JP2000086227A - 超微粒子状二酸化珪素とその製造方法 - Google Patents

超微粒子状二酸化珪素とその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的強度および透明性に優れた充填材と
して用いられる超微粒子状二酸化珪素の提供。 【解決手段】BET比表面積350m2/g以上の超微粒子
領域の二酸化珪素粉末であって、BET/CTAB比表
面積比0.6〜1.1、数平均一次粒子径1〜20nm、水
銀ポロシメータによる間隙量0.1〜1.0ml/g、アマニ
油吸油量350〜600ml/100gであることを特徴とす
る超微粒子状二酸化珪素。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、揮発性珪素化合物
を火炎中で高温分解して得られる超微粒子状二酸化珪素
に関する。本発明の超微粒子状二酸化珪素は、透明性や
機械強度が要求される加熱硬化型シリコーンゴム、液状
シリコーンゴム、あるいは特に高い透明性が要求される
ゴム、あるいは透明性と共に高いチキソトロピー性が要
求されるゲルコート用不飽和ポリエステル樹脂、エポキ
シ接着剤などの充填材として有用である。
【0002】
【従来の技術】煙霧シリカ(フュームドシリカ)を水中
に分散してl200℃以下で加熱処理することによって
非多孔性シリカを製造できることが知られている。しか
し、このような方法によって得られるシリカ粒子は平均
一次粒子径が約3〜1000ミクロン、BET比表面積は約
1m2/g以下であり、これよりも微細なシリカ粉末を得る
ことは難しい。また、微細なシリカ粉末の製造方法とし
て、BET/CTAB比表面積比0.8〜1.1のシリカ
粉末を製造する方法が知られている(特開平7-172815
号)。しかし、この製法は珪酸アルカリを原料とするい
わゆる湿式プロセスであり、製造されるものは沈降珪酸
と称されるシリカであって、原料に起因するアルカリ金
属を微量随伴していること、およびフリーシラノール基
密度等の特性がフュームドシリカとは異なるため、上記
樹脂組成物に充填材等として用いた場合、フュームドシ
リカと同様の効果を得るのが難しい。
【0003】以上のような湿式製法に対して、ハロゲン
化珪素を火炎中で加水分解することにより微細な二酸化
珪素粉末を製造する乾式製造もかなり以前から実施され
ている。この場合、水を形成しつつ燃焼するガス、例え
ば、水素またはメタン等と酸素ないし空気を、ハロゲン
化珪素と均一に混合して火炎中で加水分解させることが
有利であることも知られている(特公昭36-3359号)。
このようにして製造された超微粒子状二酸化珪素の粒子
の大きさはBEΤ比表面積で概ね50〜600m2/gであ
る。
【0004】ところで、一般にΒEΤ比表面積が概ね3
00m2/g以下の領域では、この値が粒子の幾何学的な大
きさを代表していると考えられているが、BEΤ比表面
積がこの値よりも大きくなると、ΒEΤ比表面積値が必
ずしも粒子の大きさを代表しないようになる。すなわ
ち、ΒEΤ比表面積が300m2/gを上回る領域では、一
次粒子表面に存在する細孔の影響でBET比表面積が大
きくなり、ΒEΤ比表面積では一次粒子の大きさを正確
に把握できない問題がある。
【0005】
【発明の解決課題】このように、超微粒子状のシリカに
ついてはΒEΤ比表面積が300m2/gを上回る領域では
ΒEΤ比表面積に代わる指標が必要であり、従来、ΒE
Τ比表面積が300m2/g以上であっても、実際の粒子径
はΒEΤ比表面積300m2/gのものと殆ど変らず、この
ため、機械的強度や高い透明性、あるいは高いチキソト
ロピー性が要求される充填材として超微粒子状の二酸化
珪素粉末を用いた場合、従来のBET比表面積による粒
子径では必ずしも所望の効果が得られない場合があっ
た。
【0006】本発明は、従来の超微粒子状二酸化珪素に
おける上記問題を解決したものであって、機械的強度や
透明性に優れ、高いチキソトロピー性が要求される充填
材として最適な超微粒子状二酸化珪素粉末を提供するも
のである。
【0007】
【課題を解決する手段】すなわち本発明は、(1)BET
比表面積350m2/g以上の超微粒子領域の二酸化珪素粉
末であって、BET/CTAB比表面積比0.6〜1.
1、数平均一次粒子径1〜20nm、水銀ポロシメータに
よる間隙量0.1〜1.0ml/g、アマニ油吸油量350〜
600ml/100gであることを特徴とする超微粒子状二酸
化珪素に関する。本発明は、(2)BET比表面積350
〜600m2/g、BEΤ/CTAB比表面積比0.75〜
1.0、数平均一次粒子径1〜6nm、水銀ポロシメータ
による間隙量0.1〜0.7ml/gである超微粒子状二酸化
珪素を含む。更に本発明は、(3)揮発性珪素化合物を、
可燃ガスおよび酸素の混合ガスと共に燃焼させた火炎中
で1000〜2100℃の高温で加熱分解する製造方法
において、揮発性珪素化合物1モル当量に対する混合ガ
ス中の酸素のモル当量を2.5〜3.5、水素のモル当量
を1.5〜3.5に制御することを特徴とする超微粒子状
二酸化珪素の製造方法に関する。
【0008】
【発明の実施形態】本発明の二酸化珪素(シリカ)は、B
ET比表面積が350m2/g以上であり、BET/CTA
B比表面積比0.6〜1.1、数平均一次粒子径1〜20
nm、水銀ポロシメータによる間隙量0.1〜1.0ml/g、
およびアマニ油吸油量350〜600ml/100gであるこ
とを特徴とする超微粒子状の二酸化珪素である。なお、
ここで超微粒子状とはBET比表面積が300m2/g以上
であることを云う。
【0009】このような超微粒子状のシリカは、そのB
ET比表面積とCTAB比表面積との関係をみると、Β
EΤ比表面積が100〜300m2/gの範囲では両者は正
の相関を示すが、300m2/gを超える範囲では、ΒEΤ
比表面積とCTAB比表面積とはリニアな関係を示さな
い。
【0010】CTAB法はCTAB(臭化セチルトリメ
チルアンモニウム)のシリカ粒子への吸着量で比表面積
を測定する方法であり、一方、BET法は窒素吸着量に
よって比表面積を測定する方法であるが、BET法では
窒素分子量が小さいのでシリカ粒子表面の細孔にも吸着
するのに対し、CTAΒは分子量が大きいためにシリカ
粒子表面の細孔内には吸着されない。従って、BEΤ比
表面積が300m2/g以上の超微粒子領域において、BE
T比表面積とCTAB比表面積との相関が失われるの
は、この領域において一次粒子表面に細孔が形成される
ためにBET比表面積が増加するのに対して、CTAΒ
比表面積はこの影響を受けないためであると考えられ
る。
【0011】そこで本発明は、BET比表面積とCTA
B比表面積との比を把握し、この比表面積比が一定範囲
になるように両比表面積を制御した。両比表面積の比を
上記範囲に制御することにより、一次粒子表面に発生す
る細孔の影響を排除して正確な粒子径を把握することが
できる。以上のことから、本発明の二酸化珪素は、BE
T比表面積350m2/g以上、好ましくは350〜600
m2/gであり、BET/CTAB比表面積比0.6〜1.
1、好ましくは0.75〜1.0に制御される。
【0012】超微粒子状二酸化珪素を充填材として用い
た場合、高い透明性を得るにはBET比表面積が350
m2/g以上の超微細粉末であるものが好ましい。また、B
ET/CTAB比表面積比が0.6未満あるいは1.1以
上では一次粒子表面の細孔などの影響が大きく、BET
比表面積値が一次粒子の粒子径を正確に反映していない
ものになる。
【0013】さらに、本発明の二酸化珪素の数平均一次
粒子径は1〜20nmの範囲である。粒子径が小さい程、
ポリマー中に分散させた場合に高い透明性と機械強度が
得られるが、一方で極超微細粒子の製造は困難であり、
現実的な製造手法で所定の特性を得るため上記範囲とす
る。好ましくは1〜6nmの範囲である。また、水銀ポロ
シメータによる間隙量0.1〜1.0ml/g、好ましくは
0.1〜0.7ml/gである。なお、水銀ポロシメータによ
る計測値は粒子表面の細孔容量に対応するものである。
細孔容量を一定範囲に低減することにより水分の吸着量
を最小に止めることができ、また、表面活性を高めるこ
とができる。また、これにより、ポリマー強度を向上さ
せることも可能になる。さらにまた、本発明において
は、アマニ油吸油量を350〜600ml/100gの範囲と
し得ることが大きな特長となっている。すなわち、アマ
ニ油の吸油量は、ポリマー中に分散されたシリカ粒子の
ストラクチャーと密接な関係にあり、吸油量が高いとよ
り高度なストラクチャーが形成され、より大きな補強効
果及びより高い増粘性が実現できる。BET比表面積値
の200〜380m2/gの従来品では、アマニ油吸油量は
200〜300ml/100g程度であり、本発明ではこれ以
上の吸油量を達成することにより高い機械強度の付与を
可能とした。
【0014】本発明の超微粒子状二酸化珪素は、揮発性
珪素化合物を原料とし、これを可燃ガスおよび酸素を含
有する混合ガスと共にバーナーに供給して燃焼させた火
炎中で1000〜2100℃の高温で加熱分解すること
により得られる。原料となる揮発性珪素化合物として
は、例えば、揮発性のハロゲン化珪素化合物が適当であ
る。具体的には、SiH4、SiCl4、CH3SiC
3、CH3SiHCl2、HSiCl3、(CH3)2SiC
2、(CH3)3SiCl、(CH3)2SiH2、(CH3)3
SiH、アルコキシシラン類等が挙げられる。また可燃
ガスおよび酸素を含有する混合ガスは水を形成するもの
が好ましく、水素やメタン、ブタンなどガスなどが適当
であり、酸素含有ガスとしては酸素、空気等が用いられ
る。
【0015】揮発性珪素化合物と混合ガスの量比は、揮
発性珪素化合物のモル当量を1モル当量として、酸素お
よび可燃性ガスである水素を含む混合ガス中の酸素のモ
ル当量を2.5〜3.5および水素のモル当量をl.5〜
3.5の範囲に調整する。なお、ここで、酸素と水素に
ついてのモル当量とは、各原料化合物(揮発性珪素化合
物)と反応する化学量論的な当量を指している。また、
メタン等の炭化水素燃料を用いる場合は、水素換算のモ
ル当量を指す。上記定義から明らかなように、本来、シ
リカ生成反応には原料1モルに対し水素、酸素各1モル
当量を用いればよいが、本発明では後者を過剰量用いる
ことにより、反応混合物中の固体/気体比を小さくし、
これにより固体(シリカ)粒子間の衝突を少なくして溶
融による粒子成長を抑制し、よって超微粒子シリカを得
ることに成功したものである。特に上記に限定する範囲
内で水素、酸素混合ガスを用いることにより、BET比
表面積350m2/g以上で、かつ、BET/CTAB比表
面積比0.6〜1.1、数平均一次粒子径1〜20nm、水
銀ポロシメータによる間隙量0.1〜1.0ml/g、アマニ
油吸油量350〜600ml/100gの超微粒子状の二酸化
珪素が得られる。
【0016】
【実施例および比較例】以下に本発明の実施例を比較例
と共に示す。なお、各例において得られた二酸化珪素の
物性は以下の方法によって測定した。 (1)BEΤ比表面積:柴田科学器械工業株式会社製、迅
速表面積測定装置SA11OO型によって測定。 (2)間隙量:ドイツ工業標準規格(DIN 66133)に従い水
銀ポロシメーター法により測定。 (3)CTAΒ比表面積:米国材料試験協会規格(ASTM D3
324-92、 D3765-92)に従いアトマスト社製光電式濁度自
動滴定装置を用いて測定。 (4)アマニ油吸油量:フロンテックス株式会社製吸油量
測定装置S410Βを用いて測定。
【0017】実施例1 揮発性珪素化合物として四塩化珪素(SiCl4)1.0モル当
量を、約60℃に予熱した酸素と水素の混合ガス(酸素
2.69モル当量、水素1.60モル当量)と共にバーナーに供給
し、燃焼(1600℃)させて微粒子状のシリカを補集し
た。このシリカの数平均一次粒子径は5nmであり、BE
Τ比表面積は380m2/g、CTAB比表面積は425m2
/g、従ってBEΤ/CTAB比表面積比は0.89であっ
た。また、水銀ポロシメータによる間隙量は0.4ml/
g、アマニ油吸油量は382ml/100gであった。
【0018】実施例2 混合ガスの酸素および水素の濃度を、酸素3.46モル
当量、水素1.62モル当量とした他は実施例1と同様
にして微粒子状のシリカを得た。このシリカの数平均一
次粒子径は3nmであり、BET比表面積は498m2/g、
CTAB比表面積は504m2/g、従ってBEΤ/CTA
B比表面積比は0.99であった。また、水銀ポロシメ
ータによる間隙量は0.6ml/g、アマニ油吸油量は46
0ml/ 100g であった。
【0019】実施例3、4 混合ガスの酸素および水素の濃度を、酸素2.60モル
当量、3.40モル当量および水素3.50モル当量とし
た他は実施例1と同様にして微粒子状のシリカを得た。
このシリカの数平均一次粒子径、BET比表面積、CT
AB比表面積およびBEΤ/CTAB比表面積比、ま
た、水銀ポロシメータによる間隙量、アマニ油吸油量は
それぞれ表1に示すとおりであった。
【0020】比較例1 混合ガスの酸素および水素の濃度を、酸素3.36モル
当量、水素2.0モル当量とした他は実施例1と同様に
して微粒子状のシリカを得た。このシリカの数平均一次
粒子径は8nmであり、BEΤ比表面積は395m2/g、C
TAB比表面積は392m2/g、従ってΒEΤ/CTAB
比表面積比は1.01であった。また、水銀ポロシメー
タによる間隙量は1.3ml/g、アマニ油吸油量は320m
l/100gであった。
【0021】比較例2 混合ガスの酸素および水素の濃度を、酸素2.46モル
当量、水素1.16モル当量とした他は実施例1と同様
にして微粒子状のシリカを得た。このシリカの数平均一
次粒子径は8nmであり、BET比表面積は500m2/g、
CTAB比表面積は396m2/g、従ってBEΤ/CTA
B比表面積比は1.26であった。また、水銀ポロシメ
ータによる間隙量は1.7ml/g、アマニ油吸油量は31
8ml/100gであった。
【0022】ポリマー特性 実施例1〜4、比較例1〜2、および市販のシリカ微粉
末(日本アエロジル株式会社製:商品名アエロシ゛ル200、300、
380)をシリコーンゴムに充填し、その補強効果と透明
性を評価した。シリコーンゴムとしてはビニル基含有シ
リコーンポリマー(バイエル社試供品、商品名:シロフ゜レンV
S)を用い、その100部に上記シリカ粉末40部、両末
端OΗジメチルポリシロキサン7.6部を加え、ニーダ
ーにて常温で均一に混練した後、150℃まで混練温度
を上昇させてから更に1時間混練した。冷却後、2,4
ジクロルベンゾイルパーオキサイド(50%シリコーン
オイル)1%を添加し、二本ロールにて均一に混合し
た。120℃にて10分間プレス加硫を行い、2mm厚の
ゴムシートを調製して透明性および機械強度を測定し
た。透明性は、赤色光(700nm)を上記ゴムシートに
照射しその透過率を計測(日本分光(株)製V−570
分光光度計により測定)して評価した。
【0023】表1に実施例、比較例で得たシリカおよび
市販のシリカの特性値を示した。また、上記シリカを充
填したゴムの評価結果を表2に示した。上記結果に示す
ように、混合ガスの酸素および水素のモル当量を制御し
た実施例1〜4のシリカ粉末は何れも目的の比表面積、
平均粒子径および吸油量を有しており、シリコンゴムに
充填した場合に、高い透過率(74.6〜90.1%)を示し、引
張強度および引裂強度が格段に大きい。一方、所望の物
性値から外れる比較例1、2および市販のシリカ粉末を
用いたものは、何れも透過率が本実施例よりも低く、機
械的強度も低い。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】
【発明の効果】本発明の超微粒子状二酸化珪素は透明性
や機械的強度が要求される各種の樹脂組成物、例えば、
各種シリコーンゴムや各種不飽和ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂接着剤などの充填材として最適であり、優れ
た機械的強度と透明性を示し、また高いチキソトロピー
性を発揮することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城野 博州 三重県四日市市三田町3番地 日本アエロ ジル株式会社四日市工場内 Fターム(参考) 4G072 AA25 AA28 BB05 CC16 GG01 GG03 HH04 HH06 HH07 HH09 HH29 HH30 JJ03 LL01 MM01 RR03 RR11 TT01 TT05 TT06 TT09 TT11 UU08 UU09

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 BET比表面積350m2/g以上の超微粒
    子領域の二酸化珪素粉末であって、BET/CTAB比
    表面積比0.6〜1.1、数平均一次粒子径1〜20nm、
    水銀ポロシメータによる間隙量0.1〜1.0ml/g、アマ
    ニ油吸油量350〜600ml/100gであることを特徴と
    する超微粒子状二酸化珪素。
  2. 【請求項2】 BET比表面積350〜600m2/g、B
    EΤ/CTAB比表面積比0.75〜1.0、数平均一次
    粒子径1〜6nm、水銀ポロシメータによる間隙量0.1
    〜0.7ml/gである請求項1に記載の超微粒子状二酸化
    珪素。
  3. 【請求項3】 揮発性珪素化合物を、可燃ガスおよび酸
    素の混合ガスと共に燃焼させた火炎中で1000〜21
    00℃の高温で加熱分解する製造方法において、揮発性
    珪素化合物1モル当量に対する混合ガス中の酸素のモル
    当量を2.5〜3.5、水素のモル当量を1.5〜3.5に
    制御することを特徴とする超微粒子状二酸化珪素の製造
    方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003093367A1 (fr) * 2002-04-30 2003-11-13 Haolong Zhang Procede de preparation de nanocomposites en resine de polyester insaturee
KR20040000830A (ko) * 2002-06-25 2004-01-07 한국지질자원연구원 실란계 화합물로부터 기상 산화 반응에 의한 실리카초미분체 제조방법
JP2006316187A (ja) * 2005-05-13 2006-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 塩化ビニル系樹脂用帯電防止剤、それを配合してなる塩化ビニル系樹脂組成物、及びその製造方法
US7611552B2 (en) 2004-03-29 2009-11-03 Nitta Haas Incorporated Semiconductor polishing composition
JP2015107940A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 紀伊産業株式会社 油性化粧料及びその製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070209288A1 (en) * 2005-03-28 2007-09-13 Yoshiharu Ohta Semiconductor Polishing Composition
CN1308233C (zh) * 2005-06-23 2007-04-04 武汉理工大学 一种两亲型纳米二氧化硅的制备方法
ATE555070T1 (de) * 2008-04-29 2012-05-15 Basf Se Elastischer anorganisch-organischer hybridschaumstoff
CN102020783B (zh) * 2010-10-25 2012-05-30 武汉大学 一种先进封装材料用填料的选择方法
CN114368759B (zh) * 2022-01-26 2023-06-30 无锡恒诚硅业有限公司 一种改善橡胶用二氧化硅及其制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1667044C3 (de) * 1967-04-13 1981-01-29 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur Herstellung feinteiliger Oxide aus Halogeniden
US4067954A (en) * 1971-05-11 1978-01-10 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler Process for the production of finely divided silicon dioxide having a large specific surface
DE2909815C2 (de) 1979-03-13 1984-11-22 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxid
JP3480083B2 (ja) 1994-10-11 2003-12-15 信越化学工業株式会社 微細シリカの製造方法
US5580655A (en) * 1995-03-03 1996-12-03 Dow Corning Corporation Silica nanoparticles
IN188702B (ja) * 1995-06-01 2002-10-26 Degussa

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003093367A1 (fr) * 2002-04-30 2003-11-13 Haolong Zhang Procede de preparation de nanocomposites en resine de polyester insaturee
KR20040000830A (ko) * 2002-06-25 2004-01-07 한국지질자원연구원 실란계 화합물로부터 기상 산화 반응에 의한 실리카초미분체 제조방법
US7611552B2 (en) 2004-03-29 2009-11-03 Nitta Haas Incorporated Semiconductor polishing composition
JP2006316187A (ja) * 2005-05-13 2006-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 塩化ビニル系樹脂用帯電防止剤、それを配合してなる塩化ビニル系樹脂組成物、及びその製造方法
JP4692941B2 (ja) * 2005-05-13 2011-06-01 信越化学工業株式会社 塩化ビニル系樹脂用帯電防止剤、それを配合してなる塩化ビニル系樹脂組成物、及びその製造方法
JP2015107940A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 紀伊産業株式会社 油性化粧料及びその製造方法

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