JP2000048321A - 垂直磁気記録用ヘッド - Google Patents
垂直磁気記録用ヘッドInfo
- Publication number
- JP2000048321A JP2000048321A JP10216058A JP21605898A JP2000048321A JP 2000048321 A JP2000048321 A JP 2000048321A JP 10216058 A JP10216058 A JP 10216058A JP 21605898 A JP21605898 A JP 21605898A JP 2000048321 A JP2000048321 A JP 2000048321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- head
- recording
- present
- medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度の記録時においても記録媒体を垂直方
向に急峻に磁化しうる垂直磁気記録用ヘッドを提供する
こと。 【解決手段】 垂直磁気記録用ヘッドは、再生用のＭＲ
ヘッド４０と記録用の磁気誘導ヘッド１０とが積層され
てなる。磁気誘導型ヘッド１０のトレーリング側の媒体
摺動面を、リーディング側の媒体摺動面よりも記録媒体
から垂直に遠くなる方向に段差をつけた構造、又はリー
ディング側の飽和磁化Ｍｓよりもトレーリング側の飽和
磁化Ｍｓを小さくしたものとした。このため、磁気誘導
型ヘッド１０のトレーリング側の、急峻性が欠ける磁場
分布を回避することができ、リーディング側からトレー
リング側に至る磁場分布の急峻な場所での記録を支配的
にすることができ、高密度の記録時においても記録媒体
を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再生特性を提供
することができる。
向に急峻に磁化しうる垂直磁気記録用ヘッドを提供する
こと。 【解決手段】 垂直磁気記録用ヘッドは、再生用のＭＲ
ヘッド４０と記録用の磁気誘導ヘッド１０とが積層され
てなる。磁気誘導型ヘッド１０のトレーリング側の媒体
摺動面を、リーディング側の媒体摺動面よりも記録媒体
から垂直に遠くなる方向に段差をつけた構造、又はリー
ディング側の飽和磁化Ｍｓよりもトレーリング側の飽和
磁化Ｍｓを小さくしたものとした。このため、磁気誘導
型ヘッド１０のトレーリング側の、急峻性が欠ける磁場
分布を回避することができ、リーディング側からトレー
リング側に至る磁場分布の急峻な場所での記録を支配的
にすることができ、高密度の記録時においても記録媒体
を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再生特性を提供
することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、垂直磁化方式を採
用した磁気記録再生装置に用いられる垂直記録用磁気ヘ
ッドに関する。
用した磁気記録再生装置に用いられる垂直記録用磁気ヘ
ッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パ−ソナルコンピュ−タやワ−ク
ステ−ションの進歩に伴うハ−ドディスクドライブの大
容量化及び小型化により、磁気ディスクはさらなる高面
密度化が必要とされている。しかし、現在広く普及して
いる長手記録方式では、高記録密度を実現しようとする
と、記録ビットの微細化に伴う記録磁化の熱揺らぎの問
題や、記録ヘッドの記録能力を超えかねない高保磁力化
の問題が発生する。そこで、これらの問題を解決しつ
つ、面記録密度を大幅に向上できる手段として、垂直磁
気記録方式が検討されている。
ステ−ションの進歩に伴うハ−ドディスクドライブの大
容量化及び小型化により、磁気ディスクはさらなる高面
密度化が必要とされている。しかし、現在広く普及して
いる長手記録方式では、高記録密度を実現しようとする
と、記録ビットの微細化に伴う記録磁化の熱揺らぎの問
題や、記録ヘッドの記録能力を超えかねない高保磁力化
の問題が発生する。そこで、これらの問題を解決しつ
つ、面記録密度を大幅に向上できる手段として、垂直磁
気記録方式が検討されている。
【０００３】従来、垂直磁気記録媒体を用いた垂直磁化
方式の磁気記録再生装置においては、再生部にＭＲヘッ
ド、記録部に磁気誘導型ヘッドが用いられている。この
従来の垂直磁気記録用ヘッドは、例えば、「日本応用磁
気学会誌Ｖｏｌ．１９ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ Ｎｏ．
Ｓ２ ＰＰ１２２−１２５」に掲載されており、長手記
録方式で用いられているものと同じ構造である。
方式の磁気記録再生装置においては、再生部にＭＲヘッ
ド、記録部に磁気誘導型ヘッドが用いられている。この
従来の垂直磁気記録用ヘッドは、例えば、「日本応用磁
気学会誌Ｖｏｌ．１９ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ Ｎｏ．
Ｓ２ ＰＰ１２２−１２５」に掲載されており、長手記
録方式で用いられているものと同じ構造である。
【０００４】図９８及び図９９は従来の垂直磁気記録用
ヘッドを示し、図９８が媒体摺動面から見た底面図、図
９９が縦断面図である。以下、これらの図面に基づき説
明する。従来の垂直磁気記録用ヘッドは、再生用のＭＲ
ヘッド５０と記録用の磁気誘導型ヘッド５２とが積層さ
れてなるものである。ＭＲヘッド５０は下シールド５
４、再生ギャップ５６、ＭＲ素子５８、共通ポール６０
等によって構成されている。磁気誘導型ヘッド５２は、
共通ポール６０、記録ギャップ６２、励磁コイル６４、
上ポール６６等によって構成されている。記録媒体は図
９９において、垂直磁気記録用ヘッドの下端に沿い、右
から左へと移動していく。この垂直磁気記録用ヘッドを
用いて長手媒体に記録を行った場合は、磁気誘導型ヘッ
ド５２の磁場分布のｘ成分（長手方向成分）が媒体記録
磁化を決定する（図１００）。これに対し、この垂直磁
気記録用ヘッドの磁場分布のｙ成分を図１０１に示す。
この垂直磁気記録用ヘッドを垂直磁気記録媒体に用いる
と、媒体記録磁化を決定するのは上ポール６６付近の磁
場分布であり、図１０１の第４象限の極小値より右側の
磁場分布で決定される。
ヘッドを示し、図９８が媒体摺動面から見た底面図、図
９９が縦断面図である。以下、これらの図面に基づき説
明する。従来の垂直磁気記録用ヘッドは、再生用のＭＲ
ヘッド５０と記録用の磁気誘導型ヘッド５２とが積層さ
れてなるものである。ＭＲヘッド５０は下シールド５
４、再生ギャップ５６、ＭＲ素子５８、共通ポール６０
等によって構成されている。磁気誘導型ヘッド５２は、
共通ポール６０、記録ギャップ６２、励磁コイル６４、
上ポール６６等によって構成されている。記録媒体は図
９９において、垂直磁気記録用ヘッドの下端に沿い、右
から左へと移動していく。この垂直磁気記録用ヘッドを
用いて長手媒体に記録を行った場合は、磁気誘導型ヘッ
ド５２の磁場分布のｘ成分（長手方向成分）が媒体記録
磁化を決定する（図１００）。これに対し、この垂直磁
気記録用ヘッドの磁場分布のｙ成分を図１０１に示す。
この垂直磁気記録用ヘッドを垂直磁気記録媒体に用いる
と、媒体記録磁化を決定するのは上ポール６６付近の磁
場分布であり、図１０１の第４象限の極小値より右側の
磁場分布で決定される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図１０１のよ
うな磁場分布の垂直磁気記録用ヘッドで垂直磁気記録媒
体に記録を行った場合、図１０１の第４象限の極小値よ
り右側の磁場分布に急峻性が欠け、なだらかに０に収束
していくため、特に高密度の記録時において記録媒体を
垂直方向に急峻に磁化し難く、記録の分解能が低下する
という問題点があった。本発明は前記事情に鑑み案出さ
れたものであって、本発明の目的は、垂直磁化方式の磁
気記録再生装置の特性向上を実現するため、高密度の記
録時においても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化しうる
垂直磁気記録用ヘッドを提供することにある。
うな磁場分布の垂直磁気記録用ヘッドで垂直磁気記録媒
体に記録を行った場合、図１０１の第４象限の極小値よ
り右側の磁場分布に急峻性が欠け、なだらかに０に収束
していくため、特に高密度の記録時において記録媒体を
垂直方向に急峻に磁化し難く、記録の分解能が低下する
という問題点があった。本発明は前記事情に鑑み案出さ
れたものであって、本発明の目的は、垂直磁化方式の磁
気記録再生装置の特性向上を実現するため、高密度の記
録時においても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化しうる
垂直磁気記録用ヘッドを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、再生用のＭＲ
ヘッドと記録用の磁気誘導型ヘッドとが積層されてなる
垂直磁気記録用ヘッドにおいて、磁気誘導型ヘッドのリ
ーディング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分よりも
トレーリング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分の方
が小さいことを特徴とする。
ヘッドと記録用の磁気誘導型ヘッドとが積層されてなる
垂直磁気記録用ヘッドにおいて、磁気誘導型ヘッドのリ
ーディング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分よりも
トレーリング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分の方
が小さいことを特徴とする。
【０００７】本発明の垂直磁気記録用ヘッドは、再生用
のＭＲヘッドと記録用の磁気誘導ヘッドとが積層されて
なるものである。そして、磁気誘導型ヘッドのリーディ
ング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分よりもトレー
リング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分の方が小さ
い構造となっている。このため、図１０１を例に取ると
磁気誘導型ヘッドの磁場分布の第４象限の極小値より右
側の、急峻性が欠ける磁場分布を回避することができ、
第２象限から原点を通り、第４象限に至る磁場分布の急
峻な場所での記録が支配的となる。このため、高密度の
記録時においても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、
良好な記録再生特性を提供する垂直磁気記録用ヘッドと
することができる。また、リーディング側の飽和磁化Ｍ
ｓよりもトレーリング側の飽和磁化Ｍｓを小さくするこ
とによっても、図１０１の磁気誘導型ヘッドの磁場分布
の第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠ける磁場分
布を回避することができ、第２象限から原点を通り、第
４象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録を支配的に
させることができる。このため、高密度の記録時におい
ても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再
生特性を提供する垂直磁気記録用ヘッドとすることがで
きる。
のＭＲヘッドと記録用の磁気誘導ヘッドとが積層されて
なるものである。そして、磁気誘導型ヘッドのリーディ
ング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分よりもトレー
リング側の媒体摺動面に垂直方向の磁場成分の方が小さ
い構造となっている。このため、図１０１を例に取ると
磁気誘導型ヘッドの磁場分布の第４象限の極小値より右
側の、急峻性が欠ける磁場分布を回避することができ、
第２象限から原点を通り、第４象限に至る磁場分布の急
峻な場所での記録が支配的となる。このため、高密度の
記録時においても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、
良好な記録再生特性を提供する垂直磁気記録用ヘッドと
することができる。また、リーディング側の飽和磁化Ｍ
ｓよりもトレーリング側の飽和磁化Ｍｓを小さくするこ
とによっても、図１０１の磁気誘導型ヘッドの磁場分布
の第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠ける磁場分
布を回避することができ、第２象限から原点を通り、第
４象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録を支配的に
させることができる。このため、高密度の記録時におい
ても記録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再
生特性を提供する垂直磁気記録用ヘッドとすることがで
きる。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の垂直磁気記録用ヘ
ッドについて図面を参照して説明する。図１は、本発明
に関わる垂直磁気記録用ヘッドの一実施の形態を示す、
縦断面図である、本実施の形態に関わる垂直磁気記録用
ヘッドは、再生用のＭＲヘッド４０と記録用の磁気誘導
型ヘッド１０とが積層されてなるものである。ＭＲヘッ
ド４０は、下シールド４４、再生ギャップ４６、ＭＲ素
子４８、共通ポール４９等によって構成されている。磁
気誘導型ヘッド１０は、共通ポール４９、記録ギャップ
３２、励磁コイル３４、上ポール３６等によって構成さ
れている。上ポール３６の媒体摺動面は、共通ポール４
９の媒体摺動面よりも記録媒体から垂直に遠くなる方向
に段差をつけた構造となっている。
ッドについて図面を参照して説明する。図１は、本発明
に関わる垂直磁気記録用ヘッドの一実施の形態を示す、
縦断面図である、本実施の形態に関わる垂直磁気記録用
ヘッドは、再生用のＭＲヘッド４０と記録用の磁気誘導
型ヘッド１０とが積層されてなるものである。ＭＲヘッ
ド４０は、下シールド４４、再生ギャップ４６、ＭＲ素
子４８、共通ポール４９等によって構成されている。磁
気誘導型ヘッド１０は、共通ポール４９、記録ギャップ
３２、励磁コイル３４、上ポール３６等によって構成さ
れている。上ポール３６の媒体摺動面は、共通ポール４
９の媒体摺動面よりも記録媒体から垂直に遠くなる方向
に段差をつけた構造となっている。
【０００９】図１はまた、本発明の垂直磁気記録用ヘッ
ドで垂直磁気記録媒体に記録を行うときの記録プロセス
の様子を示している。記録磁界はトレーリング側の上ポ
ール３６から発生し、媒体の垂直記録層を通り、リーデ
ィング側の共通ポール４９へ流れていく。垂直磁気記録
用ヘッドは図１において左から右へと走行する。このた
め、垂直媒体に記録される記録磁化は、上ポール３６か
ら共通ポール４９へ流れるヘッド磁界のｙ成分の分布で
決まることになる。
ドで垂直磁気記録媒体に記録を行うときの記録プロセス
の様子を示している。記録磁界はトレーリング側の上ポ
ール３６から発生し、媒体の垂直記録層を通り、リーデ
ィング側の共通ポール４９へ流れていく。垂直磁気記録
用ヘッドは図１において左から右へと走行する。このた
め、垂直媒体に記録される記録磁化は、上ポール３６か
ら共通ポール４９へ流れるヘッド磁界のｙ成分の分布で
決まることになる。
【００１０】図１に示した本実施の形態の垂直磁気記録
用ヘッドでは、磁気誘導型ヘッド１０の磁場分布のｙ成
分は、トレーリング側の上ポール３６の媒体摺動面がリ
ーディング側の共通ポール４９の媒体摺動面よりも記録
媒体から垂直に遠くなる方向に段差をつけた構造となっ
ているため、図１０１を例に取ると磁気誘導型ヘッドの
磁場分布の第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠け
る磁場分布を回避することができ、第２象限から原点を
通り、第４象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録が
支配的となる。このため、高密度の記録時においても記
録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再生特性
を提供する垂直磁気記録用ヘッドとすることができる。
用ヘッドでは、磁気誘導型ヘッド１０の磁場分布のｙ成
分は、トレーリング側の上ポール３６の媒体摺動面がリ
ーディング側の共通ポール４９の媒体摺動面よりも記録
媒体から垂直に遠くなる方向に段差をつけた構造となっ
ているため、図１０１を例に取ると磁気誘導型ヘッドの
磁場分布の第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠け
る磁場分布を回避することができ、第２象限から原点を
通り、第４象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録が
支配的となる。このため、高密度の記録時においても記
録媒体を垂直方向に急峻に磁化し、良好な記録再生特性
を提供する垂直磁気記録用ヘッドとすることができる。
【００１１】次に、本発明の垂直磁気記録用ヘッドにつ
いて実施例（実施例１乃至実施例２４）に基づきさらに
詳細に説明する。
いて実施例（実施例１乃至実施例２４）に基づきさらに
詳細に説明する。
【００１２】［実施例１］実施例１について図１を参照
して詳細に説明する。非磁性基板上に、下シールドから
上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポー
ル、上ポールの材料はＮｉＦｅとした。その際、上ポー
ル幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャップ
長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、再生
トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２μｍ
とした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面をラッ
ピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）加工
により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる方向
に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとすると、
（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝１））
ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッドＡ２、
Ｂ２、Ｃ２とする。これに対し、上ポールの媒体摺動面
を加工しないヘッドを従来ヘッドＡ１とする。
して詳細に説明する。非磁性基板上に、下シールドから
上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポー
ル、上ポールの材料はＮｉＦｅとした。その際、上ポー
ル幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャップ
長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、再生
トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２μｍ
とした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面をラッ
ピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）加工
により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる方向
に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとすると、
（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝１））
ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッドＡ２、
Ｂ２、Ｃ２とする。これに対し、上ポールの媒体摺動面
を加工しないヘッドを従来ヘッドＡ１とする。
【００１３】本発明ヘッドＡ２〜Ｃ２及び従来ヘッドＡ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここで用いた垂直記録媒体はスパッタ法によって基
板温度４００℃でガラス基板上に成膜した。垂直磁化膜
はＣｏＣｒＴａ、垂直磁化膜膜厚は１００ｎｍとした。
作製した垂直磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋをトルク磁
力計によって調べたところ、６．０ｋＯｅであった。記
録再生評価は記録電流３０ｍＡｏｐ、センス電流１２ｍ
Ａ、周速度１２．７ｍ／ｓの条件下で行った。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここで用いた垂直記録媒体はスパッタ法によって基
板温度４００℃でガラス基板上に成膜した。垂直磁化膜
はＣｏＣｒＴａ、垂直磁化膜膜厚は１００ｎｍとした。
作製した垂直磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋをトルク磁
力計によって調べたところ、６．０ｋＯｅであった。記
録再生評価は記録電流３０ｍＡｏｐ、センス電流１２ｍ
Ａ、周速度１２．７ｍ／ｓの条件下で行った。
【００１４】本発明ヘッドＡ２〜Ｃ２及び従来ヘッドＡ
１から発生する磁場のｙ成分の分布を図２に示す。図２
から分かるように、従来ヘッドＡ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
２〜Ｃ２の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ２〜Ｃ２の順に上ポールの媒体摺動面からの
距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場
分布の絶対値は小さく、平坦になる。
１から発生する磁場のｙ成分の分布を図２に示す。図２
から分かるように、従来ヘッドＡ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
２〜Ｃ２の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ２〜Ｃ２の順に上ポールの媒体摺動面からの
距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場
分布の絶対値は小さく、平坦になる。
【００１５】従来ヘッドＡ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３に示す。従
来ヘッドＡ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配より
も、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が急
峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は約
１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅと
なる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３に示す。従
来ヘッドＡ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配より
も、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が急
峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は約
１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅと
なる。
【００１６】本発明ヘッドＡ２〜Ｃ２及び従来ヘッドＡ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図４に示す。図４から分かるように、本発明ヘッ
ドＢ２、Ｃ２を用いると、従来ヘッドＡ１よりも、特に
高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しかし、本
発明ヘッドＡ２を用いた場合、それほど改善は見られな
い。これは、図４から分かるように、本発明ヘッドＢ
２、Ｃ２の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさが媒体
の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に磁化回
転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループを無
視できるほどに小さくすることができるために、記録に
ほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍の磁
場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻な、
共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯｅ〜１２ｋ
Ｏｅ）での記録が支配的となるためである。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図４に示す。図４から分かるように、本発明ヘッ
ドＢ２、Ｃ２を用いると、従来ヘッドＡ１よりも、特に
高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しかし、本
発明ヘッドＡ２を用いた場合、それほど改善は見られな
い。これは、図４から分かるように、本発明ヘッドＢ
２、Ｃ２の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさが媒体
の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に磁化回
転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループを無
視できるほどに小さくすることができるために、記録に
ほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍の磁
場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻な、
共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯｅ〜１２ｋ
Ｏｅ）での記録が支配的となるためである。
【００１７】これに比べると、本発明ヘッドＡ２は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．４ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．４ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００１８】次に、本発明ヘッドＡ２〜Ｃ２及び従来ヘ
ッドＡ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図５に示す。図５から分か
るように、本発明ヘッドＢ２、Ｃ２を用いると、従来ヘ
ッドＡ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＢ２、Ｃ２では、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な
共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的と
なるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒
体ノイズも減少する。
ッドＡ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図５に示す。図５から分か
るように、本発明ヘッドＢ２、Ｃ２を用いると、従来ヘ
ッドＡ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＢ２、Ｃ２では、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な
共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的と
なるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒
体ノイズも減少する。
【００１９】これに比べると、本発明ヘッドＡ２は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００２０】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
【００２１】［実施例２］実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギ
ャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）
ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそ
れぞれ本発明ヘッドＡ３、Ｂ３、Ｃ３とする。これに対
し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘ
ッドＢ１とする。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギ
ャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）
ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそ
れぞれ本発明ヘッドＡ３、Ｂ３、Ｃ３とする。これに対
し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘ
ッドＢ１とする。
【００２２】本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘッドＢ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘッドＢ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図６に示す。図６から分かるよう
に、従来ヘッドＢ１の磁場分布は原点に関して対象な磁
場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３の磁場
分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ３〜
Ｃ３の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠くなる
ほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は
小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘッドＢ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図６に示す。図６から分かるよう
に、従来ヘッドＢ１の磁場分布は原点に関して対象な磁
場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３の磁場
分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ３〜
Ｃ３の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠くなる
ほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は
小さく、平坦になる。
【００２３】従来ヘッドＢ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図７に示す。従
来ヘッドＢ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配より
も、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が急
峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は約
１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅと
なる。本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘッドＢ１を用
いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果を
図８に示す。図８から分かるように、本発明ヘッドＢ
３、Ｃ３を用いると、従来ヘッドＢ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。しかし、本発明
ヘッドＡ３を用いた場合、それほど改善は見られない。
これは、図８から分かるように、本発明ヘッドＢ３、Ｃ
３の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方
性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に磁化回転を生
じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループを無視でき
るほどに小さくすることができるために、記録にほとん
ど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍の磁場分布
（２５０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポ
ールから上ポールに至る磁場（１１ｋＯｅ〜１５ｋＯ
ｅ）での記録が支配的となるためである。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図７に示す。従
来ヘッドＢ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配より
も、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が急
峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は約
１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅと
なる。本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘッドＢ１を用
いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果を
図８に示す。図８から分かるように、本発明ヘッドＢ
３、Ｃ３を用いると、従来ヘッドＢ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。しかし、本発明
ヘッドＡ３を用いた場合、それほど改善は見られない。
これは、図８から分かるように、本発明ヘッドＢ３、Ｃ
３の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方
性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に磁化回転を生
じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループを無視でき
るほどに小さくすることができるために、記録にほとん
ど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍の磁場分布
（２５０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポ
ールから上ポールに至る磁場（１１ｋＯｅ〜１５ｋＯ
ｅ）での記録が支配的となるためである。
【００２４】これに比べると、本発明ヘッドＡ３は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００２５】次に、本発明ヘッドＡ３〜Ｃ３及び従来ヘ
ッドＢ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図９に示す。図９から分か
るように、本発明ヘッドＢ３、Ｃ３を用いると、従来ヘ
ッドＢ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＢ３、Ｃ３では、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な
共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的と
なるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒
体ノイズも減少する。
ッドＢ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図９に示す。図９から分か
るように、本発明ヘッドＢ３、Ｃ３を用いると、従来ヘ
ッドＢ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＢ３、Ｃ３では、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な
共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的と
なるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒
体ノイズも減少する。
【００２６】これに比べると、本発明ヘッドＡ３は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００２７】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
【００２８】〔実施例３〕実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。
【００２９】上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面を
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとする
と、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝
１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッド
Ａ４、Ｂ４、Ｃ４とする。これに対し、上ポールの媒体
摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＣ１とする。
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとする
と、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝
１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッド
Ａ４、Ｂ４、Ｃ４とする。これに対し、上ポールの媒体
摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＣ１とする。
【００３０】本発明ヘッドＡ４〜Ｃ４及び従来ヘッドＣ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ４〜Ｃ４及び従来ヘッドＣ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１０に示す。図１０から分かる
ように、従来ヘッドＣ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ４〜Ｃ４の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
４〜Ｃ４の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ４〜Ｃ４及び従来ヘッドＣ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１０に示す。図１０から分かる
ように、従来ヘッドＣ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ４〜Ｃ４の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
４〜Ｃ４の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００３１】従来ヘッドＣ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１１に示す。
従来ヘッドＣ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は
約１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅ
となる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１１に示す。
従来ヘッドＣ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＮｉＦｅの飽和磁化は
約１０ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１０ｋＯｅ
となる。
【００３２】本発明ヘッドＡ４〜Ｃ４及び従来ヘッドＣ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図１２に示す。図１２から分かるように、本発明
ヘッドＢ４、Ｃ４を用いると、従来ヘッドＣ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ４を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図１２から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ４、Ｃ４の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（２４０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１４ｋＯｅ
〜１８．５ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図１２に示す。図１２から分かるように、本発明
ヘッドＢ４、Ｃ４を用いると、従来ヘッドＣ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ４を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図１２から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ４、Ｃ４の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（２４０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１４ｋＯｅ
〜１８．５ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
【００３３】これに比べると、本発明ヘッドＡ４は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が６．６ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が６．６ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００３４】次に、本発明ヘッドＡ４〜Ｃ４及び従来ヘ
ッドＣ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図１３に示す。図１３から
分かるように、本発明ヘッドＢ４、Ｃ４を用いると、従
来ヘッドＣ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ４、Ｃ４では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＣ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図１３に示す。図１３から
分かるように、本発明ヘッドＢ４、Ｃ４を用いると、従
来ヘッドＣ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ４、Ｃ４では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００３５】これに比べると、本発明ヘッドＡ４は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００３６】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
【００３７】〔実施例４〕非磁性基板上に、下シールド
から上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポ
ール、上ポールの材料はＦｅＳｉＡｌとした。その際、
上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギ
ャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μ
ｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は
０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺
動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビ
ーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠
くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬ
とすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５
（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘ
ッドＡ２、Ｂ２、Ｃ２とする。これに対し、上ポールの
媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＤ１とす
る。
から上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポ
ール、上ポールの材料はＦｅＳｉＡｌとした。その際、
上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギ
ャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μ
ｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は
０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺
動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビ
ーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠
くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬ
とすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５
（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘ
ッドＡ２、Ｂ２、Ｃ２とする。これに対し、上ポールの
媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＤ１とす
る。
【００３８】本発明ヘッドＡ５〜Ｃ５及び従来ヘッドＤ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ５〜Ｃ５及び従来ヘッドＤ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１４に示す。図１４から分かる
ように、従来ヘッドＤ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ５〜Ｃ５の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
５〜Ｃ５の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ５〜Ｃ５及び従来ヘッドＤ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１４に示す。図１４から分かる
ように、従来ヘッドＤ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ５〜Ｃ５の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
５〜Ｃ５の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００３９】従来ヘッドＤ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１５に示す。
従来ヘッドＤ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１５に示す。
従来ヘッドＤ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
【００４０】本発明ヘッドＡ５〜Ｃ５及び従来ヘッドＤ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図１６に示す。図１６から分かるように、本発明
ヘッドＢ５、Ｃ５を用いると、従来ヘッドＤ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ５を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図１６から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ５、Ｃ５の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯｅ〜
１２．８ｋＯｅ）での記録が支配的となるためである。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図１６に示す。図１６から分かるように、本発明
ヘッドＢ５、Ｃ５を用いると、従来ヘッドＤ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ５を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図１６から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ５、Ｃ５の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯｅ〜
１２．８ｋＯｅ）での記録が支配的となるためである。
【００４１】これに比べると、本発明ヘッドＡ５は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が７．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００４２】次に、本発明ヘッドＡ５〜Ｃ５及び従来ヘ
ッドＤ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図１７に示す。図１７から
分かるように、本発明ヘッドＢ５、Ｃ５を用いると、従
来ヘッドＤ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ５、Ｃ５では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＤ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図１７に示す。図１７から
分かるように、本発明ヘッドＢ５、Ｃ５を用いると、従
来ヘッドＤ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ５、Ｃ５では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００４３】これに比べると、本発明ヘッドＡ５は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００４４】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
【００４５】〔実施例５〕実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はと
もに１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。
記録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μ
ｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜
後、上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工や
ＦＩＢ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面
よりも記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その
際、ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３
／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッ
ドをそれぞれ本発明ヘッドＡ６、Ｂ６、Ｃ６とする。こ
れに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを
従来ヘッドＥ１とする。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はと
もに１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。
記録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μ
ｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜
後、上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工や
ＦＩＢ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面
よりも記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その
際、ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３
／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッ
ドをそれぞれ本発明ヘッドＡ６、Ｂ６、Ｃ６とする。こ
れに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを
従来ヘッドＥ１とする。
【００４６】本発明ヘッドＡ６〜Ｃ６及び従来ヘッドＥ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ６〜Ｃ６及び従来ヘッドＥ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１８に示す。図１８から分かる
ように、従来ヘッドＥ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ６〜Ｃ６の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
６〜Ｃ６の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ６〜Ｃ６及び従来ヘッドＥ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図１８に示す。図１８から分かる
ように、従来ヘッドＥ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ６〜Ｃ６の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
６〜Ｃ６の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００４７】従来ヘッドＥ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１９に示す。
従来ヘッドＥ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図１９に示す。
従来ヘッドＥ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
【００４８】本発明ヘッドＡ６〜Ｃ６及び従来ヘッドＥ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２０に示す。図２０から分かるように、本発明
ヘッドＢ６、Ｃ６を用いると、従来ヘッドＥ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ６を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図２０から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ６、Ｃ６の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１１．５ｋ
Ｏｅ〜１７．２ｋＯｅ）での記録が支配的となるためで
ある。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２０に示す。図２０から分かるように、本発明
ヘッドＢ６、Ｃ６を用いると、従来ヘッドＥ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ６を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図２０から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ６、Ｃ６の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１１．５ｋ
Ｏｅ〜１７．２ｋＯｅ）での記録が支配的となるためで
ある。
【００４９】これに比べると、本発明ヘッドＡ６は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．１ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．１ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００５０】次に、本発明ヘッドＡ６〜Ｃ６及び従来ヘ
ッドＥ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２１に示す。図２１から
分かるように、本発明ヘッドＢ６、Ｃ６を用いると、従
来ヘッドＥ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ６、Ｃ６では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＥ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２１に示す。図２１から
分かるように、本発明ヘッドＢ６、Ｃ６を用いると、従
来ヘッドＥ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ６、Ｃ６では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００５１】これに比べると、本発明ヘッドＡ６は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００５２】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
【００５３】〔実施例６〕実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はと
もに２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。
記録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μ
ｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜
後、上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工や
ＦＩＢ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面
よりも記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その
際、ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３
／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッ
ドをそれぞれ本発明ヘッドＡ７、Ｂ７、Ｃ７とする。こ
れに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを
従来ヘッドＦ１とする。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はと
もに２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。
記録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μ
ｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜
後、上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工や
ＦＩＢ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面
よりも記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その
際、ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３
／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッ
ドをそれぞれ本発明ヘッドＡ７、Ｂ７、Ｃ７とする。こ
れに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを
従来ヘッドＦ１とする。
【００５４】本発明ヘッドＡ７〜Ｃ７及び従来ヘッドＦ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ７〜Ｃ７及び従来ヘッドＦ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図２２に示す。図２２から分かる
ように、従来ヘッドＦ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ７〜Ｃ７の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
７〜Ｃ７の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ７〜Ｃ７及び従来ヘッドＦ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図２２に示す。図２２から分かる
ように、従来ヘッドＦ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ７〜Ｃ７の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
７〜Ｃ７の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００５５】従来ヘッドＦ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図２３に示す。
従来ヘッドＦ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図２３に示す。
従来ヘッドＦ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＳｉＡｌの飽和磁
化は約１１．５ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１
１．５ｋＯｅとなる。
【００５６】本発明ヘッドＡ７〜Ｃ７及び従来ヘッドＦ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２４に示す。図２４から分かるように、本発明
ヘッドＢ７、Ｃ７を用いると、従来ヘッドＦ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ７を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図２４から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ７、Ｃ７の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５００Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１５．８ｋ
Ｏｅ〜２１ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２４に示す。図２４から分かるように、本発明
ヘッドＢ７、Ｃ７を用いると、従来ヘッドＦ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ７を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図２４から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ７、Ｃ７の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５００Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１５．８ｋ
Ｏｅ〜２１ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
【００５７】これに比べると、本発明ヘッドＡ７は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が６．９ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が６．９ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００５８】次に、本発明ヘッドＡ７〜Ｃ７及び従来ヘ
ッドＦ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２５に示す。図２５から
分かるように、本発明ヘッドＢ７、Ｃ７を用いると、従
来ヘッドＦ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ７、Ｃ７では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＦ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２５に示す。図２５から
分かるように、本発明ヘッドＢ７、Ｃ７を用いると、従
来ヘッドＦ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ７、Ｃ７では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００５９】これに比べると、本発明ヘッドＡ７は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００６０】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
【００６１】〔実施例７〕非磁性基板上に、下シールド
から上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポ
ール、上ポールの材料はＦｅＴａＮとした。その際、上
ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャ
ップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、
再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２
μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面を
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとする
と、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝
１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッド
Ａ８、Ｂ８、Ｃ８とする。これに対し、上ポールの媒体
摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＧ１とする。
から上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通ポ
ール、上ポールの材料はＦｅＴａＮとした。その際、上
ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャ
ップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、
再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２
μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面を
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとする
と、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝
１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッド
Ａ８、Ｂ８、Ｃ８とする。これに対し、上ポールの媒体
摺動面を加工しないヘッドを従来ヘッドＧ１とする。
【００６２】本発明ヘッドＡ８〜Ｃ８及び従来ヘッドＧ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ８〜Ｃ８及び従来ヘッドＧ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図２６に示す。図２６から分かる
ように、従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ８〜Ｃ８の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
８〜Ｃ８の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ８〜Ｃ８及び従来ヘッドＧ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図２６に示す。図２６から分かる
ように、従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ８〜Ｃ８の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
８〜Ｃ８の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００６３】従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図２７に示す。
従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図２７に示す。
従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
【００６４】本発明ヘッドＡ８〜Ｃ８及び従来ヘッドＧ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２８に示す。図２８から分かるように、本発明
ヘッドＢ８、Ｃ８を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ８を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図９−３から分かるように、本発明
ヘッドＢ８、Ｃ８の上ポール付近の磁場のｙ成分の大き
さが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化
に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることができるため
に、記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッ
ジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布
の急峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯ
ｅ〜１２．６ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図２８に示す。図２８から分かるように、本発明
ヘッドＢ８、Ｃ８を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ８を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図９−３から分かるように、本発明
ヘッドＢ８、Ｃ８の上ポール付近の磁場のｙ成分の大き
さが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化
に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることができるため
に、記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッ
ジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布
の急峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（８ｋＯ
ｅ〜１２．６ｋＯｅ）での記録が支配的となるためであ
る。
【００６５】これに比べると、本発明ヘッドＡ８は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．７ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．７ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００６６】次に、本発明ヘッドＡ８〜Ｃ８及び従来ヘ
ッドＧ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２９に示す。図２９から
分かるように、本発明ヘッドＢ８、Ｃ８を用いると、従
来ヘッドＧ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ８、Ｃ８では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＧ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図２９に示す。図２９から
分かるように、本発明ヘッドＢ８、Ｃ８を用いると、従
来ヘッドＧ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ８、Ｃ８では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００６７】これに比べると、本発明ヘッドＡ８は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００６８】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
【００６９】〔実施例８〕実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＴ
ａＮとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、
ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／
５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッド
をそれぞれ本発明ヘッドＡ９、Ｂ９、Ｃ９とする。これ
に対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従
来ヘッドＨ１とする。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＴ
ａＮとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、
ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／
５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッド
をそれぞれ本発明ヘッドＡ９、Ｂ９、Ｃ９とする。これ
に対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従
来ヘッドＨ１とする。
【００７０】本発明ヘッドＡ９〜Ｃ９及び従来ヘッドＨ
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ９〜Ｃ９及び従来ヘッドＨ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図３０に示す。図３０から分かる
ように、従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ９〜Ｃ９の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
９〜Ｃ９の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用い
た。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。本
発明ヘッドＡ９〜Ｃ９及び従来ヘッドＨ１から発生する
磁場のｙ成分の分布を図３０に示す。図３０から分かる
ように、従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象
な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ９〜Ｃ９の
磁場分布は原点に関して非対称となり、本発明ヘッドＡ
９〜Ｃ９の順に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠く
なるほど、磁場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対
値は小さく、平坦になる。
【００７１】従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３１に示す。
従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３１に示す。
従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
【００７２】本発明ヘッドＡ９〜Ｃ９及び従来ヘッドＨ
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図３２に示す。図３２から分かるように、本発明
ヘッドＢ９、Ｃ９を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ９を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図３２から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ９、Ｃ９の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１１．６ｋ
Ｏｅ〜１６．９ｋＯｅ）での記録が支配的となるためで
ある。
１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた
結果を図３２に示す。図３２から分かるように、本発明
ヘッドＢ９、Ｃ９を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、
特に高記録密度時の再生出力に改善が見られる。しか
し、本発明ヘッドＡ９を用いた場合、それほど改善は見
られない。これは、図３２から分かるように、本発明ヘ
ッドＢ９、Ｃ９の上ポール付近の磁場のｙ成分の大きさ
が媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいため、媒体の磁化に
磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナールー
プを無視できるほどに小さくすることができるために、
記録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近
傍の磁場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急
峻な、共通ポールから上ポールに至る磁場（１１．６ｋ
Ｏｅ〜１６．９ｋＯｅ）での記録が支配的となるためで
ある。
【００７３】これに比べると、本発明ヘッドＡ９は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が８．８ｋＯｅと大きいため、上ポー
ルのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録
されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができ
ないために、再生出力に改善が見られない。
【００７４】次に、本発明ヘッドＡ９〜Ｃ９及び従来ヘ
ッドＨ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図３３に示す。図３３から
分かるように、本発明ヘッドＢ９、Ｃ９を用いると、従
来ヘッドＨ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ９、Ｃ９では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
ッドＨ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩに
おける媒体ノイズの測定値を図３３に示す。図３３から
分かるように、本発明ヘッドＢ９、Ｃ９を用いると、従
来ヘッドＨ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。
これは、前述したように本発明ヘッドＢ９、Ｃ９では、
トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急
峻な共通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配
的となるため、高密度でも明瞭に信号が記録されるため
に媒体ノイズも減少する。
【００７５】これに比べると、本発明ヘッドＡ９は、共
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。以上のことか
ら、トレーリングエッジ近傍の磁場勾配よりも磁場勾配
の急峻な、ギャップ間近傍の磁場勾配での記録を支配的
にするためには、トレーリング近傍の磁場の大きさを、
媒体の磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小
さくすることが必要である。また、上ポール長と共通ポ
ール長の間に、（１０／３）ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール
長）の関係があり、記録ギャップ長が本発明ヘッドと等
しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同様な結果が得ら
れる。
通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリング
エッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール付
近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリン
グエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることとな
り、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、媒
体ノイズにも大きな改善が見られない。以上のことか
ら、トレーリングエッジ近傍の磁場勾配よりも磁場勾配
の急峻な、ギャップ間近傍の磁場勾配での記録を支配的
にするためには、トレーリング近傍の磁場の大きさを、
媒体の磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小
さくすることが必要である。また、上ポール長と共通ポ
ール長の間に、（１０／３）ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール
長）の関係があり、記録ギャップ長が本発明ヘッドと等
しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同様な結果が得ら
れる。
【００７６】〔実施例９〕実施例１と同様にして非磁性
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＴ
ａＮとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、
ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／
５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッド
をそれぞれ本発明ヘッドＡ１０、Ｂ１０、Ｃ１０とす
る。これに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘ
ッドを従来ヘッドＪ１とする。
基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＦｅＴ
ａＮとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に２．０μｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。その際、
ギャップ長をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／
５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッド
をそれぞれ本発明ヘッドＡ１０、Ｂ１０、Ｃ１０とす
る。これに対し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘ
ッドを従来ヘッドＪ１とする。
【００７７】本発明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０及び従来ヘッ
ドＪ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０及び従来ヘッドＪ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図３４に示す。図３４から
分かるように、従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１０
〜Ｃ１０の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
ドＪ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０及び従来ヘッドＪ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図３４に示す。図３４から
分かるように、従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１０
〜Ｃ１０の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
【００７８】従来ヘッドＪ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３５に示す。
従来ヘッドＪ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３５に示す。
従来ヘッドＪ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約１７ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ１７ｋＯ
ｅとなる。
【００７９】本発明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０及び従来ヘッ
ドＪ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図３６に示す。図３６から分かるように、本
発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０を用いると、従来ヘッドＪ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１０を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図３６から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１６．３ｋＯｅ〜２１ｋＯｅ）での記録が支配的
となるためである。
ドＪ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図３６に示す。図３６から分かるように、本
発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０を用いると、従来ヘッドＪ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１０を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図３６から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１６．３ｋＯｅ〜２１ｋＯｅ）での記録が支配的
となるためである。
【００８０】これに比べると、本発明ヘッドＡ１０は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が７．９ｋＯｅと大きいため、上ポ
ールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記
録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録がで
きないために、再生出力に改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が７．９ｋＯｅと大きいため、上ポ
ールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記
録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録がで
きないために、再生出力に改善が見られない。
【００８１】次に、本発明ヘッドＡ１０〜Ｃ１０及び従
来ヘッドＪ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図３７に示す。図３７
から分かるように、本発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０を用い
ると、従来ヘッドＪ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１０、
Ｃ１０では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。
来ヘッドＪ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図３７に示す。図３７
から分かるように、本発明ヘッドＢ１０、Ｃ１０を用い
ると、従来ヘッドＪ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１０、
Ｃ１０では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。
【００８２】これに比べると、本発明ヘッドＡ１０は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００８３】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
【００８４】〔実施例１０〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポール、上ポールの材料はＣｏＮｉＦｅとした。ＣｏＮ
ｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。その際、上ポール幅と
共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャップ長も
０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、再生トラ
ック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとし
た。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面をラッピン
グ（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）加工によ
り、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる方向に段
差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとすると、（１
／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ
段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッドＡ１１、Ｂ
１１、Ｃ１１とする。これに対し、上ポールの媒体摺動
面を加工しないヘッドを従来ヘッドＫ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポール、上ポールの材料はＣｏＮｉＦｅとした。ＣｏＮ
ｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。その際、上ポール幅と
共通ポール幅はともに１．０μｍ、記録ギャップ長も
０．５μｍとした。記録トラック幅は１μｍ、再生トラ
ック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長は０．２μｍとし
た。上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面をラッピン
グ（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）加工によ
り、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる方向に段
差をつけた。その際、ギャップ長をＧＬとすると、（１
／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、（５／５（＝１））ＧＬ
段差をつけたヘッドをそれぞれ本発明ヘッドＡ１１、Ｂ
１１、Ｃ１１とする。これに対し、上ポールの媒体摺動
面を加工しないヘッドを従来ヘッドＫ１とする。
【００８５】本発明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１及び従来ヘッ
ドＫ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１及び従来ヘッドＫ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図３８に示す。図３８から
分かるように、従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１１
〜Ｃ１１の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
ドＫ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１及び従来ヘッドＫ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図３８に示す。図３８から
分かるように、従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１１
〜Ｃ１１の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
【００８６】従来ヘッドＫ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３９に示す。
従来ヘッドＫ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋＯ
ｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図３９に示す。
従来ヘッドＫ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＦｅＴａＮの飽和磁化
は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋＯ
ｅとなる。
【００８７】本発明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１及び従来ヘッ
ドＫ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４０に示す。図４０から分かるように、本
発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１を用いると、従来ヘッドＫ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１１を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４０から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（８ｋＯｅ〜１２．７ｋＯｅ）での記録が支配的と
なるためである。
ドＫ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４０に示す。図４０から分かるように、本
発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１を用いると、従来ヘッドＫ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１１を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４０から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（８ｋＯｅ〜１２．７ｋＯｅ）での記録が支配的と
なるためである。
【００８８】これに比べると、本発明ヘッドＡ１１は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が１０．２ｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が１０．２ｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。
【００８９】次に、本発明ヘッドＡ１１〜Ｃ１１及び従
来ヘッドＫ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図４１に示す。図４１
から分かるように、本発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１を用い
ると、従来ヘッドＫ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１１、
Ｃ１１では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。これに比べる
と、本発明ヘッドＡ１１は、共通ポールから上ポールに
至る磁場分布が、トレーリングエッジ近傍の磁場分布よ
りも急峻であるが、上ポール付近の磁場のｙ成分が大き
いため、上ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩
慢な場所で記録されることとなり、媒体の垂直方向に急
峻な記録ができないために、媒体ノイズにも大きな改善
が見られない。
来ヘッドＫ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図４１に示す。図４１
から分かるように、本発明ヘッドＢ１１、Ｃ１１を用い
ると、従来ヘッドＫ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１１、
Ｃ１１では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。これに比べる
と、本発明ヘッドＡ１１は、共通ポールから上ポールに
至る磁場分布が、トレーリングエッジ近傍の磁場分布よ
りも急峻であるが、上ポール付近の磁場のｙ成分が大き
いため、上ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩
慢な場所で記録されることとなり、媒体の垂直方向に急
峻な記録ができないために、媒体ノイズにも大きな改善
が見られない。
【００９０】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長が等しく、及び記録ギ
ャップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッド
であれば、同様な結果が得られる。
【００９１】〔実施例１１〕実施例１と同様にして非磁
性基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＣｏＮ
ｉＦｅとした。ＣｏＮｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。
その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μ
ｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記録トラック
幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャッ
プ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの
媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イ
オンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体
から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長
をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、
（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ
本発明ヘッドＡ１２、Ｂ１２、Ｃ１２とする。
性基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＣｏＮ
ｉＦｅとした。ＣｏＮｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。
その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μ
ｍ、記録ギャップ長は０．３μｍとした。記録トラック
幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャッ
プ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの
媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イ
オンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体
から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長
をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、
（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ
本発明ヘッドＡ１２、Ｂ１２、Ｃ１２とする。
【００９２】これに対し、上ポールの媒体摺動面を加工
しないヘッドを従来ヘッドＨ１とする。本発明ヘッドＡ
１２〜Ｃ１２及び従来ヘッドＬ１を用いて、垂直磁気記
録媒体の記録再生特性を調べた。ここでは、実施例１で
用いた媒体と同じ媒体を用いた。記録再生条件も実施例
１と同じ条件下で行った。本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２
及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ成分の分布を
図４２に示す。図４２から分かるように、従来ヘッドＬ
１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分布を示してい
るが、本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２の磁場分布は原点に
関して非対称となり、本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２の順
に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠くなるほど、磁
場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、
平坦になる。
しないヘッドを従来ヘッドＨ１とする。本発明ヘッドＡ
１２〜Ｃ１２及び従来ヘッドＬ１を用いて、垂直磁気記
録媒体の記録再生特性を調べた。ここでは、実施例１で
用いた媒体と同じ媒体を用いた。記録再生条件も実施例
１と同じ条件下で行った。本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２
及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ成分の分布を
図４２に示す。図４２から分かるように、従来ヘッドＬ
１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分布を示してい
るが、本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２の磁場分布は原点に
関して非対称となり、本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２の順
に上ポールの媒体摺動面からの距離が遠くなるほど、磁
場分布の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、
平坦になる。
【００９３】従来ヘッドＬ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図４３に示す。
従来ヘッドＬ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁
化は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋ
Ｏｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図４３に示す。
従来ヘッドＬ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁
化は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋ
Ｏｅとなる。
【００９４】本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２及び従来ヘッ
ドＬ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４４に示す。図４４から分かるように、本
発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２を用いると、従来ヘッドＬ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１２を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４４から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１１．５ｋＯｅ〜１７．２ｋＯｅ）での記録が支
配的となるためである。
ドＬ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４４に示す。図４４から分かるように、本
発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２を用いると、従来ヘッドＬ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１２を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４４から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１１．５ｋＯｅ〜１７．２ｋＯｅ）での記録が支
配的となるためである。
【００９５】これに比べると、本発明ヘッドＡ１２は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が１１．２ｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が１１．２ｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。
【００９６】次に、本発明ヘッドＡ１２〜Ｃ１２及び従
来ヘッドＬ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図４５に示す。図４５
から分かるように、本発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２を用い
ると、従来ヘッドＬ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１２、
Ｃ１２では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。
来ヘッドＬ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰ
Ｉにおける媒体ノイズの測定値を図４５に示す。図４５
から分かるように、本発明ヘッドＢ１２、Ｃ１２を用い
ると、従来ヘッドＬ１を用いた場合よりも媒体ノイズが
小さい。これは、前述したように本発明ヘッドＢ１２、
Ｃ１２では、トレーリングエッジ近傍の磁場ではなく、
磁場分布の急峻な共通ポールから上ポールに至る磁場で
の記録が支配的となるため、高密度でも明瞭に信号が記
録されるために媒体ノイズも減少する。
【００９７】これに比べると、本発明ヘッドＡ１２は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
【００９８】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、（１０／３）
ＧＬ＝ＰＬ（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
【００９９】〔実施例１２〕実施例１と同様にして非磁
性基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＣｏＮ
ｉＦｅとした。ＣｏＮｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。
その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０μ
ｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記録トラック
幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャッ
プ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの
媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イ
オンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体
から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長
をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、
（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ
本発明ヘッドＡ１３、Ｂ１３、Ｃ１３とする。これに対
し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘ
ッドＭ１とする。
性基板上に、下シールドから上ポールまでを順に形成す
る。下シールド、共通ポール、上ポールの材料はＣｏＮ
ｉＦｅとした。ＣｏＮｉＦｅ膜はメッキ法で成膜した。
その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０μ
ｍ、記録ギャップ長は０．５μｍとした。記録トラック
幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャッ
プ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの
媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イ
オンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体
から遠くなる方向に段差をつけた。その際、ギャップ長
をＧＬとすると、（１／５）ＧＬ、（３／５）ＧＬ、
（５／５（＝１））ＧＬ段差をつけたヘッドをそれぞれ
本発明ヘッドＡ１３、Ｂ１３、Ｃ１３とする。これに対
し、上ポールの媒体摺動面を加工しないヘッドを従来ヘ
ッドＭ１とする。
【０１００】本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッ
ドＭ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッドＭ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図４６に示す。図４６から
分かるように、従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１３
〜Ｃ１３の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
ドＭ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調
べた。ここでは、実施例１で用いた媒体と同じ媒体を用
いた。記録再生条件も実施例１と同じ条件下で行った。
本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッドＭ１から発
生する磁場のｙ成分の分布を図４６に示す。図４６から
分かるように、従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関し
て対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ１３
〜Ｃ１３の磁場分布は原点に関して非対称となり、本発
明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３の順に上ポールの媒体摺動面か
らの距離が遠くなるほど、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。
【０１０１】従来ヘッドＭ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図４７に示す。
従来ヘッドＭ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁
化は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋ
Ｏｅとなる。
の磁場勾配、全ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配、ト
レーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図４７に示す。
従来ヘッドＭ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配よ
りも、全てのヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の方が
急峻であることが分かる。なお、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁
化は約２１ｋＧであるため、磁場の最大値はほぼ２１ｋ
Ｏｅとなる。
【０１０２】本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッ
ドＭ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４８に示す。図４８から分かるように、本
発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３を用いると、従来ヘッドＭ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１３を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４８から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１６．１ｋＯｅ〜２１．０ｋＯｅ）での記録が支
配的となるためである。
ドＭ１を用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調
べた結果を図４８に示す。図４８から分かるように、本
発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３を用いると、従来ヘッドＭ１
よりも、特に高記録密度時の再生出力に改善が見られ
る。しかし、本発明ヘッドＡ１３を用いた場合、それほ
ど改善は見られない。これは、図４８から分かるよう
に、本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３の上ポール付近の磁場
のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小さいた
め、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の磁化曲
線のマイナーループを無視できるほどに小さくすること
ができるために、記録にほとんど寄与しなくなり、トレ
ーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／μｍ）よ
りも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポールに至る
磁場（１６．１ｋＯｅ〜２１．０ｋＯｅ）での記録が支
配的となるためである。
【０１０３】これに比べると、本発明ヘッドＡ１３は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場の１１．３ｙ成分がｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。次に、
本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッドＭ１を用い
たときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおける媒体ノイ
ズの測定値を図４９に示す。図４９から分かるように、
本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３を用いると、従来ヘッドＭ
１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、前
述したように本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３では、トレー
リングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共
通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的とな
るため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体
ノイズも減少する。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場の１１．３ｙ成分がｋＯｅと大きいため、上
ポールのトレーリングエッジの磁場分布が緩慢な場所で
記録されることとなり、媒体の垂直方向に急峻な記録が
できないために、再生出力に改善が見られない。次に、
本発明ヘッドＡ１３〜Ｃ１３及び従来ヘッドＭ１を用い
たときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおける媒体ノイ
ズの測定値を図４９に示す。図４９から分かるように、
本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３を用いると、従来ヘッドＭ
１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、前
述したように本発明ヘッドＢ１３、Ｃ１３では、トレー
リングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共
通ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的とな
るため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体
ノイズも減少する。
【０１０４】これに比べると、本発明ヘッドＡ１３は、
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
共通ポールから上ポールに至る磁場分布が、トレーリン
グエッジ近傍の磁場分布よりも急峻であるが、上ポール
付近の磁場のｙ成分が大きいため、上ポールのトレーリ
ングエッジの磁場分布が緩慢な場所で記録されることと
なり、媒体の垂直方向に急峻な記録ができないために、
媒体ノイズにも大きな改善が見られない。
【０１０５】以上のことから、トレーリングエッジ近傍
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
の磁場勾配よりも磁場勾配の急峻な、ギャップ間近傍の
磁場勾配での記録を支配的にするためには、トレーリン
グ近傍の磁場の大きさを、媒体の磁化曲線のマイナール
ープを無視できるほどに小さくすることが必要である。
また、上ポール長と共通ポール長の間に、４ＧＬ＝ＰＬ
（ＰＬはポール長）の関係があり、記録ギャップ長が本
発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれば、同
様な結果が得られる。
【０１０６】〔実施例１３〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１４とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例７に示したとおり、従来
ヘッドＧ１とする。本発明ヘッドＡ１４及び従来ヘッド
Ｇ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここで用いた垂直記録媒体はスパッタ法によって基
板温度４００℃でガラス基板上に成膜した。垂直磁化膜
はＳｍＣｏ、垂直磁化膜膜厚は１００ｎｍとした。作製
した垂直磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋをトルク磁力計
によって調べたところ、１０．２ｋＯｅであった。記録
再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１４とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例７に示したとおり、従来
ヘッドＧ１とする。本発明ヘッドＡ１４及び従来ヘッド
Ｇ１を用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べ
た。ここで用いた垂直記録媒体はスパッタ法によって基
板温度４００℃でガラス基板上に成膜した。垂直磁化膜
はＳｍＣｏ、垂直磁化膜膜厚は１００ｎｍとした。作製
した垂直磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋをトルク磁力計
によって調べたところ、１０．２ｋＯｅであった。記録
再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。
【０１０７】本発明ヘッドＡ１４及び従来ヘッドＧ１か
ら発生する磁場のｙ成分の分布を図５０に示す。図５０
から分かるように、従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
１４の磁場分布は原点に関して非対称となり、磁場分布
の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、平坦に
なる。これは、ＦｅＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであ
るのに対し、ＮｉＦｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるた
めである。従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍の
磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＧ１のギャップ
間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の最
大値を図５１に示す。従来ヘッドＧ１のトレーリングエ
ッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ間
近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
ら発生する磁場のｙ成分の分布を図５０に示す。図５０
から分かるように、従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
１４の磁場分布は原点に関して非対称となり、磁場分布
の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、平坦に
なる。これは、ＦｅＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであ
るのに対し、ＮｉＦｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるた
めである。従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍の
磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＧ１のギャップ
間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の最
大値を図５１に示す。従来ヘッドＧ１のトレーリングエ
ッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ間
近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１０８】本発明ヘッドＡ１４及び従来ヘッドＧ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図５２に示す。図５２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１４を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図５２
から分かるように、本発明ヘッドＡ１４の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１５ｋＯｅ）での記録が支配的となるた
めである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図５２に示す。図５２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１４を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図５２
から分かるように、本発明ヘッドＡ１４の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１５ｋＯｅ）での記録が支配的となるた
めである。
【０１０９】次に、本発明ヘッドＡ１４及び従来ヘッド
Ｇ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図５３に示す。図５３から分か
るように、本発明ヘッドＡ１４を用いると、従来ヘッド
Ｇ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１４では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｇ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図５３に示す。図５３から分か
るように、本発明ヘッドＡ１４を用いると、従来ヘッド
Ｇ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１４では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１１０】〔実施例１４〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１５とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例８に示したとおり、従来
ヘッドＨ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
１．０μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１５とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例８に示したとおり、従来
ヘッドＨ１とする。
【０１１１】本発明ヘッドＡ１５及び従来ヘッドＨ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１５及び従来ヘッドＨ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図５４に示す。図５４から分かるように、
従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１５の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＮｉＦ
ｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。従来ヘッ
ドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配、本発明ヘ
ッド及び従来ヘッドＨ１のギャップ間近傍の磁場勾配、
トレーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図５５に示
す。従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾
配よりも、本発明ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の
方が急峻であることが分かる。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１５及び従来ヘッドＨ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図５４に示す。図５４から分かるように、
従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１５の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＮｉＦ
ｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。従来ヘッ
ドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾配、本発明ヘ
ッド及び従来ヘッドＨ１のギャップ間近傍の磁場勾配、
トレーリングエッジ近傍の磁場の最大値を図５５に示
す。従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍の磁場勾
配よりも、本発明ヘッドのギャップ間近傍の磁場勾配の
方が急峻であることが分かる。
【０１１２】本発明ヘッドＡ１５及び従来ヘッドＨ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図５６に示す。図５６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１５を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図５６
から分かるように、本発明ヘッドＡ１５の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが小さいため、媒体の磁化に磁
化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループ
を無視できるほどに小さくすることができるために、記
録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍
の磁場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻
な、共通ポールから上ポールに至る磁場（２１．０ｋＯ
ｅ）での記録が支配的となるためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図５６に示す。図５６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１５を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図５６
から分かるように、本発明ヘッドＡ１５の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが小さいため、媒体の磁化に磁
化回転を生じさせず、媒体の磁化曲線のマイナーループ
を無視できるほどに小さくすることができるために、記
録にほとんど寄与しなくなり、トレーリングエッジ近傍
の磁場分布（５３０Ｏｅ／μｍ）よりも磁場分布の急峻
な、共通ポールから上ポールに至る磁場（２１．０ｋＯ
ｅ）での記録が支配的となるためである。
【０１１３】次に、本発明ヘッドＡ１５及び従来ヘッド
Ｈ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図５７に示す。図５７から分か
るように、本発明ヘッドＡ１５を用いると、従来ヘッド
Ｈ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１５では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｈ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図５７に示す。図５７から分か
るように、本発明ヘッドＡ１５を用いると、従来ヘッド
Ｈ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１５では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１１４】〔実施例１５〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
２．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１６とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例９に示したとおり、従来
ヘッドＪ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＮｉＦｅ
とした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに
２．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録
トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再
生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上
ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ
（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも
記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発
明ヘッドＡ１６とする。これに対し、上ポールもＦｅＴ
ａＮで作製したヘッドを実施例９に示したとおり、従来
ヘッドＪ１とする。
【０１１５】本発明ヘッドＡ１６及び従来ヘッドＪ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１６及び従来ヘッドＪ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図５８に示す。図５８から分かるように、
従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１６の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＮｉＦ
ｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１６及び従来ヘッドＪ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図５８に示す。図５８から分かるように、
従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１６の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＮｉＦ
ｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
【０１１６】従来ヘッドＪ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＪ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図５９に示す。従来ヘッドＪ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＪ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図５９に示す。従来ヘッドＪ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１１７】本発明ヘッドＡ１６及び従来ヘッドＪ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６０に示す。図６０から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１６を用いると、従来ヘッドＪ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６０
から分かるように、本発明ヘッドＡ１６の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．７ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６０に示す。図６０から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１６を用いると、従来ヘッドＪ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６０
から分かるように、本発明ヘッドＡ１６の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．７ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１１８】次に、本発明ヘッドＡ１６及び従来ヘッド
Ｊ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６１に示す。図６１から分か
るように、本発明ヘッドＡ１６を用いると、従来ヘッド
Ｊ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１６では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｊ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６１に示す。図６１から分か
るように、本発明ヘッドＡ１６を用いると、従来ヘッド
Ｊ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１６では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１１９】〔実施例１６〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、
記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
７とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１０に示したとおり、従来ヘッドＫ
１とする。本発明ヘッドＡ１７及び従来ヘッドＫ１を用
いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。ここ
では、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。記
録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、
記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
７とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１０に示したとおり、従来ヘッドＫ
１とする。本発明ヘッドＡ１７及び従来ヘッドＫ１を用
いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。ここ
では、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。記
録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。
【０１２０】本発明ヘッドＡ１７及び従来ヘッドＫ１か
ら発生する磁場のｙ成分の分布を図６２に示す。図６２
から分かるように、従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
１７の磁場分布は原点に関して非対称となり、磁場分布
の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、平坦に
なる。これは、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧで
あるのに対し、ＮｉＦｅの飽和磁化は１０ｋＯｅである
ためである。
ら発生する磁場のｙ成分の分布を図６２に示す。図６２
から分かるように、従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に
関して対象な磁場分布を示しているが、本発明ヘッドＡ
１７の磁場分布は原点に関して非対称となり、磁場分布
の第４象限に表れる磁場分布の絶対値は小さく、平坦に
なる。これは、ＣｏＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧで
あるのに対し、ＮｉＦｅの飽和磁化は１０ｋＯｅである
ためである。
【０１２１】従来ヘッドＫ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＫ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図６３に示す。従来ヘッドＫ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＫ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図６３に示す。従来ヘッドＫ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１２２】本発明ヘッドＡ１７及び従来ヘッドＫ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６４に示す。図６４から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１７を用いると、従来ヘッドＫ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６４
から分かるように、本発明ヘッドＡ１７の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１６．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６４に示す。図６４から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１７を用いると、従来ヘッドＫ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６４
から分かるように、本発明ヘッドＡ１７の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１６．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１２３】次に、本発明ヘッドＡ１７及び従来ヘッド
Ｋ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６５に示す。図６５から分か
るように、本発明ヘッドＡ１７を用いると、従来ヘッド
Ｋ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１７では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｋ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６５に示す。図６５から分か
るように、本発明ヘッドＡ１７を用いると、従来ヘッド
Ｋ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１７では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１２４】〔実施例１７〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、
記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
８とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１１に示したとおり、従来ヘッドＬ
１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０μｍ、
記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
８とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１１に示したとおり、従来ヘッドＬ
１とする。
【０１２５】本発明ヘッドＡ１８及び従来ヘッドＬ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１８及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図６６に示す。図６６から分かるように、
従来ヘッドＬ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１８の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｎｉ
Ｆｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１８及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図６６に示す。図６６から分かるように、
従来ヘッドＬ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１８の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｎｉ
Ｆｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
【０１２６】従来ヘッドＬ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＬ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図６７に示す。従来ヘッドＬ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＬ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図６７に示す。従来ヘッドＬ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１２７】本発明ヘッドＡ１８及び従来ヘッドＬ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６８に示す。図６８から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１８を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６８
から分かるように、本発明ヘッドＡ１８の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．２ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図６８に示す。図６８から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１８を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図６８
から分かるように、本発明ヘッドＡ１８の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．２ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１２８】次に、本発明ヘッドＡ１８及び従来ヘッド
Ｌ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６９に示す。図６９から分か
るように、本発明ヘッドＡ１８を用いると、従来ヘッド
Ｌ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１８では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｌ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図６９に示す。図６９から分か
るように、本発明ヘッドＡ１８を用いると、従来ヘッド
Ｌ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１８では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１２９】〔実施例１８〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０μｍ、
記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
９とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１２に示したとおり、従来ヘッドＭ
１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＮｉＦ
ｅとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製した。そ
の際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０μｍ、
記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラック幅は
１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャップ長
は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポールの媒体
摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオン
ビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒体から
遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ１
９とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製
したヘッドを実施例１２に示したとおり、従来ヘッドＭ
１とする。
【０１３０】本発明ヘッドＡ１９及び従来ヘッドＭ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１９及び従来ヘッドＭ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７０に示す。図７０から分かるように、
従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１９の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｎｉ
Ｆｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ１９及び従来ヘッドＭ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７０に示す。図７０から分かるように、
従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ１９の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｎｉ
Ｆｅの飽和磁化は１０ｋＯｅであるためである。
【０１３１】従来ヘッドＭ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＭ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７１に示す。従来ヘッドＭ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＭ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７１に示す。従来ヘッドＭ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１３２】本発明ヘッドＡ１９及び従来ヘッドＭ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図７２に示す。図７２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１９を用いると、従来ヘッドＭ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図７２
から分かるように、本発明ヘッドＡ１９の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．３ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図７２に示す。図７２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ１９を用いると、従来ヘッドＭ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図７２
から分かるように、本発明ヘッドＡ１９の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．３ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１３３】次に、本発明ヘッドＡ１９及び従来ヘッド
Ｍ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図７３に示す。図７３から分か
るように、本発明ヘッドＡ１９を用いると、従来ヘッド
Ｍ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１９では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｍ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図７３に示す。図７３から分か
るように、本発明ヘッドＡ１９を用いると、従来ヘッド
Ｍ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ１９では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１３４】〔実施例１９〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２０とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例７に示したとおり、従
来ヘッドＧ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２０とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例７に示したとおり、従
来ヘッドＧ１とする。
【０１３５】本発明ヘッドＡ２０及び従来ヘッドＧ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２０及び従来ヘッドＧ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７４に示す。図７４から分かるように、
従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２０の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２０及び従来ヘッドＧ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７４に示す。図７４から分かるように、
従来ヘッドＧ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２０の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１３６】従来ヘッドＧ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＧ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７５に示す。従来ヘッドＧ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＧ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７５に示す。従来ヘッドＧ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１３７】本発明ヘッドＡ２０及び従来ヘッドＧ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図７６に示す。図７６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２０を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図７６
から分かるように、本発明ヘッドＡ２０の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１５．０ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。次に、本発明ヘッドＡ２０及び従来ヘッ
ドＧ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにお
ける媒体ノイズの測定値を図７７に示す。図７７から分
かるように、本発明ヘッドＡ２０を用いると、従来ヘッ
ドＧ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＡ２０では、トレーリ
ングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通
ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的となる
ため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノ
イズも減少する。また、同じ材料により同様に形成さ
れ、上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図７６に示す。図７６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２０を用いると、従来ヘッドＧ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図７６
から分かるように、本発明ヘッドＡ２０の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５８０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１５．０ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。次に、本発明ヘッドＡ２０及び従来ヘッ
ドＧ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにお
ける媒体ノイズの測定値を図７７に示す。図７７から分
かるように、本発明ヘッドＡ２０を用いると、従来ヘッ
ドＧ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これ
は、前述したように本発明ヘッドＡ２０では、トレーリ
ングエッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通
ポールから上ポールに至る磁場での記録が支配的となる
ため、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノ
イズも減少する。また、同じ材料により同様に形成さ
れ、上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャ
ップ長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドで
あれば、同様な結果が得られる。
【０１３８】〔実施例２０〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２１とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例８に示したとおり、従
来ヘッドＨ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に１．０μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２１とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例８に示したとおり、従
来ヘッドＨ１とする。
【０１３９】本発明ヘッドＡ２１及び従来ヘッドＨ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２１及び従来ヘッドＨ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７８に示す。図７８から分かるように、
従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２１の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２１及び従来ヘッドＨ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図７８に示す。図７８から分かるように、
従来ヘッドＨ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２１の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１４０】従来ヘッドＨ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＨ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７９に示す。従来ヘッドＨ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＨ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図７９に示す。従来ヘッドＨ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１４１】本発明ヘッドＡ２１及び従来ヘッドＨ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８０に示す。図８０から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２１を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８０
から分かるように、本発明ヘッドＡ２１の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５３０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．７ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８０に示す。図８０から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２１を用いると、従来ヘッドＨ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８０
から分かるように、本発明ヘッドＡ２１の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５３０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．７ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１４２】次に、本発明ヘッドＡ２１及び従来ヘッド
Ｈ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８１に示す。図８１から分か
るように、本発明ヘッドＡ２１を用いると、従来ヘッド
Ｈ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２１では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｈ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８１に示す。図８１から分か
るように、本発明ヘッドＡ２１を用いると、従来ヘッド
Ｈ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２１では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１４３】〔実施例２１〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に２．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２２とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例９に示したとおり、従
来ヘッドＪ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＦｅＴａＮ、上ポールの材料はＦｅＳｉ
Ａｌとした。その際、上ポール幅と共通ポール幅はとも
に２．０μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記
録トラック幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、
再生ギャップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、
上ポールの媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩ
Ｂ（集束イオンビーム）加工により、共通ポール面より
も記録媒体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本
発明ヘッドＡ２２とする。これに対し、上ポールもＦｅ
ＴａＮで作製したヘッドを実施例９に示したとおり、従
来ヘッドＪ１とする。
【０１４４】本発明ヘッドＡ２２及び従来ヘッドＪ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２２及び従来ヘッドＪ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図８２に示す。図８２から分かるように、
従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２２の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２２及び従来ヘッドＪ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図８２に示す。図８２から分かるように、
従来ヘッドＪ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２２の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｆｅ
ＴａＮの飽和磁化は約１７ｋＧであるのに対し、ＦｅＳ
ｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１４５】従来ヘッドＪ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＪ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図８３に示す。従来ヘッドＪ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＪ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図８３に示す。従来ヘッドＪ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１４６】本発明ヘッドＡ２２及び従来ヘッドＪ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８４に示す。図８４から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２２を用いると、従来ヘッドＪ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８４
から分かるように、本発明ヘッドＡ２２の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．５ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８４に示す。図８４から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２２を用いると、従来ヘッドＪ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８４
から分かるように、本発明ヘッドＡ２２の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５２０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．５ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１４７】次に、本発明ヘッドＡ２２及び従来ヘッド
Ｊ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８５に示す。図８５から分か
るように、本発明ヘッドＡ２２を用いると、従来ヘッド
Ｊ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２２では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｊ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８５に示す。図８５から分か
るように、本発明ヘッドＡ２２を用いると、従来ヘッド
Ｊ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２２では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１４８】〔実施例２２〕非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０
μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポール
の媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束
イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒
体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッ
ドＡ２３とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅ
で作製したヘッドを実施例１０に示したとおり、従来ヘ
ッドＫ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０
μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポール
の媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束
イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒
体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッ
ドＡ２３とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅ
で作製したヘッドを実施例１０に示したとおり、従来ヘ
ッドＫ１とする。
【０１４９】本発明ヘッドＡ２３及び従来ヘッドＫ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２３及び従来ヘッドＫ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図８６に示す。図８６から分かるように、
従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２３の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２３及び従来ヘッドＫ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図８６に示す。図８６から分かるように、
従来ヘッドＫ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２３の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１５０】従来ヘッドＫ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＫ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図８７に示す。従来ヘッドＫ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＫ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図８７に示す。従来ヘッドＫ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１５１】本発明ヘッドＡ２３及び従来ヘッドＫ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８８に示す。図８８から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２３を用いると、従来ヘッドＫ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８８
から分かるように、本発明ヘッドＡ２３の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１６．８ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図８８に示す。図８８から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２３を用いると、従来ヘッドＫ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図８８
から分かるように、本発明ヘッドＡ２３の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（６００Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（１６．８ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１５２】次に、本発明ヘッドＡ２３及び従来ヘッド
Ｋ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８９に示す。図８９から分か
るように、本発明ヘッドＡ２３を用いると、従来ヘッド
Ｋ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２３では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｋ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図８９に示す。図８９から分か
るように、本発明ヘッドＡ２３を用いると、従来ヘッド
Ｋ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２３では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１５３】［実施例２３］非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０
μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに１．０
μｍ、記録ギャップ長も０．３μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。
【０１５４】上ポール成膜後、上ポールの媒体摺動面を
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ２４とす
る。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製したヘ
ッドを実施例１１に示したとおり、従来ヘッドＬ１とす
る。
ラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束イオンビーム）
加工により、共通ポール面よりも記録媒体から遠くなる
方向に段差をつけた。これを本発明ヘッドＡ２４とす
る。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅで作製したヘ
ッドを実施例１１に示したとおり、従来ヘッドＬ１とす
る。
【０１５５】本発明ヘッドＡ２４及び従来ヘッドＬ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２４及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図９０に示す。図９０から分かるように、
従来ヘッドＬ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２４の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２４及び従来ヘッドＬ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図９０に示す。図９０から分かるように、
従来ヘッドＬ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２４の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１５６】従来ヘッドＬ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＬ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図９１に示す。従来ヘッドＬ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＬ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図９１に示す。従来ヘッドＬ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１５７】本発明ヘッドＡ２４及び従来ヘッドＬ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図９２に示す。図９２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２４を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図９２
から分かるように、本発明ヘッドＡ２４の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図９２に示す。図９２から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２４を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図９２
から分かるように、本発明ヘッドＡ２４の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５５０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１５８】次に、本発明ヘッドＡ２４及び従来ヘッド
Ｌ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図９３に示す。図９３から分か
るように、本発明ヘッドＡ２４を用いると、従来ヘッド
Ｌ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２４では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｌ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図９３に示す。図９３から分か
るように、本発明ヘッドＡ２４を用いると、従来ヘッド
Ｌ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２４では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１５９】［実施例２４］非磁性基板上に、下シール
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０
μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポール
の媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束
イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒
体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッ
ドＡ２５とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅ
で作製したヘッドを実施例１２に示したとおり、従来ヘ
ッドＭ１とする。
ドから上ポールまでを順に形成する。下シールド、共通
ポールの材料はＣｏＮｉＦｅ、上ポールの材料はＦｅＳ
ｉＡｌとした。ＣｏＮｉＦｅはめっき法により作製し
た。その際、上ポール幅と共通ポール幅はともに２．０
μｍ、記録ギャップ長も０．５μｍとした。記録トラッ
ク幅は１μｍ、再生トラック幅は０．８μｍ、再生ギャ
ップ長は０．２μｍとした。上ポール成膜後、上ポール
の媒体摺動面をラッピング（研磨）加工やＦＩＢ（集束
イオンビーム）加工により、共通ポール面よりも記録媒
体から遠くなる方向に段差をつけた。これを本発明ヘッ
ドＡ２５とする。これに対し、上ポールもＣｏＮｉＦｅ
で作製したヘッドを実施例１２に示したとおり、従来ヘ
ッドＭ１とする。
【０１６０】本発明ヘッドＡ２５及び従来ヘッドＭ１を
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２５及び従来ヘッドＭ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図９４に示す。図９４から分かるように、
従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２５の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
用いて、垂直磁気記録媒体の記録再生特性を調べた。こ
こでは、実施例１３で用いた媒体と同じ媒体を用いた。
記録再生条件は実施例１と同じ条件下で行った。本発明
ヘッドＡ２５及び従来ヘッドＭ１から発生する磁場のｙ
成分の分布を図９４に示す。図９４から分かるように、
従来ヘッドＭ１の磁場分布は原点に関して対象な磁場分
布を示しているが、本発明ヘッドＡ２５の磁場分布は原
点に関して非対称となり、磁場分布の第４象限に表れる
磁場分布の絶対値は小さく、平坦になる。これは、Ｃｏ
ＮｉＦｅの飽和磁化は約２１ｋＧであるのに対し、Ｆｅ
ＳｉＡｌの飽和磁化は１１．５ｋＧであるためである。
【０１６１】従来ヘッドＭ１のトレーリングエッジ近傍
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＭ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図９５に示す。従来ヘッドＭ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
の磁場勾配、本発明ヘッド及び従来ヘッドＭ１のギャッ
プ間近傍の磁場勾配、トレーリングエッジ近傍の磁場の
最大値を図９５に示す。従来ヘッドＭ１のトレーリング
エッジ近傍の磁場勾配よりも、本発明ヘッドのギャップ
間近傍の磁場勾配の方が急峻であることが分かる。
【０１６２】本発明ヘッドＡ２５及び従来ヘッドＭ１を
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図９６に示す。図９６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２５を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図９６
から分かるように、本発明ヘッドＡ２５の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
用いたときの、再生出力の記録密度依存性を調べた結果
を図９６に示す。図９６から分かるように、本発明ヘッ
ドＡ２５を用いると、従来ヘッドＬ１よりも、特に高記
録密度時の再生出力に改善が見られる。これは、図９６
から分かるように、本発明ヘッドＡ２５の上ポール付近
の磁場のｙ成分の大きさが媒体の異方性磁界Ｈｋより小
さいため、媒体の磁化に磁化回転を生じさせず、媒体の
磁化曲線のマイナーループを無視できるほどに小さくす
ることができるために、記録にほとんど寄与しなくな
り、トレーリングエッジ近傍の磁場分布（５７０Ｏｅ／
μｍ）よりも磁場分布の急峻な、共通ポールから上ポー
ルに至る磁場（２０．９ｋＯｅ）での記録が支配的とな
るためである。
【０１６３】次に、本発明ヘッドＡ２５及び従来ヘッド
Ｍ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図９７に示す。図９７から分か
るように、本発明ヘッドＡ２５を用いると、従来ヘッド
Ｍ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２５では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
Ｍ１を用いたときの、記録密度４００ｋＦＲＰＩにおけ
る媒体ノイズの測定値を図９７に示す。図９７から分か
るように、本発明ヘッドＡ２５を用いると、従来ヘッド
Ｍ１を用いた場合よりも媒体ノイズが小さい。これは、
前述したように本発明ヘッドＡ２５では、トレーリング
エッジ近傍の磁場ではなく、磁場分布の急峻な共通ポー
ルから上ポールに至る磁場での記録が支配的となるた
め、高密度でも明瞭に信号が記録されるために媒体ノイ
ズも減少する。また、同じ材料により同様に形成され、
上ポール長と共通ポール長が等しく、かつ記録ギャップ
長が本発明ヘッドと等しい垂直磁気記録用ヘッドであれ
ば、同様な結果が得られる。
【０１６４】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明は、
再生用のＭＲヘッドと記録用の磁気誘導型ヘッドとが積
層されてなる垂直磁気記録用ヘッドにおいて、磁気誘導
型ヘッドのリーディング側の媒体摺動面に垂直方向の磁
場成分よりもトレーリング側の媒体摺動面に垂直方向の
磁場成分の方が小さい構成とした。
再生用のＭＲヘッドと記録用の磁気誘導型ヘッドとが積
層されてなる垂直磁気記録用ヘッドにおいて、磁気誘導
型ヘッドのリーディング側の媒体摺動面に垂直方向の磁
場成分よりもトレーリング側の媒体摺動面に垂直方向の
磁場成分の方が小さい構成とした。
【０１６５】そのため、磁気誘導型ヘッドの磁場分布の
第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠ける磁場分布
を回避することができ、第２象限から原点を通り、第４
象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録が支配的とな
る。このため、高密度の記録時においても記録媒体を垂
直方向に急峻に磁化することができ、良好な記録再生特
性を提供することができる。
第４象限の極小値より右側の、急峻性が欠ける磁場分布
を回避することができ、第２象限から原点を通り、第４
象限に至る磁場分布の急峻な場所での記録が支配的とな
る。このため、高密度の記録時においても記録媒体を垂
直方向に急峻に磁化することができ、良好な記録再生特
性を提供することができる。
【図１】本発明に関わる垂直磁気記録用ヘッドの縦断面
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例１における垂直磁気記録用ヘッ
ドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図３】本発明の実施例１における垂直磁気記録用ヘッ
ドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面である。
ドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面である。
【図４】本発明の実施例１における再生出力を示す図面
である。
である。
【図５】本発明の実施例１における媒体ノイズを示す図
面である。
面である。
【図６】本発明の実施例２における垂直磁気記録用ヘッ
ドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図７】本発明の実施例２における垂直磁気記録用ヘッ
ドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面である。
ドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面である。
【図８】本発明の実施例２における再生出力を示す図面
である。
である。
【図９】本発明の実施例２における媒体ノイズを示す図
面である。
面である。
【図１０】本発明の実施例３における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図１１】本発明の実施例３における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図１２】本発明の実施例３における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図１３】本発明の実施例３における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図１４】本発明の実施例４における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図１５】本発明の実施例４における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図１６】本発明の実施例４における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図１７】本発明の実施例４における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図１８】本発明の実施例５における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図１９】本発明の実施例５における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図２０】本発明の実施例５における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図２１】本発明の実施例５における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図２２】本発明の実施例６における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図２３】本発明の実施例６における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図２４】本発明の実施例６における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図２５】本発明の実施例６における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図２６】本発明の実施例７における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図２７】本発明の実施例７における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図２８】本発明の実施例７における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図２９】本発明の実施例７における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図３０】本発明の実施例８における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図３１】本発明の実施例８における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図３２】本発明の実施例８における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図３３】本発明の実施例８における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図３４】本発明の実施例９における垂直磁気記録用ヘ
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図３５】本発明の実施例９における垂直磁気記録用ヘ
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図３６】本発明の実施例９における再生出力を示す図
面である。
面である。
【図３７】本発明の実施例９における媒体ノイズを示す
図面である。
図面である。
【図３８】本発明の実施例１０における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図３９】本発明の実施例１０における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図４０】本発明の実施例１０における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図４１】本発明の実施例１０における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図４２】本発明の実施例１１における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図４３】本発明の実施例１１における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図４４】本発明の実施例１１における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図４５】本発明の実施例１１における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図４６】本発明の実施例１２における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図４７】本発明の実施例１２における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図４８】本発明の実施例１２における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図４９】本発明の実施例１２における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図５０】本発明の実施例１３における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図５１】本発明の実施例１３における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図５２】本発明の実施例１３における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図５３】本発明の実施例１３における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図５４】本発明の実施例１４における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図５５】本発明の実施例１４における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図５６】本発明の実施例１４における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図５７】本発明の実施例１４における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図５８】本発明の実施例１５における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図５９】本発明の実施例１５における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図６０】本発明の実施例１５における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図６１】本発明の実施例１５における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図６２】本発明の実施例１６における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図６３】本発明の実施例１６における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図６４】本発明の実施例１６における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図６５】本発明の実施例１６における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図６６】本発明の実施例１７における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図６７】本発明の実施例１７における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図６８】本発明の実施例１７における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図６９】本発明の実施例１７における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図７０】本発明の実施例１８における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図７１】本発明の実施例１８における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図７２】本発明の実施例１８における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図７３】本発明の実施例１８における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図７４】本発明の実施例１９における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図７５】本発明の実施例１９における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図７６】本発明の実施例１９における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図７７】本発明の実施例１９における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図７８】本発明の実施例２０における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図７９】本発明の実施例２０における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図８０】本発明の実施例２０における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図８１】本発明の実施例２０における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図８２】本発明の実施例２１における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図８３】本発明の実施例２１における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図８４】本発明の実施例２１における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図８５】本発明の実施例２１における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図８６】本発明の実施例２２における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図８７】本発明の実施例２２における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図８８】本発明の実施例２２における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図８９】本発明の実施例２２における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図９０】本発明の実施例２３における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図９１】本発明の実施例２３における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図９２】本発明の実施例２３における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図９３】本発明の実施例２３における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図９４】本発明の実施例２４における垂直磁気記録用
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
ヘッドの磁場分布のｙ成分を表す図面である。
【図９５】本発明の実施例２４における垂直磁気記録用
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
ヘッドから発する磁場及び磁場勾配の値を示す図面であ
る。
【図９６】本発明の実施例２４における再生出力を示す
図面である。
図面である。
【図９７】本発明の実施例２４における媒体ノイズを示
す図面である。
す図面である。
【図９８】従来の垂直磁気記録用ヘッドの媒体摺動面か
ら見た底面図である。
ら見た底面図である。
【図９９】従来の垂直磁気記録用ヘッドの縦断面図であ
る。
る。
【図１００】従来の垂直磁気記録用ヘッドの磁場分布の
ｘ成分を表す図面である。
ｘ成分を表す図面である。
【図１０１】従来の垂直磁気記録用ヘッドの磁場分布の
ｙ成分を表す図面である。
ｙ成分を表す図面である。
１０……磁気誘導型ヘッド、３２……記録ギャップ、３
４……励磁コイル、３６……上ポール、４０……ＭＲヘ
ッド、４４……下シールド、４６……再生ギャップ、４
８……ＭＲ素子、４９……共通ポール、５０……ＭＲヘ
ッド、５２……磁気誘導型ヘッド、５４……下シール
ド、５６……再生ギャップ、５８……ＭＲ素子、６０…
…共通ポール、６２……記録ギャップ、６４……励磁コ
イル、６６……上ポール。
４……励磁コイル、３６……上ポール、４０……ＭＲヘ
ッド、４４……下シールド、４６……再生ギャップ、４
８……ＭＲ素子、４９……共通ポール、５０……ＭＲヘ
ッド、５２……磁気誘導型ヘッド、５４……下シール
ド、５６……再生ギャップ、５８……ＭＲ素子、６０…
…共通ポール、６２……記録ギャップ、６４……励磁コ
イル、６６……上ポール。
フロントページの続き (72)発明者 田上 勝通 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 AA05 BA01 BA03 BA07 BA12 BB43 5D034 AA05 BA02 BA18 BB12
Claims (10)
- 【請求項１】 再生用のＭＲヘッドと記録用の磁気誘導
型ヘッドとが積層されてなる垂直磁気記録用ヘッドにお
いて、 磁気誘導型ヘッドのリーディング側の媒体摺動面に垂直
方向の磁場成分よりもトレーリング側の媒体摺動面に垂
直方向の磁場成分の方が小さいこと、 を特徴とする垂直磁気記録用ヘッド。 - 【請求項２】 前記トレーリング側の媒体摺動面に垂直
方向の磁場が、媒体の異方性磁界Ｈｋよりも小さいこと
を特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用ヘッド。 - 【請求項３】 前記トレーリング側の媒体摺動面に垂直
方向の磁場が、媒体の異方性磁界Ｈｋの４／５以下であ
ることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用ヘッ
ド。 - 【請求項４】 前記磁気誘導型ヘッドのリーディング側
からトレーリング側にかけての媒体摺動面に垂直方向の
磁場成分の分布が、８ｋＯｅ／μｍ以上２１ｋＯｅ／μ
ｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気
記録用ヘッド。 - 【請求項５】 前記磁気誘導型ヘッドのトレーリング側
の媒体摺動面を、リーディング側の媒体摺動面よりも記
録媒体から垂直に遠くなる方向に段差をつけたことを特
徴とする請求項１乃至４に何れか１項記載の垂直磁気記
録用ヘッド。 - 【請求項６】 前記磁気誘導型ヘッドの記録ギャップ長
をＧＬとしたとき、前記磁気誘導型ヘッドの上ポールの
媒体摺動面を、リーディング側の媒体摺動面よりも記録
媒体から垂直に遠くなる方向に（３／５）ＧＬ以上段差
をつけたことを特徴とする請求項５記載の垂直磁気記録
用ヘッド。 - 【請求項７】 前記磁気誘導型ヘッドのリーディング側
のポール及びトレーリング側のポールを構成する材料
が、ＮｉＦｅ、ＦｅＳｉＡｌ、ＦｅＴａＮ、ＣｏＮｉＦ
ｅの何れかであることを特徴とする請求項１乃至６に何
れか１項記載の垂直磁気記録用ヘッド。 - 【請求項８】 前記磁気誘導型ヘッドのトレーリング側
の飽和磁化をＢｓｕとし、前記リーディング側の飽和磁
化をＢｓｄとしたときに、Ｂｓｕ＜Ｂｓｄであることを
特徴とする請求項１乃至４に何れか１項記載の垂直磁気
記録用ヘッド。 - 【請求項９】 Ｂｓｕ＜（１１．５／１７）Ｂｓｄであ
ることを特徴とする請求項８記載の垂直磁気記録用ヘッ
ド。 - 【請求項１０】 前記磁気誘導型ヘッドのリーディング
側のポールを構成する材料が、ＦｅＴａＮ、ＣｏＮｉＦ
ｅの何れかであり、トレーリング側のポールを構成する
材料が、ＮｉＦｅ、ＦｅＳｉＡｌの何れかであることを
特徴とする請求項８または９記載の垂直磁気記録用ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10216058A JP2000048321A (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 垂直磁気記録用ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10216058A JP2000048321A (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 垂直磁気記録用ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000048321A true JP2000048321A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16682625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10216058A Pending JP2000048321A (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 垂直磁気記録用ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000048321A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1148473A2 (en) * | 2000-04-10 | 2001-10-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for perpendicular magnetic recording |
| US6618227B2 (en) * | 2000-09-22 | 2003-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Combination perpendicular record and reproduce head having an auxiliary pole recessed from an air bearing surface and spaced from one of a pair of reproducing element sheilds |
| EP1503372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-02 | Hitachi Global Storage Technologies, Inc. | Perpendicular recording magnetic head |
| US8300346B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-10-30 | Tdk Corporation | Microwave assisted magnetic head |
| JP2013037735A (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-21 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘッドおよび磁気記録方法 |
-
1998
- 1998-07-30 JP JP10216058A patent/JP2000048321A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1148473A2 (en) * | 2000-04-10 | 2001-10-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for perpendicular magnetic recording |
| EP1148473A3 (en) * | 2000-04-10 | 2006-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for perpendicular magnetic recording |
| US6618227B2 (en) * | 2000-09-22 | 2003-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Combination perpendicular record and reproduce head having an auxiliary pole recessed from an air bearing surface and spaced from one of a pair of reproducing element sheilds |
| EP1503372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-02 | Hitachi Global Storage Technologies, Inc. | Perpendicular recording magnetic head |
| EP1503372A3 (en) * | 2003-07-30 | 2006-03-29 | Hitachi Global Storage Technologies, Inc. | Perpendicular recording magnetic head |
| US8300346B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-10-30 | Tdk Corporation | Microwave assisted magnetic head |
| JP2013037735A (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-21 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘッドおよび磁気記録方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7898766B2 (en) | Four sided shield structure for a perpendicular write head | |
| US5402295A (en) | Magnetic recording head capable of defining narrow track width and magnetic recording apparatus using the same | |
| EP0881627A2 (en) | Thin film magnetic head | |
| JP2000076636A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| US4695351A (en) | Method for producing magnetic heads | |
| JPH10233016A (ja) | 面内磁気記録媒体およびそれを用いた磁気記憶装置 | |
| JP2953401B2 (ja) | 磁気抵抗効果型複合ヘッドの製造方法 | |
| JP3155234B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP2000048321A (ja) | 垂直磁気記録用ヘッド | |
| JPH10149513A (ja) | 磁気抵抗効果型複合ヘッド | |
| JPH11250416A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP3639603B2 (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| Okumura et al. | Read/write characteristics for laminated high moment Fe-Ta-N film heads for HDTV VTR | |
| JPH09298114A (ja) | 垂直磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置 | |
| Jayasekara et al. | Inductive write heads using high moment FeAlN poles | |
| Saito et al. | Wide-band read/write characteristics of an ultra narrow track width video head using sputtered Fe-Si-Al alloy film | |
| JPS59107417A (ja) | 永久磁石バイアス型磁気抵抗効果磁気ヘツド | |
| JPS6224848B2 (ja) | ||
| JPH0744826A (ja) | 薄膜ｍｒヘッド | |
| JPH06223310A (ja) | 垂直記録用磁気ヘッド | |
| JPS61258322A (ja) | 磁気抵抗効果ヘツド | |
| JPH0490101A (ja) | 垂直磁気記録装置 | |
| JP3333945B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| JP3203943B2 (ja) | 磁気記録再生装置 | |
| JP2958187B2 (ja) | 磁気ディスク装置 |