JP2000039724A - 平版印刷版の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カブリ等の画質不良を生じない平版印刷版
を得ることができる、平版印刷版の作製方法を提供する
こと。 【解決手段】 走査露光角度が１５０度以上のインナ
ードラムタイプであるレーザー露光機を用いて、使用す
るレーザー波長での光学濃度が０．２〜０．５である光
重合性組成物層を設けてなる光重合型平版印刷版を露光
することを特徴とする上記平版印刷版の作製方法により
解決される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザー露光機を用
いて光重合性平版印刷版を露光する平版印刷版の作製方
法に関する。更に詳しくは、走査露光角度が１５０度以
上であるインナードラムタイプのレーザー露光機を使用
して光重合型平版印刷版を露光する平版印刷版を作製す
る方法であって、レーザー光の散乱光および迷光等によ
るカブリを生じない露光ラチチュードの広い平版印刷版
の作製方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られており、印刷版、プリント回路、ホログラム
記録、３次元造形等の広い分野に用いられている。例え
ば、印刷版を形成する方法として、付加重合可能なエチ
レン性二重結合を含む化合物と光重合開始剤、有機高分
子化合物、熱重合禁止剤からなる光重合性組成物を支持
体上に皮膜層として設け、所望画像を像露光した露光部
分を重合硬化させ、未露光部分を溶解除去することによ
り硬化レリーフ画像を形成する方法が一般的に使用され
ている。一方、近年のコンピューター、通信技術、レー
ザー走査技術の進歩により、フイルムを介さずデジタル
データを直接レーザー走査により書き込み、刷版作業を
効率化できるシステムとしてＣＴＰ（Computer To Plat
e)システムが脚光を浴び、上述したような光重合系を利
用した種々のＣＴＰ用版材およびＣＴＰ版材用組成物が
提案されている。しかし、ＣＴＰ用版材として使用され
るためには、レーザー可視光線に対して高感度であるこ
とが必須であり、可視レーザー光に感応し得る光重合開
始系を含有する光重合性組成物に関しては、従来、いく
つかの提案がなされてきた。例えば、チタノセンと３−
ケトクマリン色素の系（特開平６−２８９３３５号、特
開平３−２３９７０３号公報）等が挙げられる。上記光
重合開始系を含有した光重合性組成物は、確かに可視光
線に感応するＣＴＰ用のレーザーダイレクト平版を作成
することができるが、感度的に不十分であり、画像はで
きるが通常の印刷に耐えられるものではなかった。そこ
で、印刷に耐えられる被膜強度を得るために、光源の出
力を高めると、網点の周り、ベタ画像の周り等にフリン
ジ状のものが発生したり、平網の均一性が乏しくなった
り、大きなベタ画像を書いた場合特定の位置にカブリが
発生する等の種々の画質不良が発生する。このような画
質不良はレーザー露光機の種類に大きく依存して発生し
やすいことが経験的に知られており、改良が望まれてい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、カブ
リ等の画質不良を生じない平版印刷版を得ることができ
る、平版印刷版の作製方法を提供することである。すな
わち、本発明の目的は特にアルゴンレーザーの発振波長
である４８８ｎｍ付近、ＦＤ−ＹＡＧレーザーの発振波
長である５３２ｎｍ付近の光により、走査露光角度が１
５０度以上のインナードラムタイプのレーザー露光機を
用いて光重合型平版印刷版を露光する平版印刷版の作製
方法であって、非常に高感度でかつ露光ラチチュードが
広く、カブリ等の画質不良を生じない平版印刷版を得る
ことができる平版印刷版の作製方法を提供することであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題は、レーザー露
光により平版印刷版を作製する方法であって、走査露光
角度が１５０度以上のインナードラムタイプであるレー
ザー露光機を用いて、使用するレーザー波長での光学濃
度が０．２〜０．５である光重合性組成物層を設けてな
る光重合型平版印刷版を露光することを特徴とする上記
平版印刷版の作製方法により解決される。すなわち本発
明者らは、インナードラムタイプのレーザー露光機では
レーザー光線の反射や散乱により、網点の周辺のフリン
ジや大きなベタ画像を描画した場合に特定の位置に発生
するカブリ等の画質劣化が起こりやすいこと、及びこの
画質劣化が使用光源の波長での光重合層の光学濃度に密
接に関係しているという知見を得た。そして、特に走査
露光角度が１５０度以上のインナードラムタイプのレー
ザー露光機を用いる場合には、使用するレーザー波長で
の光学濃度が０．２〜０．５である光重合性組成物層を
設けてなる光重合型平版印刷版を露光することにより、
カブリ等の画質不良を生じない平版印刷版を作製するこ
とができ、また露光量を上げても画質劣化が小さい、露
光ラチチュードの広い平版印刷版を作製できることを見
いだし本発明を完成した。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の平版印刷版の作製
方法について詳細に説明する。本発明の平版印刷版の作
製方法は、後述するように使用するレーザー波長での光
学濃度が０．２〜０．５である光重合性組成物層を適す
る支持体上に設けて光重合型平版印刷版を製造し、後述
する走査露光角度が１５０度以上のインナードラムタイ
プのレーザー露光機を用いて露光する方法である。

【０００６】本発明において使用されるインナードラム
タイプのレーザー露光機の概略は、図１に示される。支
持体上に光重合性組成物層を設けた平版印刷版はレーザ
ー露光機の支持部に、感光面が内側になるように半円筒
型（凹型）に装着される。前記半円筒型の中心軸上に、
中心軸に対して４５度の角度に取り付けられた回転ミラ
ーが装着されており、軸延長線上に位置するレーザー光
線源から発生されたレーザー光線は前記回転ミラーに反
射して、平版印刷版の感光面にほぼ垂直に入射して露光
を行う。この回転ミラーは中心軸と同軸方向に回転して
おり、平版印刷版に対してレーザー光線を主走査させる
ようになっている。また、回転ミラーが中心軸と平衡な
方向（副走査方向）に移動することにより、平版印刷版
を二次元的に走査し露光を行う。図２は、図１のレーザ
ー露光機をレーザー発生装置の方向から見た断面図であ
る。角度ａは、半円筒型に装着された印刷版に対して、
中心軸に取り付けられた回転ミラーに反射したレーザー
光線が主走査方向に露光する走査露光角度を示してい
る。ＸとＸ’で結ばれる半円弧は平版印刷版のレーザー
光線により走査される範囲を示している。本発明におい
て使用されるレーザー露光機は走査露光角度、すなわち
図２における角度ａが１５０度以上である。このように
走査露光角度が１５０度以上になると、レーザー光線の
反射や散乱に起因して、網点の周辺のフリンジや大きな
ベタ画像を描画した場合に特定の位置に発生するカブリ
等の画質劣化が非常に起こりやすい。インナードラムタ
イプのレーザー露光機としては、例えば、 Celic8000CT
P(富士フイルム（株）社製／Ａｒレーザー）、Crescent
42（Gerber社製／Ａｒ又熱レーザー）、Laseratar(Krau
se社製／Ａｒレーザー）、Plate-Rite（大日本スクリー
ン社製／Ａｒレーザー）、Scitex Duplate800(大日本ス
クリーン社製／Ａｒレーザー）、gutenberg (Linotype-
Hell社製／ＦＤ・ＹＡＧレーザー）等が挙げられる。

【０００７】本発明において使用される光重合性組成物
は、使用するレーザーの波長での光学濃度が0.２〜0.５
の範囲のものである。光学濃度は、光重合性組成物中の
化合物、膜厚等の組合せにより適宜調整することができ
るが、例えば、用いる増感色素の使用量を使用するレー
ザーの波長での光学濃度が0.２〜0.５の範囲となるよう
に使用することができる。光学濃度が0.２より低いと、
レーザー光の版材からの反射光が多くなり、網点の周り
にフリンジの発生、平網の均一性の劣化、特定の位置に
反射光よりカブリ状の残膜が生じる。また光学濃度が0.
５より高いとフィルター効果により、基板に近い部分の
感光層の硬化が不十分になり減感または密着不良とな
る。本発明において好適に使用される光重合性組成物と
しては、例えば、少なくとも（Ａ）エチレン性不飽和結
合を含有する付加重合可能な化合物と（Ｂ）光重合開始
系より成るものが挙げられる。かかる（Ｂ）光重合開始
系としては、レーザー光線に感応する光重合開始系であ
れば、任意に選択して使用することができる。例えば従
来技術であげた光重合開始系を使用することができる。
好ましい組合せとしては、少なくとも（Ｂ−１）増感色
素と（Ｂ−２）開始剤の組合せから成るものが挙げられ
る。

【０００８】（Ｂ−１）増感色素の中で特に好ましいも
のとして下記の（Ｉ）、（II) 又は(III) の一般式で表
される３系統の増感色素が挙げられる。一般式（Ｉ）〜
（III)で表した増感色素は、単独で用いても２種以上を
併用してもよい。これらの増感色素を使用する場合、そ
の使用量を使用するレーザーの波長での光学濃度が0.２
〜0.５になるように添加することができる。光学濃度
は、化合物の吸光係数、膜厚に依存するため重量部とし
ての正確な記載ができないが、おおよそ、エチレン性不
飽和基を有する付加重合性化合物１００重量部に対し、
0.０５〜３０重量部に相当する。

【０００９】（Ｉ）、（II) 又は(III) の一般式で表さ
れる化合物として以下の化合物が挙げられる。 下記一般式（Ｉ）で表される化合物

【００１０】

【化１】

【００１１】（ただし、式中Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は互いに独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ
基、置換アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表
す。またＲ¹ 〜Ｒ⁴ はそれが結合する炭素原子と共に非
金属原子からなる環を形成していてもよい。Ｒ⁵ 、Ｒ⁶
は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘ
テロ芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表す。ま
たＲ⁵とＲ⁶ は共に非金属原子からなる環を形成してい
てもよい。ＸはＯ，Ｓ，ＮＨ、または置換基を有する窒
素原子を表す。Ｇ¹ ，Ｇ² は互いに同一でも異なってい
てもよく、各々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリ
ールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオ
ロスルホニル基を表す。ただし、Ｇ¹ とＧ² はそれが結
合する炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成して
いてもよい。） 下記一般式（II) で表される化合物

【００１２】

【化２】

【００１３】（ただし、式中Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ は同一でも異な
っていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリール基、置換アリール基、アルキニル基
または置換アルキニル基を表す。Ａは酸素原子、硫黄原
子、アルキル基またはアリール基により置換された炭素
原子、またはアルキル基２個に置換された炭素原子を表
す。Ｊは含窒素ヘテロ５員環を形成するのに必要な非金
属原子群を表す。Ｙはフェニル基、置換フェニル基、無
置換または置換されたヘテロ芳香族環を表す。Ｚ¹ Ｈ水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表し、Ｚ¹ とＹは互いに結合して環を生
成しても良い。） 下記一般式(III) で表される化合物

【００１４】

【化３】

【００１５】（ただし、式中Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³は互いに独立し
て水素原子、炭素数１〜６の非置換または置換アルコキ
シ基、炭素数１〜６の非置換または置換アルケニルオキ
シ基、炭素数１〜６の非置換または置換アルキルチオ
基、各アルキル基の炭素数が１〜４であるジアルキルア
ミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、または複素環基を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の２個または
３個と前記Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の置換基が結合されている環構成
炭素原子とが一緒になり各縮合環が５または６員環であ
る縮合環または縮合環系を形成してもよい。Ｒ⁹ は水素
原子、炭素数１〜４の非置換または置換アルキル基また
は炭素数６〜１２の非置換または置換アリール基、また
はＲ¹⁴−ＣＯ−を表す。ここで、Ｒ ¹⁴はアルコキシ基、
シクロアルコキシ基、水酸基、アリールオキシ基、アル
ケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカル
ボニルアルコキシ基、アルキルカルボニルアルコキシ
基、あるいは下記(III-a) 〜(III-c) で表される置換基
を表す。

【００１６】

【化４】

【００１７】Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁸は水素原子、アルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、シクロアルキル基を表し、ｍは
１〜５であり、ｎは０〜１０である。Ｑ¹ はシアノ基、
複素環、または−Ｚ² −Ｒ¹⁹を表す。ここでＲ¹⁹は炭素
数１〜１０の非置換または置換アルキル基、アルケニル
基、またはアルコキシ基、炭素数６〜１２の非置換また
は置換アリール基、炭素数６〜１２の非置換または置換
アリールオキシ基、または環を構成する炭素原子および
異原子が５〜１５個である非置換または置換複素環基、
または水酸基、アシル基を表す。Ｚ² はカルボニル基、
スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカル
ボニル基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_k （ｋは１または２）を表
す。）

【００１８】一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ のアル
キル基としては、メチル、エチル、ｔ−ブチル等炭素数
１〜２０個までのものを用いることができる。また、ア
リール基としては、フェニル等炭素数１〜１０個までの
ものを用いることができる。さらに、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ のアル
コキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等炭
素数１〜６個までのものを用いることができる。加え
て、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ の置換アミノ基としてはメチルアミノ、
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、
ピペリジノ、モルホリノ等炭素数１〜２０個を有するア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基を用いることができ
る。これらのアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基は、置換基を有し
ていても良い。また、置換基としては、フッ素、塩素、
臭素等のハロゲン原子、エトキシカルボニル基等のアル
コキシカルボニル基、メトキシ、エトキシ等のアルコキ
シ基、フェニルなどのアリール基、シアノ基等がある。
Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ がそれと結合させる炭素原子と共に非金属原
子からなる環を形成する場合、環を含む構造としては下
記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すものが挙げられる。

【００１９】

【化５】

【００２０】また、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ がアシル基の場合、アセ
チル、ベンゾイル等の炭素数１〜１０個のアルキル基、
アリール基を有するもの、アルコキシカルボニル基の場
合エトキシカルボニル等炭素数１〜６個のアルキル基を
有するものがあげられる。さらに、置換アルケニル基の
場合スチリル基等炭素数２〜１０個のものを、ヘテロ芳
香族基の場合、下記（Ｄ）〜（Ｆ）に示すものを用いる
ことができる。

【００２１】

【化６】

【００２２】また、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ は共にそれと結合させる
炭素原子と共に環を形成していても良い。例としては下
記（Ｇ）に示される構造が挙げられる。

【００２３】

【化７】

【００２４】Ｘが置換基を有する窒素の場合、置換基と
してはＲ¹ 〜Ｒ⁶ で挙げたアルキル基、アリール基と同
等のものを用いることができる。Ｇ¹ ，Ｇ² は互いに同
一でも異なっていてもよく、各々水素原子、シアノ基、
エトキシカルボニル基等の炭素数１〜１０個のアルキル
基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボ
ニル基等炭素数６〜１０個のアリール基を有するアリー
ルオキシカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基等
炭素数１〜６個のアシル基、ベンゾイル基等炭素数７〜
１１個のアリールカルボニル基、メチルチオ基、エチル
チオ基等炭素数１〜６個のアルキルチオ基、フェニルチ
オ基等炭素数６〜１０個のアリールチオ基、フェニルス
ルホニル基等の炭素数６〜１０個のアリールスルホニル
基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素
数１〜６個のアルキルスルホニル基、またはフルオロス
ルホニル基を表わす。これらのアルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリール
カルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリ
ールスルホニル基、アルキルスルホニル基は置換基を有
していても良く置換基としては、塩素等のハロゲン原
子、炭素数１〜６個のアルキル基を有するアルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、炭素数６〜１０個のアリ
ール基、炭素数１〜６個のアルコキシ基、シアノ基が挙
げられる。またアリールオキシカルボニル基、アリール
カルボニル基、アリールチオ基、アリールスルホニル基
の場合上記の置換基の外にメチル基等の炭素数１〜６個
のアルキル基も用いることができる。

【００２５】またＧ¹ とＧ² はそれが結合する炭素原子
と共に非金属原子から成る環を形成する場合、環として
は通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるもの
で以下のものを挙げることができる。 （ａ） １，３−ジカルボニル核、例えば１，３−イン
ダンジオン、１，３−シクロヘキサンジオン、５，５−
ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオン、１，３−ジ
オキサン−４，６−ジオンである。 （ｂ） ビラゾリノン核、例えば３−メチル−１−フェ
ニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−
ピラゾリン−５−オン、１−（２−ベンゾチアゾイル）
−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オンである。 （ｃ） イソオキサゾリノン核、例えば３−フェニル−
２−イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イ
ソオキサゾリン−５−オン等である。 （ｄ） オキシインドール核、例えば１−アルキル−
２，３−ジヒドロ−２−オキシインドールである。 （ｅ） ２，４，６−トリケトヘキサヒドロピリミジン
核、例えばバルビツル酸または２−チオバルビツル酸及
びその誘導体である。かかる誘導体としては、１−メチ
ル、１−エチル等の１−アルキル体、１，３−ジエチ
ル、１，３−ジブチル等の１，３−ジアルキル体、１，
３−ジフェニル、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）、
１，３−ジ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）等の
１，３−ジアリール体、１−エチル−３−フェニル等の
１−アルキル−３−アリール体などが挙げられる。
（ｆ） ２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核、例
えばローダニン及びそ の誘導体である。かかる誘導体としては３−エチルロー
ダニン、３−アリルローダニン等の３−アルキルローダ
ニン、３−フェニルローダニン等の３−アリールローダ
ニン等が挙げられる。 （ｇ） ２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン（２
−チオ−２，４−（３Ｈ，５Ｈ）−オキサゾールジオ
ン）核、例えば２−エチル−２−チオ−２，４−オキサ
ゾリジンジオンである。 （ｈ） チアナフテノン核、例えば３（２Ｈ）−チアナ
フテノンおよび３（２Ｈ）−チアナフテノン−１，１−
ジオキサイドである。 （ｉ） ２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核、例
えば３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオ
ンである。 （ｊ） ２，４−チアゾリジンジオン核、例えば２，４
−チアゾリジンジオン、３−エチル−２，４−チアゾリ
ジンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオ
ンである。 （ｋ） チアゾリジオン核、例えば４−チアゾリジノ
ン、３−エチル−４−チアゾリジノンである。 （ｌ） ４−チアゾリノン核、例えば２−エチルメルカ
プト−５−チアゾリン−４−オン、２−アルキルフェニ
ルアミノ−５−チアゾリン−４−オンである。 （ｍ） ２−イミノ−２−オキソゾリン−４−オン（凝
ヒダントイン）核である。 （ｎ） ２，４−イミダゾリジンジオン（ヒダントイ
ン）核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３−
エチル−２，４−イミダゾリジンジオンである。 （ｏ） ２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン（２
−チオヒダントイン）核、例えば２−チオ−２，４−イ
ミダゾリジンジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−
イミダゾリジンジオンである。 （ｐ） ２−イミダゾリン−５−オン核、例として２−
ｎ−プロピル−メルカプト−２−イミダゾリン−５−オ
ンである。 （ｑ） フラン−５−オンである。

【００２６】本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表
される化合物は、一般式（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）で表
される化合物および（Ｉ−ｃ）で表される化合物から合
成することができる。

【００２７】

【化８】

【００２８】（上式でＬ₁ ，Ｌ₂ はアルキル基、Ｚａ^-
はアニオンを表わす） 本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物の具
体例を下記に示す。

【００２９】

【化９】

【００３０】

【化１０】

【００３１】

【化１１】

【００３２】

【化１２】

【００３３】

【化１３】

【００３４】

【化１４】

【００３５】

【化１５】

【００３６】

【化１６】

【００３７】次に一般式（II）で表される増感色素につ
いて説明する。式（II) において、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ は水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
アルケニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、
置換アリール基、アルキニル基、置換アルキニル基を表
し、同じでも異なっていても良い。アルキル基としては
炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および
環状のアルキル基をあげることかでき、その具体例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メ
チルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル
基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、２−ノルボニル基をあげることができる。
これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、
炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子
数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。

【００３８】置換アルキル基の置換基としては、水素を
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリル−チオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリ−ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、

【００３９】Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、スルフォ基(-SO₃H)及びその共役塩基基（以下、ス
ルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリー
ロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキ
ルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リールスルフィナモイル基、

【００４０】スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−
アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基（−PO₃H₂)及びその共役塩基基（以
下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基
(-PO₃（アルキル)₂)、ジアリールホスフォノ基（−PO
₃(アリール)₂）、アルキルアリールホスフォノ基（−PO
₃(アルキル）（アリール) ）、モノアルキルホスフォノ
基（−PO₃H（アルキル））及びその共役塩基基（以後、
アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフ
ォノ基（−PO₃H（アリール）及びその共役塩基基（以
後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキ
シ基 (-OPO₃H₂)及びその共役塩基基（以後、ホスフォナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（-OPO₃ （アルキル)₂) 、ジアリールホスフォノオキシ
基（-OP0₃（アリール)₂）、アルキルアリールホスフォ
ノオキシ基（-OPO₃(アルキル))（アリール））、モノア
ルキルホスフォノオキシ基（-OPO₃H（アルキル）及びそ
の共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と
称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（-OPO₃H（ア
リール））及びその共役塩基基（以後、アリールフォス
ホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリー
ル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。こ
れらの置換基におけるアルキル基の具体例としては、前
述のアルキル基があげられ、アリール基の具体例として
は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニ
ル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル
基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホス
ホナトフェニル基等が挙げることができる。

【００４１】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブチニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等があげられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
あげられる。アシル基（RCO-) におけるＲとしては、水
素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げるこ
とができる。これら置換基の内、更により好ましいもの
としてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルフォ基、スルホナト基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジ
アリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、ア
ルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、ア
リールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォ
ナトオキシ基、アリール基、アルケニル基があげられ
る。

【００４２】具体例としては、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル
基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、ア
リルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオ
メチル基、トリルチオメチル基、エチルスミノエチル
基、ジエチルアミノプロピル基、モルフォリノプロピル
基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、
Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基，アセチルア
ミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル
基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カル
ボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリ
ルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボ
ニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカル
バモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメ
チル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルフォフェニル）カルバモイ
ルメチル基、スルフォブチル基、スルフォナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイル基、オ
クチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル
基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォ
ノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホス
フォナトブチル基、トリルホスフォノへキシル基、トリ
ルホスフォナトへキシル基、ホスフォノオキシプロピル
基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネ
チル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェ
ニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミン基、
アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、
２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、
２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等
を挙げることができる。

【００４３】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができる。また
置換アリール基の置換基としては、前述の置換アルキル
基の置換基を挙げることができる。これらの具体例とし
ては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナ
ントリル基、インデニル基、アセトナフテニル基、フル
オレニル基を挙げることができる。アルケニル基として
は、炭素原子数１〜２０までの直鎖状、分岐状および環
状のアルケニル基を挙げることができる。また置換アル
ケニル基の置換基としては、置換アルキル基で述べた置
換基を挙げることができ、これらの具体例としては、ビ
ニル基、１−ブロペニル基、１−ブテニル基、１−メチ
ル−１−プロペニル基、スチリル基、２−ペンテニル
基、２−シクロヘキシニル基などを挙げることができ
る。アルキニル基としては、炭素数１〜２０までの直鎖
状、分岐状のアルキニル基を挙げることができる。

【００４４】また置換アルキニル基の置換基としては、
置換アルキル基で述べた置換基を挙げることができ、こ
れらの具体例としては、エチニル、２−フェニルエチニ
ル、１−ブチニル基等を挙げることができる。アルコキ
シカルボニル基としては、炭素原子数１から１０までの
直鎖状、分岐状および環状のアルキル基がオキシカルボ
ニル基に結合した残基を挙げることができ、その具体例
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
sec −ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニ
ル基を挙げることができる。以上、Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ について
述べたが、本発明においてはアルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基が好適である。

【００４５】一般式（II）のＡは酸素原子、硫黄原子、
アルキル基又はアリール基により置換された炭素原子、
またはアルキル基２個に置換された炭素原子を表す。Ａ
中のアリール基、アルキル基としては、Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ にお
いて述べたものを挙げることができる。一般式（II）に
おいてＪがＡ、ＣおよびＮと協働して完成する含窒素五
員環の例としては、以下のものが挙げられる。

【００４６】

【化１７】

【００４７】（ａ−１）〜（ａ−４）の式中の置換基Ｅ
はハメットのρ値が−0.９から＋0.５までの範囲にある
ものである。その例としては、水素原子、メチル基、イ
ソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基、トリフル
オロメチル基、アセチル基、エトキシカルボニル基、カ
ルボキシル基、カルボキシラト基（−ＣＯＯ^- ）、アミ
ノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、アセチルアミノ基、−PO₃H
基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ
基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、メチルチオ基、エチ
ルチオ基、イソプロピルチオ基、メルカプト基、アセチ
ルチオ基、チオシアノ基（−ＳＣＮ）、メチルスルフィ
ニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、
エチルスルホニル基、アミノスルホニル基、ジメチルス
ルホニル基、（−Ｓ⁺ （ＣＨ₃)₂)、スルホナト基、(-Ｓ
Ｏ₂ ^- ) 、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子、
ヨージル基、トリメチルシリル基（−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃)、
トリエチルシリル基、トリメチルスタニル基（−Ｓn
（ＣＨ₃)₃)を挙げることができる。これらの置換基のう
ちで好ましいものは、水素原子、メチル基、エチル基、
メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、塩素原子、臭素原子である。

【００４８】一般式（II）におけるＹの例を以下に示
す。置換フェニル基の置換基としては上述のＥと同じも
のが挙げられる。多核芳香環としては、ナフチル基、ア
ンスリル基、フェナンスリル基が挙げられ、これらは上
述の置換基Ｅにより置換されていても良い。ヘテロ芳香
環の例としては２−フリル基、３−フリル基、２−チエ
ニル基、３−チエニル基、２−ピロリル基、３−ピロリ
ル基が挙げられ、これらは上述の置換基Ｅによって置換
されていても良い。また、一般式（II）におけるＺ¹ の
例を以下に述べる。アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基としては、一般式（II）のＲ⁷
とＲ⁸ の例として述べたものと同じものを挙げることが
できる。アルキルチオ基、アリールチオ基としては炭素
原子数１〜１０までの直鎖状、分岐状、および環状のア
ルキル基、炭素原子数１〜２０までのアリール基がチオ
基（イオウ原子）に結合した残基を挙げることができ、
その具体例としてはメチルチオ基、エチルチオ基、プロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、sec −ブチルチオ基、tert
−ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基など
を挙げることができる。

【００４９】アルコキシ基としては炭素原子数が１から
１０までの直線状、分岐状および環状のアルキル基がオ
キシ基（酸素原子）に結合した残基を挙げることがで
き、その具体例としてはメトキシル基、エトキシル基、
プロポキシル基、ブトキシル基、sec −ブトキシル基、
tert−ブトキシル基を挙げることができる。置換アミノ
基としては炭素数が１から１０までの直線状、分岐状お
よび環状のアルキル基により置換されたアミノ基を挙げ
ることができ、その具体例としてはジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基を挙げることが
できる。アシル基としては水素原子、炭素原子数１から
１０まで、好ましくは同じく１から６までの直線状、分
岐状または環状のアルキル基、フェニル基またはナフチ
ル基がカルボニルに結合した残基を挙げることができ、
その具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾイル基、ナ
フトイル基を挙げることができる。アルコキシカルボニ
ル基としては、炭素原子数１から１０までの直線状、分
岐状または環状のアルキル基がオキシカルボニル基に結
合した残基を挙げることができ、その具体例としては、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、sec −ブト
キシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基を挙げ
ることができる。また、ＹとＺ¹ とが互いに結合して形
成する環の例を以下に示す。

【００５０】

【化１８】

【００５１】

【化１９】

【００５２】一般式（II）で表される化合物群は、「Bu
ll. Soc. Chimie Belges」誌第５７巻第３６４〜３７２
頁（１９４８年）抄録：「Chemical Abstracts」誌第４
４巻第６０ｅ〜６１ｄ欄（１９５０年））に記載の方法
に従って合成することができる。以下に一般式（II）で
表される化合物の具体例を示す。

【００５３】

【化２０】

【００５４】

【化２１】

【００５５】

【化２２】

【００５６】

【化２３】

【００５７】

【化２４】

【００５８】

【化２５】

【００５９】

【表１】

【００６０】

【表２】

【００６１】次に、一般式（III)で表される増感色素に
ついて述べる。式中Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³は互いに独立して水素原
子、炭素数１〜６の非置換または置換アルコキシ基、炭
素数１〜６の非置換または置換アルケニルオキシ基、炭
素数１〜６の非置換または置換アルキルチオ基、各アル
キル基の炭素数が１〜４であるジアルキルアミノ基、水
酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、また
は複素環基を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の２個または３個と前記
Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の置換基が結合されている環構成炭素原子と
が一緒になり各縮合環が５または６員環である縮合環た
は縮合環系を形成してもよい。Ｒ⁹ は水素原子、炭素数
１〜４の非置換または置換アルキル基または炭素数６〜
１２の非置換または置換アリール基、またはＲ¹⁴−ＣＯ
−を表す。ここで、Ｒ ¹⁴はアルコキシ基、シクロアルコ
キシ基、水酸基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ
基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコ
キシ基、アルキルカルボニルアルコキシ基、あるいは
（III-a)〜（III-c)で表される置換基（Ｒ ¹⁵〜Ｒ¹⁸は水
素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキ
シアルコキシアルキル基、アルコキシアルキル基、シク
ロアルキル基を表す。）を表す。Ｑ¹ は−ＣＮ、複素
環、−Ｚ² −Ｒ¹⁹を示し、Ｒ¹⁹はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、イソブチル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシルおよびシクロペンチル、シクロヘキシル等のよう
なシクロアルキルを含む炭素数１〜１０のアルキル；置
換アルキル；フェニルのようなアリール；ニトロ、アル
コキシ、ハロゲン、カルボアルコキシ、アルキル、アリ
ール、カルボキシ、ヒドロキシ、アミノ、ジアルキルア
ミノまたはトリアルキルアンモニウム等の置換アミノ等
で置換された置換アリール；メトキシ、エトキシ、ブト
キシ等のアルコキシ；フェノキシ等のアリールオキシ；
環構成炭素および異原子の数が約５〜１５の複素環基、
例えば式

【００６２】

【化２６】

【００６３】（式中、Ｒ⁴¹はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓ−ブチル等を含む炭素数１〜４のアルキルであり、Ｘ
^- はＦＳＯ₃ ^- 、Ｂr₄ ^- 、ｐ−トルエンスルホネート、
ハロゲン（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）等を含む陰イオン
である）のピリジニウム；ニコチニル；ニコチニウム；
フリル；２−ベンゾフラニル；２−チアゾリル；２−チ
エニル等；または式

【００６４】

【化２７】

【００６５】（式中Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁶は上記の置換基と同様な
基から選ばれる）で表わされる３−置換クマリニル、ア
セチルなどのアシル基であり、Ｚ² はカルボニル、スル
ホニル、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル
から選ばれる結合基である。Ｒ¹⁹のアリール基として
は、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等が挙げら
れる。また、複素環としては下式のような構造を有する
ものを挙げることができる。

【００６６】

【化２８】

【００６７】ここで、Ｍは−ＣＨ又は窒素原子、Ｔは−
ＣＨ₂ −、ＮＨ、Ｓを表し、Ｗは、１核又は２核の縮合
多環芳香族炭化水素残基もしくは１核又は２核の芳香族
複素環基を表す。具体的には、

【００６８】

【化２９】

【００６９】等を挙げることができる。式(III) の増感
色素の例としては、以下のものを挙げることができる。 ３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン ３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−６−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−８−エトキシクマリン ７−メトキシ−３−（ｐ−ニトロベンゾイル）クマリン ３−ベンゾイルクマリン ３−（ｐ−ニトロベンゾイル）クマリン ３−ベンゾイルベンゾ〔ｆ〕クマリン ３，３′−カルボニルビス（７−メトキシクマリン） ３−アセチル−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−６−ブロモクマリン ３，３′−カルボニルビスクマリン ３−ベンゾイル−７−ジメチルアミノクマリン ３，３′−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン） ３−カルボキシクマリン ３−カルボキシ−７−メトキシクマリン ３−エトキシカルボニル−６−メトキシクマリン ３−エトキシカルボニル−７−メトキシクマリン ３−アセチルベンゾ〔ｆ〕クマリン ３−アセチル−７−メトキシクマリン ３−（１−アダマントイル）−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−７−ヒドロキシクマリン ３−ベンゾイル−６−ニトロクマリン ３−ベンゾイル−７−アセトクマリン ３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン ７−ジメチルアミノ−３−（４−ヨードベンゾイル）ク
マリン ７−ジメチルアミノ−３−（４−ジエチルエミノベンゾ
イル）クマリン ７−メトキシ−３−（４−メトキシベンゾイル）クマリ
ン ３−（４−ニトロベンゾイル）ベンゾ〔ｆ〕クマリン ３−（４−エトキシシンナモイル）−７−メトキシクマ
リン ３−（４−ジメチルアミノシンナモイル）クマリン ３−（４−ジフェニルアミノシンナモイル）クマリン ３−〔（３−メチルベンゾチアゾール−２−イリデン）
アセチル〕クマリン ３−〔（１−メチルナフト〔１，２−ｄ〕チアゾール−
２−イリデン）アセチル〕クマリン ３，３′−カルボニルビス（６−メトキシクマリン） ３，３′−カルボニルビス（７−アセトキシクマリン） ３，３′−カルボニルビス（７−ジメチルアミノクマリ
ン） ３，３′−カルボニルビス（５，７−ジイソプロポキ
シ）クマリン ３，３′−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキ
シ）クマリン ３，３′−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−ブトキ
シ）クマリン ３−シアノ−６−メトキシクマリン ３−シアノ−７−メトキシクマリン ７−メトキシ−３−フェニルスルホニルクマリン ７−メトキシ−３−フェニルスルフィニルクマリン １，４−ビス（７−ジエチルアミノ−３−クマリルカル
ボニル）ベンゼン ７−ジエチルアミノ−５′，７′−ジメトキシ−３，
３′−カルボニルビスクマリン ７−ジメチルアミノ−３−テノイルクマリン ７−ジエチルアミノ−３−フロイルクマリン ７−ジエチルアミノ−３−テノイルクマリン ３−ベンゾイル−７−（１−ピロリジニル）クマリン ５，７，６′−トリメトキシ−３，３′−カルボニルビ
スクマリン ５，５，７′−トリメトキシ−３，３′−カルボニルビ
スクマリン ７−ジエチルアミノ−６′−メトキシ−３，３′−カル
ボニルビスクマリン ３−ニコチノイル−７−メトキシクマリン ３−（２−ベンゾフラニルカルボニル）−７−メトキシ
クマリン ３−（７−メトキシ−３−クマリノイル）−１−メチル
ピリミジウムフロロサルフェート ３−（５，７−ジエトキシ−３−クマリノイル−１−メ
チルピリミジウムフロロポレート Ｎ−（７−メトキシ−３−クマリノイルメチル）ピリジ
ニウムプロミド ９−（７−ジエチルアミノ−３−クマリノイル）−１，
２，４，５−テトラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ〔１〕
ベンゾピラノ〔ａ，９ａ・１−ｇｈ〕キノラジン−１０
−オン 及び、下記化学式（III-1)〜（III-15) で表される化合
物である。

【００７０】

【化３０】

【００７１】

【化３１】

【００７２】（Ｂ−２）次に、好ましいラジカル重合開
始剤について説明する。ラジカル重合開始剤は特に制限
されるものではないが、下記（イ）〜（ヌ）に示される
化合物が好ましい。 （イ）炭素−ハロゲン結合を有する化合物 （ロ）下記一般式（IV）で示されるケトン化合物

【００７３】

【化３２】

【００７４】（ただしＡｒは下記（IV-a）または（IV-
b）で表される芳香族基であり、またＲ ²⁰、Ｒ²¹は水素
原子またはアルキル基を表し、またＲ²⁰、Ｒ²¹は互いに
連結してアルキレン基を表してもよい。

【００７５】

【化３３】

【００７６】上記式中Ｒ²²〜Ｒ²⁵は互いに同一でも異な
っていてもよく、各々水素原子、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、
水酸基、アルコキシ基、−Ｓ−Ｒ²⁵基、−ＳＯ−Ｒ
²⁸基、−ＳＯ₂ −Ｒ²⁸基を表すが、Ｒ²²〜Ｒ²⁶の少なく
とも一つは−Ｓ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ₂ −
Ｒ ²⁸であり、Ｒ²⁸はアルキル基、アルケニル基を表す。
Ｒ²⁷は水素原子、アルキル基またはアシル基を表し、Ｙ
¹ は水素原子または

【００７７】

【化３４】

【００７８】を表す。Ｒ²⁹は前記Ｒ²⁰と、またＲ³⁰は前
記Ｒ²¹と同義である。） （ハ）下記一般式（Ｖ）で表されるケトオキシム化合物

【００７９】

【化３５】

【００８０】（ただし式中Ｒ³¹，Ｒ³²は同一でも異なっ
ていてもよく、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい
炭化水素基あるいはヘテロ環基を表す。Ｒ³³，Ｒ³⁴は同
一でも異なっていてもよく、置換基、不飽和結合を含ん
でいてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、
置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また
Ｒ³³，Ｒ³⁴は互いに結合して環を形成し、−Ｏ−，−Ｎ
Ｒ³⁷−，−Ｏ−ＣＯ−，−ＮＨ−ＣＯ−，−Ｓ−および
／または、−ＳＯ₂ −を環の連結主鎖に含んでいてもよ
い炭素数２〜８のアルキレン基を表す。Ｒ³⁷は水素原
子、または置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭化
水素基、あるいは置換カルボニル基を表す。Ｒ³⁵，Ｒ³⁶
は水素原子、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基、あるいは置換カルボニル基を示す。 （ニ）有機過酸化物 （ホ）下記一般式（VI）で表されるチオ化合物

【００８１】

【化３６】

【００８２】（ただし式中Ｒ³⁸はアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示し、Ｒ³⁹は水素原子または
アルキル基を示す。またＲ³⁸とＲ³⁹は互いに結合して酸
素、硫黄、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでも
よい５員〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を
表す。） （ヘ）ヘキサアリールビイミダゾール （ト）芳香族オニウム塩 （チ）ケトオキシムエステル （リ）Ｎ−フェニルグリシン （ヌ）チタノセン化合物

【００８３】上記（イ）炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、下記一般式（VII)〜（XIII) で示される
化合物が好ましい。 一般式（VII ）

【００８４】

【化３７】

【００８５】（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。Ｙ²
は−ＣＸ₃ 、−ＮＨ₂ 、−ＮＨＲ⁴⁷、−ＮＲ⁴⁷、−ＯＲ
⁴⁷を表わす。ここでＲ⁴⁷はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ⁴⁸は
−ＣＸ₃ 、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。）で表わ
される化合物。 一般式（VIII）

【００８６】

【化３８】

【００８７】（ただし、Ｒ⁴⁹は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘはハ
ロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で表わ
される化合物。

【００８８】一般式（IX) Ｒ⁵⁰−Ｚ³ −ＣＨ_2-m Ｘ_m −Ｒ⁵¹ (IX) （ただし、Ｒ⁵⁰は、アリール基又は置換アリール基であ
り、Ｒ⁵¹は−ＣＯ−ＮＲ ⁵²Ｒ⁵³、または、

【００８９】

【化３９】

【００９０】又はハロゲンであり、Ｚ³ は−ＣＯ−、−
ＣＳ−又は−ＳＯ₂ −であり、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³はアルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ⁵⁴は一般
式（VII)中のＲ⁴⁷と同じであり、ｍは１又は２であ
る。）で表わされる化合物。 一般式（Ｘ）

【００９１】

【化４０】

【００９２】ただし、式中Ｒ⁵⁵は置換されていてもよい
アリール基又は複素環式基であり、Ｒ⁵⁶は炭素原子１〜
３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニ
ル基であり、ｐは１、２又は３である。 一般式（XI）

【００９３】

【化４１】

【００９４】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ⁵⁷) _n （ＣＸ₃)_m で表される置換基（ｎは０〜２で
あり、ｍは１〜３である）であり、Ｄは置換又は非置換
のアルキレン基であり、Ｑ² はイオウ、セレン又は酸素
原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレ
ン基、１，２−フェニレン基又はＮ−Ｒ⁵⁶基であり、Ｄ
＋Ｑ² は一緒になって３又は４異環を形成し、Ｒ⁵⁸はア
ルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であ
り、Ｒ⁵⁷は炭素環式又は複素環式の芳香族基であり、Ｘ
は塩素、臭素又はヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１
であるか又はｑ＝１及びｒ＝１又は２である。）で表わ
される、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチ
レン複素環式化合物。 一般式（XII)

【００９５】

【化４２】

【００９６】（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｔは
１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ⁵⁹は
水素原子又はＣＨ_3-t Ｘ_t 基であり、Ｒ⁶⁰はｓ価の置換
されていてもよい不飽和有機基である）。で表わされ
る、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）
−オキサゾール誘導体。 一般式（XIII）

【００９７】

【化４３】

【００９８】（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｖは
１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ⁶¹は
水素原子又はＣＨ_3-v Ｘ_v 基であり、Ｒ⁶²はｕ価の置換
されていてもよい不飽和有機基である）。で表わされ
る、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。

【００９９】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、たとえば、若林ら著、Bull. Chem. Soc.
Japan, 42, 2924 (1969) 記載の化合物、たとえば、２
−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−
（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（ト
リクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル
−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロル
メチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−ト
リアジン等が挙げられる。その他、英国特許第1388492
号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル−４，
６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメ
チル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６
−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭53−13
3428号公報記載の化合物、たとえば、２−（４−メトキ
シ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメ
チル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−
１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−ト
リアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト
−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−
トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−
イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリア
ジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−
トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許第3337
024 号明細書記載の化合物、たとえば下記の化合物を挙
げることができる。

【０１００】

【化４４】

【０１０１】

【化４５】

【０１０２】また、F. C. Schaefer等による J. Org. C
hem. ; 29, 1527 (1964)記載の化合物、たとえば２−メ
チル−４，６−ビス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２，４，６−トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−
トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロムメチル）−
Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブ
ロムメチル−Ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチ
ル−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げる
ことができる。更に特開昭62−58241 号公報記載の化合
物、たとえば下記の化合物を挙げることができる。

【０１０３】

【化４６】

【０１０４】

【化４７】

【０１０５】更に特開昭５−281728号公報記載の化合
物、例えば下記の化合物等を挙げることができる。

【０１０６】

【化４８】

【０１０７】あるいはさらに M. P. Hutt, E. F. Elsla
ger および L. M. Werbel 著 Journal of Heterocyclic
Chemistry 第７巻（No.3) 、第５１１頁以降（１９７
０年）に記載されている合成方法に準じて当業者が容易
に合成することができる次のような化合物群を挙げるこ
とができる。

【０１０８】

【化４９】

【０１０９】

【化５０】

【０１１０】

【化５１】

【０１１１】

【化５２】

【０１１２】

【化５３】

【０１１３】

【化５４】

【０１１４】

【化５５】

【０１１５】

【化５６】

【０１１６】

【化５７】

【０１１７】あるいは、ドイツ特許第2641100 号明細書
に記載されているような化合物、例えば、４−（４−メ
トキシ−スチリル）−６−（３，３，３−トリクロルプ
ロペニル）−２−ピロン及び４−（３，４，５−トリメ
トキシ−スチリル）−６−トリクロルメチル−２−ピロ
ン、あるいはドイツ特許第333450号明細書に記載されて
いる化合物、例えば、

【０１１８】

【化５８】

【０１１９】あるいはドイツ特許第3021590 号明細書に
記載の化合物群、

【０１２０】

【化５９】

【０１２１】あるいはドイツ特許第3021599 号明細書に
記載の化合物群、例えば、

【０１２２】

【化６０】

【０１２３】を挙げることができる。

【０１２４】次に、上記（ロ）の一般式（IV）で示され
るケトン化合物について説明する。式中、Ｒ²⁰、Ｒ²¹は
水素原子もしくは炭素原子数１〜８のアルキル基を示
す。またＲ²⁰、Ｒ²¹は結合してアルキレン基を表しても
よい。Ａｒである（IV-a) 及び（IV-b) 中のＲ²²−Ｒ²⁶
は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜１２のアルケ
ニル基、アリール基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ
基、水酸基、−Ｓ−Ｒ ²⁸基、−ＳＯ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ₂
−Ｒ²⁸基を表し、Ｒ²⁷は水素原子、または炭素原子数１
〜１２のアルキル基、または炭素原子数２〜１３のアシ
ル基を示す。これらのアルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アシル基は更に炭素原子数１〜６の置換基で置
換されていても良い。Ｙ¹ 中のＲ²⁹はＲ²⁰と、またＲ³⁰
はＲ²¹と同義である。具体的な例としては、米国特許4,
318,791 号、欧州特許0284561 Ａ号各明細書に記載の下
記化合物を挙げることができる。

【０１２５】

【化６１】

【０１２６】

【化６２】

【０１２７】次に、上記（ハ）の一般式（Ｖ）で示され
るケトオキシム化合物について説明する。式中、Ｒ³¹、
Ｒ³²は同一または異なり、置換基を有していても良く不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは、ヘテ
ロ環基を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴は同一または異なり、水素原
子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいて
も良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換
オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また、Ｒ
³³、Ｒ³⁴は互いに結合して環を形成し、−Ｏ−、−ＮＲ
³⁷−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−、及び−ＳＯ₂ −を環の連
結主鎖に含んでいても良い炭素数２から８のアルキレン
基を表す。Ｒ³⁷は水素原子、または置換基、不飽和結合
を含んでいてもよい炭化水素基、あるいは置換カルボニ
ル基を表す。Ｒ³⁵、Ｒ³⁶は水素原子、置換基を有してい
ても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或
いは置換カルボニル基を表す。具体的な化合物として、
以下のものを挙げることができるがこれに限定されるも
のではない。

【０１２８】

【化６３】

【０１２９】

【化６４】

【０１３０】

【化６５】

【０１３１】

【化６６】

【０１３２】

【化６７】

【０１３３】上記（ニ）の有機過酸化物としては、分子
中に酸素−酸素結合を有する化合物を挙げることができ
る。例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイ
ド、１，１−ビス（ターシャリィブチルパーオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス
（ターシャリィブチルパーオキシ）シクロヘキサン、
２，２−ビス（ターシャリィブチルパーオキシ）ブタ
ン、ターシャリィブチルハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハ
イドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサ
イド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロ
パーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジターシャリィブチルパーオ
キサイド、ターシャリィブチルクミルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリィブチルパ
ーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−
２，５−ジ（ターシャリィブチルパーオキシ）ヘキサ
ン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリィブチ
ルパーオキシ）ヘキシン−３、アセチルパーオキサイ
ド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオ
キサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、

【０１３４】２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチ
ル）パーオキシジカーボネート、ターシャリィブチルパ
ーオキシアセテート、ターシャリィブチルパーオキシピ
バレート、ターシャリィブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ターシャリィブチルパーオキシオクタノエート、
ターシャリィブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチ
ルヘキサノエート、ターシャリィブチルパーオキシラウ
レート、ターシャリィブチルパーオキシベンゾエート、
ジターシャリィブチルパーオキシイソフタレート、２，
５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘ
キサン、ターシャリィブチル過酸化マレイン酸、ターシ
ャリィブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、
３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシ
カルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テ
トラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，
４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，３′、４，４′−テトラ（クミル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′、
４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブ
チルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ
（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等があ
る。

【０１３５】これらの中で、３，３′，４，４′−テト
ラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′
−テトラ−（ｔ−キシルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−オクチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｐ−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。

【０１３６】上記（ホ）チオ化合物は、前記一般式（V
I）で示される。一般式（VI）におけるＲ³⁸、Ｒ³⁹のア
ルキル基としては炭素原子数１〜４個ののが好ましい。
またＲ³⁸のアリール基としてはフェニル、ナフチルのよ
うな炭素原子数６〜１０個のものが好ましく、置換アリ
ール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子の
ようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換され
たものが含まれる。

【０１３７】一般式（VI）で示されるチオ化合物の具体
例としては、下表に示すような化合物が挙げられる。

【０１３８】

【表３】

【０１３９】

【表４】

【０１４０】

【表５】

【０１４１】本発明に使用される成分（へ）のヘキサア
リールビイミダゾールとしては、２，２′−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニ
ル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，
５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）
−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス
（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ケトオキシムエステルとしては、３−ベンゾイロキシイ
ミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−
２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−
オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−
アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、
２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパンー１
−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−
１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。

【０１４２】また、上記（ト）芳香族オニウム塩として
は、周期律表の第Ｖ、VI及びVII 族の元素、具体的には
Ｎ、Ｐ、As、Sb、Bi、Ｏ、Ｓ、Se、Te、またはＩの芳香
族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩
としては、特公昭52−14277号、特公昭52−14278 号、
特公昭52−14279 号各公報に示されている化合物を挙げ
ることができ、具体的には、以下の化合物を挙げること
ができる。

【０１４３】

【化６８】

【０１４４】

【化６９】

【０１４５】

【化７０】

【０１４６】

【化７１】

【０１４７】

【化７２】

【０１４８】

【化７３】

【０１４９】

【化７４】

【０１５０】これらの中で好ましいものは、ＢＦ₄ 塩、
又はＰＦ₄ 塩の化合物さらに好ましくは芳香族ヨードニ
ウム塩のＢＦ₄ 塩、又はＰＦ₄ 塩である。

【０１５１】上記（チ）ケトオキシムエステルとして
は、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−
アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニル
オキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノ
ペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−
１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−
オン等が挙げられる。

【０１５２】上記（ヌ）チタノセン化合物は、前記した
増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを
発生し得るチタノセン化合物であれば、例えば、特開昭
59−152396号、特開昭60−151197号公報に記載されてい
る公知の化合物を適宜選択して用いることができる。更
に具体的には、ジーシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−
クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，
５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオ
ロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロ
フェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−
イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペ
ンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピ
リ−１−イル）フェニル）チタニウム等を挙げることが
できる。

【０１５３】これらの（イ）〜（ヌ）のラジカル重合開
始剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることがで
きる。使用量はエチレン性不飽和化合物１００重量部に
対して0.０５〜１００重量部、好ましくは１〜８０重量
部、更に好ましくは３〜５０重量部の範囲が適当であ
る。光感光性組成物中のこれらの光重合開始系の含有濃
度は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合
には有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発
明において使用される光重合開始系の量は、光重合可能
なエチレン性不飽和化合物と必要に応じて添加される線
状有機高分子重合体との合計に対して0.０１重量％から
６０重量％の範囲で使用するのが好ましい。より好まし
くは、１重量％から３０重量％で良好な結果を得る。

【０１５４】（Ａ） 次にエチレン性不飽和結合を有す
る付加重合可能な化合物について説明する。エチレン性
不飽和基を含有する付加重合可能な化合物は、末端エチ
レン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以
上有する化合物の中から任意に選択することができる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量
体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそ
れらの共重合体などの化学的形態をもつものである。モ
ノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボ
ン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と
脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カル
ボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげら
れる。

【０１５５】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【０１５６】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【０１５７】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。

【０１５８】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。 ＣＨ₂ ＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ （Ａ） （ただし、ＲおよびＲ’は、ＨあるいはＣＨ₃ を示
す。）

【０１５９】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０
８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、全成分に対して５〜７０
重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜４０
％である。

【０１６０】上記光重合性組成物には、バインダーとし
ての線状有機高分子重合体を含有させることが好まし
い。このような「線状有機高分子重合体」としては、光
重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有してい
る線状有機高分子重合体である限り、どれを使用しても
よい。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能
とする水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である
線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重
合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、
弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤としての用途に応じて
選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高分子
重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合
体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３
４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−
２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９
−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載され
ているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリ
ル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合
体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共
重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有す
る酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有す
る付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有
用である。

【０１６１】特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アク
リレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メ
タ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じて
その他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適で
ある。この他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニ
ルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用であ
る。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶
性ポリアミドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等
も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組成
中に任意な量を混和させることができる。しかし９０重
量％を超える場合には形成される画像強度等の点で好ま
しい結果を与えない。好ましくは３０〜８５％である。
また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高
分子重合体は、重量比で１／９〜７／３の範囲とするの
が好ましい。より好ましい範囲は３／７〜５／５であ
る。

【０１６２】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。熱重合
禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜
約１０重量％が好ましい。更に感光層の着色を目的とし
て、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例え
ば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、ク
リスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系
染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量
は全組成物の約０．５重量％〜約５重量％が好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤
やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリク
レジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよ
い。可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジド
デシルフタレート、トリエチレングリコールカプリレー
ト、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホス
フェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケー
ト、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用し
た場合、エチレン性化合物と結合剤との合計重量に対し
１０％以下添加することができる。

【０１６３】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。その被覆
量は乾燥後の重量で約０．２ｇ／ｍ² 〜約５ｇ／ｍ² の
範囲が適当である。より好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ²
である。

【０１６４】本発明に用いられる支持体としては、寸度
的に安定な板状物が用いられる。該寸度的に安定な板状
物とていは、紙、プラスチック（例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされ
た紙、または例えばアルミニウム（アルミニウム合金を
含む）、亜鉛、胴などのような酸セルロース、酪酸セル
ロース、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどが挙げられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭４８−１８３
２７号に記載されているようなポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合
体シートも好ましい。

【０１６５】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、フッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされ
ていることが好ましい。さらに、砂目立てしたのちに珪
酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が
好ましく使用できる。特公昭４７−５１２５号に記載さ
れているようにアルミニウム支持体を陽極酸化処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
のが好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、
燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚
酸、スルファミン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶
液または非水溶液の単独または二種以上を組み合わせた
電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこと
により実施される。

【０１６６】また、米国特許第３，６５８，６６２号に
記載されているようなシリケート電着も有効である。更
に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５８６０
２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されているよう
な電解グレインを施したアルミニウム支持体と、上記陽
極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。また、特開昭５６−２８８９３号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電界
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。更にこれらの処理を行った後
に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スル
ホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリア
クリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、
黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
更に特願平５−３０４３５８号に開示されているような
ラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結
合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。

【０１６７】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。支持体上
に設けられた光重合性組成物の層の上には、空気中の酸
素による重合禁止作用を防止するため、例えばポリビニ
ルアルコール特にケン化度９．９％以上のポリビニルア
ルコール、酸性セルロース類などのような酸素遮断性に
優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。この様
な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，
４５８，３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく
記載されている。

【０１６８】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明するが、本発明はこの実施例によって限定されるも
のではない。 ［実施例１〜６、比較例１および２］厚さ０．３０ｍｍ
のアルミニウム板をナイロンブラシと４００メッシュの
パミストンの水懸濁液とを用い、その表面を砂目立てし
た後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７
０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後、２０％硝酸で中和洗浄し、ついで水洗した。これを
Ｖ_A ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて１％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄｍ ² の陽極
時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ、０．５μｍ（Ｒａ表示）であった。引き
続いて３０％の硫酸水溶液に浸漬し５５℃で２分間デス
マットした後、２０％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄ
ｍ² において陽極酸化皮膜の厚さが２．７ｇ／ｍ² にな
るように２分間陽極酸化処理を行った。

【０１６９】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布重量が表６に記
載される量になるように塗布し、８０℃２分間乾燥させ
感光層を形成させた。 ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．５ ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ２．０ ｇ （共重合モル比８０／２０） 増感色素（表１に記載） ｘ ｇ 本文中Ｖ−３の化合物 ０．５ ｇ ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６− ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム ０．２５ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤 ０．０３ｇ メチルエチルケトン １５ ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル １５ ｇ

【０１７０】この感光層上にポリビニルアルコール（懸
化度８８モル％、重合度１０００）の３％水溶液を乾燥
塗布重量が２ｇ／ｍ² になるように塗布し、１００℃２
分間乾燥させた。また、感光層の光学濃度は１００μｍ
のＰＥＴフイルム上に、アルミニウム基板と同じ乾燥塗
布量になるように各感光性組成物を塗布、乾燥し、紫外
可視分光光度計により測定した。上記のごとくして得た
印刷版をプレートセッター、グーテンベルグ（ハイデル
社製）（走査露光角度：１８０度）に取り付け、版面上
の光量が０．２ｍＪ／ｍ ² 、２４００ｄｐｉ、１７５線
の条件でベタ画像および５０％平網の画像を露光した。
またベタ画像を描画する版材の位置に、版材上にグレイ
スケールを貼り、感度の指標とした。その後１００℃１
分間加熱を行い、下記の現像液に、２０秒浸漬して現像
した。 １Ｋケイ酸カリウム ３０ ｇ 水酸化カリウム １５ ｇ Ｃ₁₂Ｈ₂₅−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｏ−Ｃ₆ Ｈ₄ −ＳＯ₃ Ｎａ ３ ｇ 水 １０００ ｇ その後、乾燥して、網点のフリンジの確認、平網部のム
ラの程度、ベタ対面のカブリ、感度（グレイスケール段
数）について評価した。結果を表６に示す。

【０１７１】

【表６】

【０１７２】表６からわかるように、光学濃度が０．２
より小さい感光層を用いる平版印刷版作製方法（比較例
１）では、感度は良好（グレイスケール段数：９）であ
ったが、網点のフリンジが多く、また平網画像は不均一
であり、またベタ対面のカブリも生じていた。また、光
学濃度が０．５より大きい感光層を用いる平版印刷版作
製方法（比較例２）では、網点のフリンジ、平網均一性
及びベタ対面のカブリは良好であったが、感度が著しく
低く（グレイスケール段数：３）、印刷において小点の
消失が見られた。これに対し、光学濃度が０．２〜０．
５の感光層を用いた場合には、いずれも網点のフリンジ
が小さく、平網均一性が良好であり、ベタ対面のカブリ
を生じず、かつ感度も良好（グレイスケール段数：７〜
１１）であった。

【０１７３】

【発明の効果】以上のように、本発明の平版印刷版作製
方法によると、アルゴンレーザーの発振波長である４８
８ｎｍ付近、ＦＤ−ＹＡＧレーザーの発振波長である５
３２ｎｍ付近の光により、走査露光角度が１５０度以上
のインナードラムタイプのレーザー露光機を用いて光重
合型平版印刷版を露光する場合に非常に高感度でかつ露
光ラチチュードが広く、カブリ等の画質不良を生じない
平版印刷版を得ることができるＣＴＰ平版印刷版を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明において用いられるインナード
ラムタイプのレーザー露光機の略斜視図である。

【図２】図２は、図１のインナードラムタイプのレーザ
ー露光機をレーザー発生装置の方向から見た断面図であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土屋 光正 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA04 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 BC51 BJ00 FA10 FA15 2H096 AA06 BA05 EA04 EA16 GA02 2H097 AA16 AB08 CA17 FA02 LA03

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー露光により平版印刷版を作製す
   る方法であって、走査露光角度が１５０度以上であるイ
   ンナードラムタイプのレーザー露光機を用いて、使用す
   るレーザー波長での光学濃度が０．２〜０．５である光
   重合性組成物層を設けてなる光重合型平版印刷版を露光
   することを特徴とする上記平版印刷版の作製方法。