JP2000029227A - パターン形成方法および感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光性樹脂の種類に拘らず、水性現像液（特
に水）で現像し、解像度に優れるパターンを形成する。 【解決手段】 露光により感光層の表面を所定のパター
ンに難溶化処理して、難溶化又は耐水化パターンを形成
し、前記感光層に対して水性現像剤を感光層に対して垂
直方向に高圧（75〜500kgf／cm² 程度）で噴出させて現
像し、解像度が高く高アスペクト比のパターンを形成す
る。感光層は、ネガ型感光性ポリマーと微粒子（無機微
粒子など）との単一層であってもよく、感光性ポリマー
で構成された感光性表面層と、噴出する水性現像剤によ
りエッチング可能であり、かつ非感光性の成膜性有機成
分と微粒子とを含む下層とで構成された複合層であって
もよい。微粒子の平均粒子径は１ｎｍ〜１０μｍ程度で
ある。高圧で現像した後、焼成すると、無機パターンを
形成できる。前記感光層は、密着層を介して基板に形成
してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂の種類
によらず、水性現像液を用いて微細なパターン（特に無
機パターン）を形成するのに有用なパターン形成方法お
よびそのための感光性樹脂組成物、並びにパターン形成
に有用な感光層の構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】無機パターンを形成する材料として、感
光性樹脂に無機微粒子を充填した感光性ペーストが知ら
れている。この感光性ペーストでは、基体に塗布し、塗
膜に所定のマスクを介してパターン露光し、現像した
後、焼成して有機質成分を消失させることにより無機パ
ターンを形成している。このような感光性ペーストに
は、無機成分を高充填できること、高感度で高解像度で
あることが要求される。しかし、感光性ペーストにおい
て、無機微粒子の濃度（充填率）と感光特性（感度や解
像度など）とが相反する関係にある。そのため、無機微
粒子の充填率が小さいと、有機成分を除去するため加熱
焼成すると、体積収縮が大きく、無機パターンが基板か
ら剥離し、密着性が低下するとともに、パターン形状が
変化して解像度が低下する。一方、無機微粒子の含有率
を高めると、無機粒子により露光された光線が吸収，反
射又は散乱され、低感度となるとともに、解像度も低下
する。そして、前記感光性ペーストでは、高矩形性で高
アスペクト比の微細な無機パターンを高精度に形成する
ことが困難である。露光部および非露光部のコントラス
ト（現像液に対する溶解性の差）が小さく、解像度を改
善するには十分でない。

【０００３】さらに、感光層を構成する感光性樹脂の種
類によって現像液を選択する必要がある。例えば、アク
リロイル基を有する重合性オリゴマーと光重合開始剤と
で構成された感光性樹脂組成物を用いる場合には、現像
剤として有機溶媒が使用され、共重合ナイロンなどのア
ルコール可溶性重合体と重合性単量体と光重合開始剤と
で構成された感光性樹脂組成物を用いる場合には、現像
剤としてアルコールが使用されている。また、フェノー
ルノボラック樹脂などのアルカリ可溶性樹脂とキノンジ
アジド類などの感光剤とで構成された感光性樹脂組成物
を用いる場合には、アルカリ現像液を用いる必要があ
る。そのため、感光性樹脂の種類に拘らず、水性現像剤
単独、特に水を現像剤を用いて現像することが困難であ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、感光性樹脂の種類に拘らず、水性現像剤、特に水現
像が可能なパターン形成方法、およびそのための感光性
樹脂組成物、並びに感光層の構造を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、高い感度および解像度のパタ
ーンを形成できる方法およびそのための感光性樹脂組成
物、並びに感光層の構造を提供することにある。本発明
のさらに他の目的は、高いアスペクト比、高い矩形性の
無機パターンを形成できる方法およびそのための感光性
樹脂組成物、並びに感光層の構造を提供することにあ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討の結果、感光層を軽度に露光し
て感光層の深部まで光反応（硬化又は架橋など）させる
ことなく、感光層の表面に難溶性パターン（耐水性パタ
ーン）を形成し、水を高圧で噴出させて現像すると、水
性現像剤に対して実質的に溶解性を示さない感光性樹脂
で感光層を形成しても、水性現像液（特に水）で現像で
きるとともに、感度および解像度も向上すること、さら
に少なくとも表層が感光性を有する複数の層で感光層を
構成しても、上記と同様の利点が得られることを見いだ
し、本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明のパターン形成方法で
は、感光性樹脂組成物を基体に塗布し、感光層を形成し
た後、露光により感光層の表面を所定のパターンに難溶
化処理する。すなわち、露光により疎水化（難溶化）パ
ターンを感光層の表面の表層に形成する。次いで、水性
現像剤を高圧で噴射（又は噴出）させて現像することに
より、パターンを形成する。前記現像は、前記感光層に
対して水性現像剤を高圧（例えば、７５〜５００ｋｇｆ
／ｃｍ² 程度の圧力）で噴出させることにより行うこと
ができる。前記感光層の少なくとも表層部は、感光性オ
リゴマー又はポリマーと微粒子とで構成できる。さらに
感光層は、感光性を有する表面層と、この表層と基板と
の間に介在し、かつ水性現像剤の高圧噴出によりエッチ
ング可能な少なくとも１つの下層とで構成された複合層
であってもよい。現像は、例えば、高圧で水を感光層に
対して垂直方向に噴出させることにより行ってもよい。
さらに、感光性樹脂（感光性オリゴマー又はポリマー）
と無機微粒子とで感光層を構成し、マスクを介して露光
した後、現像し、焼成することにより無機パターンを形
成してもよい。本発明の感光性樹脂組成物は、前記パタ
ーン形成に用いられる。この感光性樹脂組成物は、感光
性有機オリゴマー又はポリマーおよび微粒子とで構成で
きる。

【０００７】さらに本発明には、前記パターン形成に用
いるための感光層の構造であって、感光性を有する表面
層と、この表面層と基板との間に介在し、かつ水性現像
剤の高圧噴出によりエッチング可能な少なくとも１つの
下層とで構成されている感光層の構造も含まれる。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の方法は、感光層に対して
露光し、マスクパターンに対応させて感光層の表面を耐
水化又は難溶化する露光工程と、この露光工程の後、水
性現像液を高圧で噴出させて現像する現像工程と、必要
により、高圧現像によりパターンを形成した後、パター
ンを焼成する焼成工程とで構成されている。このような
方法は、感光性樹脂に対して非溶媒の水性現像液であっ
ても、円滑に現像でき、しかも感度および解像度を向上
でき、高いアスペクト比のパターンを形成できるという
特色がある。

【０００９】［感光層］感光層は、慣用の感光性樹脂組
成物（又はレジスト組成物）で形成でき、その種類およ
び構造は特に限定されない。感光層は、単一層であって
もよく複数層（複合感光層）であってもよく、感光層の
うち少なくとも表層部（すなわち、感光層全体又は表面
層）は、通常、感光性を有している。感光性を有する単
一層は感光性成分（（A）感光性オリゴマー又はポリマ
ー及び／又は（C）感光性無機成分）と（B）微粒子とで
構成できる。

【００１０】複合感光層は、感光性を有する表面層と、
この表面層と基板との間に介在し、かつ水性現像剤の高
圧噴出によりエッチング可能な少なくとも１つの下層
（中間層）とで構成できる。複合感光層のうち感光性表
面層は、（A）少なくとも感光性オリゴマー又はポリマ
ーで構成された感光性組成物、（A）少なくとも感光性
オリゴマー又はポリマーおよび（B）微粒子で構成され
た感光性組成物、又は（C）少なくとも感光性無機成分
で構成された感光性組成物で形成できる。好ましい表面
層は、通常、少なくとも感光性オリゴマー又はポリマー
で構成されており、通常、（A）感光性オリゴマー又は
ポリマーで構成された感光性樹脂組成物、又は（A）感
光性オリゴマー又はポリマーおよび（B）微粒子で構成
された感光性樹脂組成物で形成できる。複合感光層にお
いて、下層（中間層）は、感光性であってもよく非感光
性であってもよい。好ましい複合感光層の下層は、感光
性又は非感光性の成膜性有機成分と微粒子とで構成され
ており、下層は非感光性であってもよい。好ましい態様
において、複合感光層は、少なくとも感光性オリゴマー
又はポリマーで構成された表面層と、水性現像剤の高圧
噴出によりエッチング可能な非感光性下層（中間層）と
で構成できる。

【００１１】［感光性ポリマー］ （A）感光性オリゴマー又はポリマー（以下、単に感光
性ポリマーという）は、ネガ型感光性ポリマー又はポジ
型感光性ポリマーのいずれであってもよい。ネガ型感光
性ポリマーでは露光部が難溶化又は疎水化し、ポジ型感
光性ポリマーでは非露光部が難溶化又は疎水化する。感
光層の表層部において露光部と非露光部での噴出する水
性現像剤に対する耐性の差が大きければ、ネガ型又はポ
ジ型感光性ポリマーも有効に利用できる。難溶化又は疎
水化パターンを有効に形成するためには、ネガ型感光性
ポリマーが有利である。

【００１２】（A）感光性ポリマーは、（A1）オリゴマ
ー又はポリマー自体が感光性を有していてもよく、（A
2）オリゴマー又はポリマーと、感光剤とを含む感光性
樹脂組成物で構成してもよい。通常、後者の感光性樹脂
組成物（A2）が利用される。

【００１３】（A1）感光性を有するオリゴマー又はポリ
マーには、ジアゾニウム塩基含有重合体、アジド基含有
重合体、ポリケイ皮酸ビニルエステルなどのシンナモイ
ル基やシンナミリデン基などの光二量化型官能基を有す
る重合体などが例示できる。

【００１４】（A2）感光性ポリマーとしては、極性又は
非極性基を有する種々のポリマーが使用できる。好まし
い感光性ポリマーは、極性基、例えば、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基、エー
テル基、カーボネート基、アミド基又はＮ−置換アミド
基（−ＮＨＣ（Ｏ）−，＞ＮＣ（Ｏ）−など）、ニトリ
ル基、グリシジル基、ハロゲン原子を含有している。感
光性ポリマーは、（メタ）アクリロイル基，アリル基な
どの重合性基を有する重合性オリゴマー又はポリマーで
あってもよい。

【００１５】ヒドロキシル基含有ポリマーおよびその誘
導体としては、例えば、ポリビニルアルコール系重合
体、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコー
ル共重合体、フェノール樹脂、ノボラック樹脂、メチロ
ールメラミン、それらの誘導体（例えば、アセタール化
物やヘキサメトキシメチルメラミン）、ヒドロキシル基
含有セルロース誘導体（ヒドロキシエチルセルロース，
ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシアルキ
ル基を有するセルロースエーテル類）などが例示でき
る。

【００１６】カルボキシル基含有ポリマーおよびその誘
導体としては、例えば、重合性不飽和カルボン酸を含む
単独又は共重合体およびこれらのエステル（（メタ）ア
クリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸などの単独又は
共重合体もしくはそのエステルなど）、カルボキシル基
含有セルロース誘導体（カルボキシメチルセルロース又
はその塩など）などが例示できる。

【００１７】エステル基含有ポリマーとしては、例え
ば、酢酸ビニルなどのビニルエステル、メタクリル酸メ
チルなどの（メタ）アクリル酸エステルなどのモノマー
を含む単独または共重合体（例えば、ポリ酢酸ビニル、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリル系樹
脂など）、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、ビ
ニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、セルロー
スエステル類（セルロースアセテート，セルロースプロ
ピオネートなど）などが例示できる。

【００１８】エーテル基を有するポリマーには、例え
ば、ポリアルキレンオキシド、ポリオキシアルキレング
リコール、ポリビニルエーテル、ケイ素樹脂、セルロー
スエーテル類（メチルセルロース，エチルセルロースな
ど）などが含まれ、カーボネート基含有ポリマーとして
は、ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなどが例示で
きる。

【００１９】前記アミド基又は置換アミド基を有するポ
リマーとしては、ポリオキサゾリン、ポリアルキレンイ
ミンのＮ−アシル化物（前記ポリオキサゾリンに対応す
るポリマー、例えば、Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ポリプ
ロピオニルアミノ基などのＮ−アシルアミノ基を有する
ポリマー）；ポリビニルピロリドンおよびその誘導体；
ポリウレタン系重合体；ポリ尿素；ナイロン又はポリア
ミド系重合体；ビュレット結合を有するポリマー；アロ
ハネート結合を有するポリマー、ゼラチンなどの蛋白類
などが例示できる。

【００２０】前記ポリオキサゾリンの単量体としては、
２−オキサゾリン、オキサゾリン環の２−位に置換基を
有する２−置換−２−オキサゾリン（例えば、Ｃ_1-4 ア
ルキル基、ジクロロメチル，トリクロロメチル，ペンタ
フルオロエチル基などのハロアルキル基、フェニル基、
４−メチルフェニル，４−クロロフェニルなどの置換基
を有するフェニル基、Ｃ_1-4 アルコキシ−カルボニル基
などの置換基を有するオキサゾリン類）などを挙げるこ
とができる。ポリオキサゾリンは単独重合体であっても
共重合体であってもよく、ポリオキサゾリンは１種又は
２種以上混合して使用できる。さらに、ポリオキサゾリ
ンは、他のポリマーにオキサゾリンがグラフト重合した
共重合であってもよい。

【００２１】前記ポリウレタン系重合体には、例えば、
ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジシ
ソシアネートなど）と、ポリオール（例えば、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、グリセリンなどの多価アルコール；ジエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリエー
テルポリオール；ポリエステルポリオールなど）との反
応により生成するポリウレタンが含まれ、ポリ尿素に
は、ポリイソシアネートとポリアミン（例えば、エチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン）との反応により生
成するポリマーなどが含まれる。

【００２２】ナイロン又はポリアミド系重合体には、ラ
クタム成分、ジカルボン酸成分やジアミン成分を用いた
ポリアミド（ナイロン６６，ナイロン６，ナイロン６１
０，ナイロン６１１，ナイロン６１２やこれらの変性ナ
イロンなど）、ポリ（メタ）アクリルアミド系重合体、
ポリアミノ酸などが含まれる。なお、ポリアミドには、
スターバーストデンドリマー（D.A.Tomalia.et al.,Pol
ymer Journal,17,117(1985)）も含まれる。

【００２３】ビュレット結合を有するポリマーには、前
記ポリイソシアネートとウレタン結合を有する化合物と
の反応により生成するポリマー；アロハネート結合を有
するポリマーには、前記ポリイソシアネートと尿素結合
を有する化合物との反応により生成するポリマーが含ま
れる。ニトリル基を有するポリマーには、アクリロニト
リル系重合体が含まれ、グリシジル基を有するポリマー
としては、例えば、エポキシ樹脂、グリシジル（メタ）
アクリレートの単独又は共重合体などが例示できる。ハ
ロゲン含有ポリマーには、例えば、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン系ポリ
マー、塩素化ポリプロピレンなどが含まれる。

【００２４】他の有機ポリマーとしては、例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、カルボキシル変性ポリオレ
フィンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリスチレン、ス
チレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル
−ブタジエン−スチレンブロック共重合体などのスチレ
ン系樹脂などを挙げることができる。これらは単独で又
は２種以上を併用してもよい。

【００２５】重合性基を有する重合性オリゴマーには、
ポリビニルフェノール誘導体、エポキシ（メタ）アクリ
レート（例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸と
の反応などにより生成する樹脂）、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレ
タン（メタ）アクリレート［例えば、ジオール成分（ポ
リアルキレングリコールやポリエステルジオールなど）
とジイソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネー
トなど）とヒドキロシル基含有重合性単量体（２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート，Ｎ−メチロールアクリル
アミドなど）との反応生成物、ヒドロキシル基および重
合性不飽和基を有する化合物（ヒドロキシエチルフタリ
ル（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパンジア
リルエーテルなど）とジイソシアネート（キシリレンイ
ソシアネート，２，４−トリレンジイソシアネートな
ど）とのウレタン反応生成物など］、重合性ポリビニル
アルコール系ポリマー（例えば、ポリビニルアルコール
とＮ−メチロールアクリルアミドとの反応生成物な
ど）、ポリアミド系ポリマー［例えば、多価カルボン酸
又はその酸無水物（ピロメリット酸二無水物など）およ
びヒドロキシル基含有重合性単量体（アリルアルコール
など）の反応により生成するカルボキシル基含有エステ
ルと、必要によりカルボキシル基を酸ハライド基に変換
するためのハロゲン化剤（塩化チオニルなど）と、ジア
ミン（ｐ，ｐ′−ジアミノジフェニルエーテルなど）と
の反応により生成するプレポリマー、カルボキシル基含
有重合体（ポリ（メタ）アクリル酸又はマレイン酸の共
重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体など）とア
ミノ基含有重合性単量体（アリルアミンなど）との反応
生成物など］、シリコーン樹脂型ポリマーなどが例示で
きる。好ましい（A1）感光性を有するオリゴマー又はポ
リマーには、ウレタン（メタ）アクリレートなどが含ま
れる。

【００２６】前記（A1）（A2）感光性ポリマーは、必要
により、光重合性基を有する重合性単量体又はオリゴマ
ーと併用してもよい。重合性単量体又はオリゴマーに
は、単官能性又は多官能性の光重合性化合物が含まれ
る。光重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイ
ル基、アクリルアミド基、アリル基、ビニルエーテル
基、ビニルチオエーテル基、ビニルアミノ基、グリシジ
ル基、アセチレン性不飽和基などが例示できる。

【００２７】単官能性光重合性化合物としては、例え
ば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）メタクリレー
トなどのアルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）メタクリレート、カ
ルビトール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）メタクリレー
ト、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）
アクリルアミド、Ｎ−ジアセトン（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ´−メチレンピス（メタ）アクリルアミド、
スチレン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、Ｎ
−ビニルピロリドンなどが例示できる。

【００２８】多官能性光重合性化合物としては、例え
ば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレートなどが例示できる。さらに、テトラメチロール
メタンテトラ（メタ）アクリレート、２，２，５，５−
テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンの（メタ）ア
クリル酸エステル、ジグリシジルフタレートの（メタ）
アクリル酸エステル、Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラキス
（β−ヒドロキシエチル）エチレンジアミンの（メタ）
アクリル酸エステル、トリグリセリンとメチルアクリレ
ートとのエステル交換反応生成物、ウレタン型（メタ）
アクリレート、多価カルボン酸の不飽和エステル、不飽
和酸アミド、無機酸とのエステルおよび金属塩、アセチ
レン性不飽和基を有するモノマー、グリシジル基を有す
るモノマーなどを使用することもできる。

【００２９】ウレタン型アクリレートには、例えば、ポ
リイソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート
など）とヒドロキシル基含有単量体（２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートなど）の反応生成物、ポリイソシア
ネート（２，４−トリレンジイソシアネートなど）の一
部のイソシアネート基とヒドロキシル基含有単量体（２
−ヒドロキシエチルメタクリレートなど）とを反応させ
た後、さらに残余のイソシアネート基をアルカノールア
ミン（トリエタノールアミンなど）と反応させた反応生
成物、ベンゾインにポリイソシアネート（２，４−トリ
レンジイソシアネートなど）とヒドロキシル基含有単量
体（２−ヒドロキシエチルメタクリレートなど）とを反
応させた反応生成物などを挙げることができる。

【００３０】多価カルボン酸の不飽和エステルとして
は、例えば、多価カルボン酸（フタル酸、トリメリット
酸、ピロメリット酸など）をヒドロキシル基含有単量体
（アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートなど）でエステル化した多官能性単量体、例えば、
ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリ
ルマレエート、ジアリルクロレンダート、ジアリルアジ
ベート、ジアリルジグリコレート、トリアリルシアヌレ
ート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレートのフタル酸エステ
ル、アリルアルコールのトリメリット酸エステル、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸を（メタ）アクリロイルクロライド
でエステル化し、さらにエポキシ含有単量体（グリシジ
ルメタクリレート）を付加させた化合物などが例示でき
る。

【００３１】不飽和酸アミドとしては、例えば、Ｎ，Ｎ
´−メチレンビルアクリルアミド、ヘキサメチレンビス
アクリルアミドなどのアルキレンビスアクリルアミドの
他、ポリアミンと不飽和酸との縮合物、水酸基を有する
不飽和アミド（例えば、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド）と多価カルボン酸、多価エポキシなどとの反応生成
物などが例示できる。さらに、Ｎ−メチロールアクリル
アミドの酸性化合物の存在下での反応生成物、１，３，
３−トリメチル−１−アクリロイルアミノメチル−５−
アクリロイルアミノシクロヘキサン、ヘキサヒドロ−
１，３，５−トリアクリル−Ｓ−トリアジン、Ｎ−アク
リロイルヒドロキシエチルマレイミド、ε−カプロラク
タムとテトラメチレンジアミンの反応で得られたオリゴ
マーにアクリル酸クロライドを反応させたビスアクリル
アミド、Ｎ、Ｎ´−ビス（ε−アクリロイルヒドロキシ
エチル）アニリン、Ｎ−メチロールアクリルアミドとジ
エチレングリコールジグリシジルエーテルとの反応生成
物なども含まれる。

【００３２】無機酸とのエステルや金属塩としては、例
えば、アクリル酸亜鉛とアルコール溶性ポリアミド樹
脂、リン酸のビス（２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト）エステルなどが例示できる。

【００３３】アセチレン性不飽和基を有するモノマーと
しては、アントラキノンと１−メトキシブテン−３−イ
ンから合成される９−（ω−メトキシブテニル）アント
ラキノール、２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール
とヘキシルイソシアネートとの反応で得られるウレタン
などを挙げることができる。

【００３４】グリシジル基を有するモノマーとしては、
例えば、ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテルを
挙げることができる。

【００３５】光重合性基を有する重合性単量体又はオリ
ゴマーの使用量は、前記感光性ポリマー１００重量部に
対して５〜５００重量部、好ましくは１０〜３００重量
部程度の範囲から選択できる。

【００３６】前記（A2）感光性ポリマーの感光剤は、感
光性樹脂組成物のタイプに応じて、種々の光増感剤や光
重合開始剤などが使用できる。感光剤は、感光性ポリマ
ーの種類（ポジ型又はネガ型）に応じて、慣用の感光剤
や増感剤、例えば、ジアゾニウム塩（ジアゾニウム塩、
テトラゾニウム塩、ポリアゾニウム塩など）、キノンジ
アジド類（ジアゾベンゾキノン誘導体，ジアゾナフトキ
ノン誘導体など）、アジド化合物、ピリリウム塩、チア
ピリリウム塩、光二量化増感剤、光重合開始剤［例え
ば、ケトン類（アセトフェノン，プロピオフェノン、ア
ントラキノン，チオキサントン，ベンゾフェノン又はそ
れらの誘導体），ベンゾインエーテル又はその誘導体，
アシルホスフィンオキシドなど］などから選択できる。
露光波長に対する吸光度係数の大きな感光剤を使用する
と、感光層の深部にまで光反応（架橋又は硬化など）す
るのを抑制でき、感光層の表面に難溶化又は耐水化パタ
ーンを有効に形成できる。このような感光剤には、１×
１０³ 〜５×１０⁵ 、好ましくは５×１０³ 〜３×１０
⁵ 、さらに好ましくは１×１０⁴ 〜３×１０⁵ 程度の分
子吸光度係数を有する感光剤、例えば、アジド化合物
（芳香族アジド化合物、特に芳香族ジアジド化合物な
ど）、光酸発生剤（スルホン酸エステルやルイス酸塩な
ど）および架橋剤（メチロールメラミン，アルコキシメ
チルメラミンなどのメラミン誘導体など）などが例示で
きる。

【００３７】感光剤の使用量は、例えば、感光性ポリマ
ー１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好ましく
は１〜１０重量部程度の範囲から選択できる。

【００３８】［微粒子］ （B）微粒子（フィラー）を含む感光層を露光すると、
感光層の表面又は表層にだけ前記難溶性又は疎水性パタ
ーンを効率よく形成できるとともに、前記パターンに対
応する領域で感光層の深部まで光反応（硬化又は架橋な
ど）させることなく、水性現像剤の高圧噴射により、パ
ターンを精度よく形成できる。また、露光波長に対する
吸光度係数の大きな感光剤と微粒子とを組み合わせも、
感光層の表面又は表層にだけ前記難溶性又は疎水性パタ
ーンを効率よく形成できる。

【００３９】微粒子（フィラー）としては、パターンの
機能などに応じて有機又は無機微粒子のいずれも使用で
きる。有機微粒子としては、例えば、熱可塑性樹脂粒子
［ポリメタクリル酸メチルなどの（メタ）アクリル系樹
脂、ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、ポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂な
ど］、熱硬化性樹脂粒子「フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂など］、架橋又は
硬化樹脂粒子［架橋（メタ）アクリル系樹脂、架橋スチ
レン系樹脂、架橋エポキシ樹脂、架橋尿素樹脂など］、
有機顔料などが例示できる。これらの有機微粒子は、単
独で又は二種以上組合わせて使用できる。好ましい有機
微粒子には、架橋重合体粒子（架橋又は硬化樹脂粒子）
などが含まれる。

【００４０】無機微粒子には、例えば、金属単体（金，
銀，銅，白金，アルミニウムなど）、無機酸化物、無機
炭酸塩、無機硫酸塩、リン酸塩などが使用できる。無機
酸化物としては、シリカ（コロイダルシリカ，アエロジ
ル，ガラスなど）、アルミナ、チタニア、ジルコニア、
酸化亜鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコニウム、
チタン酸鉛、ニオブ酸リチウム、酸化銅、酸化鉛、酸化
イットリウム、酸化錫、酸化インジウム、Ｉｎ₂ Ｏ−Ｓ
ｎＯ、酸化マグネシウムなどが例示でき、炭酸塩には、
炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどが例示でき、硫
酸塩には、硫酸バリウム、硫酸カルシウムなどが例示で
きる。リン酸塩には、リン酸カルシウム、リン酸マグネ
シウムなどが含まれる。無機微粒子には、ゾル−ゲル法
などにより調製されたゾルやゲルなども含まれる。さら
に、無機微粒子には、カーボン（カーボンブラックな
ど）、顔料なども含まれる。これらの無機微粒子も単独
で又は二種以上混合して使用できる。好ましい微粒子
は、無機微粒子である。

【００４１】微粒子の形状は、球状に限らず、楕円形
状、偏平状、ロッド状又は繊維状であってもよい。微粒
子の平均粒子径は、露光波長以上の大きさであってもよ
いが、通常、露光波長よりも小さい（すなわち、露光波
長に対して透明である）。微粒子の平均粒子径は、パタ
ーンの微細化の程度などに応じて、例えば、１ｎｍ〜１
０μｍ、好ましくは５ｎｍ〜５μｍ程度の範囲から選択
でき、通常、平均粒子径２ｎｍ〜１０００ｎｍ（特に５
〜５００ｎｍ）程度である。なお、微粒子としては、Ｂ
ＥＴ法による平均粒子径２〜１００ｎｍ（好ましくは５
〜５０ｎｍ，さらに好ましくは７〜３０ｎｍ）程度の単
分散した微粒子（特にコロイダルシリカなど）を用いて
もよい。単分散した微粒子（特にコロイダルシリカ）は
オルガノゾル（オルガノシリカゾル）として市販されて
おり、例えば、「スノーテックスコロイダルシリカ」と
して日産化学工業（株）などから入手できる。

【００４２】微粒子は、官能基（例えば、前記感光性ポ
リマーとの親和性を高める基，反応性を有する基，ある
いは感光性基など）を有していてもよい。官能基を有す
る微粒子は、微粒子（B1）と、この微粒子に導入された
官能基（B2）とで構成できる。前記官能基（B2）は、例
えば、加水分解重合性有機金属化合物又は縮合物との反
応により導入できる。加水分解重合性有機金属化合物
は、通常、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類金属、
又は周期律表III〜Ｖ族金属元素を含む。好ましい金属
元素は、周期律表IIIb族、IVa族およびIVb族金属元素、
例えば、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ケイ
素、特にアルミニウムおよびケイ素（中でもケイ素）で
ある。これらの金属は前記化合物又は縮合物に単独で又
は二種以上併存していてもよい。

【００４３】無機微粒子などの微粒子（B1）は、官能基
（B2）として反応性基又は感光性基（特に重合性の感光
性基）を有するのが好ましい。反応性基には、加水分解
重合性基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ基などのＣ_1-10アルコキシ基、ハ
ロゲン原子（臭素，塩素原子など）などが含まれ、Ｃ
_1-4 アルコキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基（中でもメトキシ基およびエトキシ基）が好ま
しい。感光性基には、前記感光性基（ジアゾニウム塩
基，アジド基，シンナモイル基，シンナミリデン基，重
合性基など）、特に重合性基（（メタ）アクリロイル
基，アリル基，ビニル基など）が含まれる。

【００４４】加水分解重合性有機金属化合物のうち、ア
ルミニウムを含む有機金属化合物としては、例えば、ト
リメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネート、
トリプロポキシアルミネートなどが例示でき、チタンを
含む化合物としては、例えば、トリメトキシチタネー
ト、テトラメトキシチタネート、トリエトキシチタネー
ト、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタ
ネート、クロロトリメトキシチタネート、クロロトリエ
トキシチタネート、エチルトリメトキシチタネート、メ
チルトリエトキシチタネート、エチルトリエトキシチタ
ネート、ジエチルジエトキシチタネート、フェニルトリ
メトキシチタネート、フェニルトリエトキシチタネート
などが例示でき、ジルコニウムを含む化合物には、例え
ば、前記チタン含有化合物に対応するジルコネートが含
まれる。

【００４５】ケイ素含有化合物には、下式で表される化
合物が含まれる。 （Ｒ¹ ）_n Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-n （式中、Ｒ¹ は置換基を有してもよい炭素数１〜４のア
ルキル基またはアリール基、Ｒ² は炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｒ¹ およびＲ² は同一でも異なっていて
もよい。ｎは０〜２の整数である） ケイ素含有化合物としては、例えば、トリメトキシシラ
ン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロ
ポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリ
メトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロ
ピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシランなどが例示できる。これらの化合物の
うち、好ましい化合物としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシランなどのテトラＣ_1-4 アルコキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエ
トキシシランなどのモノＣ_1-4 アルキルトリＣ_1-4 アル
コキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどのジＣ
_1-4 アルキルジＣ_1-4 アルコキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのモ
ノアリールトリＣ_1-4 アルコキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどジア
リールジＣ_1-4 アルコキシシランなどが例示できる。

【００４６】前記有機金属化合物は、感光性基を有する
のが好ましく、感光性基には、前記官能基（B2）の項で
例示の感光性基、特に重合性基が含まれる。

【００４７】重合性基を有する加水分解重合性有機金属
化合物としては、重合性基を有するシラン化合物、例え
ば、（メタ）アクリロイル基と加水分解性基とを有する
化合物［Ｎ−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキ
シシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチル
エトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプ
ロピルメチルビス（トリメチルシロキン）シラン、３−
（メタ）アクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロ
キシ）シラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ
ス（メトキシエトキシ）シラン、３−（メタ）アクリロ
キシプロピルメチルジクロロシラン、３−（メタ）アク
リロキシプロピルトリクロロシラン、３−（メタ）アク
リロキシプロピルジメチルクロロシラン、（メタ）アク
リロキシプロペニルトリメトキシシランなど］、アリル
基と加水分解性基とを有する化合物［アリルトリクロロ
シラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキ
シシラン、アリルトリス（トリメチルシロキシ）シラン
など］、ビニル基と加水分解性基とを有する化合物［ビ
ニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルエトキシシ
ラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルメチルビス
（メチルエチルケトキシミン）シラン、ビニルメチルビ
ス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルメチルジアセ
トキシシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルメ
チルジエチルとシラン、ビニルトリアセトキシシラン、
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシ
シラン、ビニルトリス−ｔ−プトキシシラン、ビニルト
リメチルシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニル
トリス（ｔ−ブチルパーオキシ）シラン、ビニルトリス
イソプロペノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシ
エトキシ）シランなど］、ＫＢＭ１００３（商品名；信
越化学工業（株）製）、ＫＢＭ１０６３（商品名；信越
化学工業（株）製）、ＫＢＭ１１０３（商品名；信越化
学工業（株）製）、ＫＢＭ１４０３（商品名；信越化学
工業（株）製）、ＫＢＭ５０３（商品名；信越化学工業
（株）製）、ＫＢＭ５０２（商品名；信越化学工業
（株）製）、ＫＢＭ５１０３（商品名；信越化学工業
（株）製）、ＫＢＭ５１０２（商品名；信越化学工業
（株）製）、ＫＢＭ５４０３（商品名；信越化学工業
（株）製）などが例示できる。これらの加水分解重合性
有機金属化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使
用できる。

【００４８】加水分解重合性基及び／又は感光性基を有
する有機金属化合物のうちケイ素含有有機化合物が好ま
しく、感光性基を有する加水分解重合性有機金属化合物
としては、重合性基を有するシラン化合物が好ましい。

【００４９】前記官能基は、微粒子（B1）と前記加水分
解重合性基及び／又は感光性基を有する有機金属化合物
（特に前記加水分解重合性有機金属化合物、中でもシラ
ンカップリング剤やチタンカップリング剤など）との反
応、表面グラフト重合法、ＣＶＤ法などを利用して微粒
子（B1）に導入できる。

【００５０】無機微粒子などの微粒子（B）において、
微粒子（B1）に対する官能基（B2）の導入量は、官能基
を有する化合物換算で、微粒子（B1）１００重量部に対
して０．１〜１００重量部、好ましくは０．５〜５０重
量部、さらに好ましくは１〜２０重量部程度の範囲から
選択できる。

【００５１】［感光性無機成分］ （C）感光性無機成分とは、無機質層を形成可能な感光
性化合物を意味し、通常、有機金属化合物又はその誘導
体（縮合物）、特に加水分解重合性有機金属化合物又は
その縮合物で構成できる。

【００５２】（加水分解重合性）有機金属化合物又はそ
の縮合物は、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類金
属、又は周期律表III〜Ｖ族金属元素（周期律表IIIb
族、IVa族およびIVb族金属元素、例えば、Ａｌ，Ｔｉ，
Ｚｒ，Ｓｉ）を含んでおり、前記官能基（B2）の項に記
載の有機金属化合物又はその縮合物が例示できる。加水
分解重合性基には、例えば、前記例示のＣ_1-10アルコキ
シ基、ハロゲン原子が含まれ、Ｃ_1-4 アルコキシ基、特
にメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基（中でもメト
キシ基およびエトキシ基）が好ましい。前記化合物又は
縮合物は、単独又は複数の異なる加水分解重合性基を有
していてもよい。なお、縮合性又は重合性を付与するた
め、加水分解重合性有機金属化合物は、通常、２以上の
加水分解重合性基を有している。加水分解重合性基を有
する有機金属化合物としては、前記と同様のアルミニウ
ム含有化合物，チタン含有化合物，ジルコニウム含有化
合物，ケイ素含有化合物などが例示できる。前記有機金
属化合物の感光性基には、前記官能基（B2）の項で例示
の感光性基、特に重合性基が含まれる。重合性基を有す
る有機金属化合物としては、前記と同様の重合性基を有
するシラン化合物、例えば、（メタ）アクリロイル基，
アリル基およびビニル基から選択された重合性基と加水
分解性基とを有する化合物などが例示できる。

【００５３】なお、有機金属化合物又はその縮合物は単
独で又は二種以上組み合わせて使用できる。また、有機
金属化合物は予備縮合した縮合物としても使用できる。
特に、感光性基（特に重合性基）を有する加水分解重合
性有機金属化合物は、非感光性（重合性）の加水分解重
合性有機金属化合物と縮合して使用できる。例えば、
（メタ）アクリロイル基などの重合性基を有するアルコ
キシシラン化合物と、アルコキシシラン化合物とを縮合
し、感光性基を有する縮合物として使用できる。さら
に、架橋密度や生成物の特性などを調整するため、トリ
アルキルモノアルコキシシランなどを添加又は縮合させ
てもよい。

【００５４】前記有機金属化合物は、焼成により無機相
を構成するのに有効である。なお、保存安定性を高める
ため、加水分解性基（例えばシラノール基）を保護する
ため、保護剤（例えば、ｔ−ブタノール、ｉ−プロパノ
ールなどのアルコール）を添加又は反応（エーテル化な
ど）させてもよい。また、加水分解の触媒となる酸又は
塩基（例えば、塩酸、アンモニアなど）の濃度を、中和
などの操作により低減することも有効である。

【００５５】前記感光性無機成分は、単独で用いてもよ
く、前記感光性ポリマーおよび前記微粒子（官能基（B
2）を有する無機微粒子など）から選択された少なくと
も一種と組み合わせて用いてもよい。

【００５６】感光性樹脂組成物は、前記（A）感光性ポ
リマー，（B）微粒子や（C）感光性無機成分に加えて、
非感光性の加水分解重合性金属化合物又はその縮合物を
含んでいてもよい。

【００５７】［加水分解重合性有機金属化合物又はその
縮合物］非感光性の加水分解重合性有機金属化合物又は
その縮合物は、前記官能基（B2）の項で例示の感光性基
を備えていない点を除いて、前記（C）感光性無機成分
（特に、アルコキシシラン化合物又はその縮合物）で構
成できる。前記感光性無機成分と同じく、加水分解重合
性有機金属化合物も、焼成により無機相を構成するのに
有効である。感光性樹脂組成物は、必要により、光反応
促進剤（重合促進剤など）、例えば、ジアルキルアミノ
安息香酸又はその誘導体、トリフェニルホスフィン、ト
リアルキルホスフィンなどを含有していてもよい。

【００５８】［各成分の割合］本発明の感光性樹脂組成
物において、前記各成分の割合は、感光層の構造に応じ
て、感度，パターンの解像度などを損なわない範囲で選
択できる。単一感光層は、通常、固形分換算（焼成によ
り生成する成分（縮合水やアルコールなど）を含まな
い）で、感光性ポリマー又は感光性無機成分１重量部に
対して、微粒子０．５〜２０重量部（例えば、１〜２０
重量部）、好ましくは２〜１８重量部、さらに好ましく
は５〜１５重量部程度である。また、複合感光層の感光
性表面層は、下層の成分及び組成に応じて、例えば、感
光性ポリマー又は感光性無機成分１重量部に対して、微
粒子０〜１８重量部（例えば、０．１〜１５重量部）、
好ましくは０〜１５重量部（例えば、０．５〜１５重量
部）程度の範囲から適当に選択できる。単一感光層、お
よび複合感光層における感光性表面層において、（A）
感光性ポリマーと（C）感光性無機成分とを組合わせる
場合、（C）感光性無機成分の使用量は、（A）感光性ポ
リマー１重量部に対して、０．１〜２５重量部（好まし
くは０．２〜２０重量部、さらに好ましくは０．５〜１
５重量部）程度であってもよい。

【００５９】なお、焼成により無機パターンを形成する
場合、固形分換算で、前記成分（A）（C）の合計量より
も成分（B）の量が多い［（Ａ＋Ｃ）＜Ｂ］。特に、感
光性樹脂組成物中、成分（B）の含有量は、固形分換算
で、例えば、５０〜９５重量％、好ましくは５０〜９０
重量％程度である。

【００６０】［下層］感光層を複合層として形成する場
合、表面感光層と基材との間に介在する下層（中間層）
は、水性現像剤の高圧噴出によりエッチング可能であれ
ばよく、単一層に限らず複数の層で構成してもよい。下
層（中間層）は、感光性であってもよく非感光性であっ
てもよい。感光性下層（中間層）は、前記感光層と同様
の成分（（A）感光性ポリマー，官能基を有していても
よい（B）微粒子，（C）感光性無機成分）で構成でき
る。

【００６１】好ましい下層は、非感光性の成膜性有機成
分と微粒子（無機微粒子など）とで構成できる。非感光
性成膜性有機成分（特に樹脂成分）には、前記感光性ポ
リマー（A2）を構成する極性又は非極性基を有するポリ
マー（感光剤を含まないポリマー）、例えば、セルロー
ス誘導体，酢酸ビニル系樹脂，アクリル系樹脂，スチレ
ン系樹脂，ポリエステル系樹脂，ポリアミド系樹脂など
の熱可塑性樹脂，エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂が
含まれる。感光性又は非感光性下層（中間層）は、水性
現像剤の高圧噴出によるエッチング性を高めるため、感
光層の表層部（表面層）とは異なる耐圧性、特に表面層
よりも小さな耐圧性を有している。このような下層（中
間層）は、例えば、微粒子の濃度および平均粒子径のう
ち少なくとも一方が感光性表面層よりも大きな感光性樹
脂組成物で形成できる。

【００６２】下層（中間層）において、微粒子の平均粒
子径は、パターンの微細化の程度などに応じて選択で
き、例えば、５ｎｍ〜１２μｍ、好ましくは７ｎｍ〜１
０μｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ〜５μｍ程度の範囲
から選択でき、通常、平均粒子径５ｎｍ〜１０００ｎｍ
（特に５〜５００ｎｍ）程度である。パターンの解像度
を高めるためには、５〜１００ｎｍ、好ましくは５〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは７〜３０ｎｍ程度の単分散し
た微粒子（コロイダルシリカなど）を用いるのが有利で
ある。下層（中間層）中の微粒子の濃度は、固形分換算
で、例えば、５２〜９５重量％、好ましくは５５〜９０
重量％（例えば、６０〜９０重量％）程度の範囲から選
択できる。表面感光層と下層（中間層）が同じ平均粒子
径の微粒子を含有する場合、下層中の微粒子の濃度は、
通常、成膜性を有する範囲で、表面感光層中の微粒子の
濃度よりも２〜８０重量％（例えば、５〜７５重量％、
好ましくは１０〜７０重量％）程度高い濃度から選択し
てもよい。成膜性有機成分（特に成膜性樹脂成分）と微
粒子との割合は、例えば、成膜性有機成分１重量部に対
して微粒子０．５〜２０重量部（例えば、１〜２０重量
部）、好ましくは２〜１８重量部、さらに好ましくは３
〜１５重量部程度である。

【００６３】［添加剤］感光性樹脂組成物や下層用組成
物には、酸化防止剤など安定剤、可塑剤、界面活性剤、
溶解促進剤、染料や顔料などの着色剤などの種々の添加
剤を添加してもよい。さらに、感光性樹脂組成物は、塗
布性などの作業性を改善するため、溶媒（水，アルコー
ル類，グリコール類，セロソルブ類，ケトン類，エステ
ル類，エーテル類，アミド類、炭化水素類などの有機溶
剤）を含んでいてもよい。

【００６４】パターンを形成するのに有用な本発明の感
光性樹脂組成物は、慣用の方法、例えば、（A）感光性
ポリマー，（B）微粒子（無機フィラーなど），（C）感
光性無機成分と、必要により加水分解重合性有機金属化
合物又はその縮合物などの成分を混合することにより調
製できる。感光性樹脂組成物は、通常、溶媒（特にアル
コール類などの親水性溶媒）を含有している。また、下
層用組成物も上記と同様にして調製できる。各成分は同
時に混合してもよく、適当な順序で混合してもよい。

【００６５】［感光層の形成］前記感光層の構造に応じ
て、下層用組成物や感光性樹脂組成物を基体に適用する
ことにより、感光層を形成できる。基体としては、パタ
ーンの特性や用途に応じて、金属，ガラス，セラミック
ス，プラスチックなどから適当に選択でき、シリコンウ
ェハーなどの半導体基板であってもよい。

【００６６】感光層の厚みは特に制限されず、例えば、
０．１〜１０００μｍ、好ましくは０．５〜５００μ
ｍ、好ましくは１〜２００μｍ程度の範囲から選択で
き、通常、１〜１５０μｍ（例えば、１〜１２０μｍ）
程度である。感光性表面層および中間層の厚みは、それ
ぞれ、例えば、０．０５〜５００μｍ、好ましくは０．
１〜２５０μｍ、さらに好ましくは１〜１００μｍ（特
に１〜５０μｍ）程度の範囲から選択できる。

【００６７】なお、本発明の特色は、感光層の底部にま
で光で届かないような場合、例えば、膜厚が大きな感光
層、黒色感光層などのように光吸収性の高い感光層、粒
子を含み光散乱性が高く解像度が低下しやすい感光層な
どであっても、パターンを有効に形成できる。

【００６８】基体は、感光層又は下層（中間層）との密
着性を向上させるため、予め、表面処理により密着層を
形成してもよい。表面処理には、例えば、前記シランカ
ップリング剤（重合性基を有する加水分解重合性シラン
カップリング剤など）などによる表面処理、アンカーコ
ート剤又は下地剤（ポリビニルアセタール，アクリル系
樹脂，酢酸ビニル系樹脂，エポキシ樹脂，ウレタン樹脂
など）、あるいはこれらの下地剤と無機微粒子との混合
物によるコーティンク処理などが含まれる。このような
密着層を基体と感光層又は下層（中間層）との間に介在
させることにより、高圧噴射により現像しても、パター
ンを精度よく形成できる。前記密着層，中間層，感光層
は、慣用のコーティング方法、例えば、スクリーン印刷
法、スピンコーティング法、ディッピング法、キャスト
法などにより形成できる。さらに、感光層の構造を有す
るフィルム又はシートを基体にラミネートすることによ
り、単一又は複合感光層を形成してもよい。

【００６９】［露光工程］感光層に対する露光は、慣用
の方法、例えば、所定のマスクを介して光線をパターン
照射又は露光することにより行うことができる。光線と
しては、感光性樹脂組成物の感光特性，パターンの微細
度などに応じて種々の光線（例えば、ハロゲンランプ，
高圧水銀灯，ＵＶランプ，エキシマーレーザー，電子
線、Ｘ線などの放射光など）が利用でき、通常、波長１
００〜５００ｎｍ程度の光線、特に紫外線などが利用で
きる。なお、露光エネルギーは、前記感光性樹脂組成物
の感光特性（光硬化性など）に応じて、感光層の表面に
耐水化又は難溶化されたパターンを形成できる範囲から
選択でき、露光時間は、通常、０．１秒〜２０分、好ま
しくは１秒〜１分程度の範囲から選択できる。微粒子を
含まない２０μｍの感光層を露光した後、現像剤で露光
部又は非露光部を溶解してパターン（レジストパターン
など）を形成する従来のパターン形成方法において、パ
ターン形成に必要な露光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ² ）を
１００としたとき、感光層の表面を耐水化又は難溶化す
るための露光エネルギーは、通常、１〜５０（例えば、
５〜４０）、好ましくは１〜３０（例えば、５〜３
０）、特に１〜２０（例えば、５〜２０）程度の範囲か
ら選択できる。

【００７０】このような露光工程により、感光性ポリマ
ーの種類に応じて、感光層の深部では光反応が進行せ
ず、感光層の表面に、難溶化（耐水化）又は可溶化（親
水化）されたパターンを形成できる。例えば、ネガ型感
光性ポリマーを含む感光層では露光部が難溶化又は疎水
化し、ポジ型感光性ポリマーを含む感光層では、露光部
が可溶化又は親水化し、非露光部が難溶化又は疎水化す
る。そのため、感光層の表面で水性現像剤に対して溶解
特性の異なる露光領域と非露光領域とを形成でき、感光
層の表面に形成された難溶化（耐水化）パターンを水性
現像剤に対するレジストパターンとして利用できる。さ
らに、感光層の表面又は表層部に難溶化（耐水化）パタ
ーンを形成すれば足り、感光層の深部まで感光させる必
要がないため、感光層の感度を高めることができる。

【００７１】［現像工程］パターン露光の後、水性現像
剤を用いて高圧現像することにより解像度及びアスペク
ト比の大きな矩形のパターンを形成できる。その際、前
記密着層を介して基板に形成された感光層に光照射した
後、高圧現像すると、密着層によりレジストパターンを
保持し、レジストパターンの倒壊や剥離，変形などを有
効に防止でき、高解像度のパターンを形成できる。さら
に感光性表面層と非感光性下層との組合わせにより複合
感光層を形成しても、現像に伴って下層をエッチングで
き、所定のパターンを精度よく形成できる。

【００７２】本発明では、前記感光性樹脂組成物の種類
や特性（ネガ型又はポジ型，疎水性又は親水性）に拘ら
ず、水性現像剤で現像できる。水性現像剤は、水を主成
分とする現像剤である限り特に制限されず、水単独、
水と水溶性溶媒及び／又はアルカリとの混合溶媒など
が使用できる。水溶性有機溶媒としては、例えば、メタ
ノール，エタノール，イソプロパノールなどのアルコー
ル類、アセトンなどのケトン類、ジオキサン，テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、セロソルブ類、セロソル
ブアセテート類などが例示でき、単独で又は二種以上混
合して使用できる。水性現像剤における水の含有量は、
例えば、５０〜１００重量％、好ましくは７５〜１００
重量％、さらに好ましくは９０〜１００重量％程度であ
る。好ましい水性現像剤は、水単独、又はアルカリ現像
剤（アルカリ水溶液）であり、特に水現像剤が好まし
い。

【００７３】現像工程では、高圧、例えば、５０ｋｇｆ
／ｃｍ² 以上（５０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ² 程度）、好
ましくは７５ｋｇｆ／ｃｍ² 以上（７５〜５００ｋｇｆ
／ｃｍ² 程度）、さらに好ましくは１００〜５００ｋｇ
ｆ／ｃｍ² （例えば、１００〜４００ｋｇｆ／ｃ
ｍ² ）、特に１００〜３００ｋｇｆ／ｃｍ² （例えば、
１２０〜２５０ｋｇｆ／ｃｍ² ）程度の圧力で水性現像
剤を噴射又は噴出させて現像する。

【００７４】現像において水性現像剤の噴射又は噴出方
向は、パターンを形成可能な限り特に制限されず、感光
層の表面に対して若干斜め方向であってもよいが、通
常、感光層の表面に対してほぼ垂直方向（例えば、０〜
１０°、特に０〜５°程度）である。水性現像剤の噴射
又は噴出は、単一又は複数のノズル（例えば、並列に配
されたノズル群など）を用いて行うことができ、ノズル
を移動させながら、水性現像剤を噴射又は噴出させても
よい。

【００７５】感光層の表面の難溶化（又は耐水化）パタ
ーンが保護層として機能するためか、前記垂直高圧現像
により、表面の難溶化（又は耐水化）パターン部からほ
ぼ垂直方向に感光層が切削（エッチング）又は除去さ
れ、前記難溶化（又は耐水化）パターンに対応して高解
像度で高アスペクト比のパターンを形成できる。なお、
従来の現像方法では、感光層を溶解する現像液を用いて
パターンが形成されている。本発明では、感光層に対し
て非溶媒の現像液を用いても効率よく現像できることか
ら、従来の溶出による現像機構ではなく、機械的な現像
機構によりパターンが形成されるものと思われる。

【００７６】なお、高圧現像において、圧力は一定であ
ってもよく、異なる圧力で複数回現像してもよい。ま
た、複数回現像する場合には、現像剤の種類を変化させ
てもよい。圧力を調整したり、現像液の種類を変更する
ことによりパターンのプロファイルをコントロールする
こともできる。例えば、現像初期に比べて現像後期の圧
力を弱めたり感光層に対する親和性の小さな現像液を用
いると、底部が狭まったＵ字状の凹部を有するパターン
を形成でき、逆に現像後期に圧力を高めたり感光層に対
する親和性の大きな現像液を用いると、パターンの側壁
部が側方へ窪んだ湾曲形状のパターンを形成できる。な
お、ホトレジストの現像法としてスプレー現像法が知ら
れている。しかし、通常のスプレー現像法で利用されて
いる噴出圧力は、せいぜい３０ｋｇｆ／ｃｍ ² 以下であ
る。

【００７７】感光性樹脂組成物の塗布からパターン形成
に至る工程のうち適当な工程で、塗膜（感光層）を適当
な温度で加熱又は硬化処理してもよい。例えば、露光し
た後、必要により加熱処理してもよい。また、現像によ
り形成されたパターンを加熱処理したり光照射や加熱な
どにより硬化処理してもよい。

【００７８】［焼成工程］前記感光性樹脂組成物が無機
微粒子（無機フィラー）及び／又は感光性無機成分を含
む場合、現像工程の後、必要により焼成することにより
無機パターンを形成できる。焼成は、適当な温度、例え
ば、３００〜１０００℃、好ましくは４００〜６００℃
程度の温度で行うことができる。焼成は、無機パターン
の特性に応じて、不活性ガス雰囲気又は酸素含有ガス雰
囲気（空気など）などの適当な雰囲気で行うことがで
き、常圧又は必要により減圧下で行ってもよい。焼成に
おいて、温度は段階的又は連続的に昇温してもよい。焼
成時間は特に制限されず、１〜２４時間、特に５〜２４
時間程度の範囲から選択できる。このような焼成によ
り、無機質化した微細なパターンを形成でき、基体に対
する無機質パターンの密着性も高い。

【００７９】本発明のパターン形成方法および感光性樹
脂組成物は、感光性樹脂組成物の組成に応じて、種々の
パターンを形成するのに有用である。例えは、有機質感
光性樹脂組成物を用いる場合には、電気絶縁性パターン
などを形成できる。感光性樹脂組成物が無機微粒子及び
／又は感光性無機成分を含む場合、感光性有機／無機ハ
イブリット材料として機能し、有機質および無機質の双
方の長所を合せ持っている。そのため、絶縁性，誘電
性，導電性，透明性，耐熱性，硬度，耐磨耗性，強度な
どに優れる無機パターンを形成できる。すなわち、無機
微粒子の種類に応じて、種々の用途、例えば、カーボン
ブラックなどを用いると、液晶デイスプレイ，プラズマ
デスプレイなどのカラーフィルタ用マトリックス（ブラ
ックマトリックス）、金，銀，銅，アルミニウム，ＩＴ
Ｏなどの導電性無機微粒子を用いる場合には、導電性回
路パターン、シリカなどの電気絶縁性微粒子を用いる場
合には、絶縁膜や絶縁回路パターン、チタン酸バリウ
ム，チタン酸鉛などの強誘電体微粒子を用いると、強誘
電パターン、酸化錫などのセンサー用無機微粒子を用い
ると、センサーのパターンを形成でき、マイクロマシー
ンの構造設計も可能となる。さらに、刷版材料などにも
適用できる。

【００８０】

【発明の効果】本発明では、感光層の表面又は表層部に
難溶性（耐水性）パターンを形成し、高圧現像するの
で、感光性樹脂の種類に拘らず、水性現像剤、特に水現
像が可能である。また、感光層の表面又は表層部に難溶
性（耐水性）パターンを形成すればよいので、感度が高
いだけでなく、高解像度のパターンを形成できる。さら
に、感光性樹脂組成物が無機微粒子を含有する場合に
は、高いアスペクト比、高い矩形性の無機パターンを形
成できる。

【００８１】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。 実施例１ １．基板処理液の調製 ポリビニルブチラール樹脂３０重量部と、オルガノシリ
カゾル（日産化学（株），商品名スノーテックス，ＭＥ
Ｋ−ＳＴ，メチルエチルケトンを溶媒とする固形分３０
重量％のコロイダルシリカ溶液，平均粒子径１０〜２０
ｎｍ）１００重量部（固形分換算）と、溶媒としてのメ
チルエチルケトンとを混合し、基板処理液を調製した。
この処理液を、洗浄したアルミナ基板上に塗布し、８０
℃のオーブンで３０分間乾燥し、約１μｍの密着層（ア
ンダーコート層）を形成した。

【００８２】２．感光性樹脂組成物の調製 エチルセルロース１５重量部、重合性オリゴマーとして
ポリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成
（株），アロニックスＭ２２５）７重量部、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート（東亞合成（株），アロニ
ックスＭ２４５）７重量部、光重合開始剤（チバガイギ
ー（株），イルガキュア６５１（２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン））０．５重量
部、溶媒としてのエチルセロソルブ２０重量部、メチル
エチルケトン２０重量部、３−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシランで処理した銀粒子１００重量部、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで処理し
たオルガノシリカゾル（日産化学（株），商品名スノー
テックス，ＭＥＫ−ＳＴ，平均粒子径１０〜２０ｎｍ）
２０重量部（固形分換算）を混合し、ボールミルで７２
時間混練し、感光性樹脂組成物を得た。

【００８３】なお、３−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシランで処理した銀粒子は、銀粒子（田中貴金属
（株）製，粒径０．２〜５μｍ）７．５ｇを、メタノー
ル（９５％）１２０ｇに懸濁させ、３−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン１．３ｇと濃塩酸０．１ｇ
を添加し、室温下で２４時間撹拌した後、メタノールを
除去し、９０℃で３０分間加熱することにより得た。３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで処理し
たオルガノシリカゾルは、シリカ微粒子（日産化学工業
（株）製，商品名スノーテックス，ＭＥＫ−ＳＴ，固形
分３０重量％）２５ｇに３−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン１．２７５ｇ，メタノール１１１ｇを
加えて、室温下で２４時間撹拌することにより、シリカ
微粒子の表面に感光性基を導入した。その後、メタノー
ル含有量を調整し、粒子の固形分重量が３０重量％に調
整した。日本電子（株）製，ＪＮＭ−ＧＳＸ２７０型炭
素−１３ＮＭＲ測定装置を用いて、固体状態で、得られ
た処理シリカ微粒子のスペクトルを測定したところ、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランに由来す
るプロピル基（１０、１６、２４ｐｐｍ），メトキシ基
（５０ｐｐｍ），メチル基（６６ｐｐｍ），カルボニル
基（１６８ｐｐｍ）に起因する炭素の吸収が認められ、
シリカ微粒子の表面に感光性基が導入付与されているこ
とを確認した。

【００８４】３．パターンニング 前記処理基板（アルミナ基板）上に、感光性樹脂組成物
を２０μｍの厚みに塗布し、８０℃のオーブンで３０分
間乾燥した後、２５０Ｗの超高圧水銀灯を有する露光装
置（ミカサ（株）製，マスクアライナーＭ２Ｌ型露光装
置）を用い、テストマスクを介して露光エネルギー３０
ｍＪ／ｃｍ² で露光した。露光した後、感光層を、旭サ
ナック（株）製，エアレス塗装機ライトベア３０（ＡＰ
１６２８）を用いて、感光層に対して垂直方向に水を噴
射し、１５秒間水現像した。水の吐出圧力は１５０ｋｇ
ｆ／ｃｍ² ，ノズルと感光層との距離は１００ｍｍであ
った。このようにして形成したパターンのライン解像度
は５μｍであった。

【００８５】現像後の基板を、５℃／分の昇温速度で室
温から２８０℃まで昇温し、２８０℃で３０分間保持し
た後、１０℃／分の昇温速度で２８０℃から８５０℃に
加熱し、８５０℃から室温まで自然冷却したところ、ラ
イン解像度４μｍの導電性パターンを形成できた。

【００８６】実施例２および３ 現像における吐出圧力を１００ｋｇｆ／ｃｍ² （実施例
２）、３００ｋｇｆ／ｃｍ² （実施例３）とし、焼成す
ることなく以外、実施例１と同様にして水現像したとこ
ろ、実施例２では解像度６μｍのラインパターン、実施
例３では解像度３μｍのラインパターンが形成できた。

【００８７】比較例１〜４ 吐出圧力５０ｋｇｆ／ｃｍ² 、現像時間１５秒（比較例
１），５０秒（比較例２），６０秒（比較例３），７０
秒（比較例４）とする以外、実施例１と同様にして水現
像したところ、下記の結果を得た。

【００８８】 比較例１：非露光部が溶解せず、パターンを形成できな
い 比較例２：非露光部が溶解せず、パターンを形成できな
い 比較例３：パターンが膨潤し、解像度が不良 比較例４：パターンが剥離 実施例４〜１６ 実施例１と同様にアルミナ基板を処理した。また、３−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで処理した
銀粒子１００重量部に代えて、表に示す無機粒子１００
重量部を用いる以外、実施例１と同様にして調整した感
光性樹脂組成物を調製した。なお、実施例１０〜１６で
は、エチルセルロース（ＥＣ）１５重量部に代えて、カ
ルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）１５重量部を用い
た。さらに、実施例４〜９で用いた微粒子の種類、実施
例１０〜１４で用いたゾルとその調製方法、および実施
例１６で用いた顔料の種類は、次のとおりである。

【００８９】 実施例４：白金（田中貴金属（株），粒径０．２〜５μ
ｍ） 実施例５：低融点ガラス（日本電気硝子（株），粒径
０．５〜１０μｍ） 実施例６：シリカ粉末（日本シリカ（株），粒径０．５
〜１０μｍ） 実施例７：アルミナ粉末（大明化学（株），粒径０．１
〜０．５μｍ） 実施例８：チタニア粉末（出光興産（株），粒径０．０
１〜０．１μｍ） 実施例９：酸化錫粉末（大阪セメント（株），粒径０．
１〜０．５μｍ） 実施例１０：チタン酸鉛ゾル 等モルの酢酸鉛（Pb(OCOCH₃)₂）とテトラエトキシチタ
ン（Ti(OC₂H₅)₄）をエタノールに溶解し、３０重量％溶
液を調製した。この溶液を１２時間還流させ、３０％ア
ンモニア水を、水／酢酸鉛＝６（モル比）となる割合で
添加し、加水分解縮合させてチタン酸鉛ゾルを調製し
た。

【００９０】 実施例１１のゾル１：酸化インジウムと酸化錫とのゾル 塩化インジウム（InCl₃）と塩化錫（SnCl₄）とをモル比
１０／１の割合でエタノールに溶解して３０重量％溶液
を調製した。この溶液に３０％アンモニア水を添加し、
ｐＨ＝８とすることによりゾル溶液を調製した。 実施例１２のゾル２：酸化マグネシウムのゾル 金属マグネシウムをメタノールに溶解し、マグネシウム
に対して等モルの水を添加し、３０重量％の酸化マグネ
シウムのゾルを調製した。 実施例１３のゾル３：酸化亜鉛のゾル 金属亜鉛をメタノールに溶解し、マグネシウムに対して
等モルの水を添加し、３０重量％の酸化亜鉛のゾルを調
製した。 実施例１４のゾル４：酸化銅，酸化イットリウム，酸化
バリウムのゾル ジメトキシ銅（Cu(OCH₃)₂）１モルと、エチレンジアミ
ン２モルとをエタノールに溶解し、この溶液に水１モル
を添加してジメトキシ銅を加水分解した。この溶液に、
トリイソプロポキシイットリウム（Y(O-i-C₃H₇)₃）と等
モルのエチルアセトンアセテートとの混合液、ジエトキ
シバリウム（Ba(OC₂H₅)₂）を添加し、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕ＝
１：２：３（モル比）の溶液を調製した。この混合液
に、水／アルコキサイド＝１（モル比）となるように水
を添加し、酸化銅，酸化イットリウム，酸化バリウムの
ゾルを調製した。 実施例１６の赤色顔料：大日本インキ化学（株）製，ke
t Red 309 そして、感光性樹脂組成物を、前記表面処理したアルミ
ナ基板に塗布する以外、実施例１と同様にして、露光現
像し、表に示す最高温度で焼成することにより無機質パ
ターンを形成した。なお、実施例１５及び１６では、焼
成することなく、現像によりパターンを形成した。結果
を表に示す。

【００９１】

【表１】 表から明らかなように、実施例では、高圧現像によりパ
ターンを精度よく形成できる。また、パターンは高アス
ペクト比であり、矩形性がよく、基板との密着性も高か
った。

【００９２】実施例１７ １．基板処理液の調製 洗浄したアルミナ基板上に実施例１と同様の基板処理液
を塗布し、８０℃のオーブンで３０分間乾燥し、約１μ
ｍの密着層（アンダーコート層）を形成した。

【００９３】２．下層（中間層）用樹脂組成物の調製 エチルセルロース１５重量部、溶媒としてのエチルセロ
ソルブ２０重量部及びターピネオール１０重量部、銀粒
子（田中貴金属（株）製，粒径０．２〜５μｍ）１００
重量部、オルガノシリカゾル（日産化学（株），商品名
スノーテックス，ＭＥＫ−ＳＴ，平均粒子径１０〜２０
ｎｍ）２０重量部（固形分換算）を混合し、ボールミル
で７２時間混練し、下層用樹脂組成物を得た。

【００９４】３．感光性表面層用樹脂組成物の調製 エチルセルロース１５重量部、重合性オリゴマーとして
ポリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成
（株），アロニックスＭ２２５）７重量部、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート（東亞合成（株），アロニ
ックスＭ２４５）７重量部、光重合開始剤（チバガイギ
ー（株），イルガキュア６５１（２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン））０．５重量
部、溶媒としてのエチルセロソルブ２０重量部を混合
し、感光性樹脂組成物を得た。

【００９５】４．パターンニング 前記処理基板（アルミナ基板）上に、下層（中間層）用
樹脂組成物を２０μｍの厚みに塗布し、室温で３０分間
乾燥した後、下層上に表面層用感光性樹脂組成物を５μ
ｍの厚みに塗布し、８０℃のオーブンで３０分間乾燥し
た。形成した感光層に対して、２５０Ｗの超高圧水銀灯
を有する露光装置（ミカサ（株）製，マスクアライナー
Ｍ２Ｌ型露光装置）を用い、テストマスクを介して露光
エネルギー３０ｍＪ／ｃｍ² で露光した。露光した後、
感光層を、旭サナック（株）製，エアレス塗装機ライト
ベア３０（ＡＰ１６２８）を用いて、感光層に対して垂
直方向に水を噴射し、１５秒間水現像した。水の吐出圧
力は１５０ｋｇｆ／ｃｍ²，ノズルと感光層との距離は
１００ｍｍであった。このようにして形成したパターン
のライン解像度は４μｍであった。

【００９６】現像後の基板を、５℃／分の昇温速度で室
温から２８０℃まで昇温し、２８０℃で３０分間保持し
た後、１０℃／分の昇温速度で２８０℃から８５０℃に
加熱し、８５０℃から室温まで自然冷却したところ、ラ
イン解像度３．５μｍの導電性パターンを形成できた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大澤 美香 京都市下京区中堂寺南町17 京都リサーチ パーク 株式会社関西新技術研究所内 (72)発明者 紀氏 隆明 京都市下京区中堂寺南町17 京都リサーチ パーク 株式会社関西新技術研究所内 (72)発明者 安田 徳元 京都市下京区中堂寺南町17 京都リサーチ パーク 株式会社関西新技術研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA02 AB00 AC01 AD01 AD03 BC42 BC51 CC08 DA35 FA17 FA39 2H096 AA00 BA05 BA06 BA09 BA20 CA05 GA08 HA30 JA04

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光により感光層の表面を所定のパター
   ンに難溶化処理し、前記感光層に対して水性現像剤を高
   圧で噴出させて現像するパターン形成方法。
2. 【請求項２】 ７５〜５００ｋｇｆ／ｃｍ² の圧力で水
   を感光層に対して垂直方向に噴出させて現像する請求項
   １記載のパターン形成方法。
3. 【請求項３】 感光層が、少なくともネガ型の感光性オ
   リゴマー又はポリマーで構成されている請求項１記載の
   パターン形成方法。
4. 【請求項４】 感光層の少なくとも表層部が、感光性オ
   リゴマー又はポリマーと微粒子とで構成されている請求
   項１記載のパターン形成方法。
5. 【請求項５】 感光層が、感光性を有する表面層と、こ
   の表面層と基板との間に介在し、かつ水性現像剤の高圧
   噴出によりエッチング可能な少なくとも１つの下層とで
   構成されている請求項１記載のパターン形成方法。
6. 【請求項６】 下層が非感光性である請求項５記載のパ
   ターン形成方法。
7. 【請求項７】 表面層が少なくとも感光性オリゴマー又
   はポリマーで構成されており、下層が、感光性又は非感
   光性の成膜性有機成分と、微粒子とで構成されている請
   求項５記載のパターン形成方法。
8. 【請求項８】 微粒子の平均粒子径が１ｎｍ〜１０μｍ
   である請求項４又は７記載のパターン形成方法。
9. 【請求項９】 微粒子が、架橋重合体粒子又は無機微粒
   子である請求項４又は７記載のパターン形成方法。
10. 【請求項１０】 感光層が、ネガ型又はポジ型の感光性
    オリゴマー又はポリマー１重量部に対して、平均粒子径
    ２ｎｍ〜１０００ｎｍの微粒子０．５〜２０重量部で構
    成されている請求項１記載のパターン形成方法。
11. 【請求項１１】 密着層を介して基板に形成された感光
    層に光照射し、現像する請求項１記載のパターン形成方
    法。
12. 【請求項１２】 感光性オリゴマー又はポリマーと無機
    微粒子とで構成された感光層を現像した後、焼成し、無
    機パターンを形成する請求項１記載のパターン形成方
    法。
13. 【請求項１３】 請求項１記載のパターン形成に用いる
    ための感光性樹脂組成物であって、感光性有機オリゴマ
    ー又はポリマーおよび微粒子とで構成されている感光性
    樹脂組成物。
14. 【請求項１４】 微粒子が、官能基を有する無機微粒子
    で構成されている請求項１３記載の感光性樹脂組成物。
15. 【請求項１５】 微粒子が感光性基を有する請求項１３
    記載の感光性樹脂組成物。
16. 【請求項１６】 感光性有機オリゴマー又はポリマー
    が、オリゴマー又はポリマーと感光剤とで構成されてい
    る請求項１３記載の感光性樹脂組成物。
17. 【請求項１７】 固形分換算で、感光性有機オリゴマー
    又はポリマー１重量部に対して微粒子１〜２０重量部を
    含む請求項１３記載の感光性樹脂組成物。
18. 【請求項１８】 請求項１記載のパターン形成に用いる
    ための感光層の構造であって、感光性を有する表面層
    と、この表面層と基板との間に介在し、かつ水性現像剤
    の高圧噴出によりエッチング可能な少なくとも１つの下
    層とで構成されている感光層の構造。