JP2000038411A - オレフィン重合用触媒及びポリオレフィンの製造方法 - Google Patents

オレフィン重合用触媒及びポリオレフィンの製造方法

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JP2000038411A
JP2000038411A JP21010798A JP21010798A JP2000038411A JP 2000038411 A JP2000038411 A JP 2000038411A JP 21010798 A JP21010798 A JP 21010798A JP 21010798 A JP21010798 A JP 21010798A JP 2000038411 A JP2000038411 A JP 2000038411A
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JP21010798A
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Shuji Machida
修司 町田
Yutaka Minami
裕 南
Yasuhiro Goto
康博 後藤
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶融張力が高く、樹脂相溶性に優れ、嵩密度
の高いポリオレフィンをを提供すること。 【解決手段】 (A)シクロペンタジエニル基を有する
周期律表第4族の遷移金属化合物の中から選ばれた一種
と、(B)(B−1)アルミニウムオキシ化合物、(B
−2)上記遷移金属化合物と反応してカチオンに変換し
うるイオン性化合物及び(B−3)粘土,粘土鉱物及び
イオン交換性層状化合物の中から選ばれた少なくとも一
種を、上記遷移金属化合物1g当たり0.01g〜50k
gの割合で予備重合してなり、極限粘度〔η〕が0.1〜
20デシリットル/gの範囲にあり、かつ極限粘度
〔η〕と末端ビニル濃度C(個/炭素原子1000個)
との積〔η〕・Cが0.05〜1.1の範囲にあることを特
徴とする予備重合触媒の存在下又は該予備重合触媒に有
機アルミニウム化合物を加えたものの存在下、炭素数2
〜20のα−オレフィン、環状オレフィン及びスチレン
系単量体から選ばれた少なくとも一種を重合又は共重合
することによりポリオレフィンを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリオレフィンの
製造方法に関し、さらに詳しくは、溶融張力が高く、樹
脂相溶性に優れ、嵩密度の高いポリオレフィンを、安価
に、かつ効率よく製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ポリオレフィンは、その優れた特性を活
かして、多くの分野において、広範囲に用いられてい
る。しかしながら、従来のポリオレフィンにおいては、
溶融張力及び溶融粘弾性が不足し、ドローダウンの現象
が起こりやすく、大型ブロー成形におけるパリソンの安
定性に劣るために、大型部品の成形は困難であった。ま
た、溶融張力を向上させるために高分子量化させた場合
には、溶融流動性が低下し、複雑な形状の成形には適用
できないという問題が生じる。
【0003】また、発泡成形体の分野においては、軽量
化,断熱性,制振性などとともに、耐熱性を有する発泡
成形体に対する要求が高まり、ポリプロピレン系発泡成
形体が期待されているが、従来のポリプロピレンでは溶
融張力が不足し、十分に満足しうる発泡成形体は得られ
にくいのが実状である。このポリプロピレンの利用分野
をさらに拡大させるためには、押出成形加工性の改良が
必要である。従来、ポリオレフィンの溶融加工性を改善
しようとする試みが種々なされており、例えば、ポリオ
レフィンの製造時における重合触媒や重合処方を改良し
て、その分子量分布を拡大することにより、溶融加工性
を改善する方法、ポリオレフィンを部分的に架橋させて
溶融加工性を改善する方法などが試みられている。
【0004】一方、エチレン系重合体においては、最
近、メタロセン触媒とアルミノキサンなどを組み合わせ
た触媒系によって、分子量分布が狭いにもかかわらず、
溶融張力が改良されたエチレン系重合体が提案されてい
る(特開平4−213306号公報)。また、拘束幾何
型触媒により製造されるエチレン系重合体についても、
同様に分子量分布が狭いにもかかわらず、溶融張力が改
良されることが開示されており(特開平3−16308
8号公報)、長鎖分岐の存在が示唆されている。しかし
ながら、未だ溶融張力向上により押出成形加工性の向上
は小さいものである。また、ポリスチレン系樹脂では、
ポリエチレン系樹脂やポリプロピレン系樹脂と比較して
溶融張力は高いものの、深絞りのシート成形等において
は、未だ性能不足である。
【0005】一般に、ポリマー鎖に長鎖分岐を導入する
と、その分岐により溶融加工特性が向上するが、主鎖ポ
リマーと異なる単量体で分岐鎖を構成した分岐ポリマー
では、異種ポリマーからなるいわゆる複合材料分野で、
異種ポリマー間の界面張力を低下させてポリマーの分散
性を高め、衝撃強度と剛性といった両立しがたい物性を
効果的に付与することが可能である。また、ミクロ相分
離構造をとるため各種エラストマーへの応用も可能であ
る。しかし、今まで、ポリオレフィン分野においては、
分岐を導入することには制限があるため、用途展開の限
界があった。これが可能となれば、ポリオレフィンが本
来有している優れた機械物性、リサイクル性に代表され
る環境適合性より、その用途分野が大きく拡大すると期
待される。
【0006】ところで、ポリオレフィンの溶融張力を改
良し、溶融加工特性を向上させる方法としては、これま
で、(1)溶融張力の高い高分子量の高密度ポリエチレ
ンを混合する方法(特公平6−55868号公報)、
(2)クロム系触媒によって製造される溶融張力の高い
高密度ポリエチレンを混合する方法(特開平8−924
38号公報)、(3)一般的な高圧ラジカル重合法によ
り製造される低密度ポリエチレンを混合する方法、
(4)一般的なポリオレフィンに光照射することにより
溶融張力を高める方法、(5)一般的なポリオレフィン
に架橋剤や過酸化物の存在下、光照射することにより溶
融張力を高める方法、(6)一般的なポリオレフィンに
スチレンなどのラジカル重合性モノマーをグラフトする
方法、(7)オレフィンとポリエンを共重合させる方法
(特開平5−194778号公報、特開平5−1947
79号公報)などが試みられている。
【0007】しかしながら、前記(1)〜(3)の方法
においては、溶融張力を高める成分の弾性率,強度,耐
熱性が不足するために、ポリオレフィン、とりわけポリ
プロピレン本来の特徴が損なわれるのを免れない。ま
た、前記(4)及び(5)の方法においては、副反応と
して起こる架橋反応を制御することが困難であって、ゲ
ルの発生により外観不良や機械特性に悪影響が生じる
上、成形加工性を任意に制御することに限界があり、制
御範囲が狭いという問題がある。さらに、前記(6)の
方法においては、ゲルの発生や製造コストに問題を生
じ、また、前記(7)の方法においては、溶融張力の改
良効果が小さく、充分な効果が発揮されない上、ゲルの
発生も懸念される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、溶融張力が高く、樹脂相溶性に優れ、嵩密度
の高いポリオレフィンを、安価に、かつ効率よく製造す
る方法を提供することを目的とするものである。
【0009】本発明者らは、上記目的を達成するために
鋭意研究を重ねた結果、特定の触媒の存在下にオレフィ
ンを予備重合させて得られる予備重合触媒の存在下で、
α−オレフィン,環状オレフィン又はスチレン系単量体
を重合又は共重合することにより、溶融張力が高く、樹
脂相溶性に優れ、嵩密度が高い等の特性を有するポリオ
レフィンが得られ、その目的を達成することを見出し
た。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものであ
る。
【0010】すなわち、本発明は、(A)シクロペンタ
ジエニル基を有する周期律表第4族の遷移金属化合物の
中から選ばれた少なくとも二種と、(B)(B−1)ア
ルミニウムオキシ化合物、(B−2)上記遷移金属化合
物と反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物並び
に(B−3)粘土,粘土鉱物及びイオン交換性層状化合
物の中から選ばれた少なくとも一種を含有してなる触媒
の存在下、炭素数2〜20のα−オレフィン及び環状オ
レフィンから選ばれた少なくとも一種を、上記遷移金属
化合物1g当たり0.01g〜50kgの割合で重合して
なり、極限粘度〔η〕が0.1〜20デシリットル/gの
範囲にあり、かつ極限粘度〔η〕と末端ビニル濃度C
(個/炭素原子1000個)との積〔η〕・Cが0.05
〜1.1の範囲にあることを特徴とする予備重合触媒を提
供するものである。また、本発明は、該予備重合触媒の
存在下又は該予備重合触媒に有機アルミニウム化合物を
加えたものの存在下、炭素数2〜20のα−オレフィ
ン、環状オレフィン及びスチレン系単量体から選ばれた
少なくとも一種を重合又は共重合することを特徴とする
ポリオレフィンの製造方法を提供するものである。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法においては、予
備重合触媒として、(A)シクロペンタジエニル基を有
する周期律表第4族の遷移金属化合物の中から選ばれた
一種と、(B)(B−1)アルミニウムオキシ化合物、
(B−2)(A)上記遷移金属化合物と反応してカチオ
ンに変換しうるイオン性化合物並びに(B−3)粘土,
粘土鉱物及びイオン交換性層状化合物の中から選ばれた
少なくとも一種を含有するものが用いられる。上記
(A)成分のインデニル基を有する周期律表第4族の遷
移金属化合物としては、例えば下記の(A−1)成分、
(A−2)成分及び(A−3)成分から選ばれた一種を
挙げることができる。 (A−1)成分:(A−1)成分は、一般式(I)
【0012】
【化4】
【0013】〔式中、R1 〜R6 は、それぞれ独立に水
素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基又
は炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基を示し、R
3 とR 4 ,R4 とR5 及びR5 とR6 のうちの少なくと
も一組はたがいに結合して環を形成してもよく、X1
びX2 はそれぞれ独立に水素原子,ハロゲン原子又は炭
素数1〜20の炭化水素基を示し、Y1 は二つの配位子
を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20の炭
化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、
珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−O
−、−CO−、−S−、−SO2 −、−Se−、−NR
18−、−PR18−、−P(O)R18−、−BR18−又は
−AlR18−を示し、R18は水素原子、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲ
ン含有炭化水素基を示す。M1 はチタン,ジルコニウム
又はハフニウムを示す。〕で表される遷移金属化合物で
ある。
【0014】一般式(I)において、R3 とR4 ,R4
とR5 及びR5 とR6 のうちの少なくとも一組が環を形
成した遷移金属化合物は、BASF型錯体として知られ
ている化合物である。前記一般式(I)において、R1
〜R6 のうちのハロゲン原子としては、塩素,臭素,フ
ッ素,ヨウ素原子が挙げられる。炭素数1〜20の炭化
水素基としては、例えばメチル基,エチル基,n−プロ
ピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル
基,tert−ブチル基,n−ヘキシル基,n−デシル
基などのアルキル基、フェニル基,1−ナフチル基,2
−ナフチル基などのアリール基、ベンジル基などのアラ
ルキル基などが挙げられ、また炭素数1〜20のハロゲ
ン含有炭化水素基としては、上記炭化水素基の水素原子
の1個以上が適当なハロゲン原子で置換された基が挙げ
られる。このR1 〜R6 は、たがいに同一であっても異
なっていてもよく、また、隣接する基、すなわちR3
4 ,R4 とR5 及びR5 とR6 のうちの少なくとも一
組はたがいに結合して環を形成していることが必要であ
る。このような環を形成したインデニル基としては、例
えば4,5−ベンゾインデニル基,α−アセナフトイン
デニル基及びその炭素数1〜10のアルキル置換体など
を挙げることができる。
【0015】また、X1 及びX2 のうちハロゲン原子と
しては、塩素,臭素,フッ素,ヨウ素原子が挙げられ、
炭素数1〜20の炭化水素基としては、例えばメチル
基,エチル基,プロピル基,イソプロピル基,n−ブチ
ル基,tert−ブチル基,n−ヘキシル基などのアル
キル基、フェニル基などのアリール基、ベンジル基など
のアラルキル基などが挙げられる。X1 及びX2 はたが
いに同一であっても異なってもよい。一方、Y1 は二つ
の配位子を結合する二価の基であって、そのうちの炭素
数1〜20の二価の炭化水素基としては、例えばメチレ
ン基;ジメチルメチレン基;1,2−エチレン基;ジメ
チル−1,2−エチレン基;1,4−テトラメチレン
基;1,2−シクロプロピレン基などのアルキレン基、
ジフェニルメチレン基などのアリールアルキレン基など
が挙げられ、炭素1〜20の二価のハロゲン含有炭化水
素基としては、例えばクロロエチレン基,クロロメチレ
ン基などが挙げられる。また、二価の珪素含有基として
は、例えばメチルシリレン基,ジメチルシリレン基,ジ
エチルシリレン基,ジフェニルシリレン基,メチルフェ
ニルシリレン基などが挙げられる。さらに、ゲルマニウ
ム含有基,スズ含有基としては、上記珪素含有基におい
て、珪素をゲルマニウム,スズに変換した基を挙げるこ
とができる。なお、Y1 で結合されている二つの配位子
は通常同一であるが、場合により異なっていてもよい。
【0016】この(A−1)成分の一般式(I)で表さ
れる遷移金属化合物としては、例えば、特開平6−18
4179号公報,特開平6−345809号公報などに
記載されている化合物を挙げることができる。具体例と
しては、rac−ジメチルシランジイル−ビス−1−
(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)−ジルコニ
ウムジクロリド,rac−フェニルメチルシランジイル
−ビス−1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−エタンジイル
−ビス−1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ブタンジイル
−ビス−1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシラ
ンジイル−ビス−1−(4,5−ベンゾインデニル)−
ジルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシランジイ
ル−ビス−1−(2−メチル−α−メチル−α−アセナ
フトインデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac−
フェニルメチルシランジイル−ビス−1−(2−メチル
−α−アセナフトインデニル)−ジルコニウムジクロリ
ドなどのベンゾインデニル型又はアセナフトインデニル
型化合物、及びこれらの化合物におけるジルコニウムを
チタン又はハフニウムに置換したものなどを挙げること
ができる。
【0017】さらに、(A−1)成分は、前記一般式
(I)において、R3 とR4 ,R4 とR5 及びR5 とR
6 のいずれの組も環を形成していないインデニル骨格を
有する遷移金属化合物又はそれに対応する4,5,6,
7−テトラヒドロインデニル骨格を有する遷移金属化合
物である。この遷移金属化合物は、ヘキスト型錯体とし
て知られている化合物である。この(A−1)成分の遷
移金属化合物としては、例えば、特開平4−26830
8号公報,同5−306304号公報,同6−1005
79号公報,同6−157661号公報,同7−149
815号公報,同7−188318号公報,同7−25
8321号公報などに記載されている化合物を挙げるこ
とができる。
【0018】具体例としては、ジメチルシランジイル−
ビス−1−(2−メチル−4−フェニルインデニル)−
ジルコニウムジクロリド,ジメチルシランジイル−ビス
−1−〔2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニ
ル〕−ジルコニウムジクロリド,ジメチルシランジイル
−ビス−1−(2−エチル−4−フェニルインデニル)
−ジルコニウムジクロリド,ジメチルシランジイル−ビ
ス−1−〔2−エチル−4−(1−ナフチル)インデニ
ル〕ジルコニウムジクロリド,フェニルメチルシランジ
イル−ビス−1−(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,フェニルメチルシラン
ジイル−ビス−1−〔2−メチル−4−(1−ナフチ
ル)インデニル〕−ジルコニウムジクロリド,フェニル
メチルシランジイル−ビス−1−(2−エチル−4−フ
ェニルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,フェニ
ルメチルシランジイル−ビス−1−〔2−エチル−4−
(1−ナフチル)インデニル〕−ジルコニウムジクロリ
ドなどのアリール置換体、rac−ジメチルシリレン−
ビス−1−(2−メチル−4−エチルインデニル)−ジ
ルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシリレン−ビ
ス−1−(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)
−ジルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシリレン
−ビス−1−(2−メチル−4−第三ブチルインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−フェニルメチ
ルシリレン−ビス−1−(2−メチル−4−イソプロピ
ルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ジ
メチルシリレン−ビス−1−(2−エチル−4−メチル
インデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ジメ
チルシリレン−ビス−1−(2,4−ジメチルインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシリ
レン−ビス−1−(2−メチル−4−エチルインデニ
ル)−ジルコニウムジメチルなどの2,4−位置換体、
rac−ジメチルシリレン−ビス−1−(4,7−ジメ
チルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac−
1,2−エタンジイル−ビス−1−(2−メチル−4,
7−ジメチルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,
rac−ジメチルシリレン−ビス−1−(3,4,7−
トリメチルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,r
ac−1,2−エタンジイル−ビス−1−(4,7−ジ
メチルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac
−1,2−ブタンジイル−ビス−1−(4,7−ジメチ
ルインデニル)−ジルコニウムジクロリドなどの4,7
−位,2,4,7−位又は3,4,7−位置換体,ジメ
チルシランジイル−ビス−1−(2−メチル−4,6−
ジイソプロピルインデニル)−ジルコニウムジクロリ
ド,フェニルメチルシランジイル−ビス−1−(2−メ
チル−4,6−ジイソプロピルインデニル)−ジルコニ
ウムジクロリド,rac−ジメチルシランジイル−ビス
−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−1,2−エタ
ンジイル−ビス−1−(2−メチル−4,6−ジイソプ
ロピルインデニル)−ジルコニウムジクロリド,rac
−ジフェニルシランジイル−ビス−1−(2−メチル−
4,6−ジイソプロピルインデニル)−ジルコニウムジ
クロリド,rac−フェニルメチルシランジイル−ビス
−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニ
ル)−ジルコニウムジクロリド,rac−ジメチルシラ
ンジイル−ビス−1−(2,4,6−トリメチルインデ
ニル)−ジルコニウムジクロリドなどの2,4,6−位
置換体,rac−ジメチルシランジイル−ビス−1−
(2,5,6−トリメチルインデニル)−ジルコニウム
ジクロリドなどの2,5,6−位置換体、rac−ジメ
チルシリレン−ビス−(2−メチル−4,5,6,7−
テトラヒドロー1−インデニル)−ジルコニウムジクロ
リド,rac−エチレン−ビス−(2−メチル−4,
5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)−ジルコ
ニウムジクロリド,rac−ジメチルシリレン−ビス−
(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−1−イ
ンデニル)−ジルコニウムジメチル,rac−エチレン
−ビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−
1−インデニル)−ジルコニウムジメチル,rac−エ
チレン−ビス−(4,7−ジメチル−4,5,6,7−
テトラヒドロ−1−インデニル)−ジルコニウムジクロ
リドなどの4,5,6,7−テトラヒドロインデニル化
合物など、及びこれらの化合物におけるジルコニウムを
チタン又はハフニウムに置換したものなどを挙げること
ができる。 (A−2)成分:(A−2)成分は一般式(II)
【0019】
【化5】
【0020】〔式中、R7 〜R13,R15,R16,X3
びX4 は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン
含有炭化水素基、珪素含有基、酸素含有基、イオウ含有
基、窒素含有基又はリン含有基を示し、R7 とR8 はた
がいに結合して環を形成してもよい。R14,R17は、そ
れぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含
有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリ
ン含有基を示す。Y2 は二つの配位子を結合する二価の
架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数
1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲル
マニウム含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、−S
−、−SO 2 −、−Se−、−NR18−、−PR18−、
−P(O)R18−、−BR18−又は−AlR18−を示
し、R18は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の
炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基
を示す。M2 はチタン,ジルコニウム又はハフニウムを
示す。〕で表される遷移金属化合物である。
【0021】この遷移金属化合物は、単架橋型錯体であ
る。前記一般式(II)において、R7 〜R13,R15,R
16,X3 及びX4 のうちのハロゲン原子としては、塩
素,臭素,フッ素,ヨウ素原子が挙げられる。炭素数1
〜20の炭化水素基としては、例えばメチル基,エチル
基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,
イソブチル基,tert−ブチル基,n−ヘキシル基,
n−デシル基などのアルキル基、フェニル基,1−ナフ
チル基,2−ナフチル基などのアリール基、ベンジル基
などのアラルキル基などが挙げられ、また炭素数1〜2
0のハロゲン含有炭化水素基としては、トリフルオロメ
チルなどの上記炭化水素基の水素原子の1個以上が適当
なハロゲン原子で置換された基が挙げられる。珪素含有
基としては、トリメチルシリル基,ジメチル(t−ブチ
ル)シリル基などが挙げられ、酸素含有基としては、メ
トキシ基,エトキシ基などが挙げられ、イオウ含有基と
しては、チオール基,スルホン酸基などが挙げられ、窒
素含有基としては、ジメチルアミノ基などが挙げられ、
リン含有基としては、メチルホスフィン基,フェニルホ
スフィン基などが挙げられる。また、R7 とR8 はたが
いに結合してフルオレンなどの環を形成してもよい。R
14,R17の具体例としては、上記R7 〜R13等において
挙げたものから水素原子を除く基が挙げられる。R7
8 としては、水素原子及び炭素数6以下のアルキル基
が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、シクロヘキシル基がより好ましく、水素原子が
さらに好ましい。また、R9 ,R12,R14 及びR17
しては、炭素数6以下のアルキル基が好ましく、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基がよ
り好ましく、イソプロピル基がさらに好ましい。R10
11,R13,R15 及びR16としては水素原子が好まし
い。X3 ,X4 としては、ハロゲン原子,メチル基,エ
チル基,プロピル基が好ましい。
【0022】Y2 の具体例としては、メチレン、エチレ
ン、エチリデン、イソプロピリデン、シクロヘキシリデ
ン、1,2−シクロヘキシレン、ジメチルシリレン、テ
トラメチルジシリレン、ジメチルゲルミレン、メチルボ
リリデン(CH3 −B=)、メチルアルミリデン(CH
3 −Al=)、フェニルホスフィリデン(Ph−P
=)、フェニルホスホリデン(PhPO=)、1,2−
フェニレン、ビニレン(−CH=CH−)、ビニリデン
(CH2 =C=)、メチルイミド、酸素(−O−)、硫
黄(−S−)などがあり、これらの中でも、メチレン、
エチレン、エチリデン、イソプロピリデンが、合成の容
易さ、収率の点で好ましい。M2 はチタン,ジルコニウ
ム又はハフニウムを示すが、特にハフニウムが好適であ
る。
【0023】前記一般式(II)で表される遷移金属化合
物の具体例としては、1,2−エタンジイル(1−
(4,7−ジイソプロピルインデニル))(2−(4,
7−ジイソプロピルインデニル)ハフニウムジクロリ
ド、1,2−エタンジイル(9−フルオレニル)(2−
(4,7−ジイソプロピルインデニル)ハフニウムジク
ロリド、イソプロピリデン(1−(4,7−ジイソプロ
ピルインデニル))(2−(4,7−ジイソプロピルイ
ンデニル)ハフニウムジクロリド、1,2−エタンジイ
ル(1−(4,7−ジメチルインデニル))(2−
(4,7−ジイソプロピルインデニル)ハフニウムジク
ロリド、1,2−エタンジイル(9−フルオレニル)
(2−(4,7−ジメチルインデニル))ハフニウムジ
クロリド、イソプロピリデン(1−(4,7−ジメチル
インデニル))(2−(4,7−ジイソプロピルインデ
ニル)ハフニウムジクロリドなど、及びこれらの化合物
におけるハフニウムをジルコニウム又はチタンに置換し
たものを挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。なお、前記一般式(II)で表される遷移金
属化合物は、例えば本出願人が先に出願した特願平09
−296612号に記載された方法により製造すること
ができる。 (A−3)成分:(A−3)成分は、一般式(III)
【0024】
【化6】
【0025】〔式中、M3 はチタン,ジルコニウム又は
ハフニウムを示し、E1 及びE2 はそれぞれ置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル基,
ヘテロシクロペンタジエニル基,置換ヘテロシクロペン
タジエニル基,アミド基,ホスフィド基,炭化水素基及
び珪素含有基の中から選ばれた配位子であって、A1
びA2 を介して架橋構造を形成しており、またそれらは
たがいに同一でも異なっていてもよく、X5 はσ結合性
の配位子を示し、X5 が複数ある場合、複数のX 5 は同
じでも異なっていてもよく、他のX5 ,E1 ,E2 又は
3 と架橋していてもよい。Y3 はルイス塩基を示し、
3 が複数ある場合、複数のY2 は同じでも異なってい
てもよく、他のY3 ,E1 ,E2 又はX5 と架橋してい
てもよく、A1 及びA2 は二つの配位子を結合する二価
の架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素
数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲ
ルマニウム含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、−
S−、−SO2 −、−Se−、−NR18−、−PR
18−、−P(O)R18−、−BR18−又は−AlR18
を示し、R18は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜2
0の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水
素基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よい。qは1〜5の整数で〔(M3 の原子価)−2〕を
示し、rは0〜3の整数を示す。〕で表される遷移金属
化合物(以下、二重架橋型錯体と称することがある。)
である。
【0026】前記一般式(III) において、M3 はチタ
ン,ジルコニウム又はハフニウムを示すが、ジルコニウ
ム及びハフニウムが好適である。E1 及びE2 は上述の
ようにそれぞれ、置換シクロペンタジエニル基,インデ
ニル基,置換インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニ
ル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基
(−N<),ホスフィド基(−P<),炭化水素基〔>
CR−,>C<〕及び珪素含有基〔>SiR−,>Si
<〕(但し、Rは水素または炭素数1〜20の炭化水素
基あるいはヘテロ原子含有基である)の中から選ばれた
配位子を示し、A1及びA2 を介して架橋構造を形成し
ている。また、E1 及びE2 はたがいに同一でも異なっ
ていてもよい。このE1 及びE2 としては、置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基及び置換インデニル基
が好ましい。
【0027】また、X3 で示されるσ結合性配位子の具
体例としては、ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水
素基,炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20
のアリールオキシ基,炭素数1〜20のアミド基,炭素
数1〜20の珪素含有基,炭素数1〜20のホスフィド
基,炭素数1〜20のスルフィド基,炭素数1〜20の
アシル基などが挙げられる。このX3 が複数ある場合、
複数のX3 は同じでも異なっていてもよく、他のX3
1 ,E2 又はY2 と架橋していてもよい。一方、Y3
で示されるルイス塩基の具体例としては、アミン類,エ
ーテル類,ホスフィン類,チオエーテル類などを挙げる
ことができる。このY3 が複数ある場合、複数のY3
同じでも異なっていてもよく、他のY3 やE1 ,E2
はX 5 と架橋していてもよい。次に、A1 及びA2 で示
される架橋基のうち、少なくとも一つは炭素数1以上の
炭化水素基からなる架橋基であることが好ましい。この
ような架橋基としては、例えば一般式
【0028】
【化7】
【0029】(R18及びR19はそれぞれ水素原子又は炭
素数1〜20の炭化水素基で、それらはたがいに同一で
も異なっていてもよく、またたがいに結合して環構造を
形成していてもよい。eは1〜4の整数を示す。)で表
されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン
基,エチレン基,エチリデン基,プロピリデン基,イソ
プロピリデン基,シクロヘキシリデン基,1,2−シク
ロヘキシレン基,ビニリデン基(CH2 =C=)などを
挙げることができる。これらの中で、メチレン基,エチ
レン基及びイソプロピリデン基が好適である。このA1
及びA2 は、たがいに同一でも異なっていてもよい。こ
の一般式(III) で表される遷移金属化合物において、E
1 及びE2 が置換シクロペンタジエニル基,インデニル
基又は置換インデニル基である場合、A1 及びA2 の架
橋基の結合は、(1,1’)(2,2’)二重架橋型で
あってもよく、(1,2’)(2,1’)二重架橋型で
あってもよい。このような一般式(III) で表される遷移
金属化合物の中では、一般式(III−a)
【0030】
【化8】
【0031】で表される二重架橋型ビスシクロペンタジ
エニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物が好まし
い。上記一般式(III−a)において、M3 ,A1
2 ,q及びrは上記と同じである。X6 はσ結合性の
配位子を示し、X6 が複数ある場合、複数のX6 は同じ
でも異なっていてもよく、他のX6 又はY4 と架橋して
いてもよい。このX6 の具体例としては、一般式(III)
のX5 の説明で例示したものと同じものを挙げることが
できる。Y4 はルイス塩基を示し、Y4 が複数ある場
合、複数のY4 は同じでも異なっていてもよく、他のY
3 又はX4 と架橋していてもよい。このY4の具体例と
しては、一般式(III) のY3 の説明で例示したものと同
じものを挙げることができる。R20〜R25はそれぞれ水
素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基,
炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基,珪素含有基
又はヘテロ原子含有基を示すが、その少なくとも一つは
水素原子でないことが必要である。また、R20〜R25
たがいに同一でも異なっていてもよく、隣接する基同士
がたがいに結合して環を形成していてもよい。
【0032】この二重架橋型ビスシクロペンタジエニル
誘導体を配位子とする遷移金属化合物は、配位子が
(1,1’)(2,2’)二重架橋型及び(1,2’)
(2,1’)二重架橋型のいずれであってもよい。この
一般式(III) で表される遷移金属化合物の具体例として
は、(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチレ
ン)(2,2’−メチレン)−ビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,
1’−メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’
−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,
1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’
−エチレン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−
エチレン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エ
チレン)−ビス(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−
エチレン)−ビス(4,5−ベンゾインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’
−エチレン)−ビス(4−イソプロピルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,
1’−エチレン)−ビス(4−イソプロピルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−エチレン)−ビス(5,6−ジメチルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレ
ン)(2,1’−エチレン)−ビス(5,6−ジメチル
インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エ
チレン)(2,2’−エチレン)−ビス(4,7−ジイ
ソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス
(4,7−ジイソプロピルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレ
ン)−ビス(4−フェニルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレ
ン)−ビス(4−フェニルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレ
ン)−ビス(3−メチル−4−イソプロピルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)
(2,1’−エチレン)−ビス(3−メチル−4−イソ
プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(5,
6−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス
(5,6−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−エチレン)(2,2’−イソプロピリ
デン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデ
ン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−エチレ
ン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−メチレン)(2,1’−エチレン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
メチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’−
イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソ
プロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−
メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−メチレン)(2,2’−メチレン)
(3−メチルシクロペンタジエニル)(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプ
ロピリデン)(2,2’−イソプロピリデン)(3−メ
チルシクロペンタジエニル)(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,1’−プロピリデン)
(2,2’−プロピリデン)(3−メチルシクロペンタ
ジエニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−メチレ
ン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’
−エチレン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピ
リデン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’−メチレ
ン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’
−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソ
プロピリデン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス
(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−メチレ
ン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−メチレン)(2,2’−メチレン)−ビス
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’−イ
ソプロピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イ
ソプロピリデン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−
メチレン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)
(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−メチレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリ
デン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデン)
(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3,
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロ
ピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレ
ン)(2,1’−メチレン)−ビス(3,4−ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリデ
ン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデ
ン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ドなど及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタ
ン又はハフニウムに置換したものを挙げることができ
る。もちろんこれらに限定されるものではない。
【0033】本発明において予備重合に用いる触媒は、
(A)成分の遷移金属化合物として、好ましくは、前記
(A−1)成分(BASF型錯体又はヘキスト型錯
体),(A−2)成分(単架橋型錯体)及び(A−3)
成分(二重架橋型錯体)の中から選ばれた一種が用いら
れるが、この場合、チタン化合物,ジルコニウム化合物
及びハフニウム化合物のうち、特にジルコニウム化合
物,ハフニウム化合物が好適である。
【0034】本発明において予備重合に用いる触媒にお
いて、(B)成分として、(B−1)アルミニウムオキ
シ化合物、(B−2)前記遷移金属化合物と反応してカ
チオンに変換しうるイオン性化合物及び(B−3)粘
土,粘土鉱物及びイオン交換性層状化合物の中から選ば
れた少なくとも一種が用いられる。上記(B−1)成分
のアルミニウムオキシ化合物としては、一般式(IV)
【0035】
【化9】
【0036】(式中、R26は炭素数1〜20、好ましく
は1〜12のアルキル基,アルケニル基,アリール基,
アリールアルキル基などの炭化水素基あるいはハロゲン
原子を示し、wは平均重合度を示し、通常2〜50、好
ましくは2〜40の整数である。なお、各R26は同じで
も異なっていてもよい。)で示される鎖状アルミノキサ
ン、及び一般式(V)
【0037】
【化10】
【0038】(式中、R26及びwは前記一般式(IV) に
おけるものと同じである。)で示される環状アルミノキ
サンを挙げることができる。前記アルミノキサンの製造
法としては、アルキルアルミニウムと水などの縮合剤と
を接触させる方法が挙げられるが、その手段については
特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよ
い。例えば、有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶
解しておき、これを水と接触させる方法、重合時に当
初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加
する方法、金属塩などに含有されている結晶水、無機
物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応
させる方法、テトラアルキルジアルミノキサンにトリ
アルキルアルミニウムを反応させ、さらに水を反応させ
る方法などがある。なお、アルミノキサンとしては、ト
ルエン不溶性のものであってもよい。
【0039】これらのアルミニウムオキシ化合物は一種
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、(B−2)成分としては、前記遷移金属化合物と
反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物であれ
ば、いずれのものでも使用できるが、特に効率的に重合
活性点を形成できるなどの点から、次の一般式(VI),
(VII) (〔L1 −R27h+a (〔Z〕- b ・・・(VI) (〔L2 h+a (〔Z〕- b ・・・(VII) (ただし、L2 はM5 ,R28296,R30 3 C又はR31
6 である。) 〔(VI),(VII)式中、L1 はルイス塩基、〔Z〕- は、
非配位性アニオン〔Z1- 又は〔Z2 - 、ここで
〔Z1 - は複数の基が元素に結合したアニオン、すな
わち〔M4 1 2 ・・・Gf 〕(ここで、M4 は周期
律表第5〜15族元素、好ましくは周期律表第13〜1
5族元素を示す。G1 〜Gf はそれぞれ水素原子,ハロ
ゲン原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数2〜4
0のジアルキルアミノ基,炭素数1〜20のアルコキシ
基,炭素数6〜20のアリール基,炭素数6〜20のア
リールオキシ基,炭素数7〜40のアルキルアリール
基,炭素数7〜40のアリールアルキル基,炭素数1〜
20のハロゲン置換炭化水素基,炭素数1〜20のアシ
ルオキシ基,有機メタロイド基、又は炭素数2〜20の
ヘテロ原子含有炭化水素基を示す。G1 〜Gf のうち2
つ以上が環を形成していてもよい。fは〔( 中心金属M
4 の原子価) +1〕の整数を示す。) 、〔Z2 -は、
酸解離定数の逆数の対数(pKa ) が−10以下のブレ
ンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の
組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と定義さ
れる共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位していて
もよい。また、R27は水素原子,炭素数1〜20のアル
キル基,炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリー
ル基又はアリールアルキル基を示し、R28及びR29はそ
れぞれシクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエ
ニル基,インデニル基又はフルオレニル基、R30は炭素
数1〜20のアルキル基,アリール基,アルキルアリー
ル基又はアリールアルキル基を示す。R31はテトラフェ
ニルポルフィリン,フタロシアニンなどの大環状配位子
を示す。hは〔L1 −R27〕,〔L2 〕のイオン価数で
1〜3の整数、aは1以上の整数、b=(h×a)であ
る。M5 は、周期律表第1〜3、11〜13、17族元
素を含むものであり、M6 は、周期律表第7〜12族元
素を示す。〕で表されるものを好適に使用することがで
きる。
【0040】ここで、L1 の具体例としては、アンモニ
ア,メチルアミン,アニリン,ジメチルアミン,ジエチ
ルアミン,N−メチルアニリン,ジフェニルアミン,
N,N−ジメチルアニリン,トリメチルアミン,トリエ
チルアミン,トリ−n−ブチルアミン,メチルジフェニ
ルアミン,ピリジン,p−ブロモ−N,N−ジメチルア
ニリン,p−ニトロ−N,N−ジメチルアニリンなどの
アミン類、トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフ
ィン,ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テト
ラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エ
チルなどのエステル類、アセトニトリル,ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などを挙げることができる。
【0041】R27の具体例としては水素,メチル基,エ
チル基,ベンジル基,トリチル基などを挙げることがで
き、R28,R29の具体例としては、シクロペンタジエニ
ル基,メチルシクロペンタジエニル基,エチルシクロペ
ンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル基
などを挙げることができる。R30の具体例としては、フ
ェニル基,p−トリル基,p−メトキシフェニル基など
を挙げることができ、R31の具体例としてはテトラフェ
ニルポルフィン,フタロシアニン,アリル,メタリルな
どを挙げることができる。また、M5 の具体例として
は、Li,Na,K,Ag,Cu,Br,I,I3 など
を挙げることができ、M6 の具体例としては、Mn,F
e,Co,Ni,Znなどを挙げることができる。
【0042】また、〔Z1 - 、すなわち〔M4 1
2 ・・・Gf 〕において、M4 の具体例としてはB,A
l,Si ,P,As,Sbなど、好ましくはB及びAl
が挙げられる。また、G1 ,G2 〜Gf の具体例として
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基,ジエ
チルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキ
シ基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブトキシ基,
フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基,エチル
基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,
イソブチル基,n−オクチル基,n−エイコシル基,フ
ェニル基,p−トリル基,ベンジル基,4−t−ブチル
フェニル基,3,5−ジメチルフェニル基など、ハロゲ
ン原子としてフッ素,塩素,臭素,ヨウ素,ヘテロ原子
含有炭化水素基としてp−フルオロフェニル基,3,5
−ジフルオロフェニル基,ペンタクロロフェニル基,
3,4,5−トリフルオロフェニル基,ペンタフルオロ
フェニル基,3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル基,ビス(トリメチルシリル)メチル基など、有機
メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基、トリメ
チルシリル基,トリメチルゲルミル基,ジフェニルアル
シン基,ジシクロヘキシルアンチモン基,ジフェニル硼
素などが挙げられる。
【0043】また、非配位性のアニオンすなわちpKa
が−10以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Z2 - の具
体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン
(CF3 SO3 - ,ビス(トリフルオロメタンスルホ
ニル)メチルアニオン,ビス(トリフルオロメタンスル
ホニル)ベンジルアニオン,ビス(トリフルオロメタン
スルホニル)アミド,過塩素酸アニオン(Cl
4 - ,トリフルオロ酢酸アニオン( CF3
2)- ,ヘキサフルオロアンチモンアニオン( SbF6)
- ,フルオロスルホン酸アニオン(FSO3 - ,クロ
ロスルホン酸アニオン(ClSO3 - ,フルオロスル
ホン酸アニオン/5−フッ化アンチモン(FSO3 /S
bF5 - ,フルオロスルホン酸アニオン/5−フッ化
砒素(FSO3 /AsF5 - ,トリフルオロメタンス
ルホン酸/5−フッ化アンチモン(CF3SO3 /Sb
5)- などを挙げることができる。
【0044】このような(B−2)成分化合物の具体例
としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウ
ム,テトラフェニル硼酸トリ−n−ブチルアンモニウ
ム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,テト
ラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラフェ
ニル硼酸メチル(トリ−n−ブチル)アンモニウム,テ
トラフェニル硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリフェニル(メチル)ア
ンモニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウ
ム,テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフ
ェニル硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸
メチル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸トリエチルアンモニウム,テ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリ−n−ブ
チルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリフェニルアンモニウム,テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸テトラ−n−ブチルアンモニ
ウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸テト
ラエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチル
ジフェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸トリフェニル(メチル)アンモニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニ
リニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
ジメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸トリメチルアニリニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸メチルピリジニウム,テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルピリジ
ニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メ
チル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸ベンジル(2−シアノピリジニ
ウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル) 硼酸メ
チル( 4−シアノピリジニウム) ,テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸トリフェニルホスホニウム,テ
トラキス〔ビス(3,5−ジトリフルオロメチル)フェ
ニル〕硼酸ジメチルアニリニウム,テトラフェニル硼酸
フェロセニウム,テトラフェニル硼酸銀,テトラフェニ
ル硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸テトラフェニルポ
ルフィリンマンガン,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸フェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)硼酸(1,1’−ジメチルフェロセニウ
ム) ,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸デカ
メチルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸銀、テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリチル,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸リチウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン,テト
ラフルオロ硼酸銀,ヘキサフルオロ燐酸銀,ヘキサフル
オロ砒素酸銀,過塩素酸銀,トリフルオロ酢酸銀,トリ
フルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができ
る。
【0045】この(B−2)成分である、該(A)成分
の遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しうるイオ
ン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組み合
わせて用いてもよい。(B−3)成分として、粘土,粘
土鉱物又はイオン交換性層状化合物が用いられる。粘土
とは、細かい含水ケイ酸塩鉱物の集合体であって、適当
量の水を混ぜてこねると可塑性を生じ、乾くと剛性を示
し、高温度で焼くと焼結するような物質をいう。また、
粘土鉱物とは、粘土の主成分をなす含水ケイ酸塩をい
う。イオン交換性層状化合物とは、イオン結合等によっ
て構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なっ
た結晶構造をとる化合物であり、含有するイオンが交換
可能なものをいう。大部分の粘土鉱物は、イオン交換性
層状化合物である。これらは、天然産のものに限らず、
人工合成したものであってもよい。イオン交換性層状化
合物として、例えば、六方最密パッキング型、アンチモ
モン型、塩化カドミウム型、ヨウ化カドミウム型等の層
状の給晶構造を有するイオン結品性化合物等を挙げるこ
とができる。
【0046】(B一3)成分の具体例としては、カオリ
ン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェ
ン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、タルク、ウンモ
群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデ
イ石群、パリゴルスカイト、ナクライト、ディッカイ
ト、ハロイサイト等が挙げられる。(B−3)成分とし
ては、水銀圧入法で測定した半径20Å以上の細孔容積
が、0.1ミリリットル/g以上、特には、0.3〜5ミリ
リットル/g以上のものが好ましい。また、粘土中の不
純物除去又は構造及び機能の変化という点から、化学処
理を施すことも好ましい。ここで、化学処理とは、表面
に付者している不純物を除去する表面処理と粘土の結晶
構造に影響を与える処埋の何れをもさす。具体的には、
酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処埋等が挙げ
られる。酸処理は表面の不純物を取り除く他、結晶構造
中のアルミニウム、鉄、マグネシウム等の陽イオンを溶
出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処
理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化を
もたらす,また、塩類処理、有機物処理では、イオン複
合体、分子複合体、有機複合体などを形成し、表面積や
層間距離等を変化させることができる。イオン交換性を
利用し、層問の交換性イオンを別の嵩高いイオンと置換
することによって、層間が拡大された状態の層間物質を
得ることもでさる。まだ、主触媒が存在する重合反応場
を層間の中に確保することも可能である。
【0047】上記(B−3)成分はそのまま用いてもよ
いし、新たに水を添加吸着させたものを用いてもよく、
あるいは加熟脱水処埋里したものを用いてもよい。(B
−3)成分として、好ましいものは粘土または粘土鉱物
であり、最も好ましいものはモンモリロナイトであろ。
(B一3)成分は、シラン系化合物及び/又は有機アル
ミニウム化合物により処理することが好ましい。この処
理により、活性が向上することがある。このシラン系化
合物としては、例えば、トリメチルシリルクロリド,ト
リエチルシリルクロリド,トリイソプロピルシリルクロ
リド,tert−ブチルジメチルシリルクロリド,te
rt−ブチルジフェニルシリルクロリド,フェネチルジ
メチルシリルクロリド等のトリアルキルシリルクロリド
類、ジメチルシリルジクロリド,ジエチルシリルジクロ
リド,ジイソプロピルシリルジクロリド,ビスジフェネ
チルシリルジクロリド,メチルフェネチルシリルジクロ
リド,ジフェニルシリルジクロリド,ジメシチルシリル
ジクロリド,ジトリルシリルジクロリド等のジアルキル
シリルジクロリド類、メチルシリルトリクロリド、エチ
ルシリルトリクロリド,イソプロピルシリルトリクロリ
ド,フェニルシリルトリクロリド,メシチルシリルトリ
クロリド,トリルシリルトリクロリド,フェネチルシリ
ルトリクロリド等のアルキルシリルトリクロリド類、及
び上記クロリドの部分を他のハロゲン元素で置き換えた
ハライド類、ビス(トリメチルシリル)アミン,ビス
(トリエチルシリル)アミン,ビス(トリイソプロピル
シリル)アミン,ビス(ジメチルエチルシリル)アミ
ン,ビス(ジエチルメチルシリル)アミン,ビス(ジメ
チルフェニルシリル)アミン,ビス(ジメチルトリルシ
リル)アミン,ビス(ジメチルメシチルシリル)アミ
ン、N,N一ジメチルアミノトリメチルシラン,(ジエ
チルアミノ)トリメチルシラン,N−(トリメチルシリ
ル)イミダゾール等のシリルアミン類、パーアルキルポ
リシロキシポリオールの慣用名で称せられるポリシラノ
ール類、トリス(トリメチルシロキシ)シラノール等の
シラノール類、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセ
トアミド,ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセ
トアミド,N−(トリメチルシリル)アセトアミド,ビ
ス(トリメチルシリル)尿素,トリメチルシリルジフェ
ニル尿素等のシリルアミド傾、1,3−ジクロロテトラ
メチルジシロキサン等の直鎖状シロキサン類,ペンタメ
チルシクロペンタンシロキサン等の環状シロキサン類、
ジメチルジフェニルシラン,ジエチルジフェニルシラ
ン,ジイソプロピルジフェニルシラン等のテトラアルキ
ルシラン類、トリメチルシラン,トリエチルシラン,ト
リイソプロピルシラン,トリ−t一ブチルシラン,トリ
フェニルシラン,トリトリルシラン,トリメシチルシラ
ン,メチルジフェニルシラン,ジナフチルメチルシラ
ン,ビス(ジフェニル)メチルシラン等のトリアルキル
シラン類、四塩化ケイ素,四臭化ケイ素等の無機ケイ素
化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくはシリル
アミン類であり、より好ましくはトリアルキルシランク
ロリド類である。シラン系化合物は、これらの内から一
種類用いてもよいが、場合によっては二種類以上を任意
に組み合わせて用いることも可能である。
【0048】さらに、(B−3)成分の処理に用いる有
機アルミニウム化合物としては特に制限はないが、例え
ば、後述する一般式(VIII)と同様の式で表されるアル
キル基含有アルミニウム化合物、上記一般式(IV)で表
される直鎖状アルミノキサン又は上記一般式(V)で表
される環状アルミノキサンもしくは環状アルミノキサン
の会合体を好ましく用いることができる。貝体的には、
トリメチルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,ト
リプロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウ
ム,トリーt−ブチルアルミニウム等のトリアルキルア
ルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド,ジエチル
アルミウムクロリド,ジメチルアルミニウムメトキシ
ド,ジエチルアルミニウムメトキシド,ジメチルアルミ
ニウムヒドロキシド,ジエチルアルミニウムヒドロキシ
ド等のハロゲン,アルコキシ基あるいは水酸基含有のア
ルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムヒドリド,
ジイソブチルアルミニウムヒドリド等の水素原子含有の
アルキルアルミニウム、メチルアルミノキサン,エチル
アルミノキサン,イソブチルアルミノキサン等のアルミ
ノキサン等であり、これらのうち、特にトリメチルアル
ミニウムあるいはトリイソブチルアルミニウムが好まし
い。(B−3)成分の処理に用いる有機アルミニウム化
合物は、これらの内から一種用いてもよく、二種以上を
組み合わせて用いてもよい。
【0049】(B−3)成分の処理に用いるシラン系化
合物及び有機アルミニウム化合物の使用割合については
待に制限はないが、(B一3)成分が粘土または粘土鉱
物の場合は、(B−3)成分中の水酸基1モルに対し、
シラン系化合物中のケイ素原手が通常0.1〜10000
0モル、好ましくは0.5〜10000モルとなる割合
で、また有機アルミニウム化台物を用いる場合は、有機
アルミニウム化合物中のアルミニウム原子が通常0.1〜
100000モル、好ましくは0.5〜10000モルと
なる割合で用いられる。また、(B−3)成分が粘土又
は粘土鉱物以外の場合は、(B−3)成分1gに対し、
シラン系化合物中のケイ素原子が0.001〜100gと
なる割合で、また有機アルミニウム化合物を用いる場合
は、有機アルミニウム化合物中のアルミニウム原子が0.
001〜100gとなる割合で用いことが好ましい。上
記の割合の範囲外では重合活性が低下することがある。
(B−3)成分の処理は、窒素等の不活性気体中あるい
はペンタン,ヘキサン,トルエン,キシレン等の炭化水
素中で行ってもよい。さらに、この処理は、重合温度下
で行うことができることはもちろん、−30℃から使用
溶媒の沸点の間、特に室温から使用溶媒の沸点の間で行
うことが好ましい。
【0050】本発明における重合触媒においては、この
(B)成分として、(B−1)成分、(B−2)成分、
(B−3)成分を単独で用いてもよく、また、これらを
組み合わせて用いてもよい。この予備重合触媒における
(A)触媒成分と(B)触媒成分との使用割合は、
(B)触媒成分として(B−1)化合物を用いた場合に
は、モル比で好ましくは1:1〜1:106 、より好ま
しくは1:10〜1:104 の範囲が望ましく、上記範
囲を逸脱する場合は、単位重量ポリマーあたりの触媒コ
ストが高くなり、実用的でない。(B−2)化合物を用
いた場合には、モル比で好ましくは10:1〜1:10
0、より好ましくは2:1〜1:10の範囲が望まし
い。この範囲を逸脱する場合は単位重量ポリマーあたり
の触媒コストが高くなり、実用的でない。また、(B−
3)化合物として粘土又は粘土鉱物を用いた場合、
(A)触媒成分と(B)触媒成分中の水酸基のモル比で
好ましくは1:0.1〜1:100000、より好ましく
は1:0.5〜1:10000の範囲が望ましい。さら
に、(B−3)化合物としてイオン交換性層状化合物を
用いた場合、(A)触媒成分と(B)触媒成分の使用割
合は、重量比で好ましくは1:1〜1:100000で
ある。この範囲を逸脱する場合は単位重量ポリマー当た
りの触媒コストが高くなり、実用的でない。
【0051】さらに、本発明における予備重合媒は、前
記の(A)成分及び(B)成分を主成分として含有する
ものであってもよいし、また、(A) 成分、(B)成分
並びに(C)有機アルミニウム化合物及び/又は担体を
主成分として含有するものであってもよい。この担体
は、触媒が(B)成分として(B−3)成分を含有しな
いものである場合、使用することが好ましい。
【0052】ここで、(C)成分の有機アルミニウム化
合物としては、一般式(VIII) R32 v AlQ3-v ・・・(VIII) (式中、R32は炭素数1〜10のアルキル基、Qは水素
原子、炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20
のアリール基又はハロゲン原子を示し、vは1〜3の整
数である)で示される化合物が用いられる。前記一般式
(VIII) で示される化合物の具体例としては、トリメチ
ルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイソプ
ロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウム,ジ
メチルアルミニウムクロリド,ジエチルアルミニウムク
ロリド,メチルアルミニウムジクロリド,エチルアルミ
ニウムジクロリド,ジメチルアルミニウムフルオリド,
ジイソブチルアルミニウムヒドリド,ジエチルアルミニ
ウムヒドリド,エチルアルミニウムセスキクロリド等が
挙げられる。これらの有機アルミニウム化合物は一種用
いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。また、
(A)触媒成分と所望により用いられる有機アルミニウ
ム化合物との使用割合は、モル比で好ましくは1:1〜
1:20000、より好ましくは1:5〜1:200
0、さらに好ましくは1:10〜1:1000の範囲が
望ましい。有機アルミニウム化合物を用いることによ
り、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができ
るが、あまり多い場合、特に上記範囲を逸脱する場合は
有機アルミニウム化合物が無駄になるとともに、重合体
中に多量に残存し、また少ない場合は充分な触媒活性が
得られず、好ましくない場合がある。
【0053】本発明においては、各触媒成分の少なくと
も一種を適当な担体に担持して用いることができる。
(C)成分の担体の種類については特に制限はなく、無
機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいず
れも用いることができるが、特にモルホロジ−制御の点
から無機酸化物担体あるいはそれ以外の無機担体が好ま
しい。無機酸化物担体としては、具体的には、Si
2 ,Al2 3 ,MgO,ZrO2 ,TiO2 ,Fe
2 3 ,B2 3 ,CaO,ZnO,BaO,ThO2
やこれらの混合物、例えばシリカアルミナ,ゼオライ
ト,フェライト,グラスファイバーなどが挙げられる。
これらの中では、特にSiO2 またはAl2 3 が好ま
しい。なお、上記無機酸化物担体は、少量の炭酸塩,硝
酸塩,硫酸塩などを含有してもよい。
【0054】一方、上記以外の担体として、MgC
2 ,Mg(OC2 5)2 などのマグネシウム化合物な
どで代表される一般式MgR33 X 7 y で表されるマグ
ネシウム化合物やその錯塩などを挙げることができる。
ここで、R33は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1
〜20のアルコキシ基又は炭素数6〜20のアリール
基、X7 はハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル
基を示し、xは0〜2、yは0〜2であり、かつx+y
=2である。各R33及び各X7 はそれぞれ同一でもよ
く、また異なってもいてもよい。また、有機担体として
は、ポリスチレン,スチレン−ジビニルベンゼン共重合
体,ポリエチレン,ポリプロピレン,置換ポリスチレ
ン,ポリアリレートなどの重合体やスターチ,カーボン
などを挙げることができる。本発明において用いられる
担体としては、MgCl2 ,MgCl(OC2 5),
Mg(OC2 5)2 ,SiO2 ,Al2 3 などが好ま
しい。また担体の性状は、その種類及び製法により異な
るが、平均粒径は通常1〜300μm、好ましくは10
〜200μm、より好ましくは20〜100μmであ
る。粒径が小さいと重合体中の微粉が増大し、粒径が大
きいと重合体中の粗大粒子が増大し嵩密度の低下やホッ
パーの詰まりの原因になる。また、担体の比表面積は、
通常1〜1000m2 /g、好ましくは50〜500m
2 /g、細孔容積は通常0.1〜5cm3 /g、好ましく
は0.3〜3cm3 /gである。
【0055】比表面積又は細孔容積のいずれかが上記範
囲を逸脱すると、触媒活性が低下することがある。な
お、比表面積及び細孔容積は、例えばBET法に従って
吸着された窒素ガスの体積から求めることができる
(J.Am.Chem.Soc,第60巻,第309ペ
ージ(1983年)参照)。さらに、上記担体は、通常
150〜1000℃、好ましくは200〜800℃で焼
成して用いることが望ましい。触媒成分の少なくとも一
種を前記担体に担持させる場合、(A)触媒成分及び
(B)触媒成分の少なくとも一方を、好ましくは(A)
触媒成分及び(B)触媒成分の両方を担持させるのが、
モルホロジー制御、気相重合などプロセスへの適用性な
どの点から望ましい。
【0056】該担体に、(A)成分及び(B)成分の少
なくとも一方を担持させる方法については、特に制限さ
れないが、例えば(A)成分及び(B)成分の少なく
とも一方と担体とを混合する方法、担体を有機アルミ
ニウム化合物又はハロゲン含有珪素化合物で処理したの
ち、不活性溶媒中で(A)成分及び(B)成分の少なく
とも一方と混合する方法、担体と(A)成分又は
(B)成分あるいはその両方と有機アルミニウム化合物
又はハロゲン含有珪素化合物とを反応させる方法、
(A)成分又は(B)成分を担体に担持させたのち、
(B)成分又は(A)成分と混合する方法、(A)成
分と(B)成分との接触反応物を担体と混合する方法、
(A)成分と(B)成分との接触反応に際して、担体
を共存させる方法などを用いることができる。なお、上
記、及びの反応において、(C)成分の有機アル
ミニウム化合物を添加することもできる。
【0057】このようにして得られた触媒は、いったん
溶媒留去を行って固体として取り出してから予備重合に
用いてもよく、そのまま予備重合に用いてもよい。本発
明においては、(A)成分は担体1g当たり、通常10
-6〜10-2モル、好ましくは3×10-6〜10-3モルの
量で用いられる。また、(A)成分に対する(B)成分
〔(B−1)成分,(B−2)成分,(B−3)成分〕
の使用割合は前述のとおりである。
【0058】該(B)成分〔(B−1)成分,(B−
2)成分,(B−3)成分〕と担体との使用割合、又は
(A)成分と担体との使用割合が上記範囲を逸脱する
と、活性が低下することがある。このようにして調製さ
れた触媒の平均粒径は、通常2〜500μm、好ましく
は10〜400μm、特に好ましくは20〜200μm
であり、比表面積は、通常20〜1000m2 /g、好
ましくは50〜500m2/gである。平均粒径が2μ
m未満であると重合体中の微粉が増大することがあり、
600μmを超えると重合体中の粗大粒子が増大するこ
とがある。比表面積が20m2 /g未満であると活性が
低下することがあり、1000m2 /gを超えると重合
体の嵩密度が低下することがある。このように担体に担
持することによって工業的に有利な高い嵩密度と優れた
粒径分布を有するポリオレフィンを得ることができる。
【0059】本発明の予備重合触媒は、まず、前記触媒
の存在下、炭素数2〜20のα−オレフィン及び環状オ
レフィンから選ばれた少なくとも一種を重合することに
より製造される。ここで、炭素数2〜20のα−オレフ
ィンとしては、エチレン,プロピレン,1−ブテン,1
−ペンテン,4−メチル−1−ペンテン,1−ヘキセ
ン,1−オクテン,1−デセン,1−ドデセン,1−テ
トラデセン,1−ヘキサデセン,1−オクタデセン,1
−エイコセンなどが挙げられ、環状オレフィンとして
は、シクロペンテン,シクロヘプテン,ノルボルネン,
5−エチル−2−ノルボルネン,テトラシクロドデセン
などが挙げられる。重合形式としては、回分式,連続式
のいずれであってもよく、また、スラリー重合法,気相
重合法,塊状重合法,溶液重合法などの中から、任意の
方法を採用することができる。
【0060】スラリー重合又は溶液重合を実施する場合
に使用する重合溶媒としては、例えばプロパン,ブタ
ン,ペンタン,ヘキサン,ヘプタン,オクタン,デカ
ン,ドデカン,灯油などの脂肪族炭化水素、シクロペン
タン,シクロヘキサン,メチルシクロヘキサンなどの脂
環式炭化水素、ベンゼン,トルエン,キシレンなどの芳
香族炭化水素、エチレンクロリド,クロロベンゼン,ジ
クロロメタン,クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよ
く、二種以上を混合して用いてもよい。重合条件につい
ては、重合温度は、通常−50〜200℃、好ましくは
−20〜150℃、より好ましくは0〜120℃の範囲
である。重合圧力は、通常0〜200kg/cm2 G、
好ましくは0.1〜150kg/cm2 G、より好ましく
は0.2〜100kg/cm2 Gの範囲である。また、重
合時間は、通常、10秒〜40時間、好ましくは30秒
〜30時間、より好ましくは1分〜10時間の範囲であ
る。さらに、重合触媒の使用量は、原料モノマー/前記
(A)成分モル比が、好ましくは1〜108 、より好ま
しく100〜107 となるように選ぶのが有利である。
【0061】また、本発明においては、(A)成分及び
(B)成分の少なくとも一方の担体への担持操作を重合
系内で行うことにより重合触媒を生成させることができ
る。例えば(A)成分及び(B)成分と担体とさらに必
要により前記有機アルミニウム化合物を加え、オレフィ
ンを0.1〜50kg/cm2 加えて、−20〜200℃
で1分〜10時間程度予備重合を行い触媒粒子を生成さ
せる方法を用いることができる。予備重合により生成す
る予備重合触媒や目的とするポリオレフィンの極限粘度
の制御(分子量の制御)は、重合触媒の各成分の使用割
合や重合触媒の使用量,重合温度,重合圧力などを、前
記範囲で適宜選定することにより、行うことができる。
【0062】このような反応により得られる予備重合触
媒は、極限粘度〔η〕が0.05〜20デシリットル/g
の範囲にあり、かつ極限粘度〔η〕と末端ビニル濃度C
(個/炭素原子1000個)との積〔η〕・Cが0.05
〜1.1の範囲にある、遷移金属化合物1g当たり0.01
g〜50kgのものである。極限粘度〔η〕は、テトラ
リン溶媒中、温度135℃において測定したものであ
る。この極限粘度〔η〕が0.05デシリットル/g未満
では、この予備重合触媒を用いてα−オレフィン等を重
合又は共重合して得られるポリオレフィンが溶融加工性
に劣るとともに、機械的強度が不充分であり、また20
デシリットル/gを超えると上記ポリオレフィンの溶融
粘度が高く、溶融加工性が低下する。上記ポリオレフィ
ンの溶融加工性及び機械的強度のバランスなどの面か
ら、この〔η〕としては、0.05〜15デシリットル/
gが好ましく、特に0.1〜15デシリットル/gの範囲
が好ましい。
【0063】末端ビニル濃度C、すなわち炭素原子10
00個当たりの末端ビニル基数は、上記ポリマーを約1
00μmのフィルムとし、日本分光(株)製IR−81
0型赤外分光光度計にて、907cm-1のピ−クの透過
率を測定し、以下の式により算出した(「高分子分析ハ
ンドブック」日本分析化学会編,240頁参照)。 C=1.14×log(I0 /I)×(1/(D×T)) I0 :ベースラインの透過率 I :907cm-1の透過率 D :重合体の密度(g/cm3 ) T :フィルムの厚さ(mm) 極限粘度〔η〕は135℃でテトラリン溶媒中において
測定した値であり、ハギンスの式を用い、ハギンス定数
を0.35として算出した。また、重合体の密度Dは通常
の密度勾配管法により測定することができる。この際、
ポリマーが触媒残渣等を多量に含有する場合は、測定値
に誤差が生じるため、溶解、ろ過、再沈等の操作により
不純物を除去することが好ましい。上記ポリマーにおい
て極限粘度〔η〕と末端ビニル濃度C(個/炭素原子1
000個)との積〔η〕・Cは0.05〜1.1の範囲にあ
るが、溶融加工性の観点から0.1〜1.1が好ましく、特
に、0.15〜1.0が好ましい。このような特性を有す
る、予備重合により得られたポリマーは、分子末端が選
択的にビニル基を有していることを示している。予備重
合により得られる予備重合触媒は、遷移金属化合物1g
当たり0.01g〜50kgであるが、溶融加工性、嵩密
度の観点から、遷移金属化合物1g当たり0.01〜40
000gが好ましく、特に10〜40000gが好まし
い。
【0064】上記予備重合により製造された予備重合触
媒は、ポリマーが触媒活性成分の周囲に付着した状態の
ものであり、予備重合終了後の反応混合物中には、該ポ
リマーと触媒とが含まれている。本発明においては、該
ポリマーと触媒(換言すれば該ポリマーが付着した触
媒)を予備重合触媒と称する。本発明の製造方法におい
ては、この予備重合触媒の存在下又は必要により有機ア
ルミニウム化合物を加えたものの存在下に、炭素数2〜
20のα−オレフィン、環状オレフィン及びスチレン系
単量体から選ばれた少なくとも一種を重合又は共重合す
ることによりポリオレフィンを得ることができる。ここ
で、有機アルミニウム化合物としては、前記と同様のも
のを用いることができる。(A)触媒成分と所望により
用いられる有機アルミニウム化合物との使用割合は、前
記予備重合触媒が有機アルミニウム化合物を含まないも
のである場合は、モル比で好ましくは1:1〜1:20
000、より好ましくは1:5〜1:2000、さらに
好ましくは1:10〜1:1000の範囲が望ましい。
また、前記予備重合触媒が有機アルミニウム化合物を含
む物である場合は、その使用量によって変化するが、有
機アルミニウム化合物を全く用いないか、または予備重
合触媒中の遷移金属化合物と有機アルミニウム化合物と
のモル比を1:0.5〜1:10000、より好ましくは
1:2〜1:8000の範囲で有機アルミニウム化合物
を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上
させることができるが、あまり多い場合、特に上記範囲
を逸脱する場合は有機アルミニウム化合物が無駄になる
とともに、重合体中に多量に残存し、また少ない場合は
充分な触媒活性が得られず、好ましくない場合がある。
【0065】炭素数2〜20のα−オレフィン、環状オ
レフィンとしては前記と同様のものが挙げられる。ま
た、スチレン系単量体としては、スチレン,o−メチル
スチレン,m−メチルスチレン,p−メチルスチレン,
2,4−ジメチルスチレン,2,5−ジメチルスチレ
ン,3,4−ジメチルスチレン,3,5−ジメチルスチ
レン,2,4,5−トリメチルスチレン,2,4,6−
トリメチルスチレン,p−t−ブチルスチレンなどのア
ルキルスチレン、p−クロロスチレン,m−クロロスチ
レン,o−クロロスチレン,p−ブロモスチレン,m−
ブロモスチレン,o−ブロモスチレン,p−フルオロス
チレン,m−フルオロスチレン,o−フルオロスチレ
ン,o−メチル−p−フルオロスチレンなどのハロゲン
化スチレンなどが挙げられる。
【0066】重合形式や重合条件は、前記予備重合と同
様のものとすることができる。また、ブロック共重合法
により、予備重合とは異なる反応条件によりオレフィン
のブロック共重合体を製造することもできる。この場
合、異なる反応条件とは、例えば、予備重合触媒を用
い、まずポリプロピレンの単独重合体を製造した後、次
の反応ステップで、エチレン、炭素数4〜20のα−オ
レフィン、環状オレフィン及びスチレンから選ばれた単
量体とプロピレンとを共重合することや上記と同様
にして、エチレン、炭素数4〜20のα−オレフィン、
環状オレフィン及びスチレンから選ばれた単量体とプロ
ピレンとを共重合した後、次のステップで単量体の仕込
み組成を変化させ、共重合組成の変化したブロック共重
合体を製造すること等であり、単量体種、重合温度、圧
力、時間、単量体仕込組成を変化させ、二段階以上で重
合反応を行うことを指す。
【0067】本発明の方法で得られたポリオレフィンの
融点は通常50℃以上、好ましくは70℃以上、より好
ましくは80℃以上、さらに好ましくは90〜160℃
の範囲である。なお、この融点は、下記の方法により測
定した値である。すなわち、示差走査型熱量計〔セイコ
ー電子工業(株)製、DSC200型〕を用い、室温か
ら10℃/分の速度で200℃まで昇温し、200℃で
3分間保持したのち、10℃/分で30℃まで降温す
る。30℃で5分間保持したのち、10℃/分で昇温
し、その際に現れる融解ピークの温度を融点とする。こ
のポリオレフィンは、メルトインデックスMIが0.00
5〜1000g/10分の範囲にあるものが好ましい。
このMIが0.005g/10分未満では溶融流動性が不
充分であり、1000g/10分を超えると機械物性が
著しく低下し、好ましくない。溶融流動性及び機械物性
のバランスなどの面から、より好ましいMIは0.01〜
800g/10分の範囲であり、特に0.05〜600g
/10分の範囲が好ましい。なお、このMIは、AST
M D1238−T65に準拠し、温度230℃,荷重
2.16kgの条件で測定した値である。また、上記ポリ
オレフィンの極限粘度〔η〕が0.1デシリットル/g未
満では溶融加工性に劣るとともに、機械的強度が不充分
であり、また20デシリットル/gを超えると溶融粘度
が高く、溶融加工性が低下する。溶融加工性及び機械的
強度のバランスなどの面から、この〔η〕としては、0.
4〜10.0デシリットル/gが好ましく、特に0.6〜8.
0デシリットル/gの範囲が好ましい。
【0068】上記ポリオレフィンの溶融張力MS(g)
は、温度230℃において測定した溶融張力MS(g)
と、テトラリン溶媒中、温度135℃において測定した
極限粘度〔η〕(デシリットル/g)とが、式 logMS≧3.17×log〔η〕−0.68 (1) の関係を満たすことが好ましい。logMSが「3.17
×log〔η〕−0.68」の値より小さい場合には、溶
融加工性に劣り、本発明の目的が達せられない。溶融加
工性の面から、更に好ましくは logMS≧3.17×log〔η〕−0.57 より好ましくは logMS≧3.17×log〔η〕−0.46 特に好ましくは logMS≧3.17×log〔η〕−0.35 である。溶融張力MSは、東洋精機社製キャピログラフ
を用い、下記の条件で測定した値である。 キャピラリー : 直径2.095mm,長さ8.0mm,流入角90度 シリンダー径 : 9.0mm シリンダー押出速度 : 10mm/分 巻き取り速度 : 3.14m/分 温度 : 230℃ なお、測定サンプルには、予め酸化防止剤としてイルガ
ノックス1010とBHTとの重量比1:1の混合物を
4000重量ppm添加した。
【0069】上記ポリオレフィンの嵩密度は、0.3g/
cc以上であることが好ましく、特に0.35g/ccが
好ましい。なお、嵩密度はJIS K6721に準拠し
て求めた。
【0070】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。 調製例1 シリカ担持メチルアルミノキサンのn−ヘプタン懸濁液
の調製 SiO2 (富士シリシア化学社製,商品名:P−10)
27.1gを200℃で2時間減圧乾燥処理し、乾燥シリ
カ25.9gを得た。この乾燥シリカをドライアイス/メ
タノール浴で−78℃に冷却したトルエン400ミリリ
ットル中に投入し、攪拌しながら、これに1.5モル/リ
ットルのメチルアルミノキサントルエン溶液145.5ミ
リリットルを1.0時間かけて滴下ロートにより滴下し
た。この状態で4.0時間放置したのち、−78℃から2
0℃まで6.0時間で昇温し、さらにこの状態で4.0時間
放置した。その後、20℃から80℃まで1.0時間で昇
温し、80℃で4.0時間放置することにより、シリカと
メチルアルミノキサンとの反応を完了させた。この懸濁
液を60℃でろ過し、得られた固形物を60℃にて、4
00ミリリットルのトルエンで2回、さらに60℃に
て、400ミリリットルのn−ヘキサンで2回洗浄を実
施した。洗浄後の固形物を60℃で4.0時間減圧乾燥処
理することにより、シリカ担持メチルアルミノキサン3
3.69gを得た。メチルアルミノキサンの担持量は23.
12重量%であった。このようにして得られたシリカ担
持メチルアルミノキサン全量に、n−ヘプタンを加えて
全容量を500ミリリットルとし、メチルアルミノキサ
ン濃度0.27モル/リットルの懸濁液を調製した。
【0071】調製例2 シリカ担持メタロセン触媒の調製 調製例1で得られたシリカ担持メチルアルミノキサン懸
濁液9.26ミリリットル(メチルアルミノキサン2.5ミ
リモル)を、乾燥窒素置換容器に採取し、n−ヘプタン
20ミリリットルを加えて攪拌した。この懸濁液に、遷
移金属化合物として、rac−ジメチルシランジイル−
ビス−1−(2−メチル−4−フェニルインデニル)ハ
フニウムジクロリド〔rac−Me2 Si(2−Me−
4−PhInd)2 HfCl2 〕のトルエン溶液10マ
イクロモルを添加し、室温で0.5時間攪拌した。その
後、攪拌を停止し、固体触媒成分を沈降させ、沈降した
固体触媒成分が淡黄色であり、溶液は無色透明であるこ
とを確認した。このようにして、シリカ担持メタロセン
触媒を調製した。
【0072】調製例3 シラン化合物処理モンモリロナイトのトルエン懸濁液の
調製 市販のモンモリロナイト(クニミネ工業社製、クニピア
F)40gを粉砕機で4時間粉砕した。容積500ミリ
リットルの三つ口フラスコに粉砕したモンモリロナイト
20gを入れ、塩化マグネシウム六水和物20gを溶解
させたイオン交換水100ミリリットルを加えて分散さ
せた。攪拌下、90℃にて0.5時間処理した。処理後、
濾過して得られた固体成分を100ミリリットルの水に
て3回洗浄した。この塩化マグネシウム処理及び水洗を
もう一度繰り返した。次にこの固体成分を6%塩酸16
0ミリリットルに分散させ、攪拌しながら還流下、2時
間処理した。処理後、濾過して得られた固体成分に対し
て、濾液が中性になるまで水洗を繰り返し、室温にて真
空間乾燥し、化学処理モンモリロナイトを得た。この化
学処理モンモリロナイト1.0gを容積300ミリリット
ルのシュレンク管に入れ、トルエン25ミリリットルを
加えて分散させた。ここにメチルフェネチルシリルジク
ロリド1.13g(5.2ミリモル)を加え、室温において
60時間攪拌後、さらに100℃にて1時間攪拌した。
攪拌終了後、静置して上澄み液を抜き出し、残った固体
成分にトルエン200ミリリットルを加えて攪拌した
後、静置して上澄み液を抜き出す操作を3回繰り返し
た。得られた固体にトルエンを加えて全量を50ミリリ
ットルとし、懸濁液を調製した。 調製例4 シラン化合物処理モンモリロナイト担持メタロセン触媒
の調製 調製例3にて得られたシラン化合物処理モンモリロナイ
ト懸濁液50ミリリットルに(1,2’−エチレン)
(2,1’−エチレン)ビスインデニルハフニウムジク
ロリド〔Et2 (Ind)2 HfCl2 〕のトルエン溶
液10マイクロモルを添加し、室温において0.5時間攪
拌した。攪拌終了後、静置して上澄み液を抜き出し、得
られた固体にトルエンを加えて全容量を50ミリリット
ルとし、触媒の懸濁液を調製した。
【0073】実施例1 ポリプロピレン系予備重合触媒の製造 攪拌装置付き1.4リットルステンレス鋼製耐圧オートク
レーブを80℃に加熱し、充分に減圧乾燥したのち、乾
燥窒素で大気圧に戻し、このオートクレーブに、乾燥窒
素気流下、乾燥脱酸素n−ヘプタン400ミリリットル
と、トリイソブチルアルミニウム(トルエン溶液)0.5
ミリモルを投入し、500rpmで10分間攪拌した。
これに、調製例2で調製したシリカ担持メタロセン触媒
を投入し(ハフニウム化合物として10マイクロモ
ル)、75℃に制御しながらプロピレンを1.0kg/c
2 Gで連続的に供給し、120分間予備重合を実施
し、ポリプロピレン(予備重合触媒)を得た。予備重合
終了後、未反応プロピレンを脱圧し、さらに窒素により
未反応プロピレンを除去した。得られたポリプロピレン
の一部を窒素雰囲気下でサンプリングし、予備重合量
(予備重合により得られたポリプロピレン量)を求めた
ところ、遷移金属1g当たり5600gであり、シリカ
担持メタロセン触媒1g当たり16gであった。また、
予備重合により得られたポリプロピレンの極限粘度
〔η〕は1.37デシリットル/gであった。このポリプ
ロピレンの末端ビニル濃度Cは0.21個/炭素原子10
00個)であり、〔η〕・Cは0.289であった。予備
重合により得られた予備重合触媒は、その固体部分をデ
カンテーションにより液部から分離し、乾燥脱酸素n−
ヘプタン100ミリリットルのスラリーとして保存し
た。
【0074】実施例2〜3 ポリプロピレン系予備重合触媒の製造 遷移金属化合物の種類と量、メチルアルミノキサンの量
を第1表に示すように変えた以外は調製例2と同様にし
て調製したシリカ担持メタロセン触媒(予備重合触媒)
を用い、かつ反応条件を第1表に示すように変更した以
外は実施例1と同様にしてポリプロピレン(予備重合触
媒)を製造した。
【0075】
【表1】
【0076】〔注〕 A:rac−Et(4,7−Me2 −Ind)2 HfC
2 B:Et2 (Ind)2 HfCl2
【0077】実施例4 予備重合触媒を用いたポリプロピレンの製造 攪拌装置付き1.4リットルステンレス鋼製耐圧オートク
レーブを80℃に加熱し、充分に減圧乾燥したのち、乾
燥窒素で大気圧に戻し、乾燥窒素気流下、このオートク
レーブに、乾燥脱酸素n−ヘプタン300ミリリットル
と、トリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液0.5ミ
リモルを投入し、500rpmで10分間攪拌した。こ
れに、実施例3で調製した予備重合触媒を100ミリリ
ットル(ハフニウム原子換算で9.5マイクロモル相当)
を投入し、70℃まで昇温した。これにプロピレンを8.
0kg/cm2 Gで連続的に供給し、180分間重合を
実施した。反応終了後、未反応プロピレンを脱圧し、大
量のメタノールで触媒を失活し、ろ過乾燥処理してポリ
プロピレン65gを得た。このポリプロピレンについ
て、メルトインデックスMI,極限粘度〔η〕,溶融張
力MS,融点Tm,嵩密度を明細書本文に記載した方法
に従って求め、評価した。結果を第2表に示す。
【0078】
【表2】
【0079】実施例5 攪拌装置付き1.4リットルステンレス鋼製耐圧オートク
レーブを80℃に加熱し、充分に減圧乾燥したのち、乾
燥窒素で大気圧に戻し、乾燥窒素気流下、このオートク
レーブに、乾燥脱酸素n−ヘプタン400ミリリットル
と、トリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液0.5ミ
リモルを投入し、500rpmで10分間攪拌した。こ
れに、調製例4で調製したシラン化合物処理モンモリロ
ナイト担持メタロセン触媒の懸濁液25ミリリットル
(0.5g触媒相当、ハフニウム原子換算で5マイクロモ
ル相当)を投入し、60℃に制御しながらプロピレンを
3.0kg/cm 2 Gで連続的に供給し、300分間重合
を実施し、ポリプロピレン(予備重合触媒)を得た。予
備重合終了後、未反応プロピレンを脱圧し、さらに窒素
により未反応プロピレンを除去した。得られたポリプロ
ピレンの一部を窒素雰囲気下でサンプリングし、予備重
合量を求めたところ、遷移金属1g当たり4000gで
あり、シラン化合物処理モンモリロナイト担持メタロセ
ン触媒1g当たり7gであった。また、予備重合により
得られたポリプロピレンの極限粘度〔η〕は0.32デシ
リットル/gであり、〔η〕・Cは0.348であった。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、溶融張力が高く、樹脂
相溶性に優れ、嵩密度の高いポリオレフィンを、安価
に、かつ効率よく製造することができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J028 AA01A AB00A AB01A AC01A AC08A AC09A AC10A AC26A AC27A AC28A BA00A BA01A BA01B BA02A BA03A BB00A BB00B BB01A BB01B BB02A BB03A BC12A BC15A BC15B BC16A BC16B BC17A BC17B BC19A BC19B BC25A BC25B BC27A BC27B BC32A BC33A BC37A BC39A CA16A CA20A CA25A CA26A CA27A CA28A CA29A CA30A CB09A CB44A CB63A CB64A CB65A CB74A CB77A CB87A CB94A DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DA08 DA09 EA01 EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB21 EB26 EC01 EC02 FA01 FA02 FA04 FA06 FA07 GA04 GA05 GA19 4J100 AA02P AA03P AA04P AA07P AA15P AA16P AA17P AA19P AA21P AB02P AB03P AB04P AB08P AB09P AB10P AR03P AR04P AR09P AR11P CA01 CA04 DA16 DA39 FA10 FA19 FA22

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)シクロペンタジエニル基を有する
    周期律表第4族の遷移金属化合物の中から選ばれた一種
    と、(B)(B−1)アルミニウムオキシ化合物、(B
    −2)上記遷移金属化合物と反応してカチオンに変換し
    うるイオン性化合物並びに(B−3)粘土,粘土鉱物及
    びイオン交換性層状化合物の中から選ばれた少なくとも
    一種を含有してなる触媒の存在下、炭素数2〜20のα
    −オレフィン及び環状オレフィンから選ばれた少なくと
    も一種を、上記遷移金属化合物1g当たり0.01g〜5
    0kgの割合で予備重合してなり、極限粘度〔η〕が0.
    1〜20デシリットル/gの範囲にあり、かつ極限粘度
    〔η〕と末端ビニル濃度C(個/炭素原子1000個)
    との積〔η〕・Cが0.05〜1.1の範囲にあることを特
    徴とする予備重合触媒。
  2. 【請求項2】 予備重合に用いる触媒が、さらに(C)
    有機アルミニウム化合物及び/又は担体を含有するもの
    である請求項1記載の予備重合触媒。
  3. 【請求項3】 (A)成分又は(B)成分の少なくとも
    1種が担体に担持され、該担体と(A)成分と(B)成
    分の合計量1g当たり0.01〜2000gの予備重合触
    媒が得られるものである請求項1記載の予備重合触媒。
  4. 【請求項4】 (A)成分の遷移金属化合物が、(A−
    1)一般式(I) 【化1】 〔式中、R1 〜R6 は、それぞれ独立に水素原子,ハロ
    ゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基又は炭素数1〜
    20のハロゲン含有炭化水素基を示し、R3 とR 4 ,R
    4 とR5 及びR5 とR6 のうちの少なくとも一組はたが
    いに結合して環を形成してもよく、X1 及びX2 はそれ
    ぞれ独立に水素原子,ハロゲン原子又は炭素数1〜20
    の炭化水素基を示し、Y1 は二つの配位子を結合する二
    価の架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭
    素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、
    ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、
    −S−、−SO2 −、−Se−、−NR18−、−PR18
    −、−P(O)R18−、−BR18−又は−AlR18−を
    示し、R18は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20
    の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
    基を示す。M1 はチタン,ジルコニウム又はハフニウム
    を示す。〕で表される遷移金属化合物、(A−2)一般
    式(II) 【化2】 〔式中、R7 〜R13,R15,R16,X3 及びX4 は、そ
    れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20
    の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
    基、珪素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有
    基又はリン含有基を示し、R7 とR8 はたがいに結合し
    て環を形成してもよい。R14,R17は、それぞれ独立に
    ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1
    〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、酸素含
    有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基を示
    す。Y2 は二つの配位子を結合する二価の架橋基であっ
    て、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハ
    ロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有
    基、スズ含有基、−O−、−CO−、−S−、−SO 2
    −、−Se−、−NR18−、−PR18−、−P(O)R
    18−、−BR18−又は−AlR18−を示し、R18は水素
    原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭
    素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基を示す。M2
    チタン,ジルコニウム又はハフニウムを示す。〕で表さ
    れる遷移金属化合物、並びに(A−3)一般式(III) 【化3】 〔式中、M3 はチタン,ジルコニウム又はハフニウムを
    示し、E1 及びE2 はそれぞれ置換シクロペンタジエニ
    ル基,インデニル基,置換インデニル基,ヘテロシクロ
    ペンタジエニル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル
    基,アミド基,ホスフィド基,炭化水素基及び珪素含有
    基の中から選ばれた配位子であって、A1 及びA2 を介
    して架橋構造を形成しており、またそれらはたがいに同
    一でも異なっていてもよく、X5 はσ結合性の配位子を
    示し、X5 が複数ある場合、複数のX 5 は同じでも異な
    っていてもよく、他のX5 ,E1 ,E2 又はY3 と架橋
    していてもよい。Y3 はルイス塩基を示し、Y3 が複数
    ある場合、複数のY2 は同じでも異なっていてもよく、
    他のY3 ,E1 ,E2 又はX5 と架橋していてもよく、
    1 及びA2 は二つの配位子を結合する二価の架橋基で
    あって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20
    のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム
    含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、−S−、−S
    2 −、−Se−、−NR18−、−PR18−、−P
    (O)R18−、−BR18−又は−AlR18−を示し、R
    18は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水
    素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基を示
    し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよい。q
    は1〜5の整数で〔(M3 の原子価)−2〕を示し、r
    は0〜3の整数を示す。〕で表される遷移金属化合物か
    ら選ばれた一種である請求項1〜3のいずれかに記載の
    予備重合触媒。
  5. 【請求項5】 請求項1〜5のいずれかに記載の予備重
    合触媒及び有機アルミニウム化合物からなるオレフィン
    重合用触媒。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の予備重合触媒の存在下又
    は該予備重合触媒に有機アルミニウム化合物を加えたも
    のの存在下、炭素数2〜20のα−オレフィン、環状オ
    レフィン及びスチレン系単量体から選ばれた少なくとも
    一種を重合又は共重合することを特徴とするポリオレフ
    ィンの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006257332A (ja) * 2005-03-18 2006-09-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 真空成型用熱可塑性エラストマ−組成物および積層体
JP2010111762A (ja) * 2008-11-06 2010-05-20 Japan Polypropylene Corp プロピレン系重合体の製造方法
JP2014513735A (ja) * 2011-03-25 2014-06-05 エクソンモービル ケミカル パテンツ インコーポレイテッド ビニル末端型ポリマーを製造するための新規な触媒およびその使用方法
WO2021111781A1 (ja) * 2019-12-06 2021-06-10 ポリプラスチックス株式会社 環状オレフィン重合体、溶液、フィルム、及び金属樹脂積層体

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