JP2000056159A - 偏光子およびその製造方法 - Google Patents

偏光子およびその製造方法

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JP2000056159A JP10225848A JP22584898A JP2000056159A JP 2000056159 A JP2000056159 A JP 2000056159A JP 10225848 A JP10225848 A JP 10225848A JP 22584898 A JP22584898 A JP 22584898A JP 2000056159 A JP2000056159 A JP 2000056159A
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polarization
polarizer
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core
mode light
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Shinji Ishikawa
真二 石川
Tadashi Enomoto
正 榎本
Masaichi Mobara
政一 茂原
Michiko Harumoto
道子 春本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 設計および製造が容易であって優れた偏光性
能を有する偏光子およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 偏波保存光ファイバ10を伝搬してきた
コアモード光が、長周期グレーティングが形成された領
域13に達すると、コアモード光のうち特定方位の偏光
成分は、クラッドモード光との間の結合に因り損失を受
け、長周期グレーティングにより遮断される。一方、他
の方位の偏光成分は、クラッドモード光との結合が生じ
ることなく、長周期グレーティングを低損失で透過す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光伝送システム等
において好適に用いられる偏光子およびその製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】偏光子は、入射した光のうち特定方位の
偏光成分を選択的に透過させ、これに直交する方位の偏
光成分を遮断するものである。
【0003】例えば、1989年電子情報通信学会秋季
全国大会C−313に記載されたものは、中心の高屈折
率のコア領域の周囲に順に低屈折率のディプレスト領域
およびクラッド領域を有するW型クラッド構造の光ファ
イバに応力付与部を設けて偏波保存光ファイバとし、こ
の偏波保存光ファイバにおける基底モード光の遮断波長
の偏波依存性に基づいて、特定方位の偏光成分のみを透
過させるものである。
【0004】また、1992年電子情報通信学会秋季大
会C−225に記載されたものは、光を透過する誘電体
膜と光を吸収する金属膜とを交互に積層して構成された
ものであり、この積層面に平行に入射した光のうち、積
層面に垂直な方位の偏光成分を透過させるものである。
【0005】また、特開平10−82923号公報に開
示されたものは、複屈折率を有する光導波路に屈折率変
調型ブラッググレーティングが形成されたものであり、
偏波方位に依りブラッグ条件が異なることを利用して、
特定方位の偏光成分のみを透過させるものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、以下のような問題点がある。すなわち、19
89年電子情報通信学会秋季全国大会C−313に記載
されたものは、W型クラッド構造の偏波保存光ファイバ
を用いているので、透過させべき特定方位の偏光成分に
ついて曲げ損失が生じ易い。また、偏光子として作用し
得る波長が偏波保存光ファイバの構造に依存するので、
素子としての設計自由度が低い。
【0007】また、1992年電子情報通信学会秋季大
会C−225に記載された技術では、波長1μm程度以
下の光について偏光子として作用するものの実現は可能
であるが、一般に光伝送で用いられる波長1.3μm帯
や波長1.55μm帯の光に対して偏光子として作用す
るものを実現するには、積層すべき材料の組み合わせが
困難である。また、遮断すべき偏光成分に対し所定の損
失を得るためには長尺とせざるを得ず、それ故、積層膜
に因る散乱損失が大きい。
【0008】さらに、特開平10−82923号公報に
開示されたものは、偏波方位に依りブラッグ条件が異な
るものの、ブラッグ条件を満たす光の波長の差が1nm
程度と非常に小さいので、素子の設計が容易ではなく、
偏光性能が良くない。
【0009】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、設計および製造が容易であって優れた
偏光性能を有する偏光子およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係る偏光子は、
偏波保存光導波路のコア領域およびクラッド領域の双方
または何れか一方にコアモード光の特定方位の偏光成分
を放射させる長周期グレーティングが形成されてなるこ
とを特徴とする。この偏光子によれば、偏波保存光ファ
イバを伝搬してきたコアモード光が、長周期グレーティ
ングが形成された領域に達すると、コアモード光のうち
特定方位の偏光成分は、クラッドモード光との間の結合
に因り損失を受け、長周期グレーティングにより遮断さ
れる。一方、他の方位の偏光成分は、クラッドモード光
との結合が生じることなく、長周期グレーティングを低
損失で透過する。ただし、コアモード光の特定方位の偏
光成分に対する伝搬定数は、コアモード光の特定方位の
偏光成分がクラッドモード光との間でモード結合条件を
満たすものであることが必要であり、長周期グレーティ
ングの実効的屈折率および屈折率変調周期は、このモー
ド結合条件が満たされるよう設計される。
【0011】本発明に係る偏光子製造方法は、偏波保存
光導波路のコア領域およびクラッド領域の双方または何
れか一方に強度変調マスクを介して紫外光を照射して、
コアモード光の特定方位の偏光成分を放射させる長周期
グレーティングを形成し、偏光子を製造することを特徴
とする。この偏光性製造方法によれば、強度変調マスク
の強度変調周期すなわち長周期グレーティングの周期を
適切に設定することにより、任意の波長で作用する偏光
子を容易に設計・製造することができる。また、紫外光
の照射量すなわち長周期グレーティングの屈折率変調量
を適切に設定することにより、所望の遮断比を有する偏
光子を容易に設計・製造することができる。
【0012】偏波保存光導波路は、少なくともコア領域
の断面形状が楕円である光ファイバであることを特徴と
する。この場合には、所望の波長で作用する偏光子を容
易に設計・製造することができる。また、偏波保存光導
波路は、コアモード光の特定方位の偏光成分とこれに直
交する方位の偏光成分との間の正規化複屈折率が10-5
以上であることを特徴とする。この場合には、優れた遮
断比を有する偏光子を容易に設計・製造することができ
る。また、偏光子およびファイバ内で、外乱による偏波
成分の入れ替りがなく、偏光子として、安定に用いるこ
とが出来る利点を持つ。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。
【0014】図1は、本実施形態に係る偏光子の説明図
である。この図は、偏波保存光導波路である偏波保存光
ファイバ10の光軸を含む面で切断したときの断面図で
ある。本実施形態に係る偏光子は、コア領域11の周囲
にクラッド領域12を有する偏波保存光ファイバ10に
おいて、そのコア領域11の光軸方向に沿った一定範囲
13に長周期グレーティングが形成されたものである。
【0015】偏波保存光ファイバ10は、少なくともコ
ア領域11の断面形状が楕円とされている。また、更に
クラッド領域12の断面形状も楕円とされていてもよ
い。後者の場合、コア領域11およびクラッド領域12
それぞれの断面の楕円軸を互いに一致させる。コアが楕
円となる構成とすることにより、偏波保存光ファイバ1
0は、コアモード光の特定方位の偏光成分に対する伝搬
定数β1 と、これに直交する方位の偏光成分に対する伝
搬定数β2 とが互いに異なるものとなる。偏波保存光フ
ァイバ10のコア領域11は、例えばGeO2-B23-
SiO2系の組成またはGeO2-P25-SiO2系の組
成である。また、クラッド領域12は、例えば純粋Si
2 またはF元素添加SiO2 等の組成である。
【0016】偏波保存光ファイバ10の一定領域13に
形成された長周期グレーティングは、周期10μm〜1
000μm程度の屈折率変調が形成されたものであり、
偏波保存光ファイバ10を伝搬するコアモード光の特定
方位の偏光成分を放射させるものである。この長周期グ
レーティングの実効的屈折率および屈折率変調周期は、
偏光子として作用する波長に応じて適切に設計される。
また、長周期グレーティングの屈折率変調量や形成され
る一定領域13の長さは、偏光子として求められる偏光
性能である遮断比に応じて適切に設計される。
【0017】そして、この偏光子は、コアモード光の特
定方位の偏光成分とこれに直交する方位の偏光成分との
間の正規化複屈折率が10-5以上であるのが好適であ
る。すなわち、上記β1 とβ2 との差をΔβとし、真空
中における光の波数をkとしたときに、Δβ/kで定義
される正規化複屈折率が10-5以上であるのが好適であ
る。このようにすることにより、偏光子として求められ
る偏光性能である遮断比が充分な値となる。
【0018】図2は、本実施形態に係る偏光子製造方法
の説明図である。この図に示すように、強度変調マスク
20を介して紫外光(好ましくは波長260nm以下)
を偏波保存光ファイバ10に照射し、長周期グレーティ
ングを形成して偏光子を製造する。強度変調マスク20
は、形成すべき長周期グレーティングの周期と同一の強
度変調周期を有するものである。コア領域11にGeO
2 が添加されていれば、コア領域11に長周期グレーテ
ィングが形成される。また、コア領域11およびクラッ
ド領域12の双方にGeO2 が添加されていれば、コア
領域11およびクラッド領域12の双方に長周期グレー
ティングが形成される。
【0019】このようにして構成ないし製造される偏光
子は、以下のように作用する。すなわち、偏波保存光フ
ァイバ10を伝搬してきたコアモード光が、長周期グレ
ーティングが形成された一定領域13に達すると、コア
モード光のうち伝搬定数β1を有する特定方位の偏光成
分は、クラッドモード光との間の結合に因り損失を受
け、長周期グレーティングにより遮断される。一方、伝
搬定数β1 と異なる伝搬定数β2 を有する他の方位の偏
光成分は、クラッドモード光との結合が生じることな
く、長周期グレーティングを低損失で透過する。すなわ
ち、この偏光子は、長周期グレーティングにより特定方
位の偏光成分のみを遮断する偏光子として作用する。た
だし、コアモード光の特定方位の偏光成分に対する伝搬
定数β1 は、コアモード光の特定方位の偏光成分がクラ
ッドモード光との間でモード結合条件を満たすものであ
ることが必要であり、長周期グレーティングの実効的屈
折率および屈折率変調周期は、このモード結合条件が満
たされるよう設計される。
【0020】次に、本実施形態に係る偏光子および偏光
子製造方法の第1の実施例について説明する。図3は、
第1の実施例に係る偏光子を構成する偏波保存光ファイ
バ10の断面図である。ここで試作した偏波保存光ファ
イバ10はMCVD法により製造した。コア領域11の
断面形状は楕円であり、長軸コア径2a1 と短軸コア径
2a2 との比は2:1であり、長軸コア径2a1 は2.
5μmであった。クラッド領域12の断面形状は円であ
り、クラッド径2bは125μmであった。コア領域1
1の組成はGeO2-P25-SiO2系であり、そのモル
組成比は 0.10: 0.06 : 0.84 であった。クラッド領
域12の組成は無水シリカガラスであった。この偏波保
存光ファイバ10の比屈折率差は1.6%であり、正規
化複屈折率は5×10-4であった。
【0021】この偏波保存光ファイバ10に、ArFエ
キシマレーザ光源から出力された波長193nmの紫外
レーザ光を、強度変調周期400μmの強度変調マスク
20を介して照射して、長周期グレーティングを形成し
て、これにより偏光子を作成した。このとき、偏波保存
光ファイバ10を伝搬する波長1.5μm帯のコアモー
ド光の透過減衰量をモニタしながら紫外レーザ光の照射
を行って、その透過減衰量が20dBとなるまで照射し
た。
【0022】図4は、第1の実施例に係る偏光子の損失
特性を示すグラフである。このグラフに示すように、以
上のようにして製造された偏光子の損失特性は、波長
1.42μmおよび波長1.53μmそれぞれにコアモ
ード光の損失ピークを有していた。また、波長1.50
μm〜1.56μmのコアモード光に対する損失を各偏
波成分毎に測定したところ、コア領域11断面の短軸方
向の偏波成分の損失は0.2dB未満であったのに対
し、長軸方向の偏波成分の損失はピーク値40dB程度
であって、遮断比は40dB程度であった。以上より、
本実施例に係る偏光子は、波長1.53μmにおいて優
れた偏光性能を有することが判った。
【0023】なお、強度変調マスク20の強度変調周期
すなわち長周期グレーティングの周期を適切に設定する
ことにより、任意の波長で作用する偏光子を容易に設計
・製造することができる。また、紫外レーザ光の照射量
すなわち長周期グレーティングの屈折率変調量を適切に
設定することにより、所望の遮断比を有する偏光子を容
易に設計・製造することができる。
【0024】次に、本実施形態に係る偏光子および偏光
子製造方法の第2の実施例について説明する。図5は、
第2の実施例に係る偏光子を構成する偏波保存光ファイ
バ10の断面図である。ここで試作した偏波保存光ファ
イバ10もMCVD法により製造した。コア領域11の
断面形状は楕円であり、長軸コア径2a2 と短軸コア径
2a1 との比は1.25:1であり、長軸コア径2a2
は3.5μmであった。クラッド領域12の断面形状も
楕円であり、長軸クラッド径2b2 は125μmであっ
た。コア領域11断面の長軸方向とクラッド領域12断
面の長軸方向とは互いに一致していた。コア領域11の
組成はGeO2-P25-SiO2系であり、そのモル組成
比は 0.08 : 0.05 : 0.87 であった。クラッド領域1
2の組成は無水シリカガラスであった。この偏波保存光
ファイバ10の比屈折率差は1.3%であり、正規化複
屈折率は2×10-5であった。
【0025】この偏波保存光ファイバ10に、ArFエ
キシマレーザ光源から出力された波長193nmの紫外
レーザ光を、強度変調周期400μmの強度変調マスク
20を介して照射して、長周期グレーティングを形成し
て、これにより偏光子を作成した。このとき、偏波保存
光ファイバ10を伝搬する波長1.5μm帯のコアモー
ド光の透過減衰量をモニタしながら紫外レーザ光の照射
を行って、その透過減衰量が10dBとなるまで照射し
た。
【0026】図6は、第2の実施例に係る偏光子の損失
特性を示すグラフである。このグラフに示すように、以
上のようにして製造された偏光子の損失特性は、波長
1.30μmおよび波長1.55μmそれぞれにコアモ
ード光の損失ピークを有していた。また、波長1.53
μm〜1.58μmのコアモード光に対する損失を各偏
波成分毎に測定したところ、コア領域11断面の短軸方
向の偏波成分の損失は0.2dB未満であったのに対
し、長軸方向の偏波成分の損失はピーク値20dB程度
であって、遮断比は20dB程度であった。以上より、
本実施例に係る偏光子は、波長1.55μmにおいて優
れた偏光性能を有することが判った。
【0027】以上のように、本実施形態に係る偏光子
は、偏波保存光ファイバに長周期グレーティングが形成
されてなるものであるから、設計および製造が容易であ
って優れた偏光性能(遮断比)を有するものであり、ま
た、他の伝送用光ファイバとの接続の際の損失が小さ
く、光伝送システム等において好適に用いられる。ま
た、偏波保存光ファイバの組成を適切に設計することに
より、偏波保存光ファイバの実効的屈折率の温度依存性
を低減することができ、温度が変動しても安定した性能
を奏することができる。
【0028】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく種々の変形が可能である。例えば、偏波保存光
導波路として偏波保存光ファイバについて説明したが、
これに限られるものではなく、基板上に形成されたスラ
ブ型光導波路やチャンネル型光導波路であってもよい。
【0029】また、偏波保存光ファイバとしてクラッド
領域に応力付与部が設けられた構造のもの(パンダファ
イバやボータイファイバ等)が知られており、このよう
な偏波保存光ファイバに長周期グレーティングを形成す
ることで偏光子を構成することもできる。ただし、この
場合には、応力付与部の屈折率が低いことから、偏光子
として作用する波長の予測が容易ではなく、また、応力
付与部を含むクラッド領域の屈折率分布が異方性を有す
ることから、クラッドモード光の偏波成分毎の伝搬定数
が互いに異なり、各偏波成分毎の損失スペクトルが異な
るので、望ましくない。
【0030】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
係る偏光子は、偏波保存光導波路のコア領域およびクラ
ッド領域の双方または何れか一方にコアモード光の特定
方位の偏光成分を放射させる長周期グレーティングが形
成されてなる。また、本発明に係る偏光子製造方法は、
偏波保存光導波路のコア領域およびクラッド領域の双方
または何れか一方に強度変調マスクを介して紫外光を照
射して、コアモード光の特定方位の偏光成分を放射させ
る長周期グレーティングを形成し、偏光子を製造する。
【0031】したがって、設計および製造が容易であっ
て優れた偏光性能(遮断比)を有する。また、他の伝送
用光導波路の接続の際の損失が小さく、光伝送システム
等において好適に用いられる。長周期グレーティングの
周期を適切に設定することにより、任意の波長で作用す
る偏光子を容易に設計・製造することができる。また、
長周期グレーティングの屈折率変調量を適切に設定する
ことにより、所望の遮断比を有する偏光子を容易に設計
・製造することができる。
【0032】偏波保存光導波路の少なくともコア領域の
断面形状が楕円である光ファイバである場合には、所望
の波長で作用する偏光子を容易に設計・製造することが
できる。偏波保存光導波路のコアモード光の特定方位の
偏光成分とこれに直交する方位の偏光成分との間の正規
化複屈折率が10-5以上である場合には、優れた遮断比
を有する偏光子を容易に設計・製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る偏光子の説明図である。
【図2】本実施形態に係る偏光子製造方法の説明図であ
る。
【図3】第1の実施例に係る偏光子を構成する偏波保存
光ファイバの断面図である。
【図4】第1の実施例に係る偏光子の損失特性を示すグ
ラフである。
【図5】第2の実施例に係る偏光子を構成する偏波保存
光ファイバの断面図である。
【図6】第2の実施例に係る偏光子の損失特性を示すグ
ラフである。
【符号の説明】
10…偏波保存光ファイバ、11…コア領域、13…ク
ラッド領域、20…強度変調マスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 茂原 政一 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 春本 道子 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 2H047 BB01 EE30 GG04 HH08 2H050 AB04Y AB05X AB08X AB09X AB10Y AC47 AC49 AC82 AC84 AD00

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 偏波保存光導波路のコア領域およびクラ
    ッド領域の双方または何れか一方にコアモード光の特定
    方位の偏光成分を放射させる長周期グレーティングが形
    成されてなることを特徴とする偏光子。
  2. 【請求項2】 前記偏波保存光導波路は、少なくとも前
    記コア領域の断面形状が楕円である光ファイバであるこ
    とを特徴とする請求項1記載の偏光子。
  3. 【請求項3】 前記偏波保存光導波路は、前記コアモー
    ド光の特定方位の偏光成分とこれに直交する方位の偏光
    成分との間の正規化複屈折率が10-5以上であることを
    特徴とする請求項1記載の偏光子。
  4. 【請求項4】 偏波保存光導波路のコア領域およびクラ
    ッド領域の双方または何れか一方に強度変調マスクを介
    して紫外光を照射して、コアモード光の特定方位の偏光
    成分を放射させる長周期グレーティングを形成し、偏光
    子を製造することを特徴とする偏光子製造方法。
  5. 【請求項5】 前記偏波保存光導波路は、少なくとも前
    記コア領域の断面形状が楕円である光ファイバであるこ
    とを特徴とする請求項4記載の偏光子製造方法。
  6. 【請求項6】 前記偏波保存光導波路は、前記コアモー
    ド光の特定方位の偏光成分とこれに直交する方位の偏光
    成分との間の正規化複屈折率が10-5以上であることを
    特徴とする請求項4記載の偏光子製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003057479A (ja) * 2001-08-21 2003-02-26 Fujikura Ltd 偏波保持光ファイバおよびこれを用いた光部品
CN105783996A (zh) * 2016-03-31 2016-07-20 华中科技大学 一种可同时测量声波与压力的光纤传感器

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