JP2000048393A - 光プローブ - Google Patents
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
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- G11B7/122—Flying-type heads, e.g. analogous to Winchester type in magnetic recording
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- G11B7/1387—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector using the near-field effect
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/22—Apparatus or processes for the manufacture of optical heads, e.g. assembly
Abstract
(57)【要約】
【課題】 入射光エネルギーを大きくでき、光の伝搬損
失を小さく、エバネッセント光の発生効率を高く、製作
し易く且つ保持や位置決め制御などが容易に行えるよう
にする。 【解決手段】 光プローブ１０は、半径方向に屈折率分
布を有するロッド状マイクロレンズ１２と、その片方の
端面に形成したエバネッセント光発生部１４を具備して
いる。マイクロレンズは、その一端面から入射した平行
光がレンズ内部を集束透過して他端面で集光する屈折率
分布とレンズ長を有する。エバネッセント光発生部は、
遮光膜１６と、そのレンズ光軸上近傍に形成した微小開
口１８からなる。微小開口の開口径は、集束透過光をエ
バネッセント光としてのみ漏出させうる大きさである。
微小開口の外側の集束透過光は遮光膜で反射ないし吸収
される。ロッド状のマイクロレンズに代えて平板マイク
ロレンズを用いてもよい。
失を小さく、エバネッセント光の発生効率を高く、製作
し易く且つ保持や位置決め制御などが容易に行えるよう
にする。 【解決手段】 光プローブ１０は、半径方向に屈折率分
布を有するロッド状マイクロレンズ１２と、その片方の
端面に形成したエバネッセント光発生部１４を具備して
いる。マイクロレンズは、その一端面から入射した平行
光がレンズ内部を集束透過して他端面で集光する屈折率
分布とレンズ長を有する。エバネッセント光発生部は、
遮光膜１６と、そのレンズ光軸上近傍に形成した微小開
口１８からなる。微小開口の開口径は、集束透過光をエ
バネッセント光としてのみ漏出させうる大きさである。
微小開口の外側の集束透過光は遮光膜で反射ないし吸収
される。ロッド状のマイクロレンズに代えて平板マイク
ロレンズを用いてもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクシステ
ムなどの情報記録装置において、近接場光記録あるいは
エバネッセント光記録と呼ばれる超高密度記録を実現す
るための光プローブ及びその製造方法に関するものであ
る。更に詳しく述べると本発明は、マイクロレンズを使
用し、その一方の表面に、エバネッセント光のみを漏出
させうる微小開口を有する遮光膜からなるエバネッセン
ト光発生部を形成した光プローブに関するものである。
ムなどの情報記録装置において、近接場光記録あるいは
エバネッセント光記録と呼ばれる超高密度記録を実現す
るための光プローブ及びその製造方法に関するものであ
る。更に詳しく述べると本発明は、マイクロレンズを使
用し、その一方の表面に、エバネッセント光のみを漏出
させうる微小開口を有する遮光膜からなるエバネッセン
ト光発生部を形成した光プローブに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクシステムにおける超高密度記
録方式の一つに、エバネッセント光を利用した近接場光
記録あるいはエバネッセント光記録と呼ばれる方式があ
る。エバネッセント光は、通常の放射光（自由空間に放
射され伝搬（直進）する光）とは異なり、屈折率の異な
る界面近傍のみで存在しうる（界面から離れると急激に
減衰する）表面波である。このようなエバネッセント光
は、例えば屈折率の異なる界面に波長以下の微小開口を
形成すると、その微小開口から近接場に漏れ出すことが
観測されている。近接場が自由空間ではなく、近接場内
に他の物体があると、このエバネッセント光が結合して
エネルギーの伝搬が生じる。このような技術を情報記録
装置に適用すると、回折現象が無いこともあって、記録
媒体に高密度で光を照射することが可能である。
録方式の一つに、エバネッセント光を利用した近接場光
記録あるいはエバネッセント光記録と呼ばれる方式があ
る。エバネッセント光は、通常の放射光（自由空間に放
射され伝搬（直進）する光）とは異なり、屈折率の異な
る界面近傍のみで存在しうる（界面から離れると急激に
減衰する）表面波である。このようなエバネッセント光
は、例えば屈折率の異なる界面に波長以下の微小開口を
形成すると、その微小開口から近接場に漏れ出すことが
観測されている。近接場が自由空間ではなく、近接場内
に他の物体があると、このエバネッセント光が結合して
エネルギーの伝搬が生じる。このような技術を情報記録
装置に適用すると、回折現象が無いこともあって、記録
媒体に高密度で光を照射することが可能である。
【０００３】従来の近接場光記録としては、光ファイバ
の先端をテーパ状に極細化し、直径が光の波長より小さ
い先端開口を作製して、そのテーパ状部分に金属膜等を
付着した光ファイバプローブを用いた技術が提案されて
いる（例えば、米国特許第５２８６９７１号公報参
照）。また、ファイバのコア部分を次第に細くした光フ
ァイバプローブを用い、それをエアスライダと一体化し
て光ヘッドを構成する技術が、特開平７−２５４１８５
号公報に開示されている。
の先端をテーパ状に極細化し、直径が光の波長より小さ
い先端開口を作製して、そのテーパ状部分に金属膜等を
付着した光ファイバプローブを用いた技術が提案されて
いる（例えば、米国特許第５２８６９７１号公報参
照）。また、ファイバのコア部分を次第に細くした光フ
ァイバプローブを用い、それをエアスライダと一体化し
て光ヘッドを構成する技術が、特開平７−２５４１８５
号公報に開示されている。
【０００４】更に、スライダに微細なテーパ状の貫通穴
を形成し、光ファイバプローブを用いることなく、大き
な方の開口から光を直接入射して、小さな方の開口から
近接場光を発生させる技術が、特開平９−１９８８３０
号公報に開示されている。その他、これらに類する技
術、及びこれらに関連する技術は、最近、各種の文献な
どでも様々な報告がなされている。
を形成し、光ファイバプローブを用いることなく、大き
な方の開口から光を直接入射して、小さな方の開口から
近接場光を発生させる技術が、特開平９−１９８８３０
号公報に開示されている。その他、これらに類する技
術、及びこれらに関連する技術は、最近、各種の文献な
どでも様々な報告がなされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近接場光記
録の最大の課題は、微小開口から外へ漏れ出るエバネッ
セント光が極めて弱いことである。開口へ入射した光エ
ネルギーに対してエバネッセント光として漏れ出るエネ
ルギーの比率を「放射効率」と呼ぶと、その値は０．０
０００１〜０．０００１程度に過ぎない。つまり、入射
エネルギーの１０００分の１以下の光エネルギーが光記
録媒体と相互作用して光記録が行われる。従って、光記
録において大出力レーザが必要であるとか、小出力レー
ザを用いると光記録速度が遅いという問題があった。
録の最大の課題は、微小開口から外へ漏れ出るエバネッ
セント光が極めて弱いことである。開口へ入射した光エ
ネルギーに対してエバネッセント光として漏れ出るエネ
ルギーの比率を「放射効率」と呼ぶと、その値は０．０
０００１〜０．０００１程度に過ぎない。つまり、入射
エネルギーの１０００分の１以下の光エネルギーが光記
録媒体と相互作用して光記録が行われる。従って、光記
録において大出力レーザが必要であるとか、小出力レー
ザを用いると光記録速度が遅いという問題があった。
【０００６】微小開口を用いて光記録を行うためには、
大きな光エネルギーが必要であり、放射効率を高くする
ことが重要である。どの程度の放射効率が得られるか
は、用いる微小開口の形状、材料の特性、光記録媒体と
の相互作用などに依存するが、理論的にも不明の部分が
多く、各所において電磁界方程式に基づくシミュレーシ
ョンが鋭意行われている状態である。例えば、光ファイ
バプローブでは、テーパ状部分の金属膜で光の反射伝搬
が行われ、微小開口に到達するが、金属膜での光吸収な
どの損失も大きい。
大きな光エネルギーが必要であり、放射効率を高くする
ことが重要である。どの程度の放射効率が得られるか
は、用いる微小開口の形状、材料の特性、光記録媒体と
の相互作用などに依存するが、理論的にも不明の部分が
多く、各所において電磁界方程式に基づくシミュレーシ
ョンが鋭意行われている状態である。例えば、光ファイ
バプローブでは、テーパ状部分の金属膜で光の反射伝搬
が行われ、微小開口に到達するが、金属膜での光吸収な
どの損失も大きい。
【０００７】光ファイバプローブの問題は、光エネルギ
ーを伝送する光ファイバのコア部分が直径５μｍ程度と
小さいので、入射エネルギーを大きくすることに限界が
あることである。入射光エネルギーを大きくすると、面
積当たりの光エネルギー、即ち光エネルギー密度が大き
くなり、光ファイバ入射端面の破壊などが生じる恐れが
ある。光ファイバプローブの他の問題は、光ファイバプ
ローブが極細化した光ファイバであり、柔軟な性質をも
つため、その保持あるいは光記録への応用では不可欠と
なる光記録媒体との位置決め制御が困難なことである。
ーを伝送する光ファイバのコア部分が直径５μｍ程度と
小さいので、入射エネルギーを大きくすることに限界が
あることである。入射光エネルギーを大きくすると、面
積当たりの光エネルギー、即ち光エネルギー密度が大き
くなり、光ファイバ入射端面の破壊などが生じる恐れが
ある。光ファイバプローブの他の問題は、光ファイバプ
ローブが極細化した光ファイバであり、柔軟な性質をも
つため、その保持あるいは光記録への応用では不可欠と
なる光記録媒体との位置決め制御が困難なことである。
【０００８】スライダに直接テーパ状の微細な貫通穴を
形成する構造では、加工が極めて困難であるし、微細開
口の大きさを変える場合にはスライダ全てを交換しなけ
ればならない。また光ファイバプローブの場合と同様、
入射側の穴径が小さいので、高出力のレーザ光パワーを
導入することができないという問題もある。更に、光伝
送は、テーパ状の貫通穴壁面での反射によって行われる
ので損失が大きい。
形成する構造では、加工が極めて困難であるし、微細開
口の大きさを変える場合にはスライダ全てを交換しなけ
ればならない。また光ファイバプローブの場合と同様、
入射側の穴径が小さいので、高出力のレーザ光パワーを
導入することができないという問題もある。更に、光伝
送は、テーパ状の貫通穴壁面での反射によって行われる
ので損失が大きい。
【０００９】本発明の目的は、入射光エネルギーを大き
くでき、光の伝搬損失が小さく、放射効率が高く、製作
し易く且つ保持や位置決め制御などが容易に行える光プ
ローブを提供することである。本発明の他の目的は、光
軸中心に微小開口を容易に且つ正確に形成できる光プロ
ーブの製造方法を提供することである。本発明の更に他
の目的は、近接場光記録システムに実用化に適した光ヘ
ッド及び光ピックアップを提供することである。
くでき、光の伝搬損失が小さく、放射効率が高く、製作
し易く且つ保持や位置決め制御などが容易に行える光プ
ローブを提供することである。本発明の他の目的は、光
軸中心に微小開口を容易に且つ正確に形成できる光プロ
ーブの製造方法を提供することである。本発明の更に他
の目的は、近接場光記録システムに実用化に適した光ヘ
ッド及び光ピックアップを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、半径方向に屈
折率分布を有するロッド状マイクロレンズと、その片方
のレンズ端面に形成したエバネッセント光発生部を具備
している光プローブである。前記マイクロレンズは、そ
の一端面から入射した平行光がレンズ内部を集束透過し
て他端面でほぼ集光するような屈折率分布とレンズ長を
有している。また前記エバネッセント光発生部は、レン
ズ端面に付着させた遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上
近傍に形成した微小開口からなり、該微小開口の開口径
が、前記集束透過光をエバネッセント光としてのみ漏出
させうる大きさに設定され、前記微小開口の外側の集束
透過光が前記遮光膜で反射ないし吸収されるように構成
されている。ロッド状マイクロレンズとしては、例えば
直径０．２mm程度以下の超小型軽量レンズを用いる。
折率分布を有するロッド状マイクロレンズと、その片方
のレンズ端面に形成したエバネッセント光発生部を具備
している光プローブである。前記マイクロレンズは、そ
の一端面から入射した平行光がレンズ内部を集束透過し
て他端面でほぼ集光するような屈折率分布とレンズ長を
有している。また前記エバネッセント光発生部は、レン
ズ端面に付着させた遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上
近傍に形成した微小開口からなり、該微小開口の開口径
が、前記集束透過光をエバネッセント光としてのみ漏出
させうる大きさに設定され、前記微小開口の外側の集束
透過光が前記遮光膜で反射ないし吸収されるように構成
されている。ロッド状マイクロレンズとしては、例えば
直径０．２mm程度以下の超小型軽量レンズを用いる。
【００１１】また本発明は、透光性基板に断面が略半円
状の屈折率分布を有するレンズ部を形成した平板マイク
ロレンズと、前記透光性基板の片方の表面に形成したエ
バネッセント光発生部とを具備している光プローブであ
る。前記平板マイクロレンズは、その一方の表面から入
射した平行光がレンズ内部を集束透過して他方の表面で
ほぼ集光するような屈折率分布と基板厚みを有してい
る。また前記エバネッセント光発生部は、基板表面に付
着させた遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上近傍に形成
した微小開口からなり、該微小開口の開口径が、前記集
束透過光をエバネッセント光としてのみ漏出させうる大
きさに設定され、前記微小開口の外側の集束透過光が前
記遮光膜で反射ないし吸収されるように構成されてい
る。この構成の場合、透光性基板に複数のレンズ部を形
成した平板マイクロレンズアレイを使用し、各レンズ部
のレンズ光軸上近傍にそれぞれ微小開口を位置させるこ
とで、複数箇所からエバネッセント光が発生する光プロ
ーブを構成できる。
状の屈折率分布を有するレンズ部を形成した平板マイク
ロレンズと、前記透光性基板の片方の表面に形成したエ
バネッセント光発生部とを具備している光プローブであ
る。前記平板マイクロレンズは、その一方の表面から入
射した平行光がレンズ内部を集束透過して他方の表面で
ほぼ集光するような屈折率分布と基板厚みを有してい
る。また前記エバネッセント光発生部は、基板表面に付
着させた遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上近傍に形成
した微小開口からなり、該微小開口の開口径が、前記集
束透過光をエバネッセント光としてのみ漏出させうる大
きさに設定され、前記微小開口の外側の集束透過光が前
記遮光膜で反射ないし吸収されるように構成されてい
る。この構成の場合、透光性基板に複数のレンズ部を形
成した平板マイクロレンズアレイを使用し、各レンズ部
のレンズ光軸上近傍にそれぞれ微小開口を位置させるこ
とで、複数箇所からエバネッセント光が発生する光プロ
ーブを構成できる。
【００１２】エバネッセント光発生部における遮光膜
は、金属又は合金膜、金属−炭素膜、あるいは誘電体多
層膜等からなる。その膜厚は、通常２０〜５０nm程度と
する。また前記微小開口の開口径は、エバネッセント光
のみが漏れ出ることができるように使用光の波長より小
さくする。より好ましくは前記微小開口寸法は、使用光
の波長の１／２以下とする。具体的には、直径２００nm
以下とすることが望ましい。
は、金属又は合金膜、金属−炭素膜、あるいは誘電体多
層膜等からなる。その膜厚は、通常２０〜５０nm程度と
する。また前記微小開口の開口径は、エバネッセント光
のみが漏れ出ることができるように使用光の波長より小
さくする。より好ましくは前記微小開口寸法は、使用光
の波長の１／２以下とする。具体的には、直径２００nm
以下とすることが望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】ロッド状のマイクロレンズを使用
する場合には、通常、レンズ端面は両方とも平面である
が、一方もしくは両方の端面を球面とすることも可能で
ある。細径のロッド状マイクロレンズの端面を球面に加
工することは、作業が難しくなるが、球面とすることで
開口数ＮＡを大きくできる。
する場合には、通常、レンズ端面は両方とも平面である
が、一方もしくは両方の端面を球面とすることも可能で
ある。細径のロッド状マイクロレンズの端面を球面に加
工することは、作業が難しくなるが、球面とすることで
開口数ＮＡを大きくできる。
【００１４】本発明に係る光プローブは、マイクロレン
ズの片面に遮光膜を付加した後、反対側の面から大出力
レーザ光を入射し、透過集束光により遮光膜の光軸上の
中心部分の一部を溶融・蒸発もしくはアブレーションさ
せることによって、マイクロレンズの光軸上の遮光膜に
微小開口を作製することで製造することができる。
ズの片面に遮光膜を付加した後、反対側の面から大出力
レーザ光を入射し、透過集束光により遮光膜の光軸上の
中心部分の一部を溶融・蒸発もしくはアブレーションさ
せることによって、マイクロレンズの光軸上の遮光膜に
微小開口を作製することで製造することができる。
【００１５】あるいは、本発明に係る光プローブは、マ
イクロレンズの片面に遮光膜を付加した後、反対側の面
からレーザ光を入射し、透過集束光により遮光膜の光軸
上の中心部分の一部を加熱し、同時に遮光膜の空間側か
らレンズ光軸付近に集束レーザ光あるいは集束イオンビ
ームを照射し、マイクロレンズ内側からのレーザ光エネ
ルギーと、マイクロレンズ外側からのレーザ光エネルギ
ーあるいはイオンビームエネルギーとの重畳効果によっ
て、遮光膜を溶融・蒸発もしくはアブレーションさせる
ことによって、マイクロレンズの光軸上の遮光膜に微小
開口を作製することで製造することができる。
イクロレンズの片面に遮光膜を付加した後、反対側の面
からレーザ光を入射し、透過集束光により遮光膜の光軸
上の中心部分の一部を加熱し、同時に遮光膜の空間側か
らレンズ光軸付近に集束レーザ光あるいは集束イオンビ
ームを照射し、マイクロレンズ内側からのレーザ光エネ
ルギーと、マイクロレンズ外側からのレーザ光エネルギ
ーあるいはイオンビームエネルギーとの重畳効果によっ
て、遮光膜を溶融・蒸発もしくはアブレーションさせる
ことによって、マイクロレンズの光軸上の遮光膜に微小
開口を作製することで製造することができる。
【００１６】エバネッセント光結合による光記録再生装
置用の光ヘッドを構成するには、光プローブのエバネッ
セント光発生部と記録媒体との間隔を非常に狭く（例え
ば、数十nm程度）する必要があるため、上記のような光
プローブを、記録媒体上で空気力によって浮上するスラ
イダに、その浮上面と遮光膜とがほぼ同一平面となるよ
うに搭載するのがよい。その際、複数の光プローブが、
スライダ回転径方向に対して相互にトラック間隔の整数
倍だけずらせて同一スライダ内に並設するのも有効であ
る。
置用の光ヘッドを構成するには、光プローブのエバネッ
セント光発生部と記録媒体との間隔を非常に狭く（例え
ば、数十nm程度）する必要があるため、上記のような光
プローブを、記録媒体上で空気力によって浮上するスラ
イダに、その浮上面と遮光膜とがほぼ同一平面となるよ
うに搭載するのがよい。その際、複数の光プローブが、
スライダ回転径方向に対して相互にトラック間隔の整数
倍だけずらせて同一スライダ内に並設するのも有効であ
る。
【００１７】また本発明の実施の形態としては、二つの
端面を有する半導体レーザの一方の端面から出射するレ
ーザ光を、光記録媒体上に集光し、該光記録媒体で反射
したレーザ光が半導体レーザの出射端面に戻る光学系を
有する半導体レーザの自己結合効果を用いた光ピックア
ップにおいて、光記録媒体に対向するように前記光プロ
ーブを組み込んだ光ピックアップもある。
端面を有する半導体レーザの一方の端面から出射するレ
ーザ光を、光記録媒体上に集光し、該光記録媒体で反射
したレーザ光が半導体レーザの出射端面に戻る光学系を
有する半導体レーザの自己結合効果を用いた光ピックア
ップにおいて、光記録媒体に対向するように前記光プロ
ーブを組み込んだ光ピックアップもある。
【００１８】
【実施例】図１は本発明に係る光プローブの一実施例を
示す説明図である。この光プローブ１０は、半径方向に
屈折率分布を有するロッド状マイクロレンズ１２と、そ
の片方の端面に形成したエバネッセント光発生部１４を
具備している。マイクロレンズ１２は、その一端面から
入射した平行光がレンズ内部を集束透過して他端面でほ
ぼ集光するような屈折率分布とレンズ長を有しており、
例えば外径０．２０mm、長さ０．４mmである。エバネッ
セント光発生部１４は、ロッドレンズ端面に付着させた
遮光膜１６と、該遮光膜１６のレンズ光軸上近傍に形成
した微小開口１８からなる。遮光膜１６としては金属の
スパッタ膜を用いた。
示す説明図である。この光プローブ１０は、半径方向に
屈折率分布を有するロッド状マイクロレンズ１２と、そ
の片方の端面に形成したエバネッセント光発生部１４を
具備している。マイクロレンズ１２は、その一端面から
入射した平行光がレンズ内部を集束透過して他端面でほ
ぼ集光するような屈折率分布とレンズ長を有しており、
例えば外径０．２０mm、長さ０．４mmである。エバネッ
セント光発生部１４は、ロッドレンズ端面に付着させた
遮光膜１６と、該遮光膜１６のレンズ光軸上近傍に形成
した微小開口１８からなる。遮光膜１６としては金属の
スパッタ膜を用いた。
【００１９】遮光膜は、図２に示すようなスパッタ装置
で付着させた。この装置は、真空容器２０内に、多数の
マイクロレンズ２２を保持する回転形マイクロレンズホ
ルダ２４と、ターゲット材料（遮光膜材料）２６を保持
するターゲットホルダ２８を対向させて配置し、両者間
に直流電源３０又は交流電源によって高電圧を印加する
構成である。真空排気系によって真空容器２０の内部を
真空にしておき、ガス導入口３２から所定のガスを導入
する。このとき導入されたガスがイオン化し、プラズマ
を発生する。ターゲット材料２６を金属とすると、金属
原子がたたき出され、マイクロレンズ２２の表面に金属
膜が堆積する。
で付着させた。この装置は、真空容器２０内に、多数の
マイクロレンズ２２を保持する回転形マイクロレンズホ
ルダ２４と、ターゲット材料（遮光膜材料）２６を保持
するターゲットホルダ２８を対向させて配置し、両者間
に直流電源３０又は交流電源によって高電圧を印加する
構成である。真空排気系によって真空容器２０の内部を
真空にしておき、ガス導入口３２から所定のガスを導入
する。このとき導入されたガスがイオン化し、プラズマ
を発生する。ターゲット材料２６を金属とすると、金属
原子がたたき出され、マイクロレンズ２２の表面に金属
膜が堆積する。
【００２０】高融点金属、例えばモリブデン（Ｍｏ）、
ロジウム（Ｒｈ）などの膜は、微小開口を作製するとき
に高いレーザ照射パワーを必要とする。また、光の反射
率が大きな材料、例えば銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）などの
膜は、微小開口を作製するときに照射するレーザ光が吸
収され難く、熱としてレーザアブレーションを行うのに
は、やはり高いレーザ照射パワーを必要とする。従っ
て、これらの金属膜は、微小開口を作製する上では、作
業上、あまり好ましくない。しかし、記録媒体材料の記
録感度が低く、光記録のために高いレーザ照射パワーが
必要な場合などでは、有用な膜材料と考えられる。
ロジウム（Ｒｈ）などの膜は、微小開口を作製するとき
に高いレーザ照射パワーを必要とする。また、光の反射
率が大きな材料、例えば銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）などの
膜は、微小開口を作製するときに照射するレーザ光が吸
収され難く、熱としてレーザアブレーションを行うのに
は、やはり高いレーザ照射パワーを必要とする。従っ
て、これらの金属膜は、微小開口を作製する上では、作
業上、あまり好ましくない。しかし、記録媒体材料の記
録感度が低く、光記録のために高いレーザ照射パワーが
必要な場合などでは、有用な膜材料と考えられる。
【００２１】本実施例では金属膜材料として、低いレー
ザ照射パワーでレーザアブレーションにより微小開口を
作製できるテレル（Ｔｅ）系材料を用いた。この材料
は、追記形光ディスク記録膜材料として開発されたもの
である。図２に示すスパッタ装置において、ガスとして
はＣＨ4 又はＣＨ4 とＡｒの混合ガスを用い、ターゲッ
ト材料としてＴｅ金属を用いた。真空度を１０-3mmＨｇ
のオーダとし、スパッタリングを行うことによって、Ｔ
ｅ−Ｃ膜がマイクロレンズ上に堆積した。堆積速度は、
５０nm／分程度にして、膜厚は４０nm程度とした。ＣＨ
4 ガスを導入することで、堆積膜はＴｅ金属微粒子がＣ
炭素に取り囲まれたＴｅ−Ｃ膜となる。このＴｅ−Ｃ膜
はＴｅ金属単体膜に比較して、レーザアブレーションに
必要なレーザ照射パワーが低くてよいこと、レーザアブ
レーションにより開けられた微小開口が安定（酸化によ
る特性変化が防止され、耐環境特性に優れている）であ
ることが知られている。開けられた微小開口が対称性に
優れた円形になることも、大きな利点である。
ザ照射パワーでレーザアブレーションにより微小開口を
作製できるテレル（Ｔｅ）系材料を用いた。この材料
は、追記形光ディスク記録膜材料として開発されたもの
である。図２に示すスパッタ装置において、ガスとして
はＣＨ4 又はＣＨ4 とＡｒの混合ガスを用い、ターゲッ
ト材料としてＴｅ金属を用いた。真空度を１０-3mmＨｇ
のオーダとし、スパッタリングを行うことによって、Ｔ
ｅ−Ｃ膜がマイクロレンズ上に堆積した。堆積速度は、
５０nm／分程度にして、膜厚は４０nm程度とした。ＣＨ
4 ガスを導入することで、堆積膜はＴｅ金属微粒子がＣ
炭素に取り囲まれたＴｅ−Ｃ膜となる。このＴｅ−Ｃ膜
はＴｅ金属単体膜に比較して、レーザアブレーションに
必要なレーザ照射パワーが低くてよいこと、レーザアブ
レーションにより開けられた微小開口が安定（酸化によ
る特性変化が防止され、耐環境特性に優れている）であ
ることが知られている。開けられた微小開口が対称性に
優れた円形になることも、大きな利点である。
【００２２】次いで、図３のＡ〜Ｃに示す方法で遮光膜
に微小開口を形成した。図３のＡでは、遮光膜４０を付
着したマイクロレンズ４２の中心軸が平行レーザ光と平
行になるようにセットし、遮光膜が設けられていない方
の端面からレーザ光を入射させた。マイクロレンズ４２
は、一方の端面から入射した平行光が、他方の端面で集
光する屈折率分布を有しているが、正確に集光しなくて
も、ほぼ集光するものであればよい。この集光特性は、
用いるレーザ光波長により変化するので、必要に応じて
選択した。
に微小開口を形成した。図３のＡでは、遮光膜４０を付
着したマイクロレンズ４２の中心軸が平行レーザ光と平
行になるようにセットし、遮光膜が設けられていない方
の端面からレーザ光を入射させた。マイクロレンズ４２
は、一方の端面から入射した平行光が、他方の端面で集
光する屈折率分布を有しているが、正確に集光しなくて
も、ほぼ集光するものであればよい。この集光特性は、
用いるレーザ光波長により変化するので、必要に応じて
選択した。
【００２３】図３のＢは、一方の端面から平行レーザ光
をマイクロレンズ４２に入射すると同時に、遮光膜４０
が設けられている端面の外側から、マイクロレンズの光
軸に別の集束レーザ光を照射する方法を示している。ま
た図３のＣは、真空容器４４内で、一方の端面から平行
レーザ光をマイクロレンズ４２に入射すると同時に、遮
光膜４０が設けられている端面の外側から、マイクロレ
ンズの光軸に集束イオンビームを照射する方法を示して
いる。
をマイクロレンズ４２に入射すると同時に、遮光膜４０
が設けられている端面の外側から、マイクロレンズの光
軸に別の集束レーザ光を照射する方法を示している。ま
た図３のＣは、真空容器４４内で、一方の端面から平行
レーザ光をマイクロレンズ４２に入射すると同時に、遮
光膜４０が設けられている端面の外側から、マイクロレ
ンズの光軸に集束イオンビームを照射する方法を示して
いる。
【００２４】マイクロレンズの一方の端面から入射させ
るレーザ光としては、アルゴンイオンレーザ（Ａｒ+ ：
波長４８８nm、４５８nm、３５１nm）、ヘリウム・カド
ミウムレーザ（Ｈｅ−Ｃｄ：波長４４２nm）、エキシマ
レーザ（ＸｅＦ：波長３５０nm）などを用いた。微小開
口を作製するには、できる限り短い波長のレーザ光を用
いることが望ましいが、マイクロレンズの分光透過特性
から、その限界はほぼ波長３５０nm程度である。他方、
マイクロレンズの他方の端面（遮光膜付着面）の外側か
ら照射するレーザ光の波長には、特に制限は無く、より
短い波長のレーザ光、例えはエキシマレーザ（ＫｒＦ：
波長２４９nm、ＡｒＦ：波長１９３nm）などを用いるこ
とができる。より短いエキシマレーザ（Ｆ2 ：波長１５
７nm）や真空紫外と呼ばれる波長のレーザ光を用いる場
合には、イオンビームを用いる場合と同様、マイクロレ
ンズを真空容器内に置いて微小開口を作製する。
るレーザ光としては、アルゴンイオンレーザ（Ａｒ+ ：
波長４８８nm、４５８nm、３５１nm）、ヘリウム・カド
ミウムレーザ（Ｈｅ−Ｃｄ：波長４４２nm）、エキシマ
レーザ（ＸｅＦ：波長３５０nm）などを用いた。微小開
口を作製するには、できる限り短い波長のレーザ光を用
いることが望ましいが、マイクロレンズの分光透過特性
から、その限界はほぼ波長３５０nm程度である。他方、
マイクロレンズの他方の端面（遮光膜付着面）の外側か
ら照射するレーザ光の波長には、特に制限は無く、より
短い波長のレーザ光、例えはエキシマレーザ（ＫｒＦ：
波長２４９nm、ＡｒＦ：波長１９３nm）などを用いるこ
とができる。より短いエキシマレーザ（Ｆ2 ：波長１５
７nm）や真空紫外と呼ばれる波長のレーザ光を用いる場
合には、イオンビームを用いる場合と同様、マイクロレ
ンズを真空容器内に置いて微小開口を作製する。
【００２５】上記のようにして、一方の端面からレーザ
光をマイクロレンズに入射させ、必要に応じて同時に、
他方の端面の外側からマイクロレンズの光軸に集束レー
ザ光あるいは集束イオンビームを照射すると、遮光膜で
集光した状態でレーザ光のエネルギーは溶融、蒸発もし
くはアブレーションによって遮光膜に穴を開ける閾値を
超えるので、微小開口が形成される。マイクロレンズに
入射した光はマイクロレンズの光軸に集光するので、遮
光膜に開く穴の位置は、自動的に光軸中心の位置とな
る。微小開口の直径は、遮光膜の材料、膜厚、照射レー
ザ光波長、照射エネルギーなどによって制御することが
でき、２００nm以下にできる。
光をマイクロレンズに入射させ、必要に応じて同時に、
他方の端面の外側からマイクロレンズの光軸に集束レー
ザ光あるいは集束イオンビームを照射すると、遮光膜で
集光した状態でレーザ光のエネルギーは溶融、蒸発もし
くはアブレーションによって遮光膜に穴を開ける閾値を
超えるので、微小開口が形成される。マイクロレンズに
入射した光はマイクロレンズの光軸に集光するので、遮
光膜に開く穴の位置は、自動的に光軸中心の位置とな
る。微小開口の直径は、遮光膜の材料、膜厚、照射レー
ザ光波長、照射エネルギーなどによって制御することが
でき、２００nm以下にできる。
【００２６】図４は光記録再生装置用の光ヘッドの一例
を示している。記録媒体上で空気力により浮上するスラ
イダ５０に１個の光プローブ５２を搭載した構造であ
る。スライダ５０は、磁気ハードディスク装置で一般に
使用されているものと同様のものである。光記録基板５
４上に光記録膜５６を形成した光記録媒体が高速回転す
ると、スライダ５０の浮上効果のため、微小開口５８と
光記録膜５６との距離は常に一定に保たれる。このた
め、フォーカッシング（焦点制御）機能は満たされる。
を示している。記録媒体上で空気力により浮上するスラ
イダ５０に１個の光プローブ５２を搭載した構造であ
る。スライダ５０は、磁気ハードディスク装置で一般に
使用されているものと同様のものである。光記録基板５
４上に光記録膜５６を形成した光記録媒体が高速回転す
ると、スライダ５０の浮上効果のため、微小開口５８と
光記録膜５６との距離は常に一定に保たれる。このた
め、フォーカッシング（焦点制御）機能は満たされる。
【００２７】図５は光記録再生装置用の光ヘッドの他の
例を示しており、Ａは底面図、ＢはＡのＸ−Ｘ矢視図で
ある。スライダ６０に複数（ここでは３個）の光プロー
ブ６２を、スライダ回転径方向に対して相互にトラック
間隔だけずらせて並設した構造である。これは、複数ト
ラックを用いた並列超高密度光記録再生を行うのに適し
たものである。例えば、トラック間隔が２００nm程度で
あれば、光プローブ６２の微小開口６４の直径もそれ以
下である。マイクロレンズ６６の外径が２００μｍであ
れば、それぞれのマイクロレンズはスライダアームの回
転方向の中心線（スライダ回転径方向）に対して相互に
トラック間隔（ここでは２００nm）離して配置する。従
って、３個のマイクロレンズ６６の中心を結ぶ仮想線ａ
はスライダアーム回転方向の中心線ｂに対して、１：１
０００（＝２００nm：２００μｍ）の角度θだけ傾けて
配置する。このようにして、１個のスライダに搭載した
複数の光プローブで同時に並列トラックを記録再生する
ことができる。
例を示しており、Ａは底面図、ＢはＡのＸ−Ｘ矢視図で
ある。スライダ６０に複数（ここでは３個）の光プロー
ブ６２を、スライダ回転径方向に対して相互にトラック
間隔だけずらせて並設した構造である。これは、複数ト
ラックを用いた並列超高密度光記録再生を行うのに適し
たものである。例えば、トラック間隔が２００nm程度で
あれば、光プローブ６２の微小開口６４の直径もそれ以
下である。マイクロレンズ６６の外径が２００μｍであ
れば、それぞれのマイクロレンズはスライダアームの回
転方向の中心線（スライダ回転径方向）に対して相互に
トラック間隔（ここでは２００nm）離して配置する。従
って、３個のマイクロレンズ６６の中心を結ぶ仮想線ａ
はスライダアーム回転方向の中心線ｂに対して、１：１
０００（＝２００nm：２００μｍ）の角度θだけ傾けて
配置する。このようにして、１個のスライダに搭載した
複数の光プローブで同時に並列トラックを記録再生する
ことができる。
【００２８】図５の光ヘッドにおいて、ロッド状のマイ
クロレンズをベースとする構成に代えて、複数（例えば
３個）のレンズ部を所定の位置に形成した平板マイクロ
レンズを用い、その各レンズ部にエバネッセント光発生
部（遮光膜と微小開口）を形成すると、単一の複合光プ
ローブをスライダに組み込むことで、多チャンネル方式
の光ヘッドを容易に構成できる。
クロレンズをベースとする構成に代えて、複数（例えば
３個）のレンズ部を所定の位置に形成した平板マイクロ
レンズを用い、その各レンズ部にエバネッセント光発生
部（遮光膜と微小開口）を形成すると、単一の複合光プ
ローブをスライダに組み込むことで、多チャンネル方式
の光ヘッドを容易に構成できる。
【００２９】図６は、半導体レーザの自己結合効果を応
用した光ピックアップ（特許第２５４３６７４号公報参
照）に、本発明の光プローブを適用した例を示してい
る。二つの端面を有する半導体レーザ７０の一方の端面
から出射するレーザ光を、コリメータレンズ７２によっ
て平行光にし、光プローブ７４に入射させる。光プロー
ブ７４から発生したエバネッセント光は、光記録媒体７
６と相互作用し、光強度が光記録媒体の情報で変調され
る。このようにして変調された光は、再び元の光学系を
戻って半導体レーザに結合する。戻り光の強度は、最初
の出力光強度の１／１０００〜１／１００００程度の弱
い時でも、半導体レーザに戻ると、その光強度が増幅さ
れ、戻り光強度の微弱な変化が、元の半導体レーザの出
力を大きく変化させる。これが半導体の自己結合効果で
ある。戻り光による半導体レーザの出力変化は、半導体
レーザ７０の出力側とは反対側に配置した光検出器７８
で検出するか、半導体レーザを定電流電源８０で駆動す
れば、半導体レーザの端子電圧変化として容易に検出で
きる。つまり、半導体レーザの自己結合効果は、半導体
レーザが光源であると同時に、戻り光の増幅器、あるい
は信号変化検出器をもっていることになる。一般に、微
小開口からの信号光は微弱であるので、何らかの手段で
増幅作用を行わせる必要があり、半導体レーザの自己結
合効果を利用することは、この点で極めて有用である。
用した光ピックアップ（特許第２５４３６７４号公報参
照）に、本発明の光プローブを適用した例を示してい
る。二つの端面を有する半導体レーザ７０の一方の端面
から出射するレーザ光を、コリメータレンズ７２によっ
て平行光にし、光プローブ７４に入射させる。光プロー
ブ７４から発生したエバネッセント光は、光記録媒体７
６と相互作用し、光強度が光記録媒体の情報で変調され
る。このようにして変調された光は、再び元の光学系を
戻って半導体レーザに結合する。戻り光の強度は、最初
の出力光強度の１／１０００〜１／１００００程度の弱
い時でも、半導体レーザに戻ると、その光強度が増幅さ
れ、戻り光強度の微弱な変化が、元の半導体レーザの出
力を大きく変化させる。これが半導体の自己結合効果で
ある。戻り光による半導体レーザの出力変化は、半導体
レーザ７０の出力側とは反対側に配置した光検出器７８
で検出するか、半導体レーザを定電流電源８０で駆動す
れば、半導体レーザの端子電圧変化として容易に検出で
きる。つまり、半導体レーザの自己結合効果は、半導体
レーザが光源であると同時に、戻り光の増幅器、あるい
は信号変化検出器をもっていることになる。一般に、微
小開口からの信号光は微弱であるので、何らかの手段で
増幅作用を行わせる必要があり、半導体レーザの自己結
合効果を利用することは、この点で極めて有用である。
【００３０】この半導体レーザとしては、空間的にはコ
ヒーレント（理想的には小さな集束スポットに集光でき
る）特性と合わせて、時間的にはインコヒーレント（戻
り光による半導体レーザのモードホッピングなどの戻り
光が生じない、即ち縦マルチモード、望ましくは自励発
振形のスペクトル幅が十分広い（＞０．０３nm））特性
が必要である。このような半導体レーザは、現在、鋭意
開発されており、それに伴って本発明は更に有効なもの
となる。
ヒーレント（理想的には小さな集束スポットに集光でき
る）特性と合わせて、時間的にはインコヒーレント（戻
り光による半導体レーザのモードホッピングなどの戻り
光が生じない、即ち縦マルチモード、望ましくは自励発
振形のスペクトル幅が十分広い（＞０．０３nm））特性
が必要である。このような半導体レーザは、現在、鋭意
開発されており、それに伴って本発明は更に有効なもの
となる。
【００３１】
【発明の効果】本発明の光プローブは、微小開口を設け
た遮光膜からなるエバネッセント光発生部をマイクロレ
ンズの表面に設けた構成としたことにより、透過集束光
が直接微小開口に到達し、そのためエバネッセント光の
発生効率を高くできる。また本発明の光プローブは、直
径が光ファイバコア部の４０倍、面積では１６００倍以
上のマイクロレンズを使用して、光を入射伝送させるの
で、入射エネルギーを大きくすることができる。これら
によって、本発明の光プローブを光記録装置に適用した
ときに、光エネルギーの入射方法が簡便となり、且つ光
入射エネルギーを大きくすることが可能となるため、記
録媒体と光ピックアップの相対速度が速くても、記録再
生が可能となる、即ち記録再生のデータ転送速度を大き
くすることが可能になり、光記録装置の実用性が高くな
る。
た遮光膜からなるエバネッセント光発生部をマイクロレ
ンズの表面に設けた構成としたことにより、透過集束光
が直接微小開口に到達し、そのためエバネッセント光の
発生効率を高くできる。また本発明の光プローブは、直
径が光ファイバコア部の４０倍、面積では１６００倍以
上のマイクロレンズを使用して、光を入射伝送させるの
で、入射エネルギーを大きくすることができる。これら
によって、本発明の光プローブを光記録装置に適用した
ときに、光エネルギーの入射方法が簡便となり、且つ光
入射エネルギーを大きくすることが可能となるため、記
録媒体と光ピックアップの相対速度が速くても、記録再
生が可能となる、即ち記録再生のデータ転送速度を大き
くすることが可能になり、光記録装置の実用性が高くな
る。
【００３２】また本発明の光プローブは、スライダに直
接テーパ状の貫通穴を形成する場合に比べても、レーザ
光入射側の外径が遙に大きいため高出力のレーザ光を容
易に導入できるし、しかも光の透過集束で光エネルギー
の伝送が行われるので伝送途中での光吸収などの損失が
無く、その点でもエネルギー使用効率が高くなる。
接テーパ状の貫通穴を形成する場合に比べても、レーザ
光入射側の外径が遙に大きいため高出力のレーザ光を容
易に導入できるし、しかも光の透過集束で光エネルギー
の伝送が行われるので伝送途中での光吸収などの損失が
無く、その点でもエネルギー使用効率が高くなる。
【００３３】更に、本発明の光プローブは、基本的にマ
イクロレンズを使用する構成であるから、光ファイバプ
ローブなどに比べて、その保持制御が容易である。つま
り、本発明の光プローブでは、例えば直径２００μｍ程
度の寸法の剛性の高い部品であるマイクロレンズを使用
しているため、その保持や位置決め制御など組立加工
が、光ファイバプローブに比較して遙に容易となる。ま
たスライダなどに搭載することを考慮すると、本発明の
光プローブの実用性は非常に高い。
イクロレンズを使用する構成であるから、光ファイバプ
ローブなどに比べて、その保持制御が容易である。つま
り、本発明の光プローブでは、例えば直径２００μｍ程
度の寸法の剛性の高い部品であるマイクロレンズを使用
しているため、その保持や位置決め制御など組立加工
が、光ファイバプローブに比較して遙に容易となる。ま
たスライダなどに搭載することを考慮すると、本発明の
光プローブの実用性は非常に高い。
【００３４】本発明の光プローブでは、一方のマイクロ
レンズ面に遮光膜を付着し、その中心に光軸に合わせて
微小開口を形成する必要がある。例えば直径２００μｍ
のマイクロレンズの中心、より厳密には光軸上に、正確
に位置決めして２００nm以下の微小開口を形成すること
は、一般には困難である。しかし、本発明に係る光プロ
ーブの製造方法では、マイクロレンズであることを利用
し、レーザ光を入射して遮光膜の一部を溶融・蒸発もし
くはアブレーションさせるために、自動的に光軸上に開
口を形成でき、位置決めの煩瑣な手間がかからずに済
み、生産性は良好である。
レンズ面に遮光膜を付着し、その中心に光軸に合わせて
微小開口を形成する必要がある。例えば直径２００μｍ
のマイクロレンズの中心、より厳密には光軸上に、正確
に位置決めして２００nm以下の微小開口を形成すること
は、一般には困難である。しかし、本発明に係る光プロ
ーブの製造方法では、マイクロレンズであることを利用
し、レーザ光を入射して遮光膜の一部を溶融・蒸発もし
くはアブレーションさせるために、自動的に光軸上に開
口を形成でき、位置決めの煩瑣な手間がかからずに済
み、生産性は良好である。
【図１】本発明に係る光プローブの一実施例を示す説明
図。
図。
【図２】レンズ端面に遮光膜を形成するためのスパッタ
装置の一例を示す説明図。
装置の一例を示す説明図。
【図３】微小開口を形成する方法の例を示す説明図。
【図４】本発明に係る光ヘッドの一例を示す説明図。
【図５】本発明に係る光ヘッドの他の例を示す説明図。
【図６】本発明に係る光プローブを使用した光ピックア
ップの一例を示す説明図。
ップの一例を示す説明図。
１０ 光プローブ １２ ロッド状マイクロレンズ １４ エバネッセント光発生部 １６ 遮光膜 １８ 微小開口
Claims (10)
- 【請求項１】 半径方向に屈折率分布を有するロッド状
マイクロレンズと、その片方のレンズ端面に形成したエ
バネッセント光発生部とを具備し、 前記マイクロレンズは、その一端面から入射した平行光
がレンズ内部を集束透過して他端面でほぼ集光するよう
な屈折率分布とレンズ長を有しており、 前記エバネッセント光発生部は、レンズ端面に付着させ
た遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上近傍に形成した微
小開口からなり、該微小開口の開口径が、前記集束透過
光をエバネッセント光としてのみ漏出させうる大きさに
設定され、前記微小開口の外側の集束透過光が前記遮光
膜で反射ないし吸収されるようになっていることを特徴
とする光プローブ。 - 【請求項２】 透光性基板に断面が略半円状の屈折率分
布を有するレンズ部を形成した平板マイクロレンズと、
その片方の表面に形成したエバネッセント光発生部とを
具備し、 前記平板マイクロレンズは、前記透光性基板の一方の表
面から入射した平行光がレンズ内部を集束透過して他方
の表面でほぼ集光するような屈折率分布と基板厚みを有
しており、 前記エバネッセント光発生部は、基板表面に付着させた
遮光膜と、該遮光膜のレンズ光軸上近傍に形成した微小
開口からなり、該微小開口の開口径が、前記集束透過光
をエバネッセント光としてのみ漏出させうる大きさに設
定され、前記微小開口の外側の集束透過光が前記遮光膜
で反射ないし吸収されるようになっていることを特徴と
する光プローブ。 - 【請求項３】 透光性基板に複数のレンズ部を形成した
平板マイクロレンズアレイを使用し、各レンズ部のレン
ズ光軸上近傍にそれぞれ前記微小開口が位置している請
求項２に記載の光プローブ。 - 【請求項４】 前記遮光膜が、金属又は合金膜、金属−
炭素膜、あるいは誘電体多層膜からなり、膜厚が２０〜
５０nmである請求項１乃至３のいずれかに記載の光プロ
ーブ。 - 【請求項５】 前記微小開口の開口径が前記平行光の波
長の１／２以下である請求項１乃至４のいずれかに記載
の光プローブ。 - 【請求項６】 マイクロレンズの片面に遮光膜を付加し
た後、反対側の面から大出力レーザ光を入射し、透過集
束光により前記遮光膜の光軸上の中心部分の一部を溶融
・蒸発もしくはアブレーションさせることによって、マ
イクロレンズの光軸上の遮光膜に微小開口を作製する光
プローブの製造方法。 - 【請求項７】 マイクロレンズの片面に遮光膜を付加し
た後、反対側の面からレーザ光を入射し、透過集束光に
より前記遮光膜の光軸上の中心部分の一部を加熱し、同
時に遮光膜の空間側からレンズ光軸付近に集束レーザ光
あるいは集束イオンビームを照射し、マイクロレンズ内
側からのレーザ光エネルギーと、マイクロレンズ外側か
らのレーザ光エネルギーあるいはイオンビームエネルギ
ーとの重畳効果によって、遮光膜を溶融・蒸発もしくは
アブレーションさせることによって、マイクロレンズの
光軸上の遮光膜に微小開口を作製する光プローブの製造
方法。 - 【請求項８】 請求項１乃至５のいずれかに記載の光プ
ローブを、記録媒体上で空気力により浮上するスライダ
に、その浮上面と前記遮光膜とがほぼ同一平面となるよ
うに搭載した、エバネッセント光結合による光記録再生
装置用の光ヘッド。 - 【請求項９】 複数の光プローブが、スライダ回転径方
向に対して相互にトラック間隔の整数倍だけずらせて同
一スライダ内に並設されている請求項８に記載の光ヘッ
ド。 - 【請求項１０】 二つの端面を有する半導体レーザの一
方の端面から出射するレーザ光を、光記録媒体上に集光
し、該光記録媒体で反射したレーザ光が半導体レーザの
出射端面に戻る光学系を有する半導体レーザの自己結合
効果を用いた光ピックアップにおいて、光記録媒体に対
向するように請求項１乃至５のいずれかに記載の光プロ
ーブを組み込んだ光ピックアップ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10212678A JP2000048393A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光プローブ |
| US09/362,652 US6262414B1 (en) | 1998-07-28 | 1999-07-27 | Optical probe |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10212678A JP2000048393A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光プローブ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000048393A true JP2000048393A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16626606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10212678A Pending JP2000048393A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 光プローブ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6262414B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000048393A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1139121A2 (en) * | 2000-03-07 | 2001-10-04 | Seiko Instruments Inc. | Process of producing near-field light generating element |
| JP2001319365A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 浮上記録ヘッド、ディスク装置、および浮上記録ヘッドの製造方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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