JP2000072785A - アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法 - Google Patents
アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法Info
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- 238000004821 distillation Methods 0.000 title claims abstract description 90
- -1 acryloxy Chemical group 0.000 title claims abstract description 61
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 43
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 27
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 27
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 15
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 13
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 11
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 10
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 8
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AILQCPZXDBPIJY-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)C.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)C.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)C Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)C.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)C.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)C AILQCPZXDBPIJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZTJVNXUTVJKRQ-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)C.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)C.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC RZTJVNXUTVJKRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000001364 causal effect Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001944 continuous distillation Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000355 copper sulfate Drugs 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000086 high toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000010723 turbine oil Substances 0.000 description 1
Abstract
れ炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数であ
る。)で表されるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基
含有アルコキシシランを含む反応原液を、薄膜式蒸留装
置にて温度160℃以下、減圧度15mmHg以下の条
件で蒸留することを特徴とするアクリロキシ基又はメタ
クリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法。 【効果】 本発明のアクリロキシ基又はメタクリロキシ
基含有アルコキシシランの蒸留方法によれば、空気との
接触により保管時に次第に白濁化するといった品質的な
問題が発生しない製品が得られる。また、自己重合性の
発現が抑制され、ゲル発生によるラインの閉塞や収率の
低下も防止でき、生産性も向上する。従って、本発明方
法によれば、高純度のアクリロキシ基又はメタクリロキ
シ基含有アルコキシシランを工業的に有利に得ることが
できる。
Description
グ剤や新規重合性モノマーなどとして産業上広く用いら
れているアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アル
コキシシランの工業的に有利な蒸留方法に関する。
ロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシラン
は、重合性官能基のアクリロキシ基又はメタクリロキシ
基を構造中に有することから、シランカップリング剤や
新規重合性モノマーなどとして産業上広く用いられてい
る極めて有用な化合物である。
含有アルコキシシランの工業的な大規模精製法として
は、リボイラーに多段の蒸留塔を装備した蒸留装置を用
いて、高温・長時間のいわゆる熱履歴の長い蒸留条件で
単離精製する方法が一般的に行われている。
品は、従来より品質的な問題として、製品の容器のふた
の開閉や容器からの移送作業等のハンドリングなどによ
り製品が空気と触れ合う機会が生ずると、保管中の製品
が次第に白濁化してくるという現象があった(この現象
は、製品を大気開放すると特に顕著に白濁化してくるこ
とから、以後の記述においては開放白濁と称する)。こ
のため、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アル
コキシシランにおいては、精製後のこのような現象によ
る製品の外観異常により、予期せぬ品質クレームが発生
してしまうという問題があった。
シリカゲルなどの吸着剤で処理する方法や、作業後の窒
素置換を十分に行い空気と遮断して貯蔵することなどの
二次的な解決手段で対処されてはいたが、これらの対処
法は、十分な解決策とは言えない上、精製後の後処理作
業も非常に繁雑になることから負担が大きく、これまで
その本質的な解決法がないのが現状であった。それ故、
上記開放白濁に対する有効な解決策の確立が長らく望ま
れていた。
基含有アルコキシシランは、自己重合性を有する熱に不
安定な化合物であることから、上記のような熱履歴の長
い精製法では工程中における重合の発現率が高く、この
ため蒸留塔の閉塞やリボイラー中の液の増粘・ゲル化が
生じる場合があった。
な重合禁止剤の開発がこれまでなされてはいるが、未だ
十分に満足のいく効能を有するものは見出されていない
上、これら重合禁止剤は、製品に混入すると応用面にお
いて品質的な問題を生じるもの(着色、重合性能の低下
など)や毒性・危険性の高いものもあり、満足できる改
善策ではなかった。従って、本質的に自己重合性を低下
せしめることができる熱履歴の短い精製法の開発が望ま
れていた。
で、大気開放時の開放白濁及び自己重合の発現率を低く
抑えて高純度のアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含
有アルコキシシランを工業的に有利に得ることができる
アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシ
ランの蒸留方法を提供することを目的とする。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、下記一般式(1)で表されるアクリロキシ基又はメ
タクリロキシ基含有アルコキシシランを含む反応原液を
160℃以下、15mmHg以下の減圧度で薄膜式蒸留
することにより、大気開放時の開放白濁及び自己重合の
発現率を極めて低く抑えて、アクリロキシ基又はメタク
リロキシ基含有アルコキシシランを高純度に精製できる
ことを見出した。
れ炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数であ
る。)
タクリロキシ基含有アルコキシシラン製品中の微量不純
物をガスクロマトグラフィーで分離し、質量スペクトル
分析により同定を行い、開放白濁前後の微量不純物の挙
動を詳細に調べることにより、開放白濁の発現プロセス
を検討した。その結果、開放白濁は、下記式(2)で示
される原因物質aが長い熱履歴条件における蒸留中に微
量副生して蒸留単離した製品中に混入し、この原因物質
aを含む製品が空気と触れ合うと、原因物質aが空気中
の水分と選択的に加水分解縮合反応して微細なゲル状に
なるために生ずることがわかった。また、この原因物質
aは、蒸留時の熱履歴がより長い(より高温・より長時
間)ほど副生量が多く、また副生量が多いほど開放白濁
の程度も増すことをつかんだ。
し、この成分をいかに副生させないようにするかを鋭意
検討した結果、上記したように薄膜式蒸留装置を用いて
蒸留条件を上記範囲に限定して蒸留することにより、驚
くべきことに上記原因物質aが何ら副生せず、結果とし
て開放白濁を生じない製品を得ることができ、しかも上
記手段によれば、自己重合性をも大きく回避できるこ
と、それ故、面倒な後処理作業等を行うことなく簡単な
工程で、高純度に精製でき、更に、連続的蒸留が可能で
あることから時間当たりの生産性が向上するという効果
も得られることを見出し、本発明をなすに至ったもので
ある。
ロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランを
含む反応原液を、薄膜式蒸留装置にて温度160℃以
下、減圧度15mmHg以下の条件で蒸留することを特
徴とするアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アル
コキシシランの蒸留方法を提供する。
と、本発明のアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有
アルコキシシランの蒸留方法においては、下記一般式
(1)で示されるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基
含有アルコキシシランを含む反応原液が用いられる。
はメチル基である。また、R1、R2はそれぞれ炭素数1
〜4のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基が挙げられる。nは0〜2の整数
である。
又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの具体的な
例としては、下記化合物を例示することができる。 3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン 3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン 3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン 3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン 3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン
メタクリロキシ基含有アルコキシシランを含む反応原液
としては、その合成方法に別に制限はなく、種々の常法
により合成され、次いで/もしくは濃縮された全てのも
のを用いることができるが、式(1)のアクリロキシ基
又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの濃度が7
0重量%以上で、かつ目的物より低沸点の不純物が1重
量%以下のものが好適である。また、一度蒸留したもの
を再度蒸留してもかまわない。
は、反応原液を薄膜状に形成させる攪拌駆動装置部と、
前記薄膜状反応原液を減圧下で加熱し、蒸発・凝縮させ
る蒸発・凝縮部及び加熱部とを備えた一般的に知られて
いる仕様のものを使用可能であり、いずれの場合も蒸留
操作は、通常一般的にこれらを操作している方法により
実施することができる。このような薄膜式蒸留装置とし
ては、公知のものを使用することができるが、中でもフ
ィードされた原液を内部で撹拌する羽根により加熱部に
遠心力で押し広げて薄膜を作るタイプ(遠心式)が好ま
しく、同タイプであるならば横型でも立型でもかまわな
い。また、加熱部は円筒型でもテーパー型でもかまわ
ず、その伝熱面積も特に限定されるものではない。より
好ましくは、立型流下式で円筒型の加熱部を有し、撹拌
羽根がワイパー式で遠心力により撹拌羽根先端が加熱部
面に押しつけられて、その面を掻き取るタイプのもの
が、高濃度の蒸発ができるために好ましい。
して、減圧度を15mmHg以下、好ましくは1〜15
mmHg、かつ加熱部温度を160℃以下、好ましくは
90〜160℃の範囲で薄膜式蒸留の操作を行うことを
特徴とする。減圧度が15mmHgより高かったり、加
熱部の温度が160℃を超えると、上記した原因物質a
の副生量が次第に増してきて、得られた製品が開放白濁
するだけでなく、熱による重合の発現率も増してしま
い、本発明の目的を達成することができない。なお、蒸
留時間はフィード量により適宜調整することができる
が、フィード量は使用する薄膜蒸留装置の仕様により、
形成される薄膜が液切れしない量以上で、蒸発率が飽和
になって頭打ちする量以下の範囲が好ましい。
装置を用いて上記特定条件で蒸留するものであり、その
他の条件は適宜調整することができる。
装置に原液からのミストをカットするためのミストセパ
レーターを装備させても良い。具体的には、市販の蒸留
用充填剤を詰めた任意の高さの塔を薄膜式蒸発装置から
冷却器に至るベーパーラインの中間に挿入するか、ある
いは立型蒸留器内部の上部蒸気排出部の手前にミストセ
パレーターを装着するなどが好適である。
沸点の原料、不純物、溶媒などが存在する場合は、主成
分の単離精製の前に濃縮工程を実施して、1重量%以下
にすることが好ましい。この濃縮工程は、蒸留時に使用
する薄膜式蒸留装置を使用して行うことができる。この
場合、濃縮条件は特に制限はないものの、内温160℃
以下が望ましく、減圧度は50mmHg以下が望まし
い。但し、あまり減圧度を上げすぎると冷却器の捕集能
力を超えて、真空ポンプの不具合を引き起こしたり、系
外へのパージとなってしまったり、目的物の留出量が大
となってロスが大きくなるため、10〜50mmHgの
範囲が好適である。本発明では、この濃縮工程を薄膜式
蒸留装置を使って行うことにより、短時間に大量の反応
液を濃縮することが可能となり、また、濃縮工程におけ
る重合の危険性をも軽減することができる。
蒸留装置に導入する前に、必要であるならば事前に加熱
して予熱を与えていても良い。反応原液の余熱温度は、
120℃以下であれば特に制限はない。
スで高濃度の蒸発ができない場合は、排出された濃縮残
分を再度薄膜式蒸留装置にフィードしてリサイクル蒸留
することが好ましく、この操作により高回収率を達成す
ることができる。
使用する薄膜式蒸留装置の規模・仕様によって任意であ
り、特に制限はないが、蒸発率が最高になる最適範囲が
個々にあり、多すぎても少なすぎても好ましくないた
め、蒸発率とフィード速度については事前に個々に最適
化することが望ましい。
制するため、単離精製されるアクリロキシ基又はメタク
リロキシ基含有アルコキシシランに新たな品質的な問題
を与えない範囲で、反応原液に従来公知の重合禁止剤を
添加してもかまわない。
ノンやハイドロキノンモノメチルエーテルといったフェ
ノール性化合物、4−メチル−2,6−ジ−t−ブチル
フェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6
−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’
−ブチリデンビス(6−t−ブチル−m−クレゾー
ル)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレイト、2,2−チオ−ジ
エチレン−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2’−メ
チレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)
モノアクリレート等のヒンダードフェノール系化合物、
塩化第一銅、塩化第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅、硫
酸銅、ジメチルジチオカルバミン酸銅等の銅化合物、フ
ェノチアジン等のイオウ原子含有化合物、オクチル化ジ
フェニルアミン等の窒素原子含有化合物やリン原子含有
化合物などが一般的な例として挙げられる。
組み合わせても使用でき、また、その添加量は特に制限
されないが、反応原液中に含まれる一般式(1)で示さ
れる化合物に対して0.01〜10重量%、特に0.1
〜1重量%の範囲で添加することが好ましい。
ードする液中に溶解させておくのが一般的であるが、製
品への混入が品質的な問題を生じさせなければ、ベーパ
ーロードの途中ないしは冷却器からの凝縮後のストリー
ム中に当該製品ないしは溶剤などに溶解させた溶液とし
て導入させても良い。
めに、系内に分子状の酸素を含有した不活性な気体、例
えば窒素で希釈された空気などを導入しても良く、その
量は爆発限界の下限値を下回る量であれば特に制限はな
い。また、導入する部位にも特に制約はないが、ベーパ
ーロードに導入すれば、より効果的である。
ードする液中にアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含
有アルコキシシランよりも高沸点の液体を本発明の効果
を妨げない範囲で存在させても良く、これにより高濃縮
した後の残渣(重合禁止剤、触媒や高沸不純物など)が
蒸留装置の加熱部内壁や流出ラインなどに析出・蓄積す
るなどの問題が軽減され、長時間の運転が可能となりう
る。高沸点の液体としては、例えばタービン油、流動パ
ラフィン、シリコーンオイルなどが挙げられる。
キシ基含有アルコキシシランの蒸留方法によれば、空気
(本質的には、空気中の水分)との接触により保管時に
次第に白濁化するといった品質的な問題が発生しない製
品が得られる。また、自己重合性の発現が抑制され、ゲ
ル発生によるラインの閉塞や収率の低下も防止でき、生
産性も向上する。従って、本発明方法によれば、高純度
のアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシ
シランを工業的に有利に得ることができる。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
型掻き取り羽根タイプの回転薄膜式蒸留装置(柴田科学
器械工業社製)を使用した。
ロキシプロピルトリメトキシシラン(97.8重量%含
有)の反応液900gと、重合禁止剤として4−メチル
−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール0.9g及
びジメチルジチオカルバミン酸銅0.45gを混合し
た。この溶液を上記装置を用いて、減圧度5〜10mm
Hg及び加熱部温度150℃の条件で、一般的な方法に
従い、3.2時間にわたって前記反応液をフィードして
薄膜式蒸留を連続的に実施した。その結果、792gの
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが蒸留
精製された。また、105gの不揮発分が残渣として集
められた。
上記精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ンの純度は99.1%であり、上記式(1)の原因物質
aはゼロであった。この精製品は、一晩大気開放して
も、開放白濁は発生せず、透明のままだった。また、蒸
留装置内には重合物の発生は認められなかった。
のガラス製の蒸留用フラスコを蒸留釜とし、それに外径
20mm×高さ500mmで内部にSUS−304製の
マクマホンを充填した蒸留塔、及び塔頂部に分留塔及び
コンデンサーを装備したものを使用した。
ロキシプロピルトリメトキシシラン(97.8重量%含
有)の反応液900gと、重合禁止剤として4−メチル
−2,6−ジ−t−ブチルフェノール0.9g及びジメ
チルジチオカルバミン酸銅0.45gを混合した。この
溶液を上記装置に仕込み、下記に示す減圧度及び釜温度
で、一般的な方法に従い、回分式にて精密蒸留した。な
お、蒸留時間はいずれも約10時間で実施した。次い
で、以下の蒸留条件と得られた精製品の組成及び精製品
を一晩大気開放した際の外観変化挙動の関係を調べた。
また、原因物質aの量変化との関係も調べた。結果を下
記に示す。 比較例1:減圧度6mmHg、釜温度130℃、主成分
99.5%、原因物質a含有率0.0376%、開放に
より白濁した。 比較例2:減圧度9mmHg、釜温度140℃、主成分
99.4%、原因物質a含有率0.0562%、開放に
より白濁した。 比較例3:減圧度14mmHg、釜温度150℃、主成
分99.1%、原因物質a含有率0.0978%、開放
により濃く白濁した。 比較例4:減圧度23mmHg、釜温度155℃、主成
分98.9%、原因物質a含有率0.2154%、開放
により更に濃く白濁した。なお、白濁の一部は凝集して
ゲル状となり、放置により沈降して下部に堆積した。
進行と共に原因物質aの減少が見られ、原因物質aが消
失すると、白濁の進行は止まった。次いで、原因物質a
が消失し、白濁の進行が止まったものを濾過した後の透
明な上澄みを再度大気開放すると、もはや白濁しなかっ
た。
な蒸留形式では、原因物質aが微量副生し、開放白濁が
それにより発生し、その副生量が多いほど白濁の度合い
も増すことがわかった(副生量がなければ白濁しないこ
ともわかった)。また、蒸留時の温度が高くなるほど、
原因物質aの副生量が増すこともわかった。
施例1と同様の立型掻き取り羽根タイプの回転薄膜式蒸
留装置を使用した。
キシプロピルトリメトキシシラン(87重量%含有)の
反応液692.3g及び重合禁止剤として4−メチル−
2,6−ジ−t−ブチルフェノール0.69gを混合溶
解した。この溶液を上記装置を用いて、減圧度5mmH
g及び加熱部温度134℃の条件で、一般的な方法に従
い、4.1時間にわたって前記反応液をフィードして薄
膜式蒸留を連続的に実施した。その結果、448gの3
−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが蒸留精製
された。また、244gの不揮発分が残渣として集めら
れた。
上記精製3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
の純度は98.6%であり、原因物質aは痕跡量であっ
た。次いで、この精製品を大気開放しても、開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
ラス製の蒸留用フラスコを蒸留釜とし、それに外径20
mm×高さ500mmで内部にSUS−304製のマク
マホンを充填した蒸留塔、及び塔頂部に分留塔及びコン
デンサーを装備したものを使用した。
キシプロピルトリメトキシシラン(82重量%含有)の
反応液1000gと、重合禁止剤として4−メチル−
2,6−ジ−t−ブチルフェノール1g及びジメチルジ
チオカルバミン酸銅3gを混合した。この溶液を上記装
置に仕込み、減圧度5〜10mmHg及び釜温度130
〜145℃の条件で、一般的な方法に従い、約10時間
にわたって回分式にて精密蒸留を実施した。その結果、
670gの3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ンが蒸留精製された。また、88gの前留分と221g
の不揮発分が残渣として集められた。
上記精製3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
の純度は97.9%であり、原因物質aは0.98%で
あった。次いで、この精製品を大気開放すると、わずか
30分で開放白濁が発生し、一晩開放後では白色のゲル
物が大量に析出し、底部に凝集して沈降していた。な
お、上記条件において、重合禁止剤のジメチルジチオカ
ルバミン酸銅が無い場合には、蒸留中途で蒸留釜中の液
がゲル化した。
施例1と同様の立型掻き取り羽根タイプの回転薄膜式蒸
留装置を使用した。
キシプロピルトリメトキシシラン(87重量%含有)の
反応液692.3g及び重合禁止剤として4−メチル−
2,6−ジ−t−ブチルフェノール0.69gを混合し
た。この溶液を上記装置を用いて、減圧度20mmHg
及び加熱部温度160〜165℃の条件で、一般的な方
法に従い、4.5時間にわたって前記反応液をフィード
して薄膜式蒸留を連続的に実施した。その結果、473
gの3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが蒸
留精製された。また、213gの不揮発分が残渣として
集められた。
上記精製3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
の純度は96.3%であり、原因物質aは0.16%で
あった。次いで、この精製品を大気開放すると、一晩後
には開放白濁が発生していた。
型回転薄膜式蒸留装置で、伝熱面積1m2のものを使用
した。
プロピルトリメトキシシラン(63.8重量%含有)の
反応液及び重合禁止剤として4−メチル−2,6−ジ−
t−ブチルフェノールを500ppm及びジメチルジチ
オカルバミン酸銅を1000ppm混合した。この溶液
を上記装置を用いて、減圧度20mmHg及び加熱部温
度155℃の条件で、一般的な方法に従い、58kg/
hrのフィード速度により、39時間にわたって薄膜式
蒸留(濃縮)を連続的に実施した。その結果、3−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン98.5%を含
む濃縮液が約1400kg得られた。
て、減圧度12mmHg及び加熱部温度155℃の条件
で、一般的な方法に従い、95kg/hrのフィード速
度により、15時間にわたって薄膜式蒸留(単離精製)
を連続的に実施した。その結果、約1100kgの3−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが蒸留精製
された。また、約300kgの不揮発分が残渣として集
められた。
上記単離精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シランの純度は99.3%であり、原因物質aはゼロで
あった。この精製品を一晩大気開放しても、開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
精製)の約300kgの不揮発分を上記蒸留装置を用い
て、減圧度12mmHg及び加熱部温度155℃の条件
で、一般的な方法に従い、95kg/hrのフィード速
度により、3〜4時間にわたって再度薄膜式蒸留(回収
精製)を連続的に実施した。その結果、約220kgの
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが蒸留
精製された。また、約80kgの不揮発分が残渣として
集められた。
上記回収精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シランの純度は99.1%であり、原因物質aはゼロで
あった。この精製品を一晩大気開放しても、開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
取り羽根タイプの回転薄膜式蒸留装置で、伝熱面積0.
3m2のものを使用した。
プロピルトリメトキシシラン(95重量%含有)の濃縮
液及び重合禁止剤として4−メチル−2,6−ジ−t−
ブチルフェノールを500ppm及びジメチルジチオカ
ルバミン酸銅1000ppmを混合した。この濃縮液を
上記蒸留装置を用いて、減圧度5mmHg及び加熱部温
度150℃の条件で、一般的な方法に従い、45〜50
kg/hrのフィード速度により、数時間にわたって薄
膜式蒸留(単離精製)を連続的に実施した。その結果、
約42〜47kg/hrの3−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシランが蒸留精製された。また、約3kg
/hrの不揮発分が残渣として集められた。
上記単離精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シランの純度は99%以上であり、原因物質aはゼロで
あった。この精製品は、一晩大気開放しても開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
gとした以外は、実施例4と同様の設備・方法にて、数
時間にわたって薄膜式蒸留(単離精製)を連続的に実施
した。その結果、約40〜44kg/hrの3−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシランが蒸留精製され
た。また、約5kg/hrの不揮発分が残渣として集め
られた。
上記単離精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シランの純度は99%以上であり、原因物質aはゼロで
あった。この精製品は、一晩大気開放しても開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
g、加熱部温度160℃とした以外は、実施例4と同様
の設備・方法にて、数時間にわたって薄膜式蒸留(単離
精製)を連続的に実施した。その結果、約42〜47k
g/hrの3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランが蒸留精製された。また、約3kg/hrの不揮発
分が残渣として集められた。
上記単離精製3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シランの純度は99%以上であり、原因物質aはゼロで
あった。この精製品は、一晩大気開放しても開放白濁は
発生せず、透明のままだった。また、蒸留装置内には重
合物の発生は認められなかった。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、Rは水素原子又はメチル基、R1、R2はそれぞ
れ炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数であ
る。)で表されるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基
含有アルコキシシランを含む反応原液を、薄膜式蒸留装
置にて温度160℃以下、減圧度15mmHg以下の条
件で蒸留することを特徴とするアクリロキシ基又はメタ
クリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法。 - 【請求項2】 アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含
有アルコキシシランとして、一般式(1)中の置換基R
1,R2が共にメチル基であり、nが0であるものを使用
する請求項1記載のアクリロキシ基又はメタクリロキシ
基含有アルコキシシランの蒸留方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14433999A JP3937119B2 (ja) | 1998-06-19 | 1999-05-25 | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18995998 | 1998-06-19 | ||
JP10-189959 | 1998-06-19 | ||
JP14433999A JP3937119B2 (ja) | 1998-06-19 | 1999-05-25 | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの蒸留方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000072785A true JP2000072785A (ja) | 2000-03-07 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010510316A (ja) * | 2006-11-22 | 2010-04-02 | 東レ株式会社 | シロキサニルモノマーの精製方法 |
JP2021031481A (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンモノマーの製造方法 |
-
1999
- 1999-05-25 JP JP14433999A patent/JP3937119B2/ja not_active Expired - Fee Related
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