JP2000084343A - 気体分離装置 - Google Patents

気体分離装置

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JP2000084343A
JP2000084343A JP10256750A JP25675098A JP2000084343A JP 2000084343 A JP2000084343 A JP 2000084343A JP 10256750 A JP10256750 A JP 10256750A JP 25675098 A JP25675098 A JP 25675098A JP 2000084343 A JP2000084343 A JP 2000084343A
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gas
membrane
air
gas separation
flow rate
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JP10256750A
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Tomoichirou Nakamura
知一郎 中村
Toru Okuda
亨 奥田
Shintarou Tsujimi
信太郎 辻見
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明はガス分離膜により生成された製品ガ
スの濃度を正確に検出することを課題とする。 【解決手段】 窒素ガス発生装置11は、ガス分離膜か
らなる膜モジュール12,13を用いて窒素ガスを分離
生成するよう構成されている。制御回路42は、供給側
流量計29により計測された供給側流量Qiと吐出側流
量計31により計測された膜モジュール12,13から
の吐出側流量Qoとの比により収率Sを求め、この収率
Sから膜モジュール12,13により生成される製品ガ
スの酸素濃度Nを算出する。そのため、窒素ガス発生装
置11では、酸素濃度計が不要であり、その分構成が簡
略化されて製造コストを安価に抑えることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は気体分離装置に係
り、例えば空気から窒素ガスを分離するガス分離膜に空
気圧縮機より圧縮空気を供給して窒素ガスを取り出すよ
う構成された気体分離装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に窒素ガス発生装置における窒素ガ
ス分離方法には、深冷分離式、PSA式や膜分離
式等がある。 深冷分離式の窒素ガス分離方法では、空気を冷却して
液化し、液化温度の違いにより窒素と酸素及びその他の
ガスを分離する方法である。
【0003】PSA式は、窒素と酸素の吸着剤に対す
る吸脱着速度差を利用して分離する方法である。このP
SA式の場合、小型化も可能であり、窒素ボンベの代替
えとして酸素を嫌う食品の充填剤として利用されている
が、機器構成や制御が複雑になる。 膜分離式は、多数の中空糸が充填された膜モジュール
に空気を通気すると、中空糸を透過し易い酸素と透過し
にくい窒素とに分離することができる。この膜分離式
は、上記PSA式のものよりもさらに小型化が可能であ
るが、同容量のPSA式のものに比べて取り出される窒
素ガスの純度は若干低くなる。
【0004】上記従来の深冷分離式の窒素ガス分離方法
では、大量に処理できる利点はあるが、冷却等に多くの
エネルギを要するため、ガスを取り扱うガスメーカの大
規模プラントなどでしか採用できない。また、上記従来
の空気圧縮機を利用したPSA式のものは、吸着槽へ圧
縮空気を供給して窒素と酸素に分離させる構成であり、
窒素ガス取り出し後には吸着槽内のガスを排気して吸着
剤を再生させる必要がある。そのため、各吸着槽の給気
側及び排気側に電磁弁を設け、複数の電磁弁を各工程毎
に開閉制御しなればならない。
【0005】これに対し、膜分離式のものは、空気圧縮
機と膜モジュールのみという簡単な構成となるため、装
置の小型化や低価格化が図れると共に、高純度を必要と
しない使用方法に好適である。そのため、膜分離式の気
体分離装置の開発が促進されている。しかしながら、上
記膜分離式の気体分離装置では、窒素の分離性能を膜モ
ジュールの性状に依存しており、膜モジュールへ供給さ
れる原料空気の性状(例えば、流量、圧力、含水量、温
度など)により製品ガスとしての窒素ガスの濃度が変化
する。そのため、膜モジュールで生成された製品ガスを
吐出する系路には、濃度センサ(この場合、酸素濃度
計)が設けられており、製品ガスの濃度を常に検出して
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の膜分離式の気体
分離装置においては、膜モジュールにより生成された製
品ガスの酸素濃度を酸素濃度計で検出するように構成さ
れているが、酸素濃度計自体が高価であるばかりか精密
構造であるので取り扱いに慎重さを要するといった問題
がある。
【0007】また、酸素濃度計で酸素濃度を検出する場
合、ゼロ点を調整するゼロ校正や測定レンジを調整する
スパン校正、酸素濃度計自体の暖気運転等が必要であ
り、それらが面倒であった。そこで、本発明は上記問題
を解決した気体分離装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項1
記載の発明は、空気を製品ガスと当該製品ガス以外のガ
スとに分離するガス分離膜に空気圧縮機の空気タンクか
らの圧縮空気を供給し、該ガス分離膜から製品ガスを取
り出す気体分離装置において、前記ガス分離膜に供給さ
れる空気量、前記ガス分離膜から取り出される前記製品
ガスの生成量及び前記ガス分離膜より排出されるガスの
排出量のうち少なくとも二つの量から当該ガス分離膜の
収率を演算する収率演算手段と、該収率演算手段により
算出された収率から前記製品ガスの濃度値を求める濃度
演算手段と、を備えてなることを特徴とするものであ
る。
【0009】従って、上記請求項1記載の発明によれ
ば、ガス分離膜に供給される空気量、ガス分離膜から取
り出される前記製品ガスの生成量及びガス分離膜より排
出されるガスの排出量のうち少なくとも一つの量から当
該ガス分離膜の収率を演算し、この収率から濃度値を求
めるため、濃度センサを不要にしてコストを安価に抑え
ると共にメンテナンスを簡単化することができる。
【0010】また、上記請求項2記載の発明は、上記請
求項1記載の気体分離装置であって、前記ガス分離膜に
供給される空気の温度を検出する温度検出手段と、該温
度検出手段により検出された温度に基づいて前記濃度演
算手段により算出された濃度値を補正する温度補正演算
手段と、を備えてなることを特徴とするものである。
【0011】従って、上記請求項2記載の発明によれ
ば、温度検出手段により検出された温度に基づいて濃度
演算手段により算出された濃度値を補正するため、温度
変化に伴う濃度値の変動を補正して温度による影響をな
くすことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。図1は本発明になる気体分離装
置の一実施例としての窒素ガス発生装置の概略構成図で
ある。図1に示されるように、気体分離装置としての窒
素ガス発生装置11は、空気圧縮機10により生成され
た圧縮空気を窒素と酸素に分離するガス分離膜からなる
中空糸膜が充填された膜モジュール12,13を用いて
空気を酸素と窒素に分離させ、分離された窒素ガスを製
品ガスとして抽出するよう構成されている。尚、本実施
の形態では、空気から窒素ガスを分離生成する窒素ガス
発生装置11について説明するが、酸素ガス発生装置に
も適用できるのは勿論である。
【0013】また、窒素ガス発生装置11は、膜モジュ
ール12,13に圧縮空気を供給する空気供給管路14
と、膜モジュール12,13で分離された製品ガスとし
ての窒素ガスを取り出す窒素ガス供給管路16とからな
る系路を有する。空気供給管路14に配設された空気圧
縮機10は、空気を圧縮する空気圧縮部18と、膜モジ
ュール12,13を保護するため空気圧縮部18から吐
出された圧縮空気を冷却するアフタークーラ19と、ア
フタークーラ19から吐出された空気が加圧された状態
で溜められる加圧タンク(空気タンク)20とから構成
されている。さらに、空気供給管路14には、加圧タン
ク20の余分が空気を排気させるための三方電磁弁23
と、三方電磁弁23からの空気を所定圧に減圧する減圧
弁24と、減圧弁24からの空気に含まれる不純物を除
去するエアフィルタ25と、エアフィルタ25を通過し
た空気を加熱するヒータ26と、空気の逆流を防止する
逆止弁27と、膜モジュール12,13に供給される空
気温度を測定する温度センサ28とが配設されている。
また、膜モジュール12,13の入口側には、圧縮空気
の供給量を測定する供給側流量計29が配設されてい
る。
【0014】また、窒素ガス供給管路16には、膜モジ
ュール12,13から吐出された製品ガスとしての窒素
ガスの流量を測定する吐出側流量計30と、流量計30
を通過した窒素ガスの圧力を減圧する減圧弁31と、窒
素ガスの流量を所定値に調整する流量調整器32と、窒
素ガスの取り出し弁として機能する電磁弁33が配設さ
れている。
【0015】空気圧縮部18において圧縮された空気
は、アフタークーラ19を通過して約200°Cから約
60°Cまで冷却された後、加圧タンク20へ導かれ
る。加圧タンク20内の圧力は、圧力計21により監視
されている。アフタークーラ19により空気圧縮機18
から吐出された空気が冷却されるのは、加圧タンク20
内に圧縮された空気を貯溜させる際の効率を高めるため
である。
【0016】加圧タンク20内にて凝縮された水分は、
ドレン弁22より系外に排出される。また、加圧タンク
20にて40°Cまで冷却された空気は、三方電磁弁2
3、減圧弁24、エアフィルタ25を介してヒータ26
により約50°Cまで再度加熱され、逆止弁27を介し
て膜モジュール12,13へ導かれる。また、膜モジュ
ール12,13へ供給されない余分な空気は、加圧タン
ク20に供給される。そして、加圧タンク20に供給さ
れた圧縮空気は、三方電磁弁23の切り替え動作により
流量調整バルブ37を介して系外に放出される。これ
は、空気圧縮部18の容量が膜モジュール12,13の
容量よりも大きく設定されており、膜モジュール12,
13の分離可能な流量よりも空気圧縮部18の空気吐出
流量の方が充分な余裕が持たせてあるからである。ま
た、何らかの原因で吐出が停止した場合、減圧弁24に
設けられた消音器38より系外へ排出される。
【0017】窒素ガス発生装置11の制御回路42で
は、供給側流量計29により計測された供給側流量Qi
と吐出側流量計31により計測された膜モジュール1
2,13からの吐出側流量Qoとの比により収率Sを求
め、この収率Sから膜モジュール12,13により生成
される製品ガスの酸素濃度Nを算出する。そのため、窒
素ガス発生装置11では、膜モジュール12,13によ
り生成される製品ガスの酸素濃度を検出するための酸素
濃度計が不要であり、その分構成が簡略化されて製造コ
ストを安価に抑えることができる。また、取り扱いが面
倒な酸素濃度計がいらなくなるので、ゼロ点を調整する
ゼロ校正や測定レンジを調整するスパン校正、空気温度
を上昇させる暖気運転等が不要となる。
【0018】図2は膜モジュール12,13の構成を示
す縦断面図である。図2に示されるように、膜モジュー
ル12,13は、筒状のハウジング35の内部35aに
窒素富化膜として機能する中空糸膜36が多数収納され
ている。多数の中空糸膜36は、一本に結束されてお
り、上流側端部が空気供給管路14に連通され、下流側
端部が窒素ガス供給管路16に連通されている。
【0019】各中空糸膜36は、微細な通路36aを有
する管であり、加圧された空気が流入されると、窒素分
子より小さい酸素分子が中空糸膜36の内壁を通過して
ハウジング35の内部35aに抽出されると共に、窒素
分子が中空糸膜36の通路36aを通過して窒素ガス供
給管路16に吐出される。また、ハウジング35の内部
35aに抽出された酸素ガスは、排気口35bから外部
に排気される。
【0020】このように、膜モジュール12,13にお
いて、圧縮された空気が窒素富化ガスと酸素富化ガスに
分離される。そして、窒素冨化ガスは、窒素ガス供給管
路16に吐出され、流量計30、減圧弁31を介して流
量調整弁32に供給される。そして、流量調整弁32で
は、流量計30で計測された吐出量を所望の流量となる
ように調整しており、膜モジュール12,13により生
成された窒素冨化ガスは、吐出弁33を介して系外へ吐
出される。
【0021】ここで、ある圧力p、ある温度tにおいて
吐出流量Qoに対する酸素濃度Nは図3のグラフIで示
すような特性になり、以下の式(1)が成り立つ。 N=f(Qo) …(1) また、温度t、圧力pをパラメータとして考慮した場
合、式(2)が成り立つ。
【0022】N=f(Qo,t,p) …(2) しかし、膜モジュール12,13の劣化、あるいは膜モ
ジュール12,13の目詰まり等により図3のグラフII
で示すように膜モジュール12,13の初期状態( グラ
フI参照) に対し吐出流量に対する酸素濃度が変わるた
め、膜を長期間使用していると、上記式(1)、(2)
は成り立たなくなる。
【0023】また、酸素濃度Nは、温度tや流量Q等の
条件によって変動する。図4は温度Tを10°C,25
°C,40°Cに変化させた場合の酸素濃度Nと吐出流
量Qとの関係を示すグラフである。図4のグラフIIIa,I
IIb,IIIcに示されるように、温度tが高温になるほど酸
素濃度Nが下がって高純度の窒素ガスの流量が増大する
ことがわかる。
【0024】図5は流量を変化させた場合の酸素濃度N
と温度Tとの関係を示すグラフである。図5のグラフVI
a,VIb,VIc に示されるように、酸素濃度Nは流量が少な
いほど酸素濃度Nが下がって高純度の窒素ガスが得ら
れ、且つ温度の上昇と共に高純度の窒素ガスが得られこ
とが分かる。
【0025】図6は酸素濃度と吐出流量との関係を示す
グラフである。ここで、ある圧力p、ある温度tにおい
て吐出流量Qoに対する酸素濃度Nは図6のグラフVa
で示すような特性になり、前述した式(1)(2)が成
り立つ。しかし、膜モジュール12,13の劣化、ある
いは膜モジュール12,13の目詰まり等により膜モジ
ュール12,13の初期状態に対し吐出流量に対する酸
素濃度が変わるため、膜を長期間使用していると、上記
式(1)、(2)は成り立たなくなる。
【0026】また、吐出流量Qoに対する酸素濃度Nの
関係において、収率特性は図6のグラフVbで示すよう
な特性になる。このグラフVbより吐出流量が増大する
と共に収率Sも増大することがわかる。尚、収率Sは、
吐出流量Qoと供給流量Qiとの比であり、S=(Qo
/Qi)×100%で表せる。図7は、酸素濃度Nと収
率Sとの関係を示すグラフである。
【0027】酸素濃度Nに対する収率Sの特性は、図7
のグラフVIのように変化する。ここで、収率Sは、吐出
流量Qoと供給流量Qiとの比であるので、前述した温
度や圧力や流量等の諸条件によって変動するものではな
い。従って、収率Sと酸素濃度Nとの関係は、吐出流量
Qoに対する酸素濃度特性のように大きさの異なった膜
モジュール12,13、膜モジュール12,13の劣
化、膜モジュール12,13の目詰まり等の影響により
変動することはない。
【0028】収率Sに対する酸素濃度Nは、次式(3)
のように表せる。 N=f(S) … (3) 尚、式(3)において、温度、圧力条件は一定とする。
ここで、温度t、圧力pをパラメータとして考慮した場
合、次式(4)が成り立つ。
【0029】N=f(S,t,p) … (4) そこで、現在の供給流量Qiと吐出流量Qoとにより収
率Sを算出し、上記式(4)により酸素濃度Naを求め
ることができる。上記のように構成された窒素ガス発生
装置11の各機器は、制御回路42により制御される。
【0030】ここで、制御回路42が実行する制御処理
について説明する。図8は制御回路42が実行する制御
処理のフローチャートである。図8に示されるように、
制御回路42は、先ずステップS11(以下「ステッ
プ」を省略する)で窒素ガス発生装置11を起動した
後、S12にて空気供給管路14に設けられた三方電磁
弁23を加圧タンク20と減圧弁24とが連通されるよ
うに切り替え動作させる。
【0031】これにより、加圧タンク20の圧縮空気が
三方電磁弁23、減圧弁24、エアフィルタ25、ヒー
タ26、逆止弁27、流量計29を介して膜モジュール
12,13に供給される。このように空気供給管路14
を介して膜モジュール12,13に圧縮空気を供給する
ことにより、中空糸膜36により分離生成された窒素ガ
スが膜モジュール12,13から得られる。そのため、
膜モジュール12,13で生成された窒素ガスは、窒素
ガス供給管路16に配設された流量計30、減圧弁31
を介して系外へ吐出される。
【0032】次のS33では、供給側流量計29により
計測された供給流量Qiと、吐出側流量計30により計
測された吐出流量Qoと、温度センサ28により計測さ
れた温度Tを読み込む。続いて、S14では、吐出流量
Qoに対しての収率Snを次式(5)から算出する(収
率演算手段)。
【0033】 Sn=(Qo/Qi)×100% … (5) 次のS15では、収率Sn、温度T、圧力pから吐出流
量Qoに対しての膜モジュール12,13が現在の酸素
濃度Nnを上記(4)式Nn=f(Sn,t,p)によ
り演算する(濃度演算手段)。尚、圧力pは減圧弁24
により一定に保たれている。
【0034】また、温度センサ(温度検出手段)28に
より計測された温度Tをパラメータとして酸素濃度Nn
を演算するため(温度補正演算手段)、検出された温度
Tに基づいて濃度値が補正され、温度変化に伴う濃度値
の変動を補正して温度Tによる影響をなくすことができ
る。次のS16では、演算された酸素濃度Nnを液晶デ
ィスプレイ43に表示させる。これで、収率Snから求
められた酸素濃度Nnを報知することができる。
【0035】続いて、S17では、収率Saから算出さ
れた酸素濃度Nnと予め設定された目標濃度Naとを比
較し、酸素濃度Nn=Naかどうかをチェックする。上
記S17において、酸素濃度Nn=Naであるときは、
膜モジュール12,13から目標濃度Naの製品ガスが
吐出されているものと判断してS18に進み、吐出弁3
3を開弁させて膜モジュール12,13により生成され
た窒素ガスを吐出弁33より下流へ供給する。次のS1
9では、装置停止が指示されたかどうかをチェックして
おり、装置停止が指示されるまで上記S13以降の処理
が繰り返されて窒素ガスの供給が継続される。
【0036】また、上記S17において、収率Saから
算出された酸素濃度Nnと予め設定された目標濃度Na
とが等しくないときは、S20に進み、収率Saから算
出された酸素濃度Nnが目標濃度Naより大きい値であ
るかどうかをチェックする。このS20でNn>Naで
あるときは、S21に進み、流量調整弁32の弁開度を
所定量だけ絞って膜モジュール12,13から吐出され
る流量を減少させる。その後は、上記S13に戻り、再
びS13以降の処理を実行する。
【0037】また、S20において、Nn>Naでない
ときは、S22に進み、収率Saから算出された酸素濃
度Nnが目標濃度Naより小さい値であるかどうかをチ
ェックする。このS22でNn<Naであるときは、S
23に進み、流量調整弁32の弁開度を所定量だけ開い
て膜モジュール12,13から吐出される流量を増大さ
せる。その後は、上記S13に戻り、再びS13以降の
処理を実行する。
【0038】また、S22において、Nn>Naでない
ときは、流量調整弁32の弁開度を調整せずに上記S1
3に戻り、再びS13以降の処理を実行する。このよう
に、本実施の形態では、供給側流量Qiと吐出側流量Q
oとの比により収率Sを求め、この収率Sから膜モジュ
ール12,13により生成される製品ガスの酸素濃度N
nを算出するため、酸素濃度計を削減することができ
る。
【0039】また、収率Sから算出された酸素濃度Nn
は、膜モジュール12,13の容量や膜モジュール1
2,13の劣化や膜モジュール12,13の目詰まり等
の影響を受けないため、流量変化に関係なく求めること
ができるので、正確な値が得られる。そのため、窒素ガ
ス発生装置11では、酸素濃度Nnが目標濃度Naなる
ように流量調整することができ、目標濃度Naの窒素ガ
スを安定供給することができる。
【0040】また、本実施例においては、温度検出手段
により検出された温度に基づき濃度値の補正を行ってい
るが、ガス分離膜に供給される原料ガスの温度を一定に
保つようにヒータ26を制御すれば温度補正しなくても
良い。尚、上記実施の形態では、一対の膜モジュール1
2,13が並列に設けられた構成を一例として挙げた
が、これに限らず、1個の膜モジュールあるいは3個以
上の膜モジュールを設ける構成としても良いのは勿論で
ある。
【0041】また、上記実施の形態では、供給側流量Q
iと吐出側流量Qoとの比により収率Sを求めたが、こ
れに限らず、膜モジュール12,13のハウジング35
の排気口35bから外部に排気される酸素ガスの流量を
測定し、酸素ガスの排出流量と供給側流量Qiとの比に
より収率Sを求めるようにしても良い。また、上記実施
の形態では、膜モジュール12,13から窒素ガスを製
品ガスとして取り出す場合を一例として挙げたが、これ
に限らず、窒素ガス以外のガスを製品ガスとして取り出
す場合にも本発明を適用できるのは勿論である。
【0042】
【発明の効果】上述の如く、請求項1の発明によれば、
ガス分離膜に供給される空気量、ガス分離膜から取り出
される製品ガスの生成量及びガス分離膜より排出される
ガスの排出量のうち少なくとも一つの量から当該ガス分
離膜の収率を演算し、この収率から濃度値を求めるた
め、濃度センサを不要にしてコストを安価に抑えると共
にメンテナンスを簡単化することができる。
【0043】また、取り扱いが面倒な製品ガスの濃度を
直接計測するための濃度センサがいらなくなるので、ゼ
ロ点を調整するゼロ校正や測定レンジを調整するスパン
校正、濃度センサ自体の暖気運転等が不要となる。ま
た、上記請求項2記載の発明によれば、温度検出手段に
より検出された温度に基づいて濃度演算手段により算出
された濃度値を補正するため、温度変化に伴う濃度値の
変動を補正して温度による影響をなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明になる気体分離装置の一実施例としての
窒素ガス発生装置の概略構成図である。
【図2】膜モジュール12,13の構成を示す縦断面図
である。
【図3】窒素ガス吐出流量に対する酸素濃度の特性を示
すグラフである。
【図4】温度Tを10°C,25°C,40°Cに変化
させた場合の酸素濃度Nと吐出流量Qとの関係を示すグ
ラフである。
【図5】流量を変化させた場合の酸素濃度Nと温度Tと
の関係を示すグラフである。
【図6】酸素濃度と吐出流量との関係を示すグラフであ
る。
【図7】酸素濃度Nと収率Sとの関係を示すグラフであ
る。
【図8】制御回路42が実行する制御処理のフローチャ
ートである。
【符号の説明】
11 窒素ガス発生装置 10 空気圧縮機 12,13 膜モジュール 14 空気供給管路 16 窒素ガス供給管路 18 空気圧縮部 19 アフタークーラ 20 加圧タンク 28 温度センサ 29,30 流量計 32 流量調整器 35 ハウジング 36 中空糸膜 42 制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻見 信太郎 神奈川県川崎市川崎区富士見1丁目6番3 号 トキコ株式会社内 Fターム(参考) 4D006 GA41 HA02 HA18 KA67 KB14 KE02P KE02Q KE04P KE04Q KE14P KE14Q KE16P KE16Q MA01 PA04 PB17 PB62 PB63

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空気を製品ガスと当該製品ガス以外のガ
    スとに分離するガス分離膜に空気圧縮機の空気タンクか
    らの圧縮空気を供給し、該ガス分離膜から製品ガスを取
    り出す気体分離装置において、 前記ガス分離膜に供給される空気量、前記ガス分離膜か
    ら取り出される前記製品ガスの生成量及び前記ガス分離
    膜より排出されるガスの排出量のうち少なくとも二つの
    量から当該ガス分離膜の収率を演算する収率演算手段
    と、 該収率演算手段により算出された収率から前記製品ガス
    の濃度値を求める濃度演算手段と、 を備えてなることを特徴とする気体分離装置。
  2. 【請求項2】 上記請求項1記載の気体分離装置であっ
    て、 前記ガス分離膜に供給される空気の温度を検出する温度
    検出手段と、 該温度検出手段により検出された温度に基づいて前記濃
    度演算手段により算出された濃度値を補正する温度補正
    演算手段と、 を備えてなることを特徴とする気体分離装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005080857A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Wmt:Kk 酸素濃度表示装置及び酸素濃度表示方法
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