはペルフルオロ
アルキルスルホネートであり、Mがホウ素、アルミニウ
ムまたはガリウムを表し、好ましくはアルミニウムであ
り、EがO、SまたはNR1 を表し、好ましくはOであ
り、Rがアリーレン基またはアルキレン基、好ましくは
フェニレンを表し、E′が水素原子(H)、R2 O−
基、R2 S−基、R2 R3 N−基、R2 R3 P−基また
はNC−基を表し、好ましくは水素原子(H)、R2 O
−基、R2 S−基、R2 R3 N−基またはR2 R3 P−
基である式Iの化合物を使用するのが好ましい。
ルコキシド、アリールオキシドまたはスルホネート、好
ましくはスルホネートを表し、好ましくはペルフルオロ
アルキルスルホネートであり、Mがホウ素、アルミニウ
ムまたはガリウムを表し、好ましくはアルミニウムであ
り、EがO、SまたはNR1 を表し、好ましくはOであ
り、Rがアリーレン基またはアルキレン基、好ましくは
フェニレンを表し、E′が水素原子(H)、R2 O−
基、R2 S−基、R2 R3 N−基、R2 R3 P−基また
はNC−基を表し、好ましくは水素原子(H)、R2 O
−基、R2 S−基、R2 R3 N−基またはR2 R3 P−
基である式Iの化合物を使用するのが好ましい。
【0023】式Iで示される金属化合物は、ある場合に
は新規の化合物であり、ある場合には公知の化合物であ
る。公知の化合物は文献に記載の方法で合成し得る(例
えばJ.Indian Chem.Soc.62(19
85)494参照)。新規の化合物は後述の式XI: (RF SO3)2 M(ERE′l) (XI) で示され、後述の式XII: MY1 Y2 Y3 (XII) で示される化合物をH(E−R−E′l )およびRF S
O3 Hと反応させるか、または後述の式XIII M(ERE′l)3 (XIII) で示される化合物をRF SO3 Hと反応させることによ
って生成できる。
は新規の化合物であり、ある場合には公知の化合物であ
る。公知の化合物は文献に記載の方法で合成し得る(例
えばJ.Indian Chem.Soc.62(19
85)494参照)。新規の化合物は後述の式XI: (RF SO3)2 M(ERE′l) (XI) で示され、後述の式XII: MY1 Y2 Y3 (XII) で示される化合物をH(E−R−E′l )およびRF S
O3 Hと反応させるか、または後述の式XIII M(ERE′l)3 (XIII) で示される化合物をRF SO3 Hと反応させることによ
って生成できる。
【0024】式Iで示される化合物により触媒される重
付加反応は、一般的には40〜200℃、好ましくは4
0〜160℃、より好ましくは50〜150℃の温度範
囲で、0〜20バールの全圧で生起する。操作は、例え
ばシクロヘキサン、トルエン、キシレン、ジエチルエー
テル、ジメトキシエタンおよび/又は塩素化炭化水素、
例えば塩化メチレン、クロロホルムもしくは1,2−ジ
クロロプロパンといったような不活性有機溶媒中で実施
してもよく、しなくてもよい。溶媒の量は通常、製造す
べきポリエーテルポリオールの総重量の約10〜30重
量%である。触媒濃度は、所与の反応条件下で重付加反
応を効果的に制御できるように選択する。触媒濃度は一
般的には、製造すべきポリエーテルポリオールの総重量
の0.00005重量%〜10重量%、好ましくは0.
0001重量%〜5重量%にする。重付加反応の反応時
間は数分〜数日、好ましくは数分〜数時間の範囲であ
る。本発明の方法で製造するポリエーテルの分子量は1
00〜20,000g/モル、好ましくは200〜1
5,000g/モルの範囲である。ここで言及する分子
量は全て、OH価に基づき且つ末端基分析により決定さ
れる数平均分子量である。触媒として使用される式Iの
化合物、特にトリフラートは、活性水素原子含有化合物
(例えば水、アルコール)に対して安定であるため、使
用する反応装置に例えばエナメルのような特別の材料を
使う必要はない。重付加操作は、連続法、バッチ法また
はセミバッチ法で実施し得る。
付加反応は、一般的には40〜200℃、好ましくは4
0〜160℃、より好ましくは50〜150℃の温度範
囲で、0〜20バールの全圧で生起する。操作は、例え
ばシクロヘキサン、トルエン、キシレン、ジエチルエー
テル、ジメトキシエタンおよび/又は塩素化炭化水素、
例えば塩化メチレン、クロロホルムもしくは1,2−ジ
クロロプロパンといったような不活性有機溶媒中で実施
してもよく、しなくてもよい。溶媒の量は通常、製造す
べきポリエーテルポリオールの総重量の約10〜30重
量%である。触媒濃度は、所与の反応条件下で重付加反
応を効果的に制御できるように選択する。触媒濃度は一
般的には、製造すべきポリエーテルポリオールの総重量
の0.00005重量%〜10重量%、好ましくは0.
0001重量%〜5重量%にする。重付加反応の反応時
間は数分〜数日、好ましくは数分〜数時間の範囲であ
る。本発明の方法で製造するポリエーテルの分子量は1
00〜20,000g/モル、好ましくは200〜1
5,000g/モルの範囲である。ここで言及する分子
量は全て、OH価に基づき且つ末端基分析により決定さ
れる数平均分子量である。触媒として使用される式Iの
化合物、特にトリフラートは、活性水素原子含有化合物
(例えば水、アルコール)に対して安定であるため、使
用する反応装置に例えばエナメルのような特別の材料を
使う必要はない。重付加操作は、連続法、バッチ法また
はセミバッチ法で実施し得る。
【0025】本発明の方法は一般的には下記のように実
施し得る:式Iで示されるルイス酸触媒での触媒作用に
よりアルキレンオキシドと出発化合物とを重付加反応さ
せてポリエーテルポリオールを製造するために、触媒、
出発化合物(例えばプロピレングリコールまたはトリメ
チロールプロパン)、そして任意に溶媒をそれぞれ反応
容器内に導入し、全圧0〜20バールで所望の反応温度
(好ましくは50〜150℃)にもたらした。次いで所
望量のアルキレンオキシド、好ましくはプロピレンオキ
シドを制御式膜ポンプ(controlled mem
brane pump)で反応容器内に継続的に供給し
た。エポキシド供給および所与の反応温度での後反応時
間(post−reaction time)が終了し
た時点で、揮発性成分を減圧下(1mbar)90℃で
30分間蒸留して除去し、次いで反応混合物を室温に冷
却した。得られたポリエーテルポリオールは無色の粘稠
液であり、OH価および粘度の測定によって特徴を調べ
た。
施し得る:式Iで示されるルイス酸触媒での触媒作用に
よりアルキレンオキシドと出発化合物とを重付加反応さ
せてポリエーテルポリオールを製造するために、触媒、
出発化合物(例えばプロピレングリコールまたはトリメ
チロールプロパン)、そして任意に溶媒をそれぞれ反応
容器内に導入し、全圧0〜20バールで所望の反応温度
(好ましくは50〜150℃)にもたらした。次いで所
望量のアルキレンオキシド、好ましくはプロピレンオキ
シドを制御式膜ポンプ(controlled mem
brane pump)で反応容器内に継続的に供給し
た。エポキシド供給および所与の反応温度での後反応時
間(post−reaction time)が終了し
た時点で、揮発性成分を減圧下(1mbar)90℃で
30分間蒸留して除去し、次いで反応混合物を室温に冷
却した。得られたポリエーテルポリオールは無色の粘稠
液であり、OH価および粘度の測定によって特徴を調べ
た。
【0026】本発明の方法は、工業的に有利な温度範囲
で無色のポリエーテルポリオールが得られることを特徴
とする。本発明の方法の特別な利点は、触媒の活性が大
きいため触媒を低濃度(製造すべきポリエーテルポリオ
ールの量の50ppm以下、実施例1〜17参照)で使
用することができ、従って最終ポリエーテルポリオール
から触媒を除去する必要がないことにある。本発明は、
元素周期表第13族の元素の新規のビス(ペルフルオロ
−アルキル−スルホン酸)化合物も提供する。
で無色のポリエーテルポリオールが得られることを特徴
とする。本発明の方法の特別な利点は、触媒の活性が大
きいため触媒を低濃度(製造すべきポリエーテルポリオ
ールの量の50ppm以下、実施例1〜17参照)で使
用することができ、従って最終ポリエーテルポリオール
から触媒を除去する必要がないことにある。本発明は、
元素周期表第13族の元素の新規のビス(ペルフルオロ
−アルキル−スルホン酸)化合物も提供する。
【0027】これらの新規化合物は、下記の式XI: (RF SO3)2 M(ERE′l) (XI) で示される。前記式中、RF はペルフルオロアルキルま
たはペルフルオロアリール基を表し、Mは元素周期表第
13族の金属を表し、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1
またはPR1 を表し、但しR1 は水素原子、またはアル
キルもしくはアリールであってよいC1 〜C20炭化水素
基を表し、R1 がRと一緒に環を形成し得、Rはアルキ
レン、アリーレンまたはアラルキレン橋であってよいC
1 〜C30炭化水素橋を表し、E′はH、アルキルもしく
はアリールであってよいC1 〜C20炭化水素基、O
R2 、NR2 R3 、ハロゲン、SR2 またはPR2 R3
を表し、但しR2 およびR3 は互いに同じかまたは異な
っていてよく、各々が独立して水素原子、またはアルキ
ル、アリールもしくはアラルキルであってよいC1 〜C
20炭化水素基を表し、R2 がR3 もしくはRと一緒に環
を形成し得、および/またはR3 がRもしくはR2 と一
緒に環を形成し得、lは0〜10の整数を表す。
たはペルフルオロアリール基を表し、Mは元素周期表第
13族の金属を表し、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1
またはPR1 を表し、但しR1 は水素原子、またはアル
キルもしくはアリールであってよいC1 〜C20炭化水素
基を表し、R1 がRと一緒に環を形成し得、Rはアルキ
レン、アリーレンまたはアラルキレン橋であってよいC
1 〜C30炭化水素橋を表し、E′はH、アルキルもしく
はアリールであってよいC1 〜C20炭化水素基、O
R2 、NR2 R3 、ハロゲン、SR2 またはPR2 R3
を表し、但しR2 およびR3 は互いに同じかまたは異な
っていてよく、各々が独立して水素原子、またはアルキ
ル、アリールもしくはアラルキルであってよいC1 〜C
20炭化水素基を表し、R2 がR3 もしくはRと一緒に環
を形成し得、および/またはR3 がRもしくはR2 と一
緒に環を形成し得、lは0〜10の整数を表す。
【0028】トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフ
ルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスル
ホン酸、ヘプタデカンフルオロクタンスルホン酸、トリ
デカフルオロメチルシクロヘキシルスルホン酸、5−ト
リフルオロメチルドデカフルオロヘキサンスルホン酸ま
たはペンタフルオロフェニルスルホン酸、好ましくはト
リフルオロメタンスルホン酸は、ペルフルオロアルキル
スルホン酸またはペルフルオロアリールスルホン酸の形
態で任意に置換されたRF SO3 として言及し得る。前
述のように定義したMは好ましくはホウ素、アルミニウ
ムまたはガリウムであり、特に好ましくはアルミニウム
である。
ルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスル
ホン酸、ヘプタデカンフルオロクタンスルホン酸、トリ
デカフルオロメチルシクロヘキシルスルホン酸、5−ト
リフルオロメチルドデカフルオロヘキサンスルホン酸ま
たはペンタフルオロフェニルスルホン酸、好ましくはト
リフルオロメタンスルホン酸は、ペルフルオロアルキル
スルホン酸またはペルフルオロアリールスルホン酸の形
態で任意に置換されたRF SO3 として言及し得る。前
述のように定義したMは好ましくはホウ素、アルミニウ
ムまたはガリウムであり、特に好ましくはアルミニウム
である。
【0029】前述のように定義した単位ERE′は好ま
しくはメタノレート、エタノレート、i−プロパノレー
ト、tert−ブタノレート、シクロヘキサノレート、
ベンジルアルコレート、2−メトキシエタノレート、2
−(2−ピペリジル)エタノレート、2,2,2−トリ
フルオロエタノレート、1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロパノレート、2−(メチルメルカプ
ト)エタノレート、3−ジメチルホスファニルフェノレ
ート、2−ジメチルアミノ−シクロヘキサノレート、エ
チルチオレート、ベンジルチオレート、2−メトキシエ
タンチオレート、メチルセレネート、N−メチルアニリ
ド、6−メトキシ−2,3−ジヒドロインドレート、フ
ェノレート、キノリン−7−オレート、3−メトキシフ
ェノレート、3,5′−メトキシフェノレート、3−メ
チル−4−ジメチル−アミノフェノレート、3−ジメチ
ルアミノフェノレート、2−フルオロフェノレート、ペ
ンタフルオロフェノレート、3−tert−ブチルフェ
ノレート、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチル
フェノレート、3−メチルメルカプトフェノレート、
3,5−トリフルオロメチルフェノレート、3,5−ジ
メトキシ−フェノレート、2−(2−ピリジル)フェノ
レート、6−メトキシインドレート、2′−メトキシビ
フェニル−2−オレート、2′−メトキシ−1,1′−
ビナフタレニル−2−オレートまたは8−メトキシ−2
−ナフトレート、より好ましくは1,1,1,3,3,
3,−ヘキサフルオロイソプロパノレート、フェノレー
ト、3−メトキシフェノレート、3,5−メトキシフェ
ノレート、3−メチル−4−ジメチルアミノ−フェノレ
ート、3−(N、N−ジメチルアミノ)フェノレート、
3−フルオロフェノレート、ペンタフルオロフェノレー
ト、3−メチルメルカプトフェノレート、3,5−トリ
フルオロメチル−フェノレート、3,5−ジメトキシフ
ェノレートまたは6−メトキシインドレートである。
しくはメタノレート、エタノレート、i−プロパノレー
ト、tert−ブタノレート、シクロヘキサノレート、
ベンジルアルコレート、2−メトキシエタノレート、2
−(2−ピペリジル)エタノレート、2,2,2−トリ
フルオロエタノレート、1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロパノレート、2−(メチルメルカプ
ト)エタノレート、3−ジメチルホスファニルフェノレ
ート、2−ジメチルアミノ−シクロヘキサノレート、エ
チルチオレート、ベンジルチオレート、2−メトキシエ
タンチオレート、メチルセレネート、N−メチルアニリ
ド、6−メトキシ−2,3−ジヒドロインドレート、フ
ェノレート、キノリン−7−オレート、3−メトキシフ
ェノレート、3,5′−メトキシフェノレート、3−メ
チル−4−ジメチル−アミノフェノレート、3−ジメチ
ルアミノフェノレート、2−フルオロフェノレート、ペ
ンタフルオロフェノレート、3−tert−ブチルフェ
ノレート、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチル
フェノレート、3−メチルメルカプトフェノレート、
3,5−トリフルオロメチルフェノレート、3,5−ジ
メトキシ−フェノレート、2−(2−ピリジル)フェノ
レート、6−メトキシインドレート、2′−メトキシビ
フェニル−2−オレート、2′−メトキシ−1,1′−
ビナフタレニル−2−オレートまたは8−メトキシ−2
−ナフトレート、より好ましくは1,1,1,3,3,
3,−ヘキサフルオロイソプロパノレート、フェノレー
ト、3−メトキシフェノレート、3,5−メトキシフェ
ノレート、3−メチル−4−ジメチルアミノ−フェノレ
ート、3−(N、N−ジメチルアミノ)フェノレート、
3−フルオロフェノレート、ペンタフルオロフェノレー
ト、3−メチルメルカプトフェノレート、3,5−トリ
フルオロメチル−フェノレート、3,5−ジメトキシフ
ェノレートまたは6−メトキシインドレートである。
【0030】個々に下記の化合物が具体例として挙げら
れよう:アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホ
ネート)フェノレート、アルミニウムビス(トリフルオ
ロメタンスルホネート)−3−メチル−4−N,N−ジ
メチルアミノフェノレート、アルミニウムビス(トリフ
ルオロメタンスルホネート)−3−N,N−ジメチルア
ミノフェノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメ
タンスルホネート)−3−メトキシフェノレート、アル
ミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3
−フルオロフェノレート、アルミニウムビス(トリフル
オロ−メタンスルホネート)−3,5−ジフルオロフェ
ノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−ス
ルホネート)−ペンタフルオロフェノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタン−スルホネート)−6−
メトキシインドレート、アルミニウムビス(トリフルオ
ロメタン−スルホネート)−5−tert−ブチルフェ
ノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−ス
ルホネート)−3,5−ジ−tert−ブチルフェノレ
ート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−スルホ
ネート)−3,5−ジメトキシフェノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタン−スルホネート)−3−
メルカプトフェノレート、アルミニウムビス(トリフル
オロメタン−スルホネート)−3−メタノレート、アル
ミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3
−エタノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−3−イソプロパノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3−t
ert−ブチレート、アルミニウムビス(トリフルオロ
メタンスルホネート)−3−ベンジレート、アルミニウ
ムビス(トリフルオロ−メタンスルホネート)−3−シ
クロヘキサノレートまたはアルミニウムビス(トリフル
オロメタン−スルホネート)−3−メトキシシクロヘキ
サノレート。
れよう:アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホ
ネート)フェノレート、アルミニウムビス(トリフルオ
ロメタンスルホネート)−3−メチル−4−N,N−ジ
メチルアミノフェノレート、アルミニウムビス(トリフ
ルオロメタンスルホネート)−3−N,N−ジメチルア
ミノフェノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメ
タンスルホネート)−3−メトキシフェノレート、アル
ミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3
−フルオロフェノレート、アルミニウムビス(トリフル
オロ−メタンスルホネート)−3,5−ジフルオロフェ
ノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−ス
ルホネート)−ペンタフルオロフェノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタン−スルホネート)−6−
メトキシインドレート、アルミニウムビス(トリフルオ
ロメタン−スルホネート)−5−tert−ブチルフェ
ノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−ス
ルホネート)−3,5−ジ−tert−ブチルフェノレ
ート、アルミニウムビス(トリフルオロメタン−スルホ
ネート)−3,5−ジメトキシフェノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタン−スルホネート)−3−
メルカプトフェノレート、アルミニウムビス(トリフル
オロメタン−スルホネート)−3−メタノレート、アル
ミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3
−エタノレート、アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−3−イソプロパノレート、アルミニ
ウムビス(トリフルオロメタンスルホネート)−3−t
ert−ブチレート、アルミニウムビス(トリフルオロ
メタンスルホネート)−3−ベンジレート、アルミニウ
ムビス(トリフルオロ−メタンスルホネート)−3−シ
クロヘキサノレートまたはアルミニウムビス(トリフル
オロメタン−スルホネート)−3−メトキシシクロヘキ
サノレート。
【0031】式XIで示される元素周期表第13族の元
素の新規のビス(ペルフルオロアルキルスルホン酸)化
合物の製造方法も発見された。この方法は、(A)第一
のステップで−100〜300℃の温度で、(1)下記
の式XII: MY1 Y2 Y3 (XII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Y1 、
Y2 またはY3 は互いに同じかまたは異なっていてよ
く、各々が独立して水素原子、アルキルもしくはアリー
ル基であってよいC1 〜C10炭化水素、ハリド、アルコ
キシド、アリールオキシドまたはアミドの中から選択さ
れる〕で示される化合物を、不活性溶媒の存在下または
不在下に、(2)下記の式 H(ERE′l) 〔式中、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1
を表し、但しR1 は水素原子、またはアルキルもしくは
アリールであってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R
1 がRと一緒に環を形成し得、Rはアルキレン、アリー
レンまたはアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化
水素橋を表し、E′はH、アルキルもしくはアリールで
あってよいC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR
2 R3 、ハロゲン、SR2 、PR2 R3 を表し、但しR
2 およびR3 は互いに同じかまたは異なっていてよく、
各々が独立して水素原子、またはアルキル、アリールも
しくはアラルキルであってよいC1 〜C20炭化水素基の
中から選択され、R2 がR3 もしくはRと一緒に環を形
成し得、および/またはR3 がR2 もしくはRと一緒に
環を形成し得、lは0〜10の整数を表す〕で示される
化合物と反応させ、(B)次いで第二のステップで−1
00℃〜300℃の温度で、不活性溶媒の存在下または
不在下に、(3)下記の式 RF SO3 H 〔式中、RF はペルフルオロアルキルまたはペルフルオ
ロアリール基を表す〕で示される化合物と反応させるこ
とからなる。ここでは、第一段階の生成物を分離するか
否かは重要ではない。
素の新規のビス(ペルフルオロアルキルスルホン酸)化
合物の製造方法も発見された。この方法は、(A)第一
のステップで−100〜300℃の温度で、(1)下記
の式XII: MY1 Y2 Y3 (XII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Y1 、
Y2 またはY3 は互いに同じかまたは異なっていてよ
く、各々が独立して水素原子、アルキルもしくはアリー
ル基であってよいC1 〜C10炭化水素、ハリド、アルコ
キシド、アリールオキシドまたはアミドの中から選択さ
れる〕で示される化合物を、不活性溶媒の存在下または
不在下に、(2)下記の式 H(ERE′l) 〔式中、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1
を表し、但しR1 は水素原子、またはアルキルもしくは
アリールであってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R
1 がRと一緒に環を形成し得、Rはアルキレン、アリー
レンまたはアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化
水素橋を表し、E′はH、アルキルもしくはアリールで
あってよいC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR
2 R3 、ハロゲン、SR2 、PR2 R3 を表し、但しR
2 およびR3 は互いに同じかまたは異なっていてよく、
各々が独立して水素原子、またはアルキル、アリールも
しくはアラルキルであってよいC1 〜C20炭化水素基の
中から選択され、R2 がR3 もしくはRと一緒に環を形
成し得、および/またはR3 がR2 もしくはRと一緒に
環を形成し得、lは0〜10の整数を表す〕で示される
化合物と反応させ、(B)次いで第二のステップで−1
00℃〜300℃の温度で、不活性溶媒の存在下または
不在下に、(3)下記の式 RF SO3 H 〔式中、RF はペルフルオロアルキルまたはペルフルオ
ロアリール基を表す〕で示される化合物と反応させるこ
とからなる。ここでは、第一段階の生成物を分離するか
否かは重要ではない。
【0032】下記の式XI: (RF SO3)2 M(ERE′l) (XI) 〔式中、RF 、M、E、R、E′およびlは前述の定義
に従う〕で示される元素周期表第13族の元素の新規の
ビス(ペルフルオロアルキル−スルホン酸)化合物の別
の製造方法は、(A)−100℃〜300℃の温度で、
(1)下記の式XIII M(ERE′l)3 (XIII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Eは酸
素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1 を表し、但しR
1 は水素原子、またはアルキルもしくはアリールであっ
てよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R1 がRと一緒に
1個以上の環を形成し得、Rはアルキレン、アリーレン
またはアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化水素
橋を表し、E′はH、アルキルもしくはアリールであっ
てよいC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハ
ロゲン、SR2 またはPR2 R3 を表し、但しR2 およ
びR3 は互いに同じかまたは異なっていてよく、各々が
独立して水素原子、アルキル、アリールもしくはアラル
キルであってよいC1 〜C20炭化水素基の中から選択さ
れ、R2 がR3 もしくはRと一緒に、および/またはR
3 がR2 もしくはRと一緒に環を形成し得、lは0〜1
0の整数を表す〕で示される化合物と、(2)下記の式 RF SO3 H 〔式中、RF はペルフルオロアルキルまたはペルフルオ
ロアリール基を表す〕で示される化合物とを、1種類以
上の不活性溶媒の存在下または不在下に反応させること
からなる。
に従う〕で示される元素周期表第13族の元素の新規の
ビス(ペルフルオロアルキル−スルホン酸)化合物の別
の製造方法は、(A)−100℃〜300℃の温度で、
(1)下記の式XIII M(ERE′l)3 (XIII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Eは酸
素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1 を表し、但しR
1 は水素原子、またはアルキルもしくはアリールであっ
てよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R1 がRと一緒に
1個以上の環を形成し得、Rはアルキレン、アリーレン
またはアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化水素
橋を表し、E′はH、アルキルもしくはアリールであっ
てよいC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハ
ロゲン、SR2 またはPR2 R3 を表し、但しR2 およ
びR3 は互いに同じかまたは異なっていてよく、各々が
独立して水素原子、アルキル、アリールもしくはアラル
キルであってよいC1 〜C20炭化水素基の中から選択さ
れ、R2 がR3 もしくはRと一緒に、および/またはR
3 がR2 もしくはRと一緒に環を形成し得、lは0〜1
0の整数を表す〕で示される化合物と、(2)下記の式 RF SO3 H 〔式中、RF はペルフルオロアルキルまたはペルフルオ
ロアリール基を表す〕で示される化合物とを、1種類以
上の不活性溶媒の存在下または不在下に反応させること
からなる。
【0033】例えば、三塩化アルミニウム、三臭化アル
ミニウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリイソブチルアルミニウム、塩化ジエチルア
ルミニウム、エチルアルミニウムセスキクロリド、アル
ミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリ−t
ert−ブトキシドまたはアルミニウムトリフェノレー
トは、本発明の方法で式XIIの化合物として使用する
のに好ましいものある。例えばアルミニウムトリイソプ
ロポキシド、アルミニウムトリ−tert−ブトキシド
またはアルミニウムトリフェノレートは、本発明の方法
で式XIIIの化合物として使用するのに好ましい。前
記方法では−100℃〜200℃の温度範囲が好まし
く、より好ましくは−80〜150℃である。総反応時
間は原料に応じて数分〜48時間の範囲で変化する。任
意に、より高い圧力またはより低い圧力で操作を実施す
ることも可能である。
ミニウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリイソブチルアルミニウム、塩化ジエチルア
ルミニウム、エチルアルミニウムセスキクロリド、アル
ミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリ−t
ert−ブトキシドまたはアルミニウムトリフェノレー
トは、本発明の方法で式XIIの化合物として使用する
のに好ましいものある。例えばアルミニウムトリイソプ
ロポキシド、アルミニウムトリ−tert−ブトキシド
またはアルミニウムトリフェノレートは、本発明の方法
で式XIIIの化合物として使用するのに好ましい。前
記方法では−100℃〜200℃の温度範囲が好まし
く、より好ましくは−80〜150℃である。総反応時
間は原料に応じて数分〜48時間の範囲で変化する。任
意に、より高い圧力またはより低い圧力で操作を実施す
ることも可能である。
【0034】本発明の方法は好ましくは、1種類以上の
溶媒、好ましくは例えばヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、他の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、または
これらを任意の比率で混合したものの存在下で実施す
る。溶媒または溶媒混合物の量は随意変更し得る。該量
は、反応体の濃度が反応混合物全体の5〜80重量%に
なるように適宜選択する。
溶媒、好ましくは例えばヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、他の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、または
これらを任意の比率で混合したものの存在下で実施す
る。溶媒または溶媒混合物の量は随意変更し得る。該量
は、反応体の濃度が反応混合物全体の5〜80重量%に
なるように適宜選択する。
【0035】以下は、本発明の方法の好ましい実施例、
特定的には式XIIの化合物とH(ERE′l )および
RF SO3 Hとの反応の好ましい実施例の可能な変形例
である。先ず、式XIIの化合物を溶媒または溶媒混合
物に溶解または懸濁し、必要な反応温度にもたらす。H
(ERE′l )を溶液または純粋物質の形態で、温度お
よび発生ガスが適当な範囲内に留まるように適当な時間
内で前記懸濁液中に供給する。該反応混合物を、ガスが
発生しなくなるまで適当な反応温度で反応させ続ける。
次いで反応混合物を所望の温度にもたらし、ペルフルオ
ロアルキルスルホン酸またはペルフルオロアリールスル
ホン酸を、溶液または純粋物質の形態で、温度および発
生ガスが適当な範囲内に留まるように適当な時間内で導
入する。該反応混合物を、ガスが発生しなくなるまで適
当な反応温度で反応させ続ける。溶媒は蒸留によって反
応混合物から除去し得、または場合によっては、式XI
で示される生成物を有利には濾過もしくは遠心分離によ
って除去し得る。本発明で原料として使用される化合物
は、市販のものを含む公知の生成物を表す。本発明の化
合物はその製法に基づいて、種々の量の溶媒を含み得
る。本発明の化合物は、環状エーテルの開環重合により
ポリエーテルを合成するための触媒として適している。
この場合の環状エーテルとは、例えばオキシラン、オキ
セタン、テトラヒドロフラン、オキセパン、1,3−ジ
オキソランまたは1,3,5−トリオキサンといったよ
うな化合物を意味する。
特定的には式XIIの化合物とH(ERE′l )および
RF SO3 Hとの反応の好ましい実施例の可能な変形例
である。先ず、式XIIの化合物を溶媒または溶媒混合
物に溶解または懸濁し、必要な反応温度にもたらす。H
(ERE′l )を溶液または純粋物質の形態で、温度お
よび発生ガスが適当な範囲内に留まるように適当な時間
内で前記懸濁液中に供給する。該反応混合物を、ガスが
発生しなくなるまで適当な反応温度で反応させ続ける。
次いで反応混合物を所望の温度にもたらし、ペルフルオ
ロアルキルスルホン酸またはペルフルオロアリールスル
ホン酸を、溶液または純粋物質の形態で、温度および発
生ガスが適当な範囲内に留まるように適当な時間内で導
入する。該反応混合物を、ガスが発生しなくなるまで適
当な反応温度で反応させ続ける。溶媒は蒸留によって反
応混合物から除去し得、または場合によっては、式XI
で示される生成物を有利には濾過もしくは遠心分離によ
って除去し得る。本発明で原料として使用される化合物
は、市販のものを含む公知の生成物を表す。本発明の化
合物はその製法に基づいて、種々の量の溶媒を含み得
る。本発明の化合物は、環状エーテルの開環重合により
ポリエーテルを合成するための触媒として適している。
この場合の環状エーテルとは、例えばオキシラン、オキ
セタン、テトラヒドロフラン、オキセパン、1,3−ジ
オキソランまたは1,3,5−トリオキサンといったよ
うな化合物を意味する。
【0036】
【発明の実施の形態】以下の実施例は本発明の方法の詳
細を更に説明するためのものである。上述してきた本発
明は、これらの実施例によって思想または範囲を限定さ
れない。当業者には容易に理解されるであろうが、下記
の操作の条件は公知のように変化させ得る。特に指摘が
ない限り、温度は全て摂氏であり、%は全て重量%であ
る。
細を更に説明するためのものである。上述してきた本発
明は、これらの実施例によって思想または範囲を限定さ
れない。当業者には容易に理解されるであろうが、下記
の操作の条件は公知のように変化させ得る。特に指摘が
ない限り、温度は全て摂氏であり、%は全て重量%であ
る。
【0037】
【実施例】アルミニウム化合物の合成 A)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)フェノレートの合成 塩化メチレン中1.30g(10.0mmol)フェノ
ール溶液を、トリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlに−7
8℃で滴下した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガスの
発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌した。次い
で、反応混合物を再度−78℃に冷却し、1.77ml
(=3.00g;20.0mmol)のトリフルオロメ
タンスルホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっくりと
室温に加熱し、16時間撹拌した。溶媒を真空下で除去
し、生成物を高真空下で乾燥した。収率:4.18g。 B)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3,5−ジ−tert−ブチルフェノレートの合
成 塩化メチレン中2.06g(10.0mmol)3,5
−ジ−tert−ブチルフェノール溶液を、トリメチル
アルミニウム(10.0mmol)のトルエン中2.0
0モル溶液5.00mlに−78℃で滴下した。該反応
混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなる
まで約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−
78℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;20.
0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下し
た。該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間
撹拌した。生成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄
し、高真空下で乾燥した。収率:3.34g。
ト)フェノレートの合成 塩化メチレン中1.30g(10.0mmol)フェノ
ール溶液を、トリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlに−7
8℃で滴下した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガスの
発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌した。次い
で、反応混合物を再度−78℃に冷却し、1.77ml
(=3.00g;20.0mmol)のトリフルオロメ
タンスルホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっくりと
室温に加熱し、16時間撹拌した。溶媒を真空下で除去
し、生成物を高真空下で乾燥した。収率:4.18g。 B)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3,5−ジ−tert−ブチルフェノレートの合
成 塩化メチレン中2.06g(10.0mmol)3,5
−ジ−tert−ブチルフェノール溶液を、トリメチル
アルミニウム(10.0mmol)のトルエン中2.0
0モル溶液5.00mlに−78℃で滴下した。該反応
混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなる
まで約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−
78℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;20.
0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下し
た。該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間
撹拌した。生成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄
し、高真空下で乾燥した。収率:3.34g。
【0038】C)アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−3−ジメチルアミノフェノレートの
合成 塩化メチレン中1.37g(10.0mmol)3−ジ
メチルアミノフェノール溶液を、トリメチルアルミニウ
ム(10.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液
5.00mlに−78℃で滴下した。該反応混合物を0
℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30
分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷
却し、1.77ml(=3.00g;20.0mmo
l)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反
応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌し
た。溶媒を真空下で除去し、生成物を濾過で除去し、生
成物を高真空下で乾燥した。収率:4.25g。 D)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3−メトキシフェノレートの合成 塩化メチレン中1.24g(10.0mmol)3−メ
トキシフェノール溶液を、トリエチルアルミニウムの塩
化メチレン溶液(1.14g;10mmol)137m
lに−78℃で滴下した。該反応混合物を0℃に加熱
し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌
した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷却し、
1.77ml(=3.00g;20.0mmol)のト
リフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反応混合物
をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌した。生成物
を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下で乾
燥した。収率:3.89g。
ンスルホネート)−3−ジメチルアミノフェノレートの
合成 塩化メチレン中1.37g(10.0mmol)3−ジ
メチルアミノフェノール溶液を、トリメチルアルミニウ
ム(10.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液
5.00mlに−78℃で滴下した。該反応混合物を0
℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30
分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷
却し、1.77ml(=3.00g;20.0mmo
l)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反
応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌し
た。溶媒を真空下で除去し、生成物を濾過で除去し、生
成物を高真空下で乾燥した。収率:4.25g。 D)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3−メトキシフェノレートの合成 塩化メチレン中1.24g(10.0mmol)3−メ
トキシフェノール溶液を、トリエチルアルミニウムの塩
化メチレン溶液(1.14g;10mmol)137m
lに−78℃で滴下した。該反応混合物を0℃に加熱
し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌
した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷却し、
1.77ml(=3.00g;20.0mmol)のト
リフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反応混合物
をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌した。生成物
を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下で乾
燥した。収率:3.89g。
【0039】E)アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−3,5−ジメトキシフェノレートの
合成 トルエン中1.33g(10.0mmol)の三塩化ア
ルミニウムおよび1.54g(10.0mmol))の
3,5−ジメトキシフェノールの懸濁液をガスの発生が
観察されなくなるまで還流下で2時間加熱した。該反応
混合物を0℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;
20.0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を
滴下し、該反応混合物を16時間撹拌した。溶媒を真空
下で除去し、残渣を塩化メチレン中にとり、その後ヘキ
サンの添加により生成物を沈殿させ、濾過で除去し、ヘ
キサンで洗浄し、高真空下で乾燥した。収率:4.68
g。 F)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)ペンタフルオロフェノレートの合成 ペンタフルオロフェノールの塩化メチレン中3.68g
(20.0mmol)溶液を、トリメチルアルミニウム
(20.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液1
0.0mlに−78℃で滴下した。該反応混合物を0℃
に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30分
間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷却
し、3.54ml(=6.00g;40.0mmol)
のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反応混
合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌した。生
成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下
で乾燥した。収率:8.71g。
ンスルホネート)−3,5−ジメトキシフェノレートの
合成 トルエン中1.33g(10.0mmol)の三塩化ア
ルミニウムおよび1.54g(10.0mmol))の
3,5−ジメトキシフェノールの懸濁液をガスの発生が
観察されなくなるまで還流下で2時間加熱した。該反応
混合物を0℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;
20.0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を
滴下し、該反応混合物を16時間撹拌した。溶媒を真空
下で除去し、残渣を塩化メチレン中にとり、その後ヘキ
サンの添加により生成物を沈殿させ、濾過で除去し、ヘ
キサンで洗浄し、高真空下で乾燥した。収率:4.68
g。 F)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)ペンタフルオロフェノレートの合成 ペンタフルオロフェノールの塩化メチレン中3.68g
(20.0mmol)溶液を、トリメチルアルミニウム
(20.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液1
0.0mlに−78℃で滴下した。該反応混合物を0℃
に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30分
間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷却
し、3.54ml(=6.00g;40.0mmol)
のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反応混
合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌した。生
成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下
で乾燥した。収率:8.71g。
【0040】G)アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−4−ジメチルアミノ−3−メチルフ
ェノレートの合成 −78℃で、トリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlを塩化
メチレン中1.50g(10.0mmol)の6−ジメ
チルアミノ−3−ヒドロキシトルエンに滴下した。該反
応混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくな
るまで約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度
−78℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;2
0.0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴
下した。該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16
時間撹拌した。溶媒を真空下で除去し、生成物を高真空
下で乾燥した。収率:4.75g。 H)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)ヘキサフルオロイソプロパノレートの合成 −78℃で、ヘキサフルオロイソプロパノールの塩化メ
チレン中1.05ml(=1.68g;10.0mmo
l)溶液をトリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlに滴下
した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察
されなくなるまで約30分間撹拌した。次いで、反応混
合物を再度−78℃に冷却し、1.77ml(=3.0
0g;20.0mmol)のトリフルオロ−メタンスル
ホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっくりと室温に加
熱し、16時間撹拌した。生成物を濾過で除去し、塩化
メチレンで洗浄し、高真空下で乾燥した。収率:4.2
7g。
ンスルホネート)−4−ジメチルアミノ−3−メチルフ
ェノレートの合成 −78℃で、トリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlを塩化
メチレン中1.50g(10.0mmol)の6−ジメ
チルアミノ−3−ヒドロキシトルエンに滴下した。該反
応混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくな
るまで約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度
−78℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;2
0.0mmol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴
下した。該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16
時間撹拌した。溶媒を真空下で除去し、生成物を高真空
下で乾燥した。収率:4.75g。 H)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)ヘキサフルオロイソプロパノレートの合成 −78℃で、ヘキサフルオロイソプロパノールの塩化メ
チレン中1.05ml(=1.68g;10.0mmo
l)溶液をトリメチルアルミニウム(10.0mmo
l)のトルエン中2.00モル溶液5.00mlに滴下
した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察
されなくなるまで約30分間撹拌した。次いで、反応混
合物を再度−78℃に冷却し、1.77ml(=3.0
0g;20.0mmol)のトリフルオロ−メタンスル
ホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっくりと室温に加
熱し、16時間撹拌した。生成物を濾過で除去し、塩化
メチレンで洗浄し、高真空下で乾燥した。収率:4.2
7g。
【0041】I)アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−3,3−ジオキソベンズ−1,3−
オキサチオール−5−オレートの合成 3,3−ジオキソベンズ−1,3−オキサチオール−5
−オールの塩化メチレン中1.86g(10.0mmo
l)溶液を、−78℃でトリメチルアルミニウム(1
0.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液5.0
0mlに滴下した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガス
の発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌した。次
いで、反応混合物を再度−78℃に冷却し、1.77m
l(=3.00g;20.0mmol)のトリフルオロ
メタン−スルホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっく
りと室温に加熱し、16時間撹拌した。生成物を濾過で
除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下で乾燥した。
収率:5.33g。 J)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3−メチルメルカプト−フェノレートの合成 3−メチルメルカプトフェノールの塩化メチレン中2.
00g(7.1mmol)溶液を、塩化メチレン中0.
97ml(0.81g;7.1mmol)のトリエチル
アルミニウムに−78℃で滴下した。該反応混合物を0
℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30
分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷
却し、1.26ml(=2.13g;14.2mmo
l)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反
応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌し
た。生成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高
真空下で乾燥した。収率:3.07g。
ンスルホネート)−3,3−ジオキソベンズ−1,3−
オキサチオール−5−オレートの合成 3,3−ジオキソベンズ−1,3−オキサチオール−5
−オールの塩化メチレン中1.86g(10.0mmo
l)溶液を、−78℃でトリメチルアルミニウム(1
0.0mmol)のトルエン中2.00モル溶液5.0
0mlに滴下した。該反応混合物を0℃に加熱し、ガス
の発生が観察されなくなるまで約30分間撹拌した。次
いで、反応混合物を再度−78℃に冷却し、1.77m
l(=3.00g;20.0mmol)のトリフルオロ
メタン−スルホン酸を滴下した。該反応混合物をゆっく
りと室温に加熱し、16時間撹拌した。生成物を濾過で
除去し、塩化メチレンで洗浄し、高真空下で乾燥した。
収率:5.33g。 J)アルミニウムビス(トリフルオロメタンスルホネー
ト)−3−メチルメルカプト−フェノレートの合成 3−メチルメルカプトフェノールの塩化メチレン中2.
00g(7.1mmol)溶液を、塩化メチレン中0.
97ml(0.81g;7.1mmol)のトリエチル
アルミニウムに−78℃で滴下した。該反応混合物を0
℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで約30
分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78℃に冷
却し、1.26ml(=2.13g;14.2mmo
l)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。該反
応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌し
た。生成物を濾過で除去し、塩化メチレンで洗浄し、高
真空下で乾燥した。収率:3.07g。
【0042】K)アルミニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホネート)−tert−ブタノレートの合成 −78℃で、tert−ブタノールのトルエン中0.9
6ml(=0.74g;10.0mmol)溶液をトリ
メチルアルミニウム(10.0mmol)のトルエン中
2.00モル溶液5.00mlに滴下した。該反応混合
物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで
約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78
℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;20.0m
mol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。
該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌
した。溶媒を真空下で除去し、生成物を高真空下で乾燥
した。収率:3.97g。
ンスルホネート)−tert−ブタノレートの合成 −78℃で、tert−ブタノールのトルエン中0.9
6ml(=0.74g;10.0mmol)溶液をトリ
メチルアルミニウム(10.0mmol)のトルエン中
2.00モル溶液5.00mlに滴下した。該反応混合
物を0℃に加熱し、ガスの発生が観察されなくなるまで
約30分間撹拌した。次いで、反応混合物を再度−78
℃に冷却し、1.77ml(=3.00g;20.0m
mol)のトリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。
該反応混合物をゆっくりと室温に加熱し、16時間撹拌
した。溶媒を真空下で除去し、生成物を高真空下で乾燥
した。収率:3.97g。
【0043】実施例1:87.7gのトリメチロールプ
ロパンおよび8mgのアルミニウムビス(トリフルオロ
メタンスルホネート)フェノレートを、500ml圧縮
ガラスオートクレーブ内の保護ガス(アルゴン、やや過
圧(0.2バール))下におき、撹拌しながら130℃
に加熱した。次いで112.3gのプロピレンオキシド
を、温度圧力制御式膜ポンプにより130℃の温度およ
び2.5バール(絶対)の一定圧力で継続的に導入し
た。反応時間は29分であった。プロピレンオキシドの
導入および130℃で2時間の後反応時間が終了した
後、揮発性成分を30分間かけて90℃(1mbar)
で蒸留除去し、室温に冷却した。 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 531 粘度(25℃のmPa.s): 1351
ロパンおよび8mgのアルミニウムビス(トリフルオロ
メタンスルホネート)フェノレートを、500ml圧縮
ガラスオートクレーブ内の保護ガス(アルゴン、やや過
圧(0.2バール))下におき、撹拌しながら130℃
に加熱した。次いで112.3gのプロピレンオキシド
を、温度圧力制御式膜ポンプにより130℃の温度およ
び2.5バール(絶対)の一定圧力で継続的に導入し
た。反応時間は29分であった。プロピレンオキシドの
導入および130℃で2時間の後反応時間が終了した
後、揮発性成分を30分間かけて90℃(1mbar)
で蒸留除去し、室温に冷却した。 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 531 粘度(25℃のmPa.s): 1351
【0044】実施例2:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,5−ジ−te
rt−ブチルフェノレートを使用して、実施例1と同様
に操作を実施した。 反応時間: 27分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 526 粘度(25℃のmPa.s): 1308
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,5−ジ−te
rt−ブチルフェノレートを使用して、実施例1と同様
に操作を実施した。 反応時間: 27分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 526 粘度(25℃のmPa.s): 1308
【0045】実施例3:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)−3−メトキシフェ
ノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実施し
た。 反応時間: 32分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 535 粘度(25℃のmPa.s): 1314
リフルオロ−メタンスルホネート)−3−メトキシフェ
ノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実施し
た。 反応時間: 32分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 535 粘度(25℃のmPa.s): 1314
【0046】実施例4:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,5−ジメトキ
シフェノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実
施した。 反応時間: 26分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 525 粘度(25℃のmPa.s): 1311
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,5−ジメトキ
シフェノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実
施した。 反応時間: 26分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 525 粘度(25℃のmPa.s): 1311
【0047】実施例5:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)−3−メチルメルカ
プトフェノレートを使用して、実施例1と同様に操作を
実施した。 反応時間: 44分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 535 粘度(25℃のmPa.s): 1353
リフルオロ−メタンスルホネート)−3−メチルメルカ
プトフェノレートを使用して、実施例1と同様に操作を
実施した。 反応時間: 44分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 535 粘度(25℃のmPa.s): 1353
【0048】実施例6:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)ペンタフルオロフェ
ノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実施し
た。 反応時間: 24分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 531 粘度(25℃のmPa.s): 1330
リフルオロ−メタンスルホネート)ペンタフルオロフェ
ノレートを使用して、実施例1と同様に操作を実施し
た。 反応時間: 24分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 531 粘度(25℃のmPa.s): 1330
【0049】実施例7:8mgのアルミニウムビス(ト
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,3−ジオキソ
ベンズ−1,3−オキサチオール−5−オレートを使用
して、実施例1と同様に操作を実施した。 反応時間: 24分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 533 粘度(25℃のmPa.s): 1343
リフルオロ−メタンスルホネート)−3,3−ジオキソ
ベンズ−1,3−オキサチオール−5−オレートを使用
して、実施例1と同様に操作を実施した。 反応時間: 24分 ポリエーテルポリオール: 色: 無色透明 OH価(mgKOH/g): 533 粘度(25℃のmPa.s): 1343
【0050】以上、本発明を明らかにすべく詳細な説明
を行ってきたが、これらの詳細はそのためのものに過ぎ
ず、特許請求の範囲によって限定され得る以外は種々の
変形が本発明の思想および範囲を逸脱せずに当業者によ
り実施され得る。
を行ってきたが、これらの詳細はそのためのものに過ぎ
ず、特許請求の範囲によって限定され得る以外は種々の
変形が本発明の思想および範囲を逸脱せずに当業者によ
り実施され得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨールグ・ホフマン ドイツ連邦共和国デー47829 クレフエル ト、オールデンブルガー・ヴエーク 10 (72)発明者 プラモド・グプタ ドイツ連邦共和国デー50181 ベドブルク、 ランゲマルツクシユトラーセ 27
Claims (5)
- 【請求項1】 1種類以上のアルキレンオキシドと1種
類以上の活性水素原子含有出発化合物とを、下記の一般
式I: (X)nM(E−R−E′l)m (I) 〔式中、Xはハリド、アルコキシド、アリールオキシ
ド、チオレート、スルフィネート、スルホネート、スル
フェート、アミド、ホスフィネート、ホスホネート、ホ
スフェートまたはカルボキシレート基を表し、Mは元素
周期表第13族の金属を表し、Eは酸素、硫黄、セレ
ン、NR1 またはPR1 を表し、 但しR1 はH原子、またはアルキルもしくはアリールで
あってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、Rはアルキレ
ン、アリーレンまたはアラルキレン橋であってよいC1
〜C30炭化水素橋を表し、R1 と一緒に環を形成し得、
E′はH、アルキルもしくはアリールであってよいC1
〜C10炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハロゲン、S
R2 またはPR2 R3 を表し、 但しR2 およびR3 は互いに同じかまたは異なっていて
よく、各々が独立して水素原子、またはアルキル、アリ
ールもしくはアラルキルであってよいC1 〜C10炭化水
素基を表し、R2 がR3 もしくはRと一緒に1個以上の
環を形成し得、および/またはR3 がRもしくはR2 と
一緒に1個以上の環を形成し得、および/または2個以
上のERE′単位が1個以上の環を形成し得、nは0〜
3の整数であり、mは1〜3の整数であり、lは0〜1
0の整数である〕で示される金属化合物の存在下で反応
させることからなるポリエーテルポリオールの製造方
法。 - 【請求項2】 下記の式(XI): (RF SO3)2 M(ERE′l) (XI) 〔式中、RF はペルフルオロアルキルまたはペルフルオ
ロアリール基を表し、Mは元素周期表第13族の金属を
表し、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1 を
表し、但しR1 はH、またはアルキルもしくはアリール
であってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R1 がRと
一緒に環を形成し得、Rはアルキレン、アリーレンまた
はアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化水素橋を
表し、E′はH、アルキルもしくはアリールであってよ
いC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハロゲ
ン、SR2 またはPR2 R3 を表し、但しR2 およびR
3 は互いに同じかまたは異なっていてよく、各々がH原
子、またはアルキル、アリールもしくはアラルキルであ
ってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R2 がR3 もし
くはRと一緒に環を形成し得、および/またはR3がR
もしくはR2 と一緒に環を形成し得、lは0〜10の整
数を表す〕で示される化合物。 - 【請求項3】 請求項2に記載の式(XI)で示される
化合物の製造方法であって、(A)最初に、(1)下記
の式(XII): MY1 Y2 Y3 (XII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Y1 、
Y2 またはY3 は互いに同じかまたは異なり、各々が独
立してH原子、アルキルもしくはアリール基であってよ
いC1 〜C10炭化水素基、ハリド、アルコキシド、アリ
ールオキシドまたはアミドの中から選択される〕で示さ
れる化合物を、−100℃〜300℃の温度で不活性溶
媒の存在下または不在下に、(2)下記の式 H(ERE′l) 〔式中、Eは酸素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1
を表し、但しR1 はH、またはアルキルもしくはアリー
ルであってよいC1 〜C20炭化水素基を表し、R1 がR
と一緒に環を形成し得、Rはアルキレン、アリーレンま
たはアラルキレン橋であってよいC1 〜C30炭化水素橋
を表し、E′はH、アルキルもしくはアリールであって
よいC1 〜C20炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハロ
ゲン、SR2 、PR2 R3 を表し、但しR2 およびR3
は互いに同じかまたは異なっていてよく、各々が独立し
てH、またはアルキル、アリールもしくはアラルキルで
あってよいC1 〜C20炭化水素基の中から選択され、R
2 がR3 もしくはRと一緒に環を形成し得、および/ま
たはR3 がRもしくはR2 と一緒に環を形成し得、lは
0〜10の整数を表す〕で示される化合物と反応させ、
(B)次いで、−100℃〜300℃の温度で不活性溶
媒の存在下または不在下に、RF SO3 H〔式中、RF
はペルフルオロアルキルまたはペルフルオロアリールを
表す〕と反応させることからなる前記製造方法。 - 【請求項4】 請求項2に記載の式(XI)で示される
化合物の製造方法であって、下記の式(XIII) M(ERE′l)3 (XIII) 〔式中、Mは元素周期表第13族の金属を表し、Eは酸
素、硫黄、セレン、NR1 またはPR1 を表し、但しR
1 はH、またはアルキルもしくはアリールであってよい
C1 〜C20炭化水素基を表し、R1 がRと一緒に環を形
成し得、Rはアルキレン、アリーレンまたはアラルキレ
ン橋であってよいC1 〜C30炭化水素橋を表し、E′は
H、アルキルもしくはアリールであってよいC1 〜C20
炭化水素基、OR2 、NR2 R3 、ハロゲン、SR2 ま
たはPR2 R3 を表し、但しR2 およびR3 は互いに同
じかまたは異なり、各々が独立してH、またはアルキ
ル、アリールもしくはアラルキルであってよいC1 〜C
20炭化水素基の中から選択され、R2 がR3 もしくはR
と一緒に環を形成し得、および/またはR3 がRもしく
はR2 と一緒に環を形成し得、lは0〜10の整数を表
す〕で示される化合物を、−100℃〜300℃の温度
で、不活性溶媒の存在下または不在下にRF SO3 Hと
反応させることからなる前記製造方法。 - 【請求項5】 式(XI)の化合物の存在下で環状エス
テルの開環重合を行う方法。
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---|---|---|---|
DE19846095 | 1998-10-07 | ||
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---|---|
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JP11285511A Pending JP2000109554A (ja) | 1998-10-07 | 1999-10-06 | ポリエ―テルポリオ―ルの製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2020503383A (ja) * | 2016-12-23 | 2020-01-30 | エスセエ フランス | ホウ素族からの元素をベースにした化合物、および電解質組成物中でのその使用 |
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GB8517188D0 (en) * | 1985-07-06 | 1985-08-14 | Bp Chem Int Ltd | Metal perfluorosulphonic acid polymer catalyst |
DE19702787A1 (de) * | 1997-01-27 | 1998-07-30 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Polyetherpolyolen |
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- 1999-10-06 BR BR9904484-6A patent/BR9904484A/pt not_active IP Right Cessation
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