JP2000098609A - ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】現像速度が早く、しかも、得られるポリイミド
樹脂が従来のポリイミド樹脂の熱線膨張係数よりも小さ
く、従って、支持基板上にポリイミド樹脂からなる絶縁
被膜を有する回路基板とした場合に、ポリイミド樹脂層
に割れが生じたり、ポリイミド樹脂層が剥離したりせ
ず、更に、反りが生じないようなネガ型感光性組成物を
提供することを目的とする。 【解決手段】本発明によるネガ型感光性組成物は、
（ａ）式（Ｉ） 【化１】 で表わされる構造単位と式（II） 【化２】 で表わされる構造単位とからなる線状ポリイミド樹脂前
駆体と、（ｂ）感光剤とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ネガ型感光性組成
物とこれを用いるパターン形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体の高密度実装や高速信号処
理を目的とした薄膜多層回路基板として、金属箔にポリ
イミド樹脂からなる絶縁層を設けてなる回路基板が用い
られるようになっている。このような回路基板は、従
来、金属箔基材上にポリイミド樹脂前駆体を含む感光性
組成物を塗布してフィルムを形成し、露光させ、現像
し、この後、加熱してイミド化させて、ポリイミド樹脂
からなる絶縁層を基材上に形成することによって製造さ
れている。

【０００３】ここに、従来より知られているポリイミド
樹脂前駆体を含む感光性組成物は、殆どが光ラジカル重
合型、即ち、ポリイミド樹脂前駆体であるポリアミド酸
の側鎖にエステル結合やイオン結合によって光重合性の
官能基を導入すると共に、光重合開始剤を配合して、感
光性組成物としたものである。

【０００４】従って、このような従来の感光性ポリイミ
ドは、光照射されると、ラジカル重合開始剤によって上
記官能基が重合して、分子鎖が架橋されるので、露光部
は、現像液に対して不溶となる。一方、感光性ポリイミ
ドの未露光部は、上記官能基による分子鎖の架橋が起こ
らないので、現像液に溶解する。

【０００５】従って、このような従来より知られている
ポリイミド樹脂前駆体を含む感光性組成物は、現像速度
が遅く、生産性に劣るほか、得られるポリイミド樹脂の
熱線膨張係数が種々の金属箔よりも大きく、従って、得
られた回路基板において、ポリイミド樹脂層に割れが生
じたり、ポリイミド樹脂層が剥離したりし、また、反り
が生じたりする。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のポリ
イミド樹脂前駆体を含む感光性組成物における上述した
ような問題を解決するためになされたものであって、現
像速度が早く、しかも、得られるポリイミド樹脂が従来
のポリイミド樹脂の熱線膨張係数よりも小さく、従っ
て、支持基板上にポリイミド樹脂からなる絶縁被膜を有
する回路基板とした場合に、ポリイミド樹脂層に割れが
生じたり、ポリイミド樹脂層が剥離したりせず、更に、
反りが生じないようなネガ型感光性組成物を提供するこ
とを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、(a) 式
（Ｉ）

【０００８】

【化４】

【０００９】で表わされる構造単位と式（II）

【００１０】

【化５】

【００１１】で表わされる構造単位とからなる線状ポリ
イミド樹脂前駆体と(b) 感光剤とを含むネガ型感光性組
成物が提供される。

【００１２】ここに、上記感光剤は、好ましくは、一般
式（III)

【００１３】

【化６】

【００１４】（式中、Ｘ₁ からＸ₄ はそれぞれ独立に水
素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、シアノ基又はフッ化アルキル
基を示し、Ｙ₁ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₃ を示
し、Ｙ₂ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₄ を示し、ここ
に、Ｒ₃ 及びＲ₄ はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアル
キル基若しくはアルコキシ基、アニリノ基、トルイジノ
基、ベンジルオキシ基、アミノ基又はジアルキルアミノ
基を示し、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₅ はそれぞれ独立に水素原
子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ₁ とＲ₃ 、
Ｒ₂ とＲ₄ は、ケト基を含む５員環、６員環又は複素環
の形成可能な員環となることができる。）で表わされる
ジヒドロピリジン誘導体からなる。

【００１５】また、本発明によれば、上記ネガ型感光性
組成物を支持基材に塗布してなる感光性基材が提供され
る。

【００１６】更に、本発明によれば、支持基材上に形成
した上記ネガ型感光性組成物からなるフィルムにフォト
マスクを介して活性光線を照射した後、１７０℃以上に
加熱し、次いで、現像剤にて未露光部を除去して、ネガ
型画像を形成させ、次いで、このネガ型画像を加熱し、
ポリイミド樹脂前駆体をイミド化させて、ポリイミド樹
脂からなるネガ型画像を形成させることからなるネガ型
パターンの形成方法が提供される。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明によるネガ型感光性組成物
は、（ａ）式（Ｉ）

【００１８】

【化７】

【００１９】で表わされる構造単位と式（II）

【００２０】

【化８】

【００２１】で表わされる構造単位とからなる線状ポリ
イミド樹脂前駆体と（ｂ）感光剤とを含み、上記感光剤
は、好ましくは、一般式（III)

【００２２】

【化９】

【００２３】（式中、Ｘ₁ からＸ₄ はそれぞれ独立に水
素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、シアノ基又はフッ化アルキル
基を示し、Ｙ₁ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₃ を示
し、Ｙ₂ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₄ を示し、ここ
に、Ｒ₃ 及びＲ₄ はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアル
キル基若しくはアルコキシ基、アニリノ基、トルイジノ
基、ベンジルオキシ基、アミノ基又はジアルキルアミノ
基を示し、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₅ はそれぞれ独立に水素原
子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ₁ とＲ₃ 、
Ｒ₂ とＲ₄ は、ケト基を含む５員環、６員環又は複素環
の形成可能な員環となることができる。）で表わされる
ジヒドロピリジン誘導体である。

【００２４】上記線状ポリイミド樹脂前駆体は、ジアミ
ン成分であるｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ）

【００２５】

【化１０】

【００２６】と酸無水物成分である (a) 3,4,3',4'−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）

【００２７】

【化１１】

【００２８】と (b) 2,２−ビス（3,４−ジカルボキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤ
Ａ）

【００２９】

【化１２】

【００３０】とをジアミン成分と酸無水物成分とが実質
的に等モル比になるように、適宜の有機溶剤（例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドやＮ−メチル−２−ピロ
リドン等）中で反応させることによって得ることができ
る。即ち、上記線状ポリイミド樹脂前駆体は、ポリアミ
ド酸（ポリアミック酸）である。本発明によるネガ型感
光性組成物は、このような線状ポリイミド樹脂前駆体に
感光剤を配合してなる液状組成物である。

【００３１】本発明によれば、上記酸無水物のうち、
(a) 成分である3,4,3',4' −ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物の割合は７０〜９９モル％、好ましくは、８
０〜９５モル％の範囲であり、(b) 成分である2,２−ビ
ス（3,４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パン二無水物の割合は３０〜１モル％、好ましくは、２
０〜５モル％の範囲であり、本発明によれば、このよう
な割合の２種類の酸無水物をｐ−フェニレンジアミンと
反応させて、線状ポリイミド樹脂前駆体を得、これを後
述する感光剤と組合わせることによって、現像速度の早
いネガ型感光性組成物を得ることができ、しかも、得ら
れるポリイミド樹脂は、熱線膨張係数が低い。このよう
にして得られるポリイミド樹脂は、通常、熱線膨張係数
が１０〜２０ｐｐｍの範囲にある。

【００３２】本発明において、上記酸無水物における
(a)成分及び (b)成分の割合（モル％）は、(a) 成分及
び (b)成分のモル数をそれぞれａ及びｂとするとき、そ
れぞれ（ａ／（ａ＋ｂ））×１００及び（ｂ／（ａ＋
ｂ））×１００で定義される。

【００３３】本発明において用いる感光剤は、特に、限
定されるものではないが、好ましくは、その詳細が特開
平６−７５３７６号公報に記載されているように、一般
式（III)

【００３４】

【化１３】

【００３５】（式中、Ｘ₁ からＸ₄ はそれぞれ独立に水
素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、シアノ基又はフッ化アルキル
基を示し、Ｙ₁ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₃ を示
し、Ｙ₂ はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₄ を示し、ここ
に、Ｒ₃ 及びＲ₄ はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアル
キル基若しくはアルコキシ基、アニリノ基、トルイジノ
基、ベンジルオキシ基、アミノ基又はジアルキルアミノ
基を示し、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₅ はそれぞれ独立に水素原
子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ₁ とＲ₃ 、
Ｒ₂ とＲ₄ は、ケト基を含む５員環、６員環又は複素環
の形成可能な員環となることができる。）で表わされる
ジヒドロピリジン誘導体である。

【００３６】このような感光剤の具体例としては、例え
ば、４−ｏ−ニトロフェニル−3,５−ジメトキシカルボ
ニル−2,６−ジメチル−1,４−ジヒドロピリジン（以
下、ニフェジピンという。）、４−ｏ−ニトロフェニル
−3,５−ジメトキシカルボニル−2,６−ジメチル−１−
メチル−４−ヒドロピリジン（以下、Ｎ−メチル体とい
う。）、４−ｏ−ニトロフェニル−3,５−ジアセチル−
1,４−ジヒドロピリジン（以下、単にアセチル体とい
う。）等を挙げることができる。

【００３７】このような感光剤は、単独で、又は２種以
上の混合物として用いられる。必要に応じて、現像剤に
対する溶解助剤として、イミダゾールが適当量用いられ
る。

【００３８】本発明においては、上記感光剤は、ｐ−フ
ェニレンジアミンを含むジアミン成分（「ジアミン成
分」なる用語については、後述する。）と酸無水物成分
の合計量１モル部に対して、通常、0.０５〜0.５モル部
の範囲で用いられる。イミダゾールも、必要に応じて、
ｐ−フェニレンジアミンを含むジアミン成分と酸無水物
成分の合計量１モル部に対して、通常、0.０５〜0.５モ
ル部の範囲で用いられる。

【００３９】このようなネガ型感光性組成物を支持基材
に塗布し、乾燥させて、フィルムとすることによって、
本発明による感光性基材を得ることができる。上記支持
基材は、特に、限定されるものではなく、得られる製品
に応じて適宜に選ばれるが、通常、ステンレス板、銅
板、アルミニウム板、セラミック板、シリコンウエハ等
を挙げることができる。

【００４０】このように、ネガ型感光性組成物を支持基
材上に塗布し、乾燥させて、フィルムとし、このフィル
ムにフォトマスクを介して紫外線や電子線等のような活
性光線を照射した後、即ち、パターンを形成するように
露光させた後、１７０℃以上に加熱（これを「露光後加
熱」ということする。）することによって、感光性組成
物はネガ型の潜像を形成する。そこで、これを現像剤に
て未露光部を除去し、現像処理すれば、ネガ型の画像、
即ち、所要のパターンを得る。そこで、このネガ型画像
を最終的に高温に加熱して、ポリイミド樹脂前駆体をイ
ミド化させることによって、次式（I')

【００４１】

【化１４】

【００４２】で表わされる構造単位（I') と次式（II')

【００４３】

【化１５】

【００４４】で表わされる構造単位（II')とからなる線
状ポリイミド樹脂からなるネガ型画像をパターン被膜と
して得ることができる。

【００４５】即ち、本発明によるネガ型感光性組成物を
露光させた後、１７０℃以上の温度に露光後加熱すると
きは、未露光部は、被膜の現像剤への溶解速度が低下す
るが、露光部においては、前記ジヒドロピリジン誘導体
が露光によって塩基性のピリジン化合物に変化し、これ
がポリアミド酸のイミド化を促進し、被膜の現像剤への
溶解速度を低下させると同時に、上記ピリジン化合物自
身も露光後加熱によって、更に不溶性の環化化合物に変
化すると共に、ポリアミド酸のポリイミド化を促進し、
その結果として、露光部の被膜の現像剤に対する溶解性
が上記未露光部に比べて一層低下する。このように、本
発明によれば、露光後加熱温度を１７０℃以上とするこ
とによって、露光部の現像剤への溶解速度が未露光部に
比べて著しく小さいので、露光、露光後加熱及び現像後
の被膜は、ネガ型画像を与える。

【００４６】ここに、上記現像剤としては、通常、水酸
化テトラメチルアンモニウム等のような有機アルカリの
水溶液や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
アルカリの水溶液が用いられる。アルカリ濃度は、通
常、２〜１０重量％の範囲が適当である。必要に応じ
て、上記アルカリ水溶液には、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等の低級脂肪
族アルコールを加えてもよい。アルコールの添加量は、
通常、５０重量％以下である。また、現像温度は、通
常、２５〜５０℃の範囲が適当である。

【００４７】ポリイミド樹脂前駆体からなるネガ型画像
を加熱して、ポリイミド樹脂からなるパターン化した被
膜を得るには、好ましくは、ネガ型画像を真空下又は不
活性ガス雰囲気下に３５０〜４００℃程度に数時間、加
熱するのが好ましい。

【００４８】本発明によれば、得られるポリイミド樹脂
からなるパターン被膜の支持基材に対する接着性を向上
させるために、必要に応じて、ｐ−フェニレンジアミン
の一部をアミノ基含有２官能性ポリシロキサンに置換し
てもよい。このようなアミノ基含有２官能性ポリシロキ
サンの具体例として、例えば、一般式（IV）

【００４９】

【化１６】

【００５０】（式中、Ｒ₁ は炭素数１〜１８のアルキレ
ン基、Ｒ₂ は炭素数１〜１８のアルキル基を示し、ｎは
１〜１００の整数である。）で表わされるポリシロキサ
ンを挙げることができる。このようなアミノ基含有２官
能性ポリシロキサンは、ｐ−フェニレンジアミンとアミ
ノ基含有２官能性ポリシロキサンとからなるジアミン成
分の１０モル％以下の割合で用いられる。本発明におい
ては、このように、ジアミンとして、ｐ−フェニレンジ
アミンと共にアミノ基含有２官能性ポリシロキサンを用
いるときは、これらをあわせて、ジアミン成分という。

【００５１】本発明において、上記アミノ基含有２官能
性ポリシロキサンの割合（モル％）は、ｐ−フェニレン
ジアミンのモル数をａとし、アミノ基含有２官能性ポリ
シロキサンのモル数をｂとするとき、（ｂ／（ａ＋
ｂ））×１００で定義される。

【００５２】特に、本発明においては、上記一般式（I
V）において、Ｒ₁ は炭素数１〜７のアルキレン基であ
ることが好ましく、具体例として、例えば、メチレン、
エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン等のアル
キレン基を挙げることができる。Ｒ₂ は炭素数１〜７の
アルキル基であることが好ましく、具体例として、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル等の
アルキル基を挙げることができる。また、ｎは好ましく
は１〜４０である。なかでも、アミノ基含有２官能性ポ
リシロキサンとして、ビス（アミノプロピル）テトラメ
チルジシロキサンが好ましく用いられる。

【００５３】

【発明の効果】以上のように、本発明によるネガ型感光
性組成物は、ジアミン成分であるｐ−フェニレンジアミ
ンと酸無水物成分である3,4,3',4' −ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物と2,２−ビス（3,４−ジカルボキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物とをジアミ
ン成分と酸無水物成分とが実質的に等モル比になるよう
に反応させて得られるポリアミド酸（ポリアミック酸）
に前記ジヒドロピリジン誘導体からなる感光剤を配合し
てなる組成物であり、従来のポリアミド酸と感光剤とか
らなるネガ型感光性組成物に比べて現像速度が早く、し
かも、このようなネガ型感光性組成物を用いて、ポリイ
ミド樹脂からなるパターン被膜を形成すれば、得られる
ポリイミド樹脂が熱線膨張係数が小さく、特に、金属板
に近接した熱線膨張係数を有するので、そのパターン被
膜に割れがじたり、被膜が剥離したりせず、更に、反り
が生じない。従って、本発明によるネガ型感光性組成物
は、種々の回路基板の製造に好適に用いることができ
る。

【００５４】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。

【００５５】実施例１ ｐ−フェニレンジアミン１0.８ｇ（0.１０モル）と3,4,
3',4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ジフタ
ル酸二無水物）２6.４６ｇ（0.０９モル）と2,２−ビス
（3,４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン二無水物4.４４ｇ（0.０１モル）（酸無水物合計量0.
１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン２３０ｇに
溶解させ、室温で７２時間攪拌した。この後、７５℃に
昇温し、粘度が５０００センチポイズに達したとき、加
熱を止め、室温まで放置、冷却した。次いで、これに感
光剤として、1,４−ジヒドロピリジン誘導体２0.８５ｇ
を加えて、ネガ型感光性組成物（溶液）を調製した。

【００５６】このネガ型感光性組成物を厚み２５μｍの
ステンレス（ＳＵＳ３０４）箔上にスピンコートした
後、８０℃で２０分間加熱乾燥して、ネガ型感光性組成
物のフィルムを形成した。次いで、フォトマスクを介し
て、露光量７００ｍＪ／ｃｍ²にて紫外線照射し、１８
０℃で１０分間加熱した後、テトラメチルアンモニウム
ハイドロオキサイドの５％溶液（溶剤は水／エタノール
重量比５０／５０の混合）を現像剤として用いて、４５
℃で現像し、ネガ型画像を形成し、更に、0.０１ｔｏｒ
ｒの真空下、４００℃に加熱して、パターン化したポリ
イミド樹脂被膜（膜厚６μｍ）を形成した。

【００５７】このようなパターン形成において、上記ネ
ガ型感光性組成物のフィルムの未露光部の厚み方向の溶
解速度を現像速度として測定したところ、8.８９×１０
^-2μｍ／秒であった。

【００５８】また、このようにして得られたパターン化
したポリイミド樹脂被膜の熱線膨張係数は１7.０ｐｐｍ
であった。また、一般のＳＵＳ３０４ステンレス箔で
は、熱線膨張係数は１７ｐｐｍであった。ここに、熱線
膨張係数は、幅２ｍｍ、厚さ６μｍ、長さ３０ｍｍの試
料について、ＴＭＡ法（サーマルメカニカルアナリシス
法）にて、昇温速度１０℃／分、荷重５ｇで測定した。

【００５９】実施例２ ｐ−フェニレンジアミン１0.８ｇ（0.１０モル）と3,4,
3',4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２4.９９
ｇ（0.０８５モル）と2,２−ビス（3,４−ジカルボキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物6.６６ｇ
（0.０１５モル）（酸無水物合計量0.１０モル）とを用
いると共に、感光剤として、1,４−ジヒドロピリジン誘
導体１9.８５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にし
て、ネガ型感光性組成物（溶液）を調製し、これを用い
て、実施例１と同様にして、ステンレス箔上にパターン
形成を行なった。上記ネガ型感光性組成物の現像速度
は、8.８９×１０^-2μｍ／秒であった。

【００６０】実施例３ ｐ−フェニレンジアミン１0.８ｇ（0.１０モル）と3,4,
3',4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２7.９３
ｇ（0.０９５モル）と2,２−ビス（3,４−ジカルボキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物2.２２ｇ
（0.００５モル）（酸無水物合計量0.１０モル）とを用
いると共に、感光剤として、1,４−ジヒドロピリジン誘
導体２2.７ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、
ネガ型感光性組成物（溶液）を調製し、これを用いて、
実施例１と同様にして、ステンレス箔上にパターン形成
を行なった。上記ネガ型感光性組成物の現像速度は、8.
８９×１０^-2μｍ／秒であった。

【００６１】比較例１ ｐ−フェニレンジアミン5.９４ｇ（0.０５５モル）と2,
2'−ビス（トリフルオロメチル）−4,4'−ジアミノビフ
ェニル（ＴＦＭＢ）

【００６２】

【化１７】

【００６３】１4.４ｇ（0.０４５モル）（ジアミン合計
量0.１０モル）と3,4,3',4' −ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物２9.４ｇ（0.１０モル）とを用いると共
に、感光剤として、1,４−ジヒドロピリジン誘導体２4.
８７ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型
感光性組成物（溶液）を調製し、これを用いて、実施例
１と同様にして、ステンレス箔上にパターン形成を行な
った。上記ネガ型感光性組成物の現像速度は、3.８９×
１０^-2μｍ／秒であった。

【００６４】比較例２ ｐ−フェニレンジアミン9.１８ｇ（0.８５モル）と4,4'
−ジアミノジフェニルエーテル（ＤＤＥ）

【００６５】

【化１８】

【００６６】3.００ｇ（0.１５モル）（ジアミン合計量
0.１０モル）と3,4,3',4' −ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物２9.４ｇ（0.１０モル）とを用いると共に、
感光剤として、1,４−ジヒドロピリジン誘導体２0.７９
ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型感光
性組成物（溶液）を調製し、これを用いて、実施例１と
同様にして、ステンレス箔上にパターン形成を行なっ
た。上記ネガ型感光性組成物の現像速度は、1.６７×１
０^-2μｍ／秒であった。

【００６７】比較例３ ｐ−フェニレンジアミン１0.８ｇ（0.１０モル）と3,4,
3',4'−ビフェニルテトラカルボン酸無水物２9.４ｇ
（0.１０モル）を用いると共に、感光剤として、1,４−
ジヒドロピリジン誘導体２0.１ｇを用いた以外は、実施
例１と同様にして、ネガ型感光性組成物（溶液）を調製
し、これを用いて、実施例１と同様にして、ステンレス
箔上にパターン形成を行なった。上記ネガ型感光性組成
物の現像速度は、4.５×１０^-2μｍ／秒であった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA04 AB16 AC01 AC04 AC06 AD01 CA28 CB25 EA10 FA01 FA03 FA12 FA17 FA29 4J002 CM041 EU046 GP03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】(a) 式（Ｉ） 【化１】 で表わされる構造単位と式（II） 【化２】 で表わされる構造単位とからなる線状ポリイミド樹脂前
   駆体と(b) 感光剤とを含むことを特徴とするネガ型感光
   性組成物。
2. 【請求項２】感光剤が一般式（III) 【化３】 （式中、Ｘ₁ からＸ₄ はそれぞれ独立に水素原子、フッ
   素原子、ニトロ基、メトキシ基、アミノ基、ジアルキル
   アミノ基、シアノ基又はフッ化アルキル基を示し、Ｙ₁
   はシアノ基又は一般式−ＣＯＲ₃ を示し、Ｙ₂ はシアノ
   基又は一般式−ＣＯＲ₄ を示し、ここに、Ｒ₃ 及びＲ₄
   はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基若しくはア
   ルコキシ基、アニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキ
   シ基、アミノ基又はジアルキルアミノ基を示し、Ｒ₁ 、
   Ｒ₂ 及びＲ₅ はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ₁ とＲ₃ 、Ｒ₂ とＲ₄ は、ケ
   ト基を含む５員環、６員環又は複素環の形成可能な員環
   となることができる。）で表わされるジヒドロピリジン
   誘導体である請求項１に記載のネガ型感光性組成物。
3. 【請求項３】請求項１又は２に記載のネガ型感光性組成
   物を支持基材に塗布してなる感光性基材。
4. 【請求項４】支持基材上に形成した請求項１又は２に記
   載のネガ型感光性組成物からなるフィルムにフォトマス
   クを介して活性光線を照射した後、１７０℃以上に加熱
   し、次いで、現像剤にて未露光部を除去して、ネガ型画
   像を形成させ、次いで、このネガ型画像を加熱し、ポリ
   イミド樹脂前駆体をイミド化させて、ポリイミド樹脂か
   らなるネガ型画像を形成させることを特徴とするネガ型
   パターンの形成方法。