JP2000057946A - ディスプレイ用蛍光面の形成方法 - Google Patents

ディスプレイ用蛍光面の形成方法

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JP2000057946A
JP2000057946A JP10226433A JP22643398A JP2000057946A JP 2000057946 A JP2000057946 A JP 2000057946A JP 10226433 A JP10226433 A JP 10226433A JP 22643398 A JP22643398 A JP 22643398A JP 2000057946 A JP2000057946 A JP 2000057946A
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layer
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fluorescent
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Akio Umemoto
明夫 梅本
Norio Miura
典夫 三浦
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    • HELECTRICITY
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光膜が均一で、各色蛍光膜とBM層との境
界線がシャープで、蛍光膜やBM層に欠落がなく、所望
の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、混色のな
い高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍光面の形
成方法を提供しようとするものである。 【解決手段】 基板上に少なくともブラックマトリック
ス層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法において、最
初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラックマトリ
ックス層を形成した後に、蛍光膜に対応して作製された
製版を用いて印刷法で蛍光体含有インク組成物を塗布し
て蛍光膜を形成することを特徴とするディスプレイ用蛍
光面の形成方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置(ディス
プレイ)用の蛍光面の形成方法に関する。詳しくは、印
刷法を用いたフィールドエミッションディスプレイ(F
ED)、電場発光型ディスプレイ(ELD)、平面型の
陰極線管(フラットCRT)等の平面型ディスプレイ
(FPD)用の蛍光面の形成方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、陰極線管(CRT)等のディス
プレイの蛍光面はフォトリソグラフィー法により形成さ
れる。まず、蛍光体とPVA等水溶性高分子に重クロム
酸アンモニウムを添加した感光性樹脂を含有する蛍光体
塗布スラリー、即ち蛍光体含有フォトレジストスラリー
をガラスなどからなるフェースプレート上の所定の位置
に塗布し、これに光を照射して感光性樹脂を硬化させ
(露光工程)、次いで塗布面を水洗して未露光部の前記
スラリーを洗い流して(現像工程)蛍光面を形成してい
る。
【0003】そして、カラーディスプレイは、上記工程
を3回繰り返して赤色、青色、緑色の3色蛍光体からな
る蛍光膜、及び光吸収層(ブラックマトリックス、「B
M」という)の4種類の膜をフェースプレートの所定の
位置に形成する。このBM層は画像のコントラストを高
めるために各色蛍光膜の周囲(間隙)に光吸収物質を充
填して形成する。各色蛍光膜は、通常、発光色の異なる
3種類の蛍光体からなり、その形状はドット状、矩形状
又はストライプ状である。そして、BM層は、ドット
状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜の隙間全体を埋め
尽くすように形成される。
【0004】これに対し、FED、ELD等の平面型デ
ィスプレイ用の蛍光面は、蛍光面が平面状であるため印
刷法で蛍光面を形成することができる。即ち、バインダ
ー樹脂に蛍光体を分散させてペースト状蛍光体含有イン
ク組成物を調製し、版を用いてスクリーン印刷法で所定
のパターンに前記インク組成物を基板上に印刷塗布して
蛍光膜を形成するのが一般的である。
【0005】このように印刷法でディスプレイの蛍光面
を形成する方法は、フォトリソグラフィー法が有する現
像工程(洗浄、除去工程)を必要としないため、膜形成
設備を簡略化でき、蛍光体のロスが非常少ないという利
点がある。しかし、印刷法でBM層を形成すると、BM
層にスジやムラが生じ易すく、BMのエッジ部の切れが
悪く、BM層の輪郭部の直線性が劣り、ひいては蛍光面
の膜の均一性及び精細度が低下する。また、特にBM層
においては微少の塵埃等の異物が混入した場合、膜質低
下の欠陥が生じ易いという欠点があり、それらの改善が
望まれていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、上
記の欠点を解消し、蛍光膜が均一で、各色蛍光膜とBM
層との境界線がシャープで、蛍光膜やBM層に欠落がな
く、所望の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、
混色のない高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍
光面の形成方法を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、カラーデ
ィスプレイ用の蛍光面を形成する際、最初にBM層だけ
をフォトリソグラフィー法で形成し、その後、蛍光膜を
印刷法で形成することにより、蛍光膜及びBM層にスジ
やムラがなく、エッジの切れが良好で、均一かつ高精細
な蛍光面が得られることを見い出し、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明の構成は次のとおりである。
【0008】(1) 基板上に少なくともブラックマトリッ
クス(BM)層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法に
おいて、最初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラ
ックマトリックス(BM)層を形成した後に、蛍光膜に
対応して製版された版を用いて印刷法で蛍光体含有イン
ク組成物を塗布して蛍光膜を形成することを特徴とする
ディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (2) 前記基板が平面状透明板であることを特徴とする前
記(1) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。
【0009】(3) 前記ブラックマトリックス層を有する
基板上に前記蛍光膜を形成する際に、前記蛍光体含有イ
ンク組成物を、前記ブラックマトリックス層の開口部及
び該開口部に隣接する前記ブラックマトリックス層の一
部に重畳させて塗布することを特徴とする前記(1) 又は
(2) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (4) 前記重畳塗布部の幅を10μm以上とすることを特
徴とする前記(3) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方
法。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法により3色蛍
光膜を有するディスプレイ用蛍光面を形成する手順を図
1により詳述する。図1aは、ガラス等の平面状透明基
板1の上にフォトレジスト膜2を形成した状態を示した
ものである。まず、水中にポリビニルアルコール(PV
A)と光重合触媒の重クロム酸アンモニウムを添加し混
合してフォトレジストスラリーを調製し、蛍光面を形成
しようとする基板上1に上記のフォトレジストスラリー
塗布してフォトレジスト膜2を形成する。
【0011】図1bは、3色の蛍光膜パターンのマスク
(シャドーマスク)3を通して、3色の蛍光膜B、G、
Rが形成されるべき部分b、g、rに紫外線を照射して
その部分のフォトレジスト膜2を硬化する状況を示した
図である。図1cは、未硬化のフォトレジスト膜2を水
で洗い流して各色の蛍光膜B、G、Rが形成されるべき
場所b、g、rに硬化したフォトレジスト膜4を形成し
た図である。なお、図1b及び図1cがいわゆる現像処
理工程である。
【0012】図1dは、黒鉛粉末等の光吸収物質を水中
に懸濁させたスラリー5を基板1全面に塗布した図であ
る。図1eは、過酸化水素水フォトレジスト層剥離液を
用いて再度現像することにより、各色の蛍光膜B、G、
Rが形成されるべき位置b、g、rに形成されている硬
化したフォトレジスト4のみを剥離して、基板1上の各
蛍光膜B,G、Rが形成されるべき位置b、g、r以外
の場所にBM層Cを形成した図である。
【0013】BM層Cは、後に形成される蛍光膜B、
G、Rがストライプ状である場合にはBM層Cもストラ
イプ形状とし、その幅がほぼ20〜200μmのストラ
イプ状とする。また、後に形成する各蛍光膜B、G、R
がドット状又は長方形の矩形状である場合には、BM層
Cは蛍光膜が形成されるべき場所b、g、rを除く蛍光
面の全面を覆う形状とする。このようにして得られたB
M層Cは、フォトリソグラフィー法で形成されるため、
そのエッジがシャープで欠落部分や塗りムラのない精細
な層を形成することができる。
【0014】次に、基板1上のBM層Cが形成されてい
ない部分b、g、rにスクリーン印刷法によって3色の
蛍光膜B、G、Rを順次形成して行く。蛍光膜B、G、
Rは、まず、3色の各蛍光体をそれぞれエチルセルロー
ス等のバインダー樹脂に分散させて混練して蛍光体含有
インク組成物Ib、Ig、Irを調製する。各蛍光膜
B、G、Rの所望のパターンに製版された3枚の版S
b、Sg、Srを使用し、3色の蛍光膜B、G、Rが形
成されるべき各所定の位置b、g、rに塗布されるよう
に印刷位置を調整して、3色の各蛍光体含有インク組成
物Ib、Ig、Irを色毎に3回に分けて順次スクリー
ン印刷して塗布し、乾燥する(図1f、g、h)。この
ようにして、基板1上にBM層C及び3色の蛍光膜B、
G、Rを備えた蛍光面を得る(図1i)。
【0015】この時に用いられるスクリーン印刷用の版
Sb、Sg、Srは、主としてステンレス製メッシュを
版材とし、所望のパターンに製版したものである。蛍光
膜パターンの製版Sb、Sg、Srは、当然のことなが
ら、その各蛍光膜の形状もBM層Cの開口部形状に合わ
せたドット状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜を印刷
できるような蛍光膜パターンに対応したものである。
【0016】上記の製版Sb、Sg、Srを用いて、B
M層Cを有する基板1上に所定の色の蛍光体含有インク
組成物Ib、Ig、Irをそれぞれ別々に印刷塗布す
る。その際、各インク組成物Ib、Ig、Irは、図2
aに示すように、蛍光膜を形成すべきBM層Cの開口部
分b、g、rに充填するとともに、該開口部分b、g、
rの周囲のBM層Cの周辺部表面Ceにも重畳して塗布
することが好ましい。そのためには、この重畳塗布する
BM層Cの周辺部表面Ceの幅(t)だけ、BM層Cの
開口部分b、g、rより大きな開口部を有する製版S
b、Sg、Srを用いる。
【0017】図2bは、かかる版Sb、Sg、Srを用
いて蛍光膜パターンを印刷塗布した側から観察した平面
図である。蛍光膜パターンの輪郭部Eは、BM層Cの開
口部分b、g、rの外側に位置するように各蛍光体含有
インク組成物Ib、Ig、Irを印刷塗布する。このよ
うにして得た基板1は、BM層Cがフォトリソグラフィ
ー法で形成されているため、BM層Cの開口部周囲がシ
ャープであり、その結果、BM層Cの開口部を通して観
察される蛍光膜B、G、Rの輪郭部はシャープになり、
仮に蛍光膜の周囲に欠落やエッジ切れがあってもBM層
Cとの重畳部分で覆われるため、それらは観察されず、
極めて良質の蛍光面を得ることができる。
【0018】図3は、ストライプ状の各蛍光膜B、G、
R及びBM層Cを全て印刷法によって形成した従来の蛍
光面を模式的に図示したものであり、図4は、本発明の
方法により、フォトリソグラフィー法でBM層Cを形成
した後に、印刷法で蛍光膜B、G、Rを形成した蛍光面
を模式的に図示したものである。
【0019】図3a及び図4aはともに基板1を蛍光膜
パターン塗布側から観察した図であり、図3b及び図4
bは基板1を図3a及び図4aとは反対側から観察した
図である。特に、図3bと図4bを対比すると明らかな
ように、BM層Cをフォトリソグラフィー法で形成した
本発明の蛍光膜(図4b)の方が、蛍光膜B,G,R及
びBM層Cを全て従来の印刷法で形成した蛍光膜(図3
b)より、BM層Cの開口部を通して観察される各蛍光
膜B、G、Rの輪郭部即ち境界線がはっきりしており、
エッジ部のシャープな蛍光面が得られる。
【0020】なお、本発明において、各色蛍光体含有イ
ンク組成物Ib、Ig、Irを印刷塗布するときに、各
色蛍光体含有インク組成物Ib、Ig、Irを重畳塗布
するBM層Cの端縁部表面Ceの幅(t)は10μm以
上確保することが重要であるが、隣接する別の色の蛍光
膜と重ならない距離を確保する必要はある。
【0021】本発明の蛍光面の形成に用いる蛍光体は、
従来のディスプレイ用蛍光面に用いる蛍光体と変わると
ころはなく、例えば赤色蛍光体としてY2 2 S:E
u、青色蛍光体としてZnS:Ag、緑色蛍光体として
ZnS:Cu,Al等、高低速電子線励起により発光し
得る蛍光体であれば特に制限はない。この場合、画像の
コントラストを高めるために、蛍光体の発光色と同じ体
色を有する顔料を表面に付着させた顔料付蛍光体を用い
ても良い。
【0022】本発明の方法によれば、印刷法で蛍光膜
B、G、R及びBM層C全てを形成した従来の蛍光面に
比べて、蛍光膜B、G、RとBM層Cとの輪郭部が鮮明
で高精細な画像が得られ、また、印刷法によりBM層を
形成する場合と違って、BM層Cのスジ、ムラが少な
く、異物による膜の欠陥の少ない良好な蛍光面が得られ
る。また、フォトリソグラフィー法で蛍光膜を形成する
場合と比べ、蛍光膜形成のための設備や工程を簡略化す
ることができ、蛍光面形成中の蛍光体のロスをほとんど
なくなくすことができ、さらに特定色の蛍光膜中に他色
蛍光体が混入するクロスコンタミネーションを防止でき
るという利点がある。
【0023】
【実施例】以下、図1を用いて実施例により本発明を説
明する。 (実施例)まず、PVAと重クロム酸アンモニウムとを
水中に溶解させてなる感光性樹脂スラリーを、厚さ3m
mの平板状ガラス板1上の全面に塗布し、乾燥して感光
性樹脂層(ホトレジスト層)2を形成した(図1a)。
次いで、ストライプ状に開口した特定パターンの金属メ
ッシュ状シャドーマスク3を通して紫外線を照射した
(図1b)後、水でガラス板を洗浄し、紫外線の照射を
受けていない未硬化の部分のフォトレジスト層2を除去
し、後に蛍光膜を形成すべき部分b、g、rにフォトレ
ジスト層4を形成した(図1c)。
【0024】フォトレジスト層4を有する平板ガラス1
上に、膠質黒鉛を水中に懸濁させた黒鉛スラリーを全面
に塗布して乾燥させ、一旦全面に黒鉛層5を形成してか
ら(図1d)、黒鉛層5の全体を希過酸化水素水で洗浄
することによって、先に硬化させたフォトレジスト層4
だけを剥離して、幅120μmのストライプ状のBM層
Cを350μmピッチで作成した(図1e)。
【0025】他方、100重量部の青色蛍光体(Zn
S:Ag)蛍光体、10重量部のエチルセルロース及び
60重量部のターピオネールからなる混合組成物を3本
ロールミルで混合して、50000cpに調整した青色
蛍光体(ZnS:Ag)含有インク組成物のペーストを
製造した。次に、ストライプ幅250μm、ピッチ10
50μmのスクリーン印刷用の製版を用い、上記の青色
蛍光体(ZnS:Ag)含有インク組成物をスクリーン
印刷法でガラス板1上に印刷塗布し、130℃で30分
間乾燥させて青色蛍光膜Bを形成した。同様にして、緑
色蛍光体(ZnS:Cu,Al)含有インク組成物及び
赤色蛍光体(Y2 2 S:Eu)含有インク組成物をそ
れぞれ用い、スクリーン印刷法でガラス基板1上に緑色
蛍光膜G及び赤色蛍光膜Rを順次形成して3色の蛍光面
を製造した。
【0026】(比較例)ストライプ幅120μm、ピッ
チ350μmのスクリーン印刷用の製版を用い、黒鉛粉
末100重量部に対してエチルセルロース20重量部、
ターピオネール150重量部の混合液を3本ロールミル
を用いて分散処理し、その粘度を100000cpに調
整した黒鉛ペーストを作成し、スクリーン印刷法によ
り、幅120μmのストライプ状のBM層Cをガラス基
板上に作成した以外は、実施例と同様にして青、緑、赤
各色の蛍光膜を印刷法によって形成して、比較例の蛍光
面を製造した。
【0027】このようにして得た実施例及び比較例の各
蛍光面を比較したところ、蛍光膜塗布面とは逆の面から
基板1を観察したところ、実施例の蛍光面では、BM層
の開口部を通して観察される蛍光膜の輪郭部即ちBM層
と蛍光膜との境界線がシャープであり、蛍光膜の外観も
非常に優れていた。しかし、比較例の蛍光面ではBM層
にスジやムラ及び異物による膜面の隆起、黒鉛の局所的
集合等の欠陥が発生し、上記境界線がジグザグであり、
外観にも問題があった。
【0028】また、上記と同様に、実施例の蛍光面及び
比較例の蛍光面をそれぞれ各80枚を作製し、目視観察
したところ、得られた各蛍光面のBM層内にスジ、ム
ラ、微量の塵埃等異物の混入による局部的黒化、膜面の
局部的な隆起等の外観不良の数を計測して比較したとこ
ろ、実施例で5枚あったのに対し、比較例では48枚あ
り、実施例の方が蛍光面の不良品発生率が著しく低く抑
えることができた。
【0029】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を採用することに
より、各蛍光膜のエッジがシャープで均一かつ高精細な
蛍光面を形成することができ、しかも、かかる蛍光面を
比較的簡便な形成設備で形成することができ、形成時の
不良品率も大幅に抑制することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施例による3色蛍光面の形
成方法を説明するための図である。
【図2】図2は本発明の方法で形成されたBM層の開口
部と、蛍光膜パターンの輪郭部との関係を示した図であ
る。
【図3】図3は従来の形成方法で得たBM層Cと蛍光膜
B,G,Rとの関係を示した拡大図である。
【図4】図4は本発明の形成方法で得たBM層Cと蛍光
膜B,G,Rとの関係を示した拡大図である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に少なくともブラックマトリック
    ス層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法において、最
    初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラックマトリ
    ックス層を形成した後に、蛍光膜に対応して製版された
    版を用いて印刷法で蛍光体含有インク組成物を塗布して
    蛍光膜を形成することを特徴とするディスプレイ用蛍光
    面の形成方法。
  2. 【請求項2】 前記基板が平面状透明板であることを特
    徴とする請求項1記載のディスプレイ用蛍光面の形成方
    法。
  3. 【請求項3】 前記ブラックマトリックス層を有する基
    板上に前記蛍光膜を形成する際に、前記蛍光体含有イン
    ク組成物を、前記ブラックマトリックス層の開口部及び
    該開口部に隣接する前記ブラックマトリックス層の一部
    に重畳させて塗布することを特徴とする請求項1又は2
    記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。
  4. 【請求項4】 前記重畳塗布部の幅を10μm以上とす
    ることを特徴とする請求項3記載のディスプレイ用蛍光
    面の形成方法。
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