JP2000011462A

JP2000011462A - ガラス原盤及び原盤露光装置

Info

Publication number: JP2000011462A
Application number: JP10181341A
Authority: JP
Inventors: Masashi Suenaga; 正志末永; Eiji Koyama; 栄二小山
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 1998-06-15
Filing date: 1998-06-15
Publication date: 2000-01-14

Abstract

(57)【要約】【課題】フォトレジストの多重露光を防止し、微細な
パターンを高精度に且つ高解像度で形成することが可能
なガラス原盤及び原盤露光装置を提供する。【解決手段】原盤露光装置１００は、レーザー光源
１、光ヘッド２７、ターンテーブル２１及びフォトレジ
スト２０が塗布されたガラス原盤１９を有する。ガラス
原盤１９のガラス及びターンテーブル２１を、レーザー
光源１から射出する露光光を選択的に吸収する材料で構
成する。光ヘッド２７からフォトレジスト２０に照射さ
れた露光光の一部は、フォトレジスト２０を透過してガ
ラス原盤１９に入射する。ガラス原盤１９に入射した光
はガラス原盤１９の内部とターンテーブル２１の内部で
その殆ど全てが吸収される。これにより露光光を照射し
たフォトレジスト部分だけを感光させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用基板
を製造するために用いられるガラス原盤及び原盤露光装
置に関し、更に詳細には、フォトレジストの多重露光を
防止し、微小なピットやグルーブのパターンを高精度且
つ高解像度で形成することが可能なガラス原盤及び原盤
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】音楽や動画像などの情報を記録再生する
ことが可能な媒体として光ディスクが知られており、光
ディスクの基板には、通常、光透過性のプラスチック製
基板が使用されている。プラスチック製基板は射出成形
機を用いて次のようにして製造される。フォトレジスト
を塗布したガラス原盤上にプリフォーマット信号に対応
するグルーブやピットのパターンを露光及び現像により
形成した後、得られたガラス原盤を複製してスタンパを
作製し、作製したスタンパを射出成形機に装着してプラ
スチック樹脂を射出充填する。こうしてプリフォーマッ
ト信号に対応するグルーブやピットのパターンが形成さ
れたプラスチック製基板が製造される。

【０００３】上記製造工程において、ガラス原盤にグル
ープやピットのパターンを形成するには原盤露光装置及
び現像装置が用いられる。これらの装置を用いてグルー
ブやピットのパターンを形成する方法を以下に説明す
る。フォトレジストが塗布されたガラス原盤をフォトレ
ジスト面が上面になるようにターンテーブル上に載置し
てターンテーブルを回転させる。回転しているガラス原
盤に、レーザー光を、フォトレジスト面上で集光するよ
うにフォーマット信号に応じてオンオフさせながら照射
する。これにより所望のパターンでガラス原盤上のフォ
トレジストが露光される。フォトレジストが露光された
ガラス原盤を原盤露光装置から取り出した後、現像装置
のターンテーブルに装着して、回転しているガラス原盤
表面に上方からアルカリ液を供給することにより現像を
行う。こうして所望のレジストパターンが形成されたガ
ラス原盤が作製される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、原盤露光装
置を用いてガラス原盤を露光する際に、フォトレジスト
面上にレーザー光を照射するが、照射したレーザー光の
すべての光がフォトレジストで吸収されるのではなく、
一部のレーザー光はフォトレジストを透過してガラス原
盤内部に入射している。通常、ガラス原盤は透明なガラ
スで構成されているので、図３に示したように、フォト
レジスト２０を透過したレーザー光３０はガラス原盤１
９内を透過して金属製のターンテーブル２１で反射す
る。このとき、ターンテーブルでそのまま反射した光や
ターンテーブルのネジ穴などにより散乱した光が、レー
ザー光が入射したフォトレジスト部分と異なる部分を露
光してしまうという問題があった。これは多重露光と呼
ばれていた。この多重露光が発生すると、ピットやグル
ーブのパターンがガラス原盤に望ましい形状で形成され
ないため、得られたガラス原盤を用いて製造された光デ
ィスクは、クロストークの増大やジッタの劣化を引き起
こしていた。特に、近年、光ディスクを高密度化するた
めに、微小なピットやグルーブをガラス原盤に高精度に
且つ高解像度で形成することが要求されており、上述し
た多重露光の問題は、このようなガラス原盤を作製する
際に極めて深刻な問題となる。

【０００５】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、その目的は、フォトレジストが多重露
光されることのない高密度光ディスク製造用のガラス原
盤を提供することにある。

【０００６】本発明の別の目的は、ガラス原盤上のフォ
トレジストの多重露光を防止し、ガラス原盤に微小なピ
ットやグルーブを高精度に且つ高解像度で形成すること
が可能な原盤露光装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、原盤露光装置に用いられ且つ感光性材料が塗布さ
れて露光光により所定のパターンで露光されるガラス原
盤において、該ガラス原盤が、露光光を選択的に吸収す
る材料を少なくとも一部に含むことを特徴とするガラス
原盤が提供される。

【０００８】本発明の第１の態様に従うガラス原盤は、
ガラス原盤上に形成されたフォトレジストを露光する際
に用いられる露光光、例えば、３００ｎｍ〜５００ｎｍ
の波長の光を選択的に吸収する材料を少なくとも一部に
含んでいるので、フォトレジストの多重露光が防止また
は抑制される。以下に、本発明によりフォトレジストの
多重露光を防止または抑制することができる理由につい
て図２を用いて説明する。図２は、ターンテーブル２１
上に載置された本発明のガラス原盤１９に露光光３０を
照射した様子を概略的に示した図である。ガラス原盤１
９を構成するガラス材料は、露光光を選択的に吸収する
材料で構成されているものとする。ガラス原盤１９には
フォトレジスト２０が予め塗布されており、フォトレジ
スト面が上面になるようにガラス原盤１９をターンテー
ブル２１上に載置する。所定位置にピットやグルーブが
形成されるようにターンテーブル２１を回転させながら
フォトレジスト面に露光光３０を照射すると、照射され
た露光光３０はフォトレジスト２０を透過してガラス原
盤１９内に入射する。ガラス原盤１９は、露光光３０を
選択的に吸収する材料から構成されているので、ガラス
原盤１９内に入射した露光光３０’は、ターンテーブル
２１に到達する前にガラス原盤１９内で実質的に吸収さ
れ、その後、ターンテーブル２１で反射する光があった
としても、フォトレジスト２０に到達する前に再度ガラ
ス原盤１９内で実質的に吸収される。したがって、ガラ
ス原盤内に入射した光がターンテーブルで反射して反射
光となって再びフォトレジストを露光することが防止ま
たは抑制される。このように、本発明のガラス原盤を用
いれば、露光光を照射したフォトレジスト部分だけが露
光されるので、ピットやグルーブを高精度に形成するこ
とができる。それゆえ、微小なピットや幅狭のグルーブ
を備える高密度光記録媒体用の基板を製造するためのガ
ラス原盤として極めて好適である。

【０００９】本発明のガラス原盤は、ガラス原盤全体が
露光光を選択的に吸収するガラス材料で構成されていて
も良い。また、ガラス原盤の少なくとも一方の面に露光
光を選択的に吸収する材料からなる膜を形成してガラス
原盤を構成することもできる。あるいは、ガラス原盤の
内部に露光光を選択的に吸収する材料からなる膜を挿入
しても良い。

【００１０】本発明において、露光光を選択的に吸収す
る材料は、着色ガラスであることが好ましい。着色ガラ
スは、ほうけい酸ガラス、珪酸塩ガラス及び燐酸塩ガラ
スなどの無機ガラスに、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｅ及びＮｄなどの遷移元素を用いてイオン吸収さ
せたり、ＣｄＳ、ＣｄＳ＋ＣｄＳｅなどの化合物を用い
てコロイド吸収させたりすることによって着色されたガ
ラスを含む概念である。例えば、４００ｎｍ以下の波長
をカットする吸収フィルターとして、ＳｉＯ₂：５０
％、Ｂ₂Ｏ₃：２．０％、Ｎａ₂Ｏ：６．０％、Ｋ₂Ｏ：
７．０％、ＰｂＯ：３２％、ＣａＯ：１．０％、ＣｅＯ
₂：２．０％がある。また、所望の波長域の光をカット
するようにするには、着色ガラスの組成や成分を調整す
ることによって対応させることができる。

【００１１】本発明では、フォトレジストを透過した露
光光がガラス原盤内を透過してターンテーブルに到達す
る前に実質的に全て吸収されるように、またはレジスト
を透過した露光光がターンテーブルで反射した場合であ
っても反射した光がレジストに到達する前に実質的に全
て吸収されるようにする。すなわち、露光光を照射した
際にフォトレジストを透過した露光光がターンテーブル
で反射して反射光となって再びフォトレジストに到達し
ても、反射光がフォトレジストを露光しない程度にガラ
ス原盤内で吸収されていればよい。ガラス原盤を透過す
る露光光の透過率は、それを構成する材料のみならず、
ガラス原盤の厚みにも関係する。

【００１２】また、本発明において、露光光の波長を
λ、ガラス原盤の厚みをｄ、ガラス原盤の屈折率をｎで
表したときに、２ｎｄ＝（２ｍ＋１）λ／２の関係（式
中、ｍは整数）を満足するように、ガラス原盤の厚み及
び屈折率を調整することが好ましい。このようにガラス
原盤の厚み及び屈折率を調整することにより、フォトレ
ジストを透過した後、ターンテーブルで反射して再びフ
ォトレジストに到達した露光光は、直接入射された露光
光と干渉して互いに弱め合うのでフォトレジストが露光
されることを抑制することができる。

【００１３】本発明の第２の態様に従えば、感光性材料
が塗布されたガラス原盤を載置するためのターンテーブ
ルと、ガラス原盤上の感光性材料を露光するための露光
光源とを少なくとも有する原盤露光装置において、感光
性材料を透過した露光光を選択的に吸収する材料を含む
ことを特徴とする原盤露光装置が提供される。

【００１４】本発明の原盤露光装置では、ターンテーブ
ルを、露光光を選択的に吸収する材料で構成することが
好ましい。かかるターンテーブルを用いれば、ピットや
グルーブのパターンを形成するためにフォトレジストに
照射した露光光は、フォトレジスト及びガラス原盤内を
透過してガラス原盤から射出した後、ターンテーブルに
入射し、ターンテーブル内部で実質的に吸収されるの
で、露光光がターンテーブルで反射することが殆どなく
なり、反射光によるフォトレジストの多重露光が実質的
に防止される。したがって、露光光を照射したフォトレ
ジスト部分だけが露光されるので、微小なピットやグル
ーブのパターンを高精度に形成することができる。

【００１５】また、本発明の原盤露光装置では、ターン
テーブル上に露光光を選択的に吸収する材料からなる膜
を形成することが好ましい。すなわち、このような膜を
ターンテーブル上に形成することにより、フォトレジス
トを透過してガラス原盤から射出した露光光は、ターン
テーブルに到達する前にこの膜内で実質的に吸収されて
しまうので、ターンテーブルでの露光光の反射が実質的
になくなりフォトレジストの多重露光が防止または抑制
される。

【００１６】また、本発明の原盤露光装置では、ガラス
原盤を構成するガラスを、露光光を選択的に吸収するガ
ラス材料で構成することが好ましい。かかるガラス材料
から構成されたガラス原盤を用いれば、ピットやグルー
ブなどのパターンを形成するためにフォトレジストに照
射した露光光は、フォトレジストを透過してターンテー
ブルに到達する前にガラス原盤内で実質的に全て吸収さ
れ、その後、ターンテーブルで反射する光があったとし
てもフォトレジストに到達する前に再度ガラス原盤内で
実質的に全て吸収される。したがって、ガラス原盤上の
フォトレジストを多重露光することが実質的になくなる
ので、ピットやグルーブなどのパターンを高精度に形成
することができる。

【００１７】本発明の原盤露光装置では、露光光を選択
的に吸収する材料で構成されたターンテーブルやターン
テーブル上に形成する膜、ガラス原盤を構成するガラス
をそれぞれ個別に用いても良いが、これらを組み合わせ
て用いることも可能である。すなわち、露光光を選択的
に吸収する材料でターンテーブルを構成し、更にこのタ
ーンテーブル上に露光光を選択的に吸収する材料からな
る膜を形成しても良い。また、露光光を選択的に吸収す
る材料で構成したターンテーブル上に、露光光を選択的
に吸収するガラス材料で形成したガラス原盤を載置して
露光を行うこともできる。更に、露光光を選択的に吸収
する材料で構成したターンテーブル上に、露光光を選択
的に吸収する材料からなる膜を形成し、この膜上に露光
光を選択的に吸収するガラス材料で形成したガラス原盤
を載置して露光を行うことも可能である。

【００１８】本発明の原盤露光装置では、露光光として
使用される３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長の光を選択的
に吸収する材料を用いて、ターンテーブルやターンテー
ブル上に形成する膜、ガラス原盤のガラスを構成するこ
とが好ましい。このような材料としては、例えば、着色
ガラスやカーボンブラックなどが好ましい。着色ガラス
は、ほうけい酸ガラス、珪酸塩ガラス及び燐酸塩ガラス
などの無機ガラスに、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｃｅ及びＮｄなどの遷移元素を用いてイオン吸収させた
り、ＣｄＳ、ＣｄＳ＋ＣｄＳｅなどの化合物を用いてコ
ロイド吸収させたりすることによって着色されたガラス
であることが好ましい。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態及び実
施例について図面を参照しながら具体的に説明する。

【００２０】実施例１本発明の原盤露光装置について図１を用いて説明する。
図１は、本発明に従う原盤露光装置の概略構成図であ
る。原盤露光装置１００は、主に、露光用のレーザー光
を射出するレーザー光源１、ガラス原盤１９への照射タ
イミング及び照射位置をそれぞれ調整する音響光学（Ａ
Ｏ）変調器７及び音響光学（ＡＯ）偏向器９、露光用光
ヘッド２７、ガラス原盤１９を回転するターンテーブル
２１、照射されたスポットを観測するための撮像管２４
及びディスプレイ２６並びに光路を調整するためのビー
ムスプリッター３、ミラー１１、ハーフミラー１３、レ
ンズ６などの種々の光学素子から構成されている。レー
ザー光源１は、発振波長４１３ｎｍのＫｒレーザーであ
る。ターンテーブル２１のテーブル部は、波長３００ｎ
ｍ〜５００ｎｍに光吸収帯を有する色ガラスで構成され
ている。

【００２１】ガラス原盤１９は、従来のタイプのガラス
原盤であり、直径２００ｍｍ、厚さ１０ｍｍの前記有色
性の無機イオンを含まないガラス原盤である。このガラ
ス原盤１９上には、予め、波長４１３ｎｍの光に対して
感光性を有するフォトレジスト２０を５０ｎｍ〜２００
ｎｍの範囲の膜厚で塗布してある。ガラス原盤１９は、
不図示のリング状の治具によりターンテーブル２１上に
固定されている。

【００２２】レーザー光源１から射出されたレーザー光
束２はビームスプリッター３により第１の光束４と第２
の光束５に分けられる。第１の光束４は、一対のレンズ
６で挟まれたＡＯ変調器７に入射して、記録すべき信号
のタイミングに応じたパルス光に変調される。ＡＯ変調
器７で変調されたパルス光はミラー８で反射された後、
ＡＯ偏向器９に入射してガラス原盤１９の所定の半径方
向を照射するように偏向される。偏向された光は、偏向
ミラー１０及びミラー１１を経て光ヘッド２７に入射す
る。光ヘッド２７には集光レンズ１５が装着されてお
り、この集光レンズ１５によりレーザー光はガラス原盤
１９の表面の所定位置に集光される。一方、第２の光束
５はＥＯ変調器１２に入射する。ＡＯ変調器７の代わり
にＥＯ変調器１２により照射タイミング及び露光量を変
調しても良い。ＥＯ変調器１２を透過した光は、ハーフ
ミラー１３で反射されてλ／２位相板１４を透過した
後、偏向ミラー１０及びミラー１１を経て光ヘッド２７
に到達し、ガラス原盤１９上のフォトレジスト膜２０を
照射する。

【００２３】ガラス原盤１９のフォトレジスト膜２０か
ら反射された光は、集光レンズ１５を透過して平行光と
なり、ミラー１１、偏向ミラー１０、ハーフミラー１３
を経てレンズ２２により撮像管２４上に集光される。撮
像管２４のディスプレイ２６に表示されたスポット像２
６ａ、２６ｂを観察することによって、集光レンズ１５
によって形成されるスポット形状を確認することができ
る。レーザー光源１、ＡＯ変調器７、ＥＯ変調器１２、
ターンテーブル２１などの動作は、図示しない制御部に
より一括して管理される。制御部にはプリフォーマット
信号が入力され、それに応じてＡＯ変調器７などの発光
周期などが調整される。

【００２４】光ヘッド２７からガラス原盤１９上のフォ
トレジスト膜２０に照射された光は所定のパターンでフ
ォトレジスト膜２０を感光させる。このとき、フォトレ
ジスト膜２０に照射された光の一部は、フォトレジスト
膜２０を透過してガラス原盤１９内に入射する。ガラス
原盤１９内に入射した光は、ターンテーブル２１に到達
し、ターンテーブル２１内で実質的に吸収される。すな
わち、ターンテーブル２１からの露光光の反射は実質的
に防止される。これによりガラス原盤１９上に形成され
ているフォトレジスト膜２０のうち、光を入射させた領
域だけを感光することができる。

【００２５】実施例２本実施例では、実施例１で用いたガラス原盤の代わりに
本発明に従うガラス原盤を用い、実施例１の原盤露光装
置のターンテーブルを金属（ＳＵＳ）製のターンテーブ
ルに換えた以外は、実施例１と同様の原盤露光装置を用
いて原盤露光を行った。なお、本発明に従うガラス原盤
は、イオン吸収またはコロイド吸収により着色され、３
００ｎｍ〜５００ｎｍに光吸収帯を有する着色ガラスか
らなるガラス板を直径２００ｍｍ、厚さ１０ｍｍに加工
し、表面を研磨することによって製造した。光ヘッド２
７からガラス原盤１９上のフォトレジスト膜２０に照射
された光の一部は、フォトレジスト膜２０を透過してガ
ラス原盤１９に入射する（図１参照）。このとき、ガラ
ス原盤１９に入射した光は、ガラス原盤１９の内部で実
質的にその１００％が吸収される。このため、ターンテ
ーブルに向かう光及びそこから反射してフォトレジスト
に再び戻る光が実質的になくなる。したがって、フォト
レジスト膜２０に対して光を入射させた領域だけを感光
させることができる。

【００２６】実施例３本実施例では、実施例２と同様にして製造したガラス原
盤を、実施例１で用いたガラス原盤の代わりに用いた以
外は、実施例１と同様の原盤露光装置を用いて原盤露光
を行った。光ヘッド２７からガラス原盤１９上のフォト
レジスト膜２０に照射された光の一部は、フォトレジス
ト膜２０を透過してガラス原盤１９内に入射する（図１
参照）。このとき、ガラス原盤１９内に入射した光は、
ターンテーブル２１に到達する前にガラス原盤１９の内
部でその一部が吸収され、吸収されなかった残りの光は
ターンテーブル２１に入射する。ターンテーブル２１に
入射した光は、更に、ターンテーブル２１内で吸収され
る。すなわち、フォトレジスト膜を透過した露光光は、
ガラス原盤内とターンテーブル内の２つの領域で吸収さ
れるのでターンテーブル２１での露光光の反射をより一
層効果的に防止または抑制することができる。

【００２７】実施例４本実施例では、実施例１で用いたターンテーブルを金属
（ＳＵＳ）製のターンテーブルに換え、このターンテー
ブル上に、波長３００ｎｍ〜５００ｎｍに光吸収帯を有
するカーボンブラックからなる光吸収膜を厚さ５０μｍ
〜３００μｍの範囲で形成し、この光吸収膜上にガラス
原盤を載置した以外は、実施例１と同様の原盤露光装置
を用いて原盤露光を行った。光ヘッド２７からガラス原
盤１９上のフォトレジスト膜２０に照射された光の一部
は、フォトレジスト膜２０を透過してガラス原盤１９に
入射する（図１参照）。ガラス原盤１９に入射した光は
ガラス原盤１９内を透過してガラス原盤１９の下面から
射出する。ガラス原盤１９の下面から射出した光は、タ
ーンテーブル２１上に形成された光吸収膜で殆ど吸収さ
れ、ターンテーブル２１で反射することが実質的に防止
される。

【００２８】以上、本発明を実施例１〜４により具体的
に説明してきたが、本発明は特許請求の範囲に記載した
範囲で実施例の種々の変形及び改良を含むことができ
る。例えば、上記実施例１では、ターンテーブルを着色
ガラスで形成したが、これに限らず、ターンテーブルを
金属（ＳＵＳ）で形成して、その表面に黒色アルマイト
処理を施すことも可能である。また、ターンテーブルを
金属（ＳＵＳ）で形成して、その表面をのこぎり状に加
工処理することによって露光光の光強度を減衰させるこ
とも可能である。

【００２９】本発明の原盤露光装置で露光されたガラス
原盤は、現像された後、Ａｌ、Ｎｉなどのスタンパに複
製され、コンパクトディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ
（デジタルビデオディスク）などのような再生専用の光
記録媒体、ＣＤ−Ｒのような追記型記録媒体、光磁気デ
ィスクのような書換型光記録媒体のみならずハードディ
スクなどに使用されるエンボスピットタイプの磁気記録
媒体に用いられる基板を製造するために使用されること
ができる。

【００３０】

【発明の効果】本発明のガラス原盤は、フォトレジスト
を透過してガラス原盤内部に入射した露光光をガラス原
盤内部で殆ど吸収することができるので、露光光を入射
させたフォトレジスト部分だけを露光することができ
る。本発明のガラス原盤を用いれば、微小なピットやグ
ルーブなどのパターンを高精度に形成することができる
ので、クロストークやジッタの発生が抑制された光記録
媒体を製造することができる。

【００３１】また、本発明の原盤露光装置は、ガラス原
盤上に形成されたフォトレジストを透過した露光光を実
質的に全て吸収することができるので、フォトレジスト
の多重露光が防止または抑制され、フォトレジストに微
小なピットやグルーブなどのパターンを高精度に且つ高
解像度で形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の原盤露光装置の全体構成を説
明する概念図である。

【図２】図２は、本発明のガラス原盤に露光光を照射し
た様子を概略的に示した図である。

【図３】図３は、従来のタイプのガラス原盤に露光光を
照射した様子を概略的に示した図である。

【符号の説明】

１レーザー光源１９ガラス原盤２０フォトレジスト２１ターンテーブル２７光ヘッド３０露光光１００原盤露光装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】原盤露光装置に用いられ且つ感光性材料
が塗布されて露光光により所定のパターンで露光される
ガラス原盤において、該ガラス原盤が、露光光を選択的に吸収する材料を少な
くとも一部に含むことを特徴とするガラス原盤。
【請求項２】ガラス原盤を構成するガラスが露光光を
選択的に吸収するガラス材料で構成されていることを特
徴とする請求項１に記載のガラス原盤。
【請求項３】露光光を選択的に吸収する材料からなる
膜を有することを特徴とする請求項１に記載のガラス原
盤。
【請求項４】該露光光を選択的に吸収する材料が、着
色ガラスであることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か一項に記載のガラス原盤。
【請求項５】光記録媒体用基板を製造するために用い
られるガラス原盤であることを特徴とする請求項１〜４
のいずれか一項に記載のガラス原盤。
【請求項６】露光光の波長をλ、ガラス原盤のガラス
の厚みをｄ、ガラスの屈折率をｎで表したときに、２ｎ
ｄ＝（２ｍ＋１）λ／２の関係（式中、ｍは整数）を満
足することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に
記載のガラス原盤。
【請求項７】該露光光の波長が、３００ｎｍ〜５００
ｎｍの範囲に属する波長であることを特徴とする請求項
１〜６のいずれか一項に記載のガラス原盤。
【請求項８】感光性材料が塗布されたガラス原盤を載
置するためのターンテーブルと、ガラス原盤上の感光性材料を露光するための露光光源と
を少なくとも有する原盤露光装置において、感光性材料を透過した露光光を選択的に吸収する材料を
含むことを特徴とする原盤露光装置。
【請求項９】該ターンテーブルが、露光光を選択的に
吸収する材料で構成されていることを特徴とする請求項
８に記載の原盤露光装置。
【請求項１０】更に、ターンテーブル上に、露光光を
選択的に吸収する材料からなる膜を形成したことを特徴
とする請求項８または９に記載の原盤露光装置。
【請求項１１】ガラス原盤を構成するガラスが、露光
光を選択的に吸収する材料から構成されていることを特
徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記載の原盤露
光装置。
【請求項１２】露光光を選択的に吸収する材料が、着
色ガラスまたはカーボンブラックであることを特徴とす
る請求項８〜１１のいずれか一項に記載の原盤露光装
置。
【請求項１３】該露光光の波長が、３００ｎｍ〜５０
０ｎｍの範囲に属する波長であることを特徴とする請求
項８〜１２のいずれか一項に記載の原盤露光装置。