JP2000094315A - ラッピング方法及びラッピング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 保持孔（５２）に被研摩物（５３）が保
持されたキャリア（５０）を下定盤（６）と上定盤（１
３）との間にそれぞれ研摩パッド（６ｃ，１３ｃ）を介
して挟持し、上記両研摩パッド（６ｃ，１３ｃ）により
上記被研摩物（５３）の上下両面を同時にラップ研摩す
る方法において、上記キャリア（５０）を回転させると
共に、上記下定盤（６）及び上定盤（１３）を互いに反
対方向に往復動させて、上記被研摩物（５３）の上下両
面を同時にラップ研摩することを特徴とするラッピング
方法。 【効果】 本発明によれば、被研摩物を均一かつ効率よ
くラップ研摩することができ、しかも連続的なラップ研
摩が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク、
プリント基板等のラッピング方法及びラッピング装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ハードディスク等のラッピング方
法としては、図３，４に示したように、被研摩物１０１
を保持孔１０２に保持した複数のキャリア１０３を互い
に反対方向に回転する下定盤１０４と上定盤１０５との
間にそれぞれこれら定盤１０４，１０５に取り付けた研
摩パッド１０４ａ，１０５ａを介して挿入、接触させる
と共に、上記複数のキャリア１０３をアウターギヤ１０
６とセンターギヤ１０７との間に挿入、噛合させたラッ
ピング装置を用いてラップ研摩することが行われてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ラ
ップ研摩方法は下記のような欠点を有している。 （１）上記装置はバッチ方式であり、キャリアの保持孔
に被研摩物を挿入し、ラップ研摩終了後、キャリアから
被研摩物を取り出す方式になっており、生産効率が劣る
ものである。 （２）キャリアは公転かつ自転するが、外周側の周速は
早く、内周側の周速は遅く、この場合、研摩は主として
外周側で行われるので、全体の研摩速度が遅くなる。 （３）大きな加圧を中心に加えると、外周方向にキャリ
アがあるので、歪が生じる可能性がある。また、平滑度
を得るには定盤を厚く重くする必要がある。熱による歪
が研摩に影響を与える。 （４）研摩パッドに対する研摩液の供給は、上定盤に複
数の供給孔を設け、この供給孔に対し滴下方式で上定盤
の研摩パッドに供給するものであるが、回転する上定盤
に滴下方式で研摩液を供給するので、供給孔に入らない
研摩液が飛び散り、無駄が多い。この場合、供給孔にチ
ューブを取り付け、チューブより研摩液を供給する場合
には、上定盤が回転しているのでチューブ相互がからま
る。また、下定盤の研摩パッドには直接研摩液を供給す
ることができず、上定盤の研摩パッドに供給された研摩
液が上定盤の研摩パッドを通過して下定盤の研摩パッド
に流れることにより供給されるのみである。従って、被
研摩物の下面の研摩が不十分となるおそれがある。 （５）研摩パッドは通常四角形状であるのに対し、定盤
は円形状であるため、研摩パッドを定盤に取り付けた場
合、角部がはみ出るなど、無駄が多く、また研摩パッド
の定盤への張り付けが面倒である。

【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
上記（１）〜（５）の欠点を除去することができ、被研
摩物を均一かつ効率よくラップ研摩することができるラ
ッピング方法及びラッピング装置を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、下記のラッピング方法及びラッピング装置
を提供する。 請求項１：保持孔に被研摩物が保持されたキャリアを下
定盤と上定盤との間にそれぞれ研摩パッドを介して挟持
し、上記両研摩パッドにより上記被研摩物の上下両面を
同時にラップ研摩する方法において、上記キャリアを回
転させると共に、上記下定盤及び上定盤を互いに反対方
向に往復動させて、上記被研摩物の上下両面を同時にラ
ップ研摩することを特徴とするラッピング方法。 請求項２：上記両研摩パッドにそれぞれ下定盤及び上定
盤に穿設した研摩液供給孔を通って研摩液を直接供給す
るようにした請求項１記載のラッピング方法。 請求項３：支持台上に水平方向に沿って往復動可能に支
持された下定盤と、上下方向移動可能かつ水平方向に沿
って往復動可能に配設された上定盤と、上記下定盤上面
及び上定盤下面にそれぞれ取り付けられた研摩パッド
と、これら両研摩パッド間に挟持され、被研摩物を保持
孔に保持するキャリアと、このキャリアを回転させる機
構と、上記下定盤及び上定盤を互いに反対方向に往復動
させる揺動機構とを備えたことを特徴とするラッピング
装置。 請求項４：上記キャリアを回転させる機構が、このキャ
リアの両側にそれぞれチェーンを配設すると共に、これ
ら両チェーンにキャリア外周部に設けた凹凸歯を噛合さ
せ、上記両チェーンを互いに反対方向に走行させること
により、キャリアを回転させる機構である請求項３記載
のラッピング装置。 請求項５：上記揺動機構が、支持体に回転可能に支承さ
れた中心軸体に揺動板を固定し、この揺動板の上記中心
軸体より下方位置と上記下定盤との間を下側往復板の長
さ方向両端部をそれぞれピンによって揺動板及び下定盤
と揺動可能に枢着することにより連結すると共に、上記
揺動板の上記中心軸体より上方位置と上定盤との間を上
側往復板の長さ方向両端部をそれぞれピンによって揺動
板及び上定盤と揺動可能に枢着することにより連結し、
かつ上記揺動板を上記中心軸体を中心として揺動させる
手段を設けた機構である請求項３又は４記載のラッピン
グ装置。 請求項６：上記下定盤及び上定盤にそれぞれ複数の研摩
液供給孔を穿設すると共に、これら供給孔にチューブを
連結し、これらチューブに研摩液供給ポンプを介装し
て、研摩液を上記チューブ及び供給孔を通って下定盤及
び上定盤の研摩パッドに直接導入するようにした請求項
３、４又は５記載のラッピング装置。

【０００６】本発明によれば、下記の利点が得られる。 （１）キャリアは回転すると共に、下定盤及び上定盤は
往復動し、これら定盤の往復動と一体に往復動する研摩
パッドにより、キャリアの回転と一体に回転する被研摩
物が研摩され、従ってキャリアに保持された各被研摩物
に対する研摩パッドの往復速度が同じであるから、各被
研摩物の上下両面が均一に研摩され、かつ研摩速度も同
一となるから、研摩効率が向上する。

【０００７】この場合、キャリアの回転速度、両定盤の
振幅、振動数は適宜変更可能であり、被研摩物の種類に
応じて最適な研摩を可能とする。

【０００８】（２）また、両研摩パッドに対し両定盤に
それぞれ設けた研摩液供給孔より直接研摩液を供給する
ことができ、従来のように上定盤の研摩パッドを介して
下定盤の研摩パッドに研摩液を供給するのとは異なり、
下定盤の研摩パッドにも直接研摩液を供給できるので、
被研摩物の上下両面を均一かつ良好に研摩し得る。

【０００９】なお、上記両定盤は水平方向に往復動する
が、回転しないため、請求項５に記載したように上記供
給孔にチューブを連結しても、チューブ相互がからみ合
うことはない。

【００１０】（３）上記のように下定盤と上定盤は往復
運動を行うものであり、このように往復運動すると振動
が生じ得るが、下定盤と上定盤とを同じ質量にすること
により、これら両定盤は互いに反対方向に往復動させる
ので、振動が生じ難いものである。

【００１１】（４）上記キャリアの回転を請求項４に記
載したように２個のチェーンによって行うことにより、
回転機構の構成が簡単かつ安価なものになると共に、両
チェーンを同一方向に走行させることにより、キャリア
の定盤への搬入、定盤からの搬出を自動的に行うことが
でき、予め被研摩物を保持させたキャリアを自動で定盤
に供給し、定盤から自動で送出されたキャリアより研摩
されたワークを取り出し、或いはベルトコンベア等によ
りそのまま洗浄工程に移送できるので、ラップ研摩の自
動化が可能である。

【００１２】（５）上記請求項５による両定盤の揺動機
構は、構成が簡単であり、しかも請求項４のチェーンに
よるキャリアの走行、キャリアの回転機構を阻害しない
ものである。

【００１３】（６）上記両定盤はそれぞれ角型に形成し
得、下定盤の上面、上定盤の下面に四角形状の研摩パッ
ドが着脱可能に嵌着し得る凹状収容部を設けることによ
り、研摩パッドの着脱が容易となり、パッドの交替が簡
単になる。

【００１４】従って、本発明によれば、ハードディスク
（アルミ、ガラス）、シリコンウエハー、液晶板などの
ラップ研摩、更にはアルミ、ガラス、セラミック等の２
００〜８００ｍｍ角の大型角板、プリント基板、ＣＭ
Ｐ、ＭＤなど、各種部品の研摩を効率よく工業的有利に
行うことができる。

【００１５】

【発明の実施の形態及び実施例】以下、本発明の一実施
例について図面を参照して説明する。図中１は基台、２
はこの基台１上に支持柱３を介して配設された支持板
で、この支持板２の中央部には支持台４が固定されてい
る。そして、この支持台４上にはリニアウエイ５を介し
て四角形状の下定盤６が後述するキャリア５０の進行方
向に対し直角方向（図１において左右方向）に往復動可
能に配設されている。なお、この下定盤６は、下側部分
６ａがステンレス、上側部分６ｂがアルミニウムにて形
成され、上側部分６ｂ上に研摩パッド６ｃが着脱可能に
取り付けられている。

【００１６】また、上記支持板２上には、支持柱７を介
して天板８が配設されている。この天板８上にはその中
央部に架枠９が固定され、この架枠９には上定盤持上げ
シリンダー１０がピン１０ａを中心として揺動可能に取
り付けられている。このシリンダー１０の下端部は上記
天板８中央部に穿設された透孔１１を貫通して天板８の
下方に突出し、このシリンダー１０下部に軸方向移動可
能に設けられたロッド１２の下端部に四角形状の上定盤
１３が固定されており、図示していないロッド駆動源を
駆動させることにより、ロッド１２がシリンダー１０よ
り進退し、これと一体に上定盤１３が上下方向に移動し
得るようになっている。１４，１４はそれぞれリンク部
材であり、その上端部が上記天板８下面に固定されてい
ると共に、第１ピン１４ａ，第２ピン１４ｂ，第３ピン
１４ｃを介して下端部が上記上定盤１３上面に固定され
ている。なお、上記上定盤１３は、上側部分１３ａがス
テンレス、下側部分１３ｂがアルミニウムにて形成さ
れ、下側部分１３ｂ下面に研摩パッド１３ｃが着脱可能
に取り付けられており、上記ロッド１２のシリンダー１
０からの進出限位置において、上記両研摩パッド６ｃ，
１３ｃが互いに当接乃至は近接するようになっている。

【００１７】上記下定盤６上面、上定盤１３下面には、
それぞれ四角形状の研摩パッド６ｃ，１３ｃが嵌着し得
る凹状収容部が形成され、これら収容部に研摩パッド６
ｃ，１３ｃが上述したように着脱可能に嵌着されている
ものであり、従ってパッド６ｃ，１３ｃの取り付け、取
り外しが容易に行われる。

【００１８】１５は揺動機構であり、上記支持板２上に
固定された支持体１６一側部に回転可能に支承された中
心軸体１７に揺動板１８を固定すると共に、上記支持板
２に形成された凹溝２ａを貫通して下方に突出する揺動
板１８の下端部と、上記基台１上に固定された回転駆動
源１９の回転軸２０に取り付けた円形状の回転板２１の
外周縁部との間に揺動案内板２２をピン２３，２４によ
り枢着してなる。２５は下側往復板で、その両端部はそ
れぞれ略Ｕ字状に形成され、上記中心軸体１７より下方
位置においてこの略Ｕ字状一端部に上記揺動板１８が挿
入され、ピン２６により枢着されていると共に、略Ｕ字
状他端部に上記下定盤６の下面に突設された取付板体６
ｄが挿入され、ピン２７により枢着されており、これに
よって下定盤６が下側往復板２５を介して上記揺動板１
８に連結されている。また、２８は上側往復板で、その
両側部も略Ｕ字状に形成され、上記中心軸体１７より上
方位置において、この略Ｕ字状一端部に上記揺動板１８
の上端部が挿入され、ピン２９により枢着されていると
共に、略Ｕ字状他端部に上記上定盤１３の上面に突設さ
れた取付板１３ｄが挿入され、ピン３０により枢着され
ており、これによって上定盤１３は上側往復板２８を介
して上記揺動板１８と連結されている。なお、上記中心
軸体１７は、下定盤６と上定盤１３との当接位置と同一
水平線上に配置されており、また下側往復板２５のピン
２６と上側往復板２８のピン２９とはそれぞれ中心軸体
１７から等距離の位置に配置されている。

【００１９】更に３１，３２はそれぞれエンドレスチェ
ーンであり、架台３３，３４及び３５，３６にそれぞれ
支持されたスプロケット３７，３８及び３９，４０にそ
れぞれ巻架、張設され、図示していない駆動源によりス
プロケット３７，３８及び３９，４０を正逆回転させる
ことにより、正方向又は逆方向に逆行するようになって
いる。これらチェーン３１，３２は、それぞれ上記上下
定盤の側方に存して、これら上下定盤の当接位置と同一
水平線上に配置され、後述するキャリア５０の直径と同
じ距離をもって離間し、キャリア５０を両チェーン３
１，３２間に挟持し得るようなっている。

【００２０】なお、図２において、４１，４２はそれぞ
れベルトコンベアであり、その上面は、上記下定盤６上
面とほぼ同じ高さ位置にあるように配設されている。

【００２１】また、図示していないが、下定盤６及び上
定盤１３には、それぞれ上下方向に沿って複数個の研摩
液供給孔が穿設されており、これら供給孔はそれぞれ研
摩液供給ポンプを介装するチューブを介して研摩液タン
ク内と連通され、研摩液供給ポンプの駆動により該タン
ク内の研摩液が上記チューブ及び供給孔を通って上記研
摩パッド６ｃ，１３ｃにそれぞれ供給されるようになっ
ている。

【００２２】上記キャリア５０は、円形状キャリア主体
５１に被研摩物保持孔５２が複数個（図面においては１
４個）設けられ、これら保持孔５２内に被研摩物５３が
保持されるものである。なお、キャリア主体５１の外周
縁部には凹凸歯が形成されており、上記チェーン３１，
３２と噛合するようになっている。

【００２３】上記ラッピング装置を用いて被研摩物をラ
ップ研摩する方法につき説明すると、まず、ロッド１２
をシリンダー１０に退入させて、上定盤１３を上昇さ
せ、下定盤６と離間させて、所定の間隙を形成する。こ
の状態において、保持孔５２に被研摩物５３を保持した
キャリア５０がベルトコンベア４１により図中矢印Ｃ方
向に送られてくると、キャリア主体５１外周縁部の凹凸
歯がチェーン３１，３２に噛合され、キャリア５０がこ
れらチェーン３１，３２に挟持されると共に、この状態
でチェーン３１，３２をそれぞれ矢印Ａ方向（同方向）
に走行させると、キャリア５０が前進し、下定盤６位置
に達する。次いで、上記ロッド１２をシリンダー１０よ
り進出させて、上定盤１３を下降させ、上記キャリア５
０を下定盤６の研摩パッド６ｃと上定盤１３の研摩パッ
ド１３ｃとの間に挟む。

【００２４】この状態において、一方のチェーン３１と
他方のチェーン３２とをそれぞれ逆方向に（例えばチェ
ーン３１をＡ方向、チェーン３２をこれとは逆のＢ方向
に）走行させる。これにより、キャリア５０が回転す
る。そして、上記研摩液供給タンクから、研磨剤微粒子
が分散、懸濁した研摩液を上述したようにして下定盤６
の研摩パッド６ｃ及び上定盤１３の研摩パッド１３ｃに
それぞれ供給する。これと共に、回転駆動源１９を駆動
し、回転軸２０及びこれと一体に回転板２１を回転させ
る。なお、この回転数はインバターで自由に変更するこ
とができる。これにより、揺動案内板２２が往復動し、
これと一体に揺動板１８が中心軸体１７を中心として揺
動し、下側往復板２５と上側往復板２８とが互いに逆方
向に往復動し、これと一体に下定盤６と上定盤１３とが
互いに逆方向に往復動する（往復動方向はキャリア５０
の上記進行方向に対し直角方向、即ち、図１において左
右方向）。この場合、下定盤６は、リニアウエイ５によ
りキャリア５０の進行方向への往復動が確実に阻止さ
れ、また、上定盤１３は、その往復動と一体にシリンダ
ー１０及びロッド１２がピン１０ａを支点として図１中
左右方向に揺動すると共に、リンク部材１４，１４によ
り左右方向への往復動がスムーズに案内され、キャリア
５０の進行方向への往復動が阻止されるものである。

【００２５】従って、上記したように、キャリア５０及
びこれと一体に被研摩物５３が回転しながら、これら被
研摩物５３の下面及び上面に下定盤６の研摩パッド６ｃ
と上定盤１３の研摩パッド１３ｃとがそれぞれ往復動し
て接触し、被研摩物５３の下面及び上面がそれぞれ均一
かつ効率よくラップ研摩されるものである。しかもこの
場合、上記両研摩パッド６ｃ，１３ｃには、それぞれ別
個に研摩液を供給できるので、下面及び上面とも優れた
研摩が行われるものである。なお、本発明においては、
下定盤６及び上定盤１３共、それぞれ往復動作するのみ
で、回転はしないものであるから、これら定盤６，１３
に設けた研摩液供給孔にチューブを連結し、該チューブ
を通して研摩液を供給する場合、チューブは左右方向に
揺動するのみであり、従って定盤６，１３、特に下定盤
６の回転によってチューブがからまるような不都合がな
く、下定盤６の研摩パッド６ｃに直接研摩液を供給し得
るものである。

【００２６】なお、上記ラップ研摩時において、チェー
ン３１，３２の走行方向を適宜変えて、キャリア５０を
正逆回転させることができ、また、回転駆動源も適宜間
隔毎に正逆回転することができる。

【００２７】上記キャリア５０の回転速度は適宜選定さ
れるが、１０〜２００ｒｐｍとすることができ、また上
記回転板２１の回転速度は５００〜３０００ｒｐｍとす
ることができ、下定盤６及び上定盤１３の往復動距離も
適宜選定されるが、１５０ｍｍ以下とすることができ
る。

【００２８】更に、上記ラップ研摩において、研摩パッ
ド６ｃ，１３ｃは、ポリウレタンフォーム等の公知の材
料でよく、研摩液も被研摩物の種類、表面仕上げ程度な
どに応じた公知の組成のものとすることができる。

【００２９】上記のようにラップ研摩を行った後は、研
摩液への供給を停止すると共に、回転駆動源１９の駆動
を停止し、必要によりチェーン３１，３２の走行を停止
した後、ロッド１２をシリンダー１０に退入させ、上定
盤１３を上昇させてキャリア５０から離間させ、次いで
チェーン３１，３２をそれぞれ矢印Ａ方向（同方向）に
走行させて、キャリア５０を下定盤６位置より前進さ
せ、ベルトコンベア４２上に移行させて、排出するもの
であり、これは自動的に次工程の洗浄装置に送ることが
できる。

【００３０】従って、上記操作を連続的に繰り返すこと
により、被研摩物のラップ研摩が連続的に行われるもの
である。上記のことから、本方法及び装置は、下記の特
長を有する。 （１）簡単な構造で、平坦度のよい研摩が短時間ででき
る。 （ａ）研摩剤が上下定盤から均一に供給できる。 （ｂ）全体が同じ往復速度で研摩するので、中心部、外
周部共に同じ研摩レートが得られる。 （ｃ）均一な加圧が可能である。 （２）パッドの交換が簡単にできる。 （ａ）パッドの交換が容易にでき、パッドの張り替え時
間が短くすむ。 （ｂ）角形のパッドを用いることができ、無駄がない。 （３）連続研摩、自動研摩が可能である。 （４）研摩後の洗浄装置は次工程に簡単にセットでき
る。 （５）装置の製作が安価にでき、設置スペースを小さく
することができる。

【００３１】本発明の具体的な態様として、５００ｍｍ
角の定盤で１７枚の１００ｍｍのＭＤが研摩でき、従来
の回転ラップ研磨機以上の研摩力と平坦度単度が得られ
ることが、実験データで確認された。

【００３２】なお、上記装置は、キャリア主体に多数の
保持孔を設け、これら保持孔に多数の被研摩物を保持さ
せるようにしたが、保持孔の数は適宜選定され、また保
持孔の形状も円形状に限定されず、四角形等、被研摩物
の形状に応じて変えることができ、例えば保持孔として
１個の四角形状を形成でき、これに角型のプリント基板
などを保持させ、このプリント基板などを研摩すること
ができる。

【００３３】また、本発明において、被研摩物は特に制
限されず、バードディスク（アルミ、ガラス等）、シリ
コンウエハー、液晶板、ＣＭＰ（立体配線）、ＭＤ（ア
ルミ、ガラス、セラミック）、角板（アルミ、ガラス、
セラミック）、プリント基板などが例示され、２００〜
８００ｍｍ角の大型板材なども有効に研摩することがで
きるが、これに限定されるものではない。

【００３４】なおまた、その他の構成も、図示の実施例
に制限されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々変更しても差し支えない。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、被研摩物を均一かつ効
率よくラップ研摩することができ、しかも連続的なラッ
プ研摩が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す図２のＩ−Ｉ線に沿っ
た部分断面側面図である。

【図２】同例の図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った平面図であ
る。

【図３】従来のラッピング装置の概略側面図である。

【図４】同装置のキャリアをアウターギヤとインナーギ
ヤとの間に噛合した状態の平面図である。

【符号の説明】

１ 基台 ２ 支持板 ２ａ 凹溝 ３ 支持柱 ４ 支持台 ５ リニアウエイ ６ 下定盤 ６ａ 下側部分 ６ｂ 上側部分 ６ｃ 研摩パッド ６ｄ 取付板体 ７ 支持柱 ８ 天板 ９ 架枠 １０ シリンダー １０ａ ピン １１ 透孔 １２ ロッド １３ 上定盤 １３ａ 上側部分 １３ｂ 下側部分 １３ｃ 研摩パッド １３ｄ 取付板体 １４ リンク部材 １４ａ 第１ピン １４ｂ 第２ピン １４ｃ 第３ピン １５ 揺動機構 １６ 支持体 １７ 中心軸体 １８ 揺動板 １９ 回転駆動源 ２０ 回転軸 ２１ 回転板 ２２ 揺動案内板 ２３ ピン ２４ ピン ２５ 下側往復板 ２６ ピン ２７ ピン ２８ 上側往復板 ２９ ピン ３０ ピン ３１ チェーン ３２ チェーン ３３ 架台 ３４ 架台 ３５ 架台 ３６ 架台 ３７ スプロケット ３８ スプロケット ３９ スプロケット ４０ スプロケット ４１ ベルトコンベア ４２ ベルトコンベア ５０ キャリア ５１ キャリア主体 ５２ 保持孔 ５３ 被研摩物

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 保持孔に被研摩物が保持されたキャリア
   を下定盤と上定盤との間にそれぞれ研摩パッドを介して
   挟持し、上記両研摩パッドにより上記被研摩物の上下両
   面を同時にラップ研摩する方法において、上記キャリア
   を回転させると共に、上記下定盤及び上定盤を互いに反
   対方向に往復動させて、上記被研摩物の上下両面を同時
   にラップ研摩することを特徴とするラッピング方法。
2. 【請求項２】 上記両研摩パッドにそれぞれ下定盤及び
   上定盤に穿設した研摩液供給孔を通って研摩液を直接供
   給するようにした請求項１記載のラッピング方法。
3. 【請求項３】 支持台上に水平方向に沿って往復動可能
   に支持された下定盤と、上下方向移動可能かつ水平方向
   に沿って往復動可能に配設された上定盤と、上記下定盤
   上面及び上定盤下面にそれぞれ取り付けられた研摩パッ
   ドと、これら両研摩パッド間に挟持され、被研摩物を保
   持孔に保持するキャリアと、このキャリアを回転させる
   機構と、上記下定盤及び上定盤を互いに反対方向に往復
   動させる揺動機構とを備えたことを特徴とするラッピン
   グ装置。
4. 【請求項４】 上記キャリアを回転させる機構が、この
   キャリアの両側にそれぞれチェーンを配設すると共に、
   これら両チェーンにキャリア外周部に設けた凹凸歯を噛
   合させ、上記両チェーンを互いに反対方向に走行させる
   ことにより、キャリアを回転させる機構である請求項３
   記載のラッピング装置。
5. 【請求項５】 上記揺動機構が、支持体に回転可能に支
   承された中心軸体に揺動板を固定し、この揺動板の上記
   中心軸体より下方位置と上記下定盤との間を下側往復板
   の長さ方向両端部をそれぞれピンによって揺動板及び下
   定盤と揺動可能に枢着することにより連結すると共に、
   上記揺動板の上記中心軸体より上方位置と上定盤との間
   を上側往復板の長さ方向両端部をそれぞれピンによって
   揺動板及び上定盤と揺動可能に枢着することにより連結
   し、かつ上記揺動板を上記中心軸体を中心として揺動さ
   せる手段を設けた機構である請求項３又は４記載のラッ
   ピング装置。
6. 【請求項６】 上記下定盤及び上定盤にそれぞれ複数の
   研摩液供給孔を穿設すると共に、これら供給孔にチュー
   ブを連結し、これらチューブに研摩液供給ポンプを介装
   して、研摩液を上記チューブ及び供給孔を通って下定盤
   及び上定盤の研摩パッドに直接導入するようにした請求
   項３、４又は５記載のラッピング装置。