JP2000012297A - プラズマ処理装置用電極板 - Google Patents

プラズマ処理装置用電極板

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JP2000012297A
JP2000012297A JP10177478A JP17747898A JP2000012297A JP 2000012297 A JP2000012297 A JP 2000012297A JP 10177478 A JP10177478 A JP 10177478A JP 17747898 A JP17747898 A JP 17747898A JP 2000012297 A JP2000012297 A JP 2000012297A
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JP
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electrode plate
screw
head
diameter portion
diameter
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JP10177478A
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English (en)
Inventor
Toru Nihei
徹 仁平
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ねじを取外すことなく、装置への取付け、取
外しが可能であり、電極板の交換や洗浄時における取付
け、取外し作業が容易であるプラズマ処理装置用電極板
を提供する。 【解決手段】 平行平板型プラズマ処理装置にねじで固
定して使用される電極板において、電極板に設けられた
電極板取付穴を、取付ねじの頭部が通過可能な大径部と
電極板を固定可能な小径部とを有する構造とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子製造時の
ドライエッチング工程、CVD工程等に使用されるプラ
ズマ処理装置用電極板に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に半導体素子製造時のドライエッチ
ング工程等に使用される平行平板型プラズマ処理装置用
電極板は、セラミック、炭素、シリコン等の円盤状素材
からなっており、円盤の中央部にプロセスガスを吹出す
ための多数の貫通小穴を有し、外周部には電極板をねじ
で装置に固定するための複数のねじ取付穴を有する構成
になっている。
【0003】ここで、ねじ取付穴の径は、製作上の寸法
精度や取付上の位置決め精度に余裕を持たせるため、ね
じ部の径より多少大きめの径になっているのが普通であ
る。
【0004】平行平板型プラズマ処理装置において、電
極板は消耗部品であり、定期的に部品交換のため、装置
への取付け、取外しが行われている。
【0005】一般的な構成の電極板は、放電面の直径が
6〜8インチで、外周部にねじ取付穴が8〜12個程度
並んで配置されており、装置への電極板の取付け、取外
しに際し、ねじの取付け、取外しに手間がかかるという
問題がある。さらに今後、被処理物の大径化にともない
電極板が大径化すると、ねじの数も増え、取付け、取外
しに時間を要するようになってくる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ねじを取外
すことなく、装置への取付け、取外しが可能であり、電
極板の交換や洗浄時における取付け、取外し作業が容易
であるプラズマ処理装置用電極板を提供するものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、平行平板型プ
ラズマ処理装置にねじで固定して使用される電極板にお
いて、電極板に設けられた電極板取付穴が、取付ねじの
頭部が通過可能な大径部と電極板を固定可能な小径部と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置用電極板に
関する。
【0008】本発明はまた、大径部においてねじの頭部
を通した後、電極板を平行移動させて定位置に固定する
ように小径部が形成された電極板取付穴を有する前記プ
ラズマ処理装置用電極板に関する。
【0009】本発明はまた、大径部においてねじの頭部
を通した後、電極板を回転移動させて定位置に固定する
ように小径部が形成された電極板取付穴を有する前記プ
ラズマ処理装置用電極板に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の電極板に設けられた各電
極板取付穴は、その一部に取付ねじの頭部が通過可能な
大径部を有し、また、ねじを締め付け電極板を固定する
目的から、通常のねじ穴同様、ねじ部の径より大きくね
じの頭部の径より小さな径の小径部も有している。図2
は本発明の電極板の電極板取付穴の一例を示す拡大平面
図で、3は取付ねじの頭部が通過可能な大きさを有する
大径部であり、4はねじ部の径より大きくねじの頭部の
径より小さな径の小径部である。また、5はねじの移動
を容易にするための座ぐり部である。本発明の電極板を
取付ける際には、例えば、取付ねじを緩めた状態で大径
部5からねじの頭部を通した後、ねじの頭部が電極板取
付穴の小径部4にくるように電極板をずらし、次いでね
じを締付ける。また、取外しの際には、例えば、ねじを
緩め、ねじの頭部が電極板取付穴の大径部3にくるよう
に電極板をずらすことで、容易に電極板の取外しができ
る。
【0011】電極板取付穴は、電極板に複数設けられて
いるが、各々の取付け穴の関係は、電極板を平行移動さ
せて定位置に固定できるように、あるいは電極板を回転
移動してして定位置に固定できるように配置することが
好ましい。前者の例を図1に、後者の例を図3に示す。
【0012】本発明のブラズマ処理装置用電極板の大き
さは、装置の仕様等により決定され、特に制限されない
が、通常、外径200〜350mm、厚さが3〜7mm
の円板形のものが使用される。
【0013】また、電極板の取付穴の数は、装置の仕様
等により決定され、特に制限はないが、通常、8〜24
個設けられる。
【0014】取付穴において、大径部は、ねじの頭部が
通過可能な大きさであれば、特に制限はないが、ねじ頭
部の直径よりも0.5mm〜5mm程度大きな直径の穴
であることが好ましい。例えば、M3ネジ(頭部の直径
約6.5mmのもの)では、直径が7〜10mm程度の
穴が好ましい。
【0015】一方、小径部は、ねじの頭部が通過するこ
となく、ねじにより電極板をしっかり固定できる大きさ
であればよく特に制限はないが、大径部ではめあわせた
ねじが、定位置までスムースに移動できる幅を有するこ
とが好ましく、ねじ部(ねじ切りのされた部分)の直径
より、0.5〜2mm程度大きな幅であることが好まし
い。例えば前記M3ネジ(ねじ部の直径約2.9mm)
のものであれば3.4〜4.5mmの幅を有することが
好ましい。
【0016】本発明のブラズマ処理装置用電極板の材質
には特に制限はなく、例えば、単結晶シリコン、多結晶
シリコン、ガラス状炭素、黒鉛、炭化珪素等のセラミッ
ク材、金属材等を使用することができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0018】実施例1 外径φ203mm、厚み3mmのガラス状炭素製基盤の
P.C.D.(電極板の中心を中心とした、各取付穴の
中心を通る円の直径)170mmの位置に、図1に示す
ような形状の大径部がφ8mm、小径部がφ4mm(幅
4mm)、座ぐり深さが1.5mmで、大径部の端から
小径部の端までの長さ(すなわち、穴の長さ)が16m
m、大径部の端から座ぐりの端までの長さが18mmの
電極板取付穴を図1に示すような配置に8個設けて、本
発明の実施例1の電極板とした。1はガス吹き出し穴が
設けられている範囲である。
【0019】本発明の電極板を取付ける際には、取付ね
じを緩めた状態で電極板取付穴の大径部からねじの頭部
を通した後、ねじの頭部が電極板取付穴の小径部にくる
ように電極板を平行移動させて締付けた。また、取外し
の際には、ねじを緩め、ねじの頭部が電極板取付穴の大
径部にくるように電極板を平行移動させることで、容易
に電極板の取外しができた。
【0020】なお、用いたねじはM3ネジ(ねじの頭部
の直径約6.5mm、ねじ部の直径約2.9mm)であ
る。
【0021】実施例2 外径φ203mm、厚み3mmのガラス状炭素製基盤の
P.C.D.170mmの位置に、図3に示すような配
置に、実施例1と同一の大きさと形状の電極板取付穴を
8個設けて、本発明の実施例2の電極板とした。
【0022】本発明の電極板を取付ける際には、取付ね
じ(M3ネジ)を緩めた状態で電極板取付穴の大径部か
らねじの頭部を通した後、ねじの頭部が電極板取付穴の
小径部にくるように電極板を回転移動させて締付けた。
また、取外しの際には、ねじを緩め、ねじの頭部が電極
板取付穴の大径部にくるように電極板を回転移動させる
ことで、容易に電極板の取外しができた。
【0023】比較例 外径φ203mm、厚み3mmのガラス状炭素製基盤の
P.C.D.170mmの位置に、図4に示すような形
状のφ4mmの電極板取付穴を図4に示すように8個所
設けて、比較例の電極板とした。
【0024】比較例の電極板を取付ける際には、装置に
電極板を当てた後、一本ずつねじ(M3ネジ)を電極板
取付穴に挿入し、締付けていった。取外しの際には、一
本ずつねじを外してから電極板を取外した。
【0025】
【発明の効果】本発明の電極板によれば、装置への電極
板の取付、取外しに際し、ねじを一本ずつ取付け、ま
た、取外してゆくこれまでの方法と比べて電極板の取付
け、取外しに要する時間を大幅に短縮することができ
る。また、装置への電極板の取付、取外しに際し、取付
ねじを下に落としてしまうようなミスを防止することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電極板の一例を示す平面図。
【図2】電極板取付穴の拡大平面図。
【図3】本発明の電極板の一例を示す平面図。
【図4】従来の電極板の一例を示す平面図。
【符号の説明】
1 ガス吹出し穴が設けられている範囲 2 電極板取付穴 3 大径部 4 小径部 5 座ぐり部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平行平板型プラズマ処理装置にねじで固
    定して使用される電極板において、電極板に設けられた
    電極板取付穴が、取付ねじの頭部が通過可能な大径部と
    電極板を固定可能な小径部とを有することを特徴とする
    プラズマ処理装置用電極板。
  2. 【請求項2】 大径部においてねじの頭部を通した後、
    電極板を平行移動させて定位置に固定するように小径部
    が形成された電極板取付穴を有する請求項1記載のプラ
    ズマ処理装置用電極板。
  3. 【請求項3】 大径部においてねじの頭部を通した後、
    電極板を回転移動させて定位置に固定するように小径部
    が形成された電極板取付穴を有する請求項1記載のプラ
    ズマ処理装置用電極板。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020078680A (ko) * 2001-04-07 2002-10-19 주식회사 기림세미텍 에칭장치용 전극 어셈블리
JP2002324781A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Shin Etsu Chem Co Ltd プラズマ装置用電極板
JP2015026743A (ja) * 2013-07-26 2015-02-05 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020078680A (ko) * 2001-04-07 2002-10-19 주식회사 기림세미텍 에칭장치용 전극 어셈블리
JP2002324781A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Shin Etsu Chem Co Ltd プラズマ装置用電極板
JP4540250B2 (ja) * 2001-04-25 2010-09-08 信越化学工業株式会社 プラズマ装置用電極板
JP2015026743A (ja) * 2013-07-26 2015-02-05 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置

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