JP2000006005A - 両面研磨装置 - Google Patents
両面研磨装置Info
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- JP2000006005A JP2000006005A JP17492698A JP17492698A JP2000006005A JP 2000006005 A JP2000006005 A JP 2000006005A JP 17492698 A JP17492698 A JP 17492698A JP 17492698 A JP17492698 A JP 17492698A JP 2000006005 A JP2000006005 A JP 2000006005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- platen
- side polishing
- double
- airbag
- polishing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
- B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
- B24B41/06—Work supports, e.g. adjustable steadies
- B24B41/067—Work supports, e.g. adjustable steadies radially supporting workpieces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/16—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation taking regard of the load
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 上定盤のワークピースへの押圧力を略連続的
に変化させることができる構成にして、接触時に生じる
ワークピースの破損を防止することができると共にワー
クピースへの上定盤の押圧力を所望値に設定することが
できる両面研磨装置を提供する。 【解決手段】 下定盤１と上定盤２と昇降機構３を具備
する。昇降機構３の主昇降部６をシリンダ６０で構成
し、昇降機構３の副昇降部７をエアバッグ７０とホース
７１とエアポンプ７２とで構成すると共に、エアバッグ
７０を上定盤２からの連結部材４に連結した。エアバッ
グ７０を膨張させ、シリンダ６０のピストンロッド６１
を縮めることで、上定盤２をワークピースＷの近接位置
まで下降させる。しかる後、エアバッグ７０を縮小させ
ることで上定盤２をワークピースＷ上にソフトに接触さ
せることができる。エアバッグ７０をさらに縮小させる
ことで上定盤２のワークピースＷへの押圧力を連続的に
増加させることができる。
に変化させることができる構成にして、接触時に生じる
ワークピースの破損を防止することができると共にワー
クピースへの上定盤の押圧力を所望値に設定することが
できる両面研磨装置を提供する。 【解決手段】 下定盤１と上定盤２と昇降機構３を具備
する。昇降機構３の主昇降部６をシリンダ６０で構成
し、昇降機構３の副昇降部７をエアバッグ７０とホース
７１とエアポンプ７２とで構成すると共に、エアバッグ
７０を上定盤２からの連結部材４に連結した。エアバッ
グ７０を膨張させ、シリンダ６０のピストンロッド６１
を縮めることで、上定盤２をワークピースＷの近接位置
まで下降させる。しかる後、エアバッグ７０を縮小させ
ることで上定盤２をワークピースＷ上にソフトに接触さ
せることができる。エアバッグ７０をさらに縮小させる
ことで上定盤２のワークピースＷへの押圧力を連続的に
増加させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ワークピースに
加わる上定盤の押圧力を昇降機構の副昇降部によって微
調整することができる両面研磨装置に関するものであ
る。
加わる上定盤の押圧力を昇降機構の副昇降部によって微
調整することができる両面研磨装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図９は、従来例に係る両面研磨装置を示
す断面図である。図９に示すように、この両面研磨装置
は、サンギア１０１とインターナルギア１０２とに噛合
されたキャリア１１０を、サンギア１０１の駆動回転に
よって自公転させると共に、下定盤１００と上定盤１２
０とを互いに逆回転させることにより、ワークピースＷ
の両面を同時に研磨する装置である。このような両面研
磨装置においては、上定盤１２０を昇降させるための昇
降機構２００が設けられている。この昇降機構２００
は、大重量の上定盤１２０を単に昇降させるための大型
のメインシリンダ２０１と、押圧力微調整用の小型のサ
ブシリンダ２０２とで構成されている。これにより、大
重量の上定盤１２０を大馬力のメインシリンダ２０１で
昇降させることができる。そして、上定盤１２０の下降
時には、上定盤１２０をワークピースＷの真上近接位置
までメインシリンダ２０１によって下降させる。しかる
後、小馬力のサブシリンダ２０２を用いて、上定盤１２
０をワークピースＷの上にソフトに接触させ、上定盤１
２０のワークピースＷへの押圧力をサブシリンダ２０２
によって少しずつ所望圧力値まで増加させようとするも
のである。
す断面図である。図９に示すように、この両面研磨装置
は、サンギア１０１とインターナルギア１０２とに噛合
されたキャリア１１０を、サンギア１０１の駆動回転に
よって自公転させると共に、下定盤１００と上定盤１２
０とを互いに逆回転させることにより、ワークピースＷ
の両面を同時に研磨する装置である。このような両面研
磨装置においては、上定盤１２０を昇降させるための昇
降機構２００が設けられている。この昇降機構２００
は、大重量の上定盤１２０を単に昇降させるための大型
のメインシリンダ２０１と、押圧力微調整用の小型のサ
ブシリンダ２０２とで構成されている。これにより、大
重量の上定盤１２０を大馬力のメインシリンダ２０１で
昇降させることができる。そして、上定盤１２０の下降
時には、上定盤１２０をワークピースＷの真上近接位置
までメインシリンダ２０１によって下降させる。しかる
後、小馬力のサブシリンダ２０２を用いて、上定盤１２
０をワークピースＷの上にソフトに接触させ、上定盤１
２０のワークピースＷへの押圧力をサブシリンダ２０２
によって少しずつ所望圧力値まで増加させようとするも
のである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の両面研磨装置では次のような問題があった。サブシリ
ンダ２０２は、図９に示すように、シリンダ本体２０３
内にピストン２０４を気密に嵌め、このピストン２０４
で画成された上室２０５と下室２０６内の圧力差を変化
させることで、ピストンロッド２０７に吊り下げられた
上定盤１２０を漸次下降させ、また、上定盤１２０への
圧力を漸次増加させる構造になっている。しかしなが
ら、サブシリンダ２０２は、ピストン２０４がシリンダ
本体２０３の内壁に面接触した構造になっているので、
摺動摩擦のバラツキなどにより、ピストン２０４が上室
２０５と下室２０６内の圧力差の連続的な変化に対応し
た微妙な動きをすることができない。このため、上定盤
１２０のワークピースＷへの接触時に上定盤１２０の重
量がワークピースＷに急激に加わって、ワークピースＷ
が破損するおそれがある。また、上定盤１２０のワーク
ピースＷへの接触後に加える押圧力を連続的に変化させ
ることができず、所望の圧力値でワークピースＷを押圧
することができない。この結果、各バッチ毎、ワークピ
ースＷの研磨レートが異なるという不具合が発生する。
の両面研磨装置では次のような問題があった。サブシリ
ンダ２０２は、図９に示すように、シリンダ本体２０３
内にピストン２０４を気密に嵌め、このピストン２０４
で画成された上室２０５と下室２０６内の圧力差を変化
させることで、ピストンロッド２０７に吊り下げられた
上定盤１２０を漸次下降させ、また、上定盤１２０への
圧力を漸次増加させる構造になっている。しかしなが
ら、サブシリンダ２０２は、ピストン２０４がシリンダ
本体２０３の内壁に面接触した構造になっているので、
摺動摩擦のバラツキなどにより、ピストン２０４が上室
２０５と下室２０６内の圧力差の連続的な変化に対応し
た微妙な動きをすることができない。このため、上定盤
１２０のワークピースＷへの接触時に上定盤１２０の重
量がワークピースＷに急激に加わって、ワークピースＷ
が破損するおそれがある。また、上定盤１２０のワーク
ピースＷへの接触後に加える押圧力を連続的に変化させ
ることができず、所望の圧力値でワークピースＷを押圧
することができない。この結果、各バッチ毎、ワークピ
ースＷの研磨レートが異なるという不具合が発生する。
【０００４】この発明は上述した課題を解決するために
なされたもので、上定盤のワークピースへの押圧力を略
連続的に変化させることができる構成にして、接触時に
生じるワークピースの破損を防止することができると共
にワークピースへの上定盤の押圧力を所望値に設定する
ことができる両面研磨装置を提供することを目的とする
ものである。
なされたもので、上定盤のワークピースへの押圧力を略
連続的に変化させることができる構成にして、接触時に
生じるワークピースの破損を防止することができると共
にワークピースへの上定盤の押圧力を所望値に設定する
ことができる両面研磨装置を提供することを目的とする
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の発明は、回転可能な下定盤と、この下定
盤の上方に昇降自在に配された上定盤と、この上定盤を
下定盤に対して昇降させる昇降機構とを具備する両面研
磨装置において、昇降機構は、一方端部が上定盤の上部
に連結された袋体内の流体を増加，減少させ又は加熱，
冷却することで、袋体を膨張，縮小させる副昇降部と、
袋体の他方端部に連結されたピストンロッドをシリンダ
内圧力の調整で上下動させる主昇降部とを有する構成と
した。かかる構成により、昇降機構の主昇降部により、
副昇降部の袋体の他方端部に連結されたピストンロッド
をシリンダ内圧力の調整で上下動させると、上定盤が副
昇降部と一体に昇降する。また、昇降機構の副昇降部に
より、上定盤の上部に連結された袋体内の流体を増加，
減少させ又は加熱，冷却して袋体を膨張，縮小させる
と、上定盤が袋体の膨張，縮小に対応して連続的に昇降
する。
に、請求項１の発明は、回転可能な下定盤と、この下定
盤の上方に昇降自在に配された上定盤と、この上定盤を
下定盤に対して昇降させる昇降機構とを具備する両面研
磨装置において、昇降機構は、一方端部が上定盤の上部
に連結された袋体内の流体を増加，減少させ又は加熱，
冷却することで、袋体を膨張，縮小させる副昇降部と、
袋体の他方端部に連結されたピストンロッドをシリンダ
内圧力の調整で上下動させる主昇降部とを有する構成と
した。かかる構成により、昇降機構の主昇降部により、
副昇降部の袋体の他方端部に連結されたピストンロッド
をシリンダ内圧力の調整で上下動させると、上定盤が副
昇降部と一体に昇降する。また、昇降機構の副昇降部に
より、上定盤の上部に連結された袋体内の流体を増加，
減少させ又は加熱，冷却して袋体を膨張，縮小させる
と、上定盤が袋体の膨張，縮小に対応して連続的に昇降
する。
【０００６】ところで、上記昇降機構の副昇降部は、袋
体内の流体を増加，減少させ又は加熱，冷却すること
で、袋体を膨張，縮小させるものであれば良い。その一
例として、請求項２の発明は、請求項１に記載の両面研
磨装置において、昇降機構の副昇降部を、一方端部が上
定盤の上部に連結され且つ他方端部が主昇降部のピスト
ンロッドに連結された袋体としてのエアバッグと、エア
バッグに接続されたホースと、ホースを介してエアバッ
グ内の空気を出し入れするエアポンプとで構成した。か
かる構成により、副昇降部のエアポンプによって、一方
端部が上定盤の上部に連結され且つ他方端部が主昇降部
のピストンロッドに連結されたエアバッグ内の空気を出
し入れすると、エアバッグが膨張，縮小し、上定盤がエ
アバッグの膨張，縮小に対応して連続的に昇降する。ま
た、副昇降部の他の例として、請求項３の発明は、請求
項１に記載の両面研磨装置において、昇降機構の副昇降
部を、一方端部が上定盤の上部に連結され且つ他方端部
が主昇降部のピストンロッドに連結された袋体としての
エアバッグと、エアバッグ内の空気を加熱及び冷却可能
な加熱冷却器とで構成した。かかる構成により、加熱冷
却器によって、エアバッグ内の空気を加熱及び冷却する
と、エアバッグが膨張及び縮小し、上定盤がエアバッグ
の膨張，縮小に対応して連続的に昇降する。
体内の流体を増加，減少させ又は加熱，冷却すること
で、袋体を膨張，縮小させるものであれば良い。その一
例として、請求項２の発明は、請求項１に記載の両面研
磨装置において、昇降機構の副昇降部を、一方端部が上
定盤の上部に連結され且つ他方端部が主昇降部のピスト
ンロッドに連結された袋体としてのエアバッグと、エア
バッグに接続されたホースと、ホースを介してエアバッ
グ内の空気を出し入れするエアポンプとで構成した。か
かる構成により、副昇降部のエアポンプによって、一方
端部が上定盤の上部に連結され且つ他方端部が主昇降部
のピストンロッドに連結されたエアバッグ内の空気を出
し入れすると、エアバッグが膨張，縮小し、上定盤がエ
アバッグの膨張，縮小に対応して連続的に昇降する。ま
た、副昇降部の他の例として、請求項３の発明は、請求
項１に記載の両面研磨装置において、昇降機構の副昇降
部を、一方端部が上定盤の上部に連結され且つ他方端部
が主昇降部のピストンロッドに連結された袋体としての
エアバッグと、エアバッグ内の空気を加熱及び冷却可能
な加熱冷却器とで構成した。かかる構成により、加熱冷
却器によって、エアバッグ内の空気を加熱及び冷却する
と、エアバッグが膨張及び縮小し、上定盤がエアバッグ
の膨張，縮小に対応して連続的に昇降する。
【０００７】さらに、副昇降部の袋体を縮小させること
で、上定盤を下降させる構造を採用することができる。
そこで、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３の
いずれかに記載の両面研磨装置において、上定盤に、そ
の上部から側方に延出した連結部材を設け、副昇降部の
袋体の上端部を連結部材に連結し、主昇降部のピストン
ロッドを袋体の下端部に連結した構成としてある。かか
る構成により、主昇降部のピストンロッドを上下動する
と、副昇降部の袋体の上端部に連結した連結部材が袋体
と一体に上下動し、定盤も連結部材と連動して昇降す
る。そして、袋体を縮小すると、定盤が連続的に下降す
る。また、副昇降部の袋体を膨張させることで、上定盤
を下降させる構造も採用することができる。そこで、請
求項５の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに
記載の両面研磨装置において、副昇降部の袋体の下端部
を上定盤の上部に連結し、袋体の上端部を主昇降部のピ
ストンロッドに連結した構成としてある。かかる構成に
より、副昇降部の袋体の上端部に連結された主昇降部の
ピストンロッドを上下動すると、袋体の下端部に連結し
た上定盤が袋体と一体に昇降する。そして、袋体を膨張
すると、定盤が連続的に下降する。
で、上定盤を下降させる構造を採用することができる。
そこで、請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３の
いずれかに記載の両面研磨装置において、上定盤に、そ
の上部から側方に延出した連結部材を設け、副昇降部の
袋体の上端部を連結部材に連結し、主昇降部のピストン
ロッドを袋体の下端部に連結した構成としてある。かか
る構成により、主昇降部のピストンロッドを上下動する
と、副昇降部の袋体の上端部に連結した連結部材が袋体
と一体に上下動し、定盤も連結部材と連動して昇降す
る。そして、袋体を縮小すると、定盤が連続的に下降す
る。また、副昇降部の袋体を膨張させることで、上定盤
を下降させる構造も採用することができる。そこで、請
求項５の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに
記載の両面研磨装置において、副昇降部の袋体の下端部
を上定盤の上部に連結し、袋体の上端部を主昇降部のピ
ストンロッドに連結した構成としてある。かかる構成に
より、副昇降部の袋体の上端部に連結された主昇降部の
ピストンロッドを上下動すると、袋体の下端部に連結し
た上定盤が袋体と一体に昇降する。そして、袋体を膨張
すると、定盤が連続的に下降する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）図１は、この発明の第１の実施形態
にかかる両面研磨装置を一部破断して示す正面図であ
る。この両面研磨装置は、下定盤１と上定盤２と上定盤
２を下定盤１に対して昇降させる昇降機構３とを具備し
ている。
いて図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）図１は、この発明の第１の実施形態
にかかる両面研磨装置を一部破断して示す正面図であ
る。この両面研磨装置は、下定盤１と上定盤２と上定盤
２を下定盤１に対して昇降させる昇降機構３とを具備し
ている。
【０００９】下定盤１は、図示しないモータで回転する
回転軸１０ａの上端部に取り付けられたサンギア１０の
外側に同心上に配されたドーナッツ状の盤体であり、図
示しないモータで駆動回転される。そして、この下定盤
１の外側にインターナルギア１１が下定盤１と同心上に
配されており、図示しないモータにより回転される。こ
のような下定盤１上には、ワークピースＷを保持するた
めの孔１２ａを有したキャリア１２が載置され、サンギ
ア１０とインターナルギア１１とに噛合されている。な
お、符号１０ｂは、サンギア１０の上に取り付けられた
ドライバであり、その周面には縦溝１０ｃが刻設されて
いる。
回転軸１０ａの上端部に取り付けられたサンギア１０の
外側に同心上に配されたドーナッツ状の盤体であり、図
示しないモータで駆動回転される。そして、この下定盤
１の外側にインターナルギア１１が下定盤１と同心上に
配されており、図示しないモータにより回転される。こ
のような下定盤１上には、ワークピースＷを保持するた
めの孔１２ａを有したキャリア１２が載置され、サンギ
ア１０とインターナルギア１１とに噛合されている。な
お、符号１０ｂは、サンギア１０の上に取り付けられた
ドライバであり、その周面には縦溝１０ｃが刻設されて
いる。
【００１０】一方、上定盤２は下定盤１の上方に配さ
れ、その下面中央部には、ドライバ１０ｂが嵌まる凹部
２０が設けられ、その凹部２０内にドライバ１０ｂの縦
溝１０ｃと係合可能なフック２１が取り付けられてい
る。このような上定盤２の上部には、上定盤２の上部か
ら昇降機構３側に延出した連結部材４が取り付けられて
いる。具体的には、上定盤２の軸２２が連結部材４に固
着された支持部材４０に挿通され、この支持部材４０と
軸２２との間にベアリング４１が装着されている。
れ、その下面中央部には、ドライバ１０ｂが嵌まる凹部
２０が設けられ、その凹部２０内にドライバ１０ｂの縦
溝１０ｃと係合可能なフック２１が取り付けられてい
る。このような上定盤２の上部には、上定盤２の上部か
ら昇降機構３側に延出した連結部材４が取り付けられて
いる。具体的には、上定盤２の軸２２が連結部材４に固
着された支持部材４０に挿通され、この支持部材４０と
軸２２との間にベアリング４１が装着されている。
【００１１】下定盤１及び上定盤２が上記構成になって
いることにより、上定盤２を下定盤１側に下降させて上
定盤２をワークピースＷに接触させ、ドライバ１０ｂの
縦溝１０ｃを凹部２０内のフック２１に係合させた状態
で、下定盤１とサンギア１０とインターナルギア１１と
を回転させると、キャリア１２が自転しながらサンギア
１０の周りを公転し、ワークピースＷの両面が回転する
下定盤１及び上定盤２によって研磨される。
いることにより、上定盤２を下定盤１側に下降させて上
定盤２をワークピースＷに接触させ、ドライバ１０ｂの
縦溝１０ｃを凹部２０内のフック２１に係合させた状態
で、下定盤１とサンギア１０とインターナルギア１１と
を回転させると、キャリア１２が自転しながらサンギア
１０の周りを公転し、ワークピースＷの両面が回転する
下定盤１及び上定盤２によって研磨される。
【００１２】昇降機構３は、連結部材４を上下動させる
ことで、上定盤２を昇降させる機構であり、台座５にそ
れそれ固設された主昇降部６と副昇降部７とを有してい
る。
ことで、上定盤２を昇降させる機構であり、台座５にそ
れそれ固設された主昇降部６と副昇降部７とを有してい
る。
【００１３】主昇降部６は、台座５にボルト締め固定さ
れた３つの大型のシリンダ６０でなり、各シリンダ６０
のピストンロッド６１の先端部が可動盤６３に連結され
ている。なお、３つのシリンダ６０は、図２の破線で示
すように、後述するモータ６５の雄ネジ部材６７を中心
として点対称状態で配設されている。可動盤６３の側部
には、図１に示すように、台座５に立設されたレール５
０に嵌められたボールベアリング６４が取り付けられて
おり、可動盤６３はこのレール５０に案内されて上下動
する。また、可動盤６３の中央部下側には、シリンダ６
０と協働して可動盤６３を上下動させるためのモータ６
５が設けられている。具体的には、モータ６５は台座５
の下側にボルト締め固定され、その回転軸６６の先端に
雄ネジ部材６７が連結されている。そして、雄ネジ部材
６７が、可動盤６３の中央部に取り付けられた雌ネジ部
材６８に螺入されている。
れた３つの大型のシリンダ６０でなり、各シリンダ６０
のピストンロッド６１の先端部が可動盤６３に連結され
ている。なお、３つのシリンダ６０は、図２の破線で示
すように、後述するモータ６５の雄ネジ部材６７を中心
として点対称状態で配設されている。可動盤６３の側部
には、図１に示すように、台座５に立設されたレール５
０に嵌められたボールベアリング６４が取り付けられて
おり、可動盤６３はこのレール５０に案内されて上下動
する。また、可動盤６３の中央部下側には、シリンダ６
０と協働して可動盤６３を上下動させるためのモータ６
５が設けられている。具体的には、モータ６５は台座５
の下側にボルト締め固定され、その回転軸６６の先端に
雄ネジ部材６７が連結されている。そして、雄ネジ部材
６７が、可動盤６３の中央部に取り付けられた雌ネジ部
材６８に螺入されている。
【００１４】主昇降部６がかかる構成になっていること
により、シリンダ６０内の空気圧を変化させ、ピストン
６２を上下動させてピストンロッド６１を伸縮させるこ
とができる。また、モータ６５を駆動させて、雄ネジ部
材６７を正逆いずれかに回転させると、雄ネジ部材６７
に噛合した雌ネジ部材６８が雄ネジ部材６７を昇降す
る。すなわち、３つのシリンダ６０とモータ６５との協
働作用によって、可動盤６３を上下動させることができ
る。
により、シリンダ６０内の空気圧を変化させ、ピストン
６２を上下動させてピストンロッド６１を伸縮させるこ
とができる。また、モータ６５を駆動させて、雄ネジ部
材６７を正逆いずれかに回転させると、雄ネジ部材６７
に噛合した雌ネジ部材６８が雄ネジ部材６７を昇降す
る。すなわち、３つのシリンダ６０とモータ６５との協
働作用によって、可動盤６３を上下動させることができ
る。
【００１５】副昇降部７は、可動盤６３上に載置固定さ
れた３つのエアバッグ７０と、各エアバッグ７０に接続
された３本のホース７１と、ホース７１を介してエアバ
ッグ７０内の空気を出し入れするエアポンプ７２とより
なる。これら３つのエアバッグ７０は、図２の実線で示
すように、３つのシリンダ６０の真上に点対称状態で配
設されている。各エアバッグ７０の上部には、図１に示
すように、軸７３が取り付けられており、各エアバッグ
７０の上部がこれらの軸７３を介して連結部材４に連結
されている。この連結部材４の略中央部と図１の右端部
には、それぞれ支持部材４２，４３が垂下されており、
各支持部材４２，４３に一対のベアリング部材４４が取
り付けられている。これらのベアリング部材４４は、台
座５上に立設された枠体５１に上下動自在に組み付けら
れている。具体的には、枠体５１は複数の柱体５２とこ
れら柱体５２の上に取り付けられた板体５３とで形成さ
れており、ベアリング部材４４は、柱体５２の側部に取
り付けられたレール５４に組み付けられている。図３は
ベアリング部材４４の構造を示す斜視図であり、図４は
ベアリング部材４４のレール５４への組み付け状態を示
す断面図である。図３に示すように、ベアリング部材４
４は断面コ字状をなし、その両内側面４４ａにボール収
納部４４ｂが凹設されており、複数のボール４４ｃがボ
ール収納部４４ｂ内に収納されている。一方、レール５
４の両側面には、図４に示すように、くの字状の溝５４
ａが長さ方向に刻設されており、ベアリング部材４４の
ボール４４ｃの露出部分がこの溝５４ａに当接されてい
る。
れた３つのエアバッグ７０と、各エアバッグ７０に接続
された３本のホース７１と、ホース７１を介してエアバ
ッグ７０内の空気を出し入れするエアポンプ７２とより
なる。これら３つのエアバッグ７０は、図２の実線で示
すように、３つのシリンダ６０の真上に点対称状態で配
設されている。各エアバッグ７０の上部には、図１に示
すように、軸７３が取り付けられており、各エアバッグ
７０の上部がこれらの軸７３を介して連結部材４に連結
されている。この連結部材４の略中央部と図１の右端部
には、それぞれ支持部材４２，４３が垂下されており、
各支持部材４２，４３に一対のベアリング部材４４が取
り付けられている。これらのベアリング部材４４は、台
座５上に立設された枠体５１に上下動自在に組み付けら
れている。具体的には、枠体５１は複数の柱体５２とこ
れら柱体５２の上に取り付けられた板体５３とで形成さ
れており、ベアリング部材４４は、柱体５２の側部に取
り付けられたレール５４に組み付けられている。図３は
ベアリング部材４４の構造を示す斜視図であり、図４は
ベアリング部材４４のレール５４への組み付け状態を示
す断面図である。図３に示すように、ベアリング部材４
４は断面コ字状をなし、その両内側面４４ａにボール収
納部４４ｂが凹設されており、複数のボール４４ｃがボ
ール収納部４４ｂ内に収納されている。一方、レール５
４の両側面には、図４に示すように、くの字状の溝５４
ａが長さ方向に刻設されており、ベアリング部材４４の
ボール４４ｃの露出部分がこの溝５４ａに当接されてい
る。
【００１６】副昇降部７がかかる構成になっていること
により、エアポンプ７２で３つのエアバッグ７０を膨
張，縮小することで、連結部材４がエアバッグ７０の膨
張量，縮小量に対応した距離だけ上下動すると共に、ベ
アリング部材４４がレール５４に沿ってスライドし、上
定盤２が下定盤１に対して昇降する。
により、エアポンプ７２で３つのエアバッグ７０を膨
張，縮小することで、連結部材４がエアバッグ７０の膨
張量，縮小量に対応した距離だけ上下動すると共に、ベ
アリング部材４４がレール５４に沿ってスライドし、上
定盤２が下定盤１に対して昇降する。
【００１７】次に、この実施形態の両面研磨装置が示す
動作について説明する。まず、図５に示すように、エア
ポンプ７２により空気をホース７１を介して３つのエア
バッグ７０に供給し、３つのエアバッグ７０を十分且つ
等しく膨張させておく。そして、主昇降部６の３つのシ
リンダ６０を駆動してピストンロッド６１を上方に等し
く伸ばすと共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が雄ネジ
部材６７に沿って上昇するようにモータ６５を駆動させ
る。かかる動作を所定時間行って、上定盤２を下定盤１
から遠く離れるように上昇させた後、図示しないローダ
によりワークピースＷを下定盤１まで搬送して、キャリ
ア１２の孔１２ａ（図１参照）内に収納する。
動作について説明する。まず、図５に示すように、エア
ポンプ７２により空気をホース７１を介して３つのエア
バッグ７０に供給し、３つのエアバッグ７０を十分且つ
等しく膨張させておく。そして、主昇降部６の３つのシ
リンダ６０を駆動してピストンロッド６１を上方に等し
く伸ばすと共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が雄ネジ
部材６７に沿って上昇するようにモータ６５を駆動させ
る。かかる動作を所定時間行って、上定盤２を下定盤１
から遠く離れるように上昇させた後、図示しないローダ
によりワークピースＷを下定盤１まで搬送して、キャリ
ア１２の孔１２ａ（図１参照）内に収納する。
【００１８】ワークピースＷのキャリア１２への収納が
終了した後、シリンダ６０を逆駆動させてピストンロッ
ド６１を縮めると共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が
雄ネジ部材６７に沿って下降するようにモータ６５を逆
駆動させる。これにより、上定盤２が下定盤１に向かっ
て下降するので、図６に示すように、上定盤２がワーク
ピースＷの真上近接位置まで下降した時点で、シリンダ
６０及びモータ６５の駆動を停止させ、上定盤２をワー
クピースＷの真上近接位置に維持する。
終了した後、シリンダ６０を逆駆動させてピストンロッ
ド６１を縮めると共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が
雄ネジ部材６７に沿って下降するようにモータ６５を逆
駆動させる。これにより、上定盤２が下定盤１に向かっ
て下降するので、図６に示すように、上定盤２がワーク
ピースＷの真上近接位置まで下降した時点で、シリンダ
６０及びモータ６５の駆動を停止させ、上定盤２をワー
クピースＷの真上近接位置に維持する。
【００１９】上記状態において、図７に示すように、エ
アポンプ７２によりエアバッグ７０内の空気を漏らし、
エアバッグ７０を縮小させて行くと、上定盤２がワーク
ピースＷに向かって漸次下降し、ワークピースＷに表面
に接触する。図９に示した従来の両面研磨装置では、か
かる接触作業をサブシリンダ２０２によって行うが、ピ
ストン２０４とシリンダ本体２０３との摺動摩擦抵抗の
バラツキにより、ピストン２０４がシリンダ本体２０３
内の圧力変化に対応した動きをせず、上定盤１２０が急
激にワークピースＷの上に落下する事態が生じる。とこ
ろが、この実施形態の両面研磨装置では、エアバッグ７
０の縮小による摩擦抵抗はなく、問題となるのはベアリ
ング部材４４のボール４４ｃとレール５４との摩擦だけ
である。しかしながら、ベアリング部材４４が支持部材
４２，４３と一体に下降する際には、ボール４４ｃがレ
ール５４の側面を転がる。このため、ボール４４ｃとレ
ール５４との間には摩擦抵抗がほとんど発生しない。し
たがって、上定盤２はエアバッグ７０の縮小量に対応し
て連続的に下降することとなり、エアバッグ７０の縮小
速度を小さくすることで、上定盤２をワークピースＷの
表面にソフトに接触させることができる。
アポンプ７２によりエアバッグ７０内の空気を漏らし、
エアバッグ７０を縮小させて行くと、上定盤２がワーク
ピースＷに向かって漸次下降し、ワークピースＷに表面
に接触する。図９に示した従来の両面研磨装置では、か
かる接触作業をサブシリンダ２０２によって行うが、ピ
ストン２０４とシリンダ本体２０３との摺動摩擦抵抗の
バラツキにより、ピストン２０４がシリンダ本体２０３
内の圧力変化に対応した動きをせず、上定盤１２０が急
激にワークピースＷの上に落下する事態が生じる。とこ
ろが、この実施形態の両面研磨装置では、エアバッグ７
０の縮小による摩擦抵抗はなく、問題となるのはベアリ
ング部材４４のボール４４ｃとレール５４との摩擦だけ
である。しかしながら、ベアリング部材４４が支持部材
４２，４３と一体に下降する際には、ボール４４ｃがレ
ール５４の側面を転がる。このため、ボール４４ｃとレ
ール５４との間には摩擦抵抗がほとんど発生しない。し
たがって、上定盤２はエアバッグ７０の縮小量に対応し
て連続的に下降することとなり、エアバッグ７０の縮小
速度を小さくすることで、上定盤２をワークピースＷの
表面にソフトに接触させることができる。
【００２０】そして、上定盤２をワークピースＷに接触
させた後、エアバッグ７０をさらに漸次縮小させていく
ことで、ワークピースＷに対する上定盤２の押圧力が連
続的に増加していくので、所望の押圧力値になった時点
で、エアポンプ７２を停止させる。この状態で、下定盤
１とサンギア１０とインターナルギア１１とを駆動させ
ることで、サンギア１０の周りで自公転するキャリア１
２に収納されたワークピースＷの両面が、回転する下定
盤１と上定盤２とによって所望の研磨レートで研磨され
ることとなる。
させた後、エアバッグ７０をさらに漸次縮小させていく
ことで、ワークピースＷに対する上定盤２の押圧力が連
続的に増加していくので、所望の押圧力値になった時点
で、エアポンプ７２を停止させる。この状態で、下定盤
１とサンギア１０とインターナルギア１１とを駆動させ
ることで、サンギア１０の周りで自公転するキャリア１
２に収納されたワークピースＷの両面が、回転する下定
盤１と上定盤２とによって所望の研磨レートで研磨され
ることとなる。
【００２１】このように、この実施形態の両面研磨装置
によれば、上定盤２をワークピースＷにソフトに接触さ
せることができるので、接触作業におけるワークピース
Ｗの破損を防止することができる。さらに、高精度の研
磨レートを達成することができるので、高品質のワーク
ピースＷを提供することができる。
によれば、上定盤２をワークピースＷにソフトに接触さ
せることができるので、接触作業におけるワークピース
Ｗの破損を防止することができる。さらに、高精度の研
磨レートを達成することができるので、高品質のワーク
ピースＷを提供することができる。
【００２２】（第２の実施形態）図８は、この発明の第
２の実施形態にかかる両面研磨装置を一部破断して示す
正面図である。この実施形態の両面研磨装置は、昇降機
構３を下定盤１の上方に配設した点が上記第１の実施形
態と異なる。具体的には、図８に示すように、昇降機構
３全体が逆さにされた状態で下定盤１の上方に組み付け
られている。そして、連結部材４′が軸７３を介して３
つのエアバッグ７０の下端部に連結されている。したが
って、エアバッグ７０の上端部が可動盤６３を介してシ
リンダ６０のピストンロッド６１の下端部に連結された
状態になっている。上定盤２は、連結部材４′の中央部
に取り付けられた支持部材４０′に回転自在に連結され
ている。すなわち、その軸２２が支持部材４０′に挿通
され、軸２２と支持部材４０′との間にベアリング４１
が装着されている。
２の実施形態にかかる両面研磨装置を一部破断して示す
正面図である。この実施形態の両面研磨装置は、昇降機
構３を下定盤１の上方に配設した点が上記第１の実施形
態と異なる。具体的には、図８に示すように、昇降機構
３全体が逆さにされた状態で下定盤１の上方に組み付け
られている。そして、連結部材４′が軸７３を介して３
つのエアバッグ７０の下端部に連結されている。したが
って、エアバッグ７０の上端部が可動盤６３を介してシ
リンダ６０のピストンロッド６１の下端部に連結された
状態になっている。上定盤２は、連結部材４′の中央部
に取り付けられた支持部材４０′に回転自在に連結され
ている。すなわち、その軸２２が支持部材４０′に挿通
され、軸２２と支持部材４０′との間にベアリング４１
が装着されている。
【００２３】かかる構成により、主昇降部６及び副昇降
部７を第１の実施形態のときとは逆の動作をさせること
で、第１の実施形態における上定盤２の昇降動作と同様
の動作を行うことができる。すなわち、上定盤２を下定
盤１から離れるように上昇させる場合には、エアポンプ
７２により３つのエアバッグ７０から空気を漏らしてエ
アバッグ７０を縮小させておく。そして、主昇降部６の
３つのシリンダ６０を逆駆動してピストンロッド６１を
等しく縮めると共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が雄
ネジ部材６７に沿って上昇するようにモータ６５を逆駆
動させる。また、上定盤２をワークピースＷの真上近接
位置まで下降させる場合には、シリンダ６０を駆動させ
てピストンロッド６１を伸ばすと共に、可動盤６３の雌
ネジ部材６８が雄ネジ部材６７に沿って下降するように
モータ６５を駆動させる。そして、上定盤２をワークピ
ースＷの表面にソフトに接触させる場合には、エアポン
プ７２によりエアバッグ７０内に空気を供給し、エアバ
ッグ７０を漸次膨張させる。さらに、エアバッグ７０を
漸次膨張させていくことで、ワークピースＷに対する上
定盤２の押圧力を所望の押圧力値にすることができる。
その他の構成，作用効果は上記第１の実施形態と同様で
あるので、その記載は省略する。
部７を第１の実施形態のときとは逆の動作をさせること
で、第１の実施形態における上定盤２の昇降動作と同様
の動作を行うことができる。すなわち、上定盤２を下定
盤１から離れるように上昇させる場合には、エアポンプ
７２により３つのエアバッグ７０から空気を漏らしてエ
アバッグ７０を縮小させておく。そして、主昇降部６の
３つのシリンダ６０を逆駆動してピストンロッド６１を
等しく縮めると共に、可動盤６３の雌ネジ部材６８が雄
ネジ部材６７に沿って上昇するようにモータ６５を逆駆
動させる。また、上定盤２をワークピースＷの真上近接
位置まで下降させる場合には、シリンダ６０を駆動させ
てピストンロッド６１を伸ばすと共に、可動盤６３の雌
ネジ部材６８が雄ネジ部材６７に沿って下降するように
モータ６５を駆動させる。そして、上定盤２をワークピ
ースＷの表面にソフトに接触させる場合には、エアポン
プ７２によりエアバッグ７０内に空気を供給し、エアバ
ッグ７０を漸次膨張させる。さらに、エアバッグ７０を
漸次膨張させていくことで、ワークピースＷに対する上
定盤２の押圧力を所望の押圧力値にすることができる。
その他の構成，作用効果は上記第１の実施形態と同様で
あるので、その記載は省略する。
【００２４】なお、この発明は、上記実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の
変形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、
モータ６５を設けたが、これを設けず、３つのシリンダ
６０だけで上定盤２を昇降させる構成とすることもでき
る。また、シリンダ６０及びエアバッグ７０をそれぞれ
３つ設けたが、その数に限定があるものではない。さら
に、上記実施形態では、３つのエアバッグ７０を膨張及
び縮小を空気の出し入れによって行う構成としたが、各
エアバッグ７０に予め空気を充填しておき、エアバッグ
７０内の空気を加熱冷却器によって加熱及び冷却するこ
とで、エアバッグ７０を膨張及び縮小させる構成にする
こともできる。
れるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の
変形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、
モータ６５を設けたが、これを設けず、３つのシリンダ
６０だけで上定盤２を昇降させる構成とすることもでき
る。また、シリンダ６０及びエアバッグ７０をそれぞれ
３つ設けたが、その数に限定があるものではない。さら
に、上記実施形態では、３つのエアバッグ７０を膨張及
び縮小を空気の出し入れによって行う構成としたが、各
エアバッグ７０に予め空気を充填しておき、エアバッグ
７０内の空気を加熱冷却器によって加熱及び冷却するこ
とで、エアバッグ７０を膨張及び縮小させる構成にする
こともできる。
【００２５】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、この発明の
両面研磨装置によれば、昇降機構の主昇降部により、上
定盤を下定盤上のワークピースの近傍まで下降させた
後、昇降機構の副昇降部により、上定盤をワークピース
に向けて連続的に下降させることができるので、大重量
の上定盤でもワークピースにソフトに接触させることが
でき、上定盤の接触時におけるワークピースの破損を防
止することができるという優れた効果がある。また、接
触後に、昇降機構の副昇降部を用いてワークピースへの
上定盤の押圧力を連続的に増加させることができるの
で、ワークピースへの押圧力を所望値に設定することが
でき、この結果、各バッチにおいて高精度の研磨レート
を得ることができる。
両面研磨装置によれば、昇降機構の主昇降部により、上
定盤を下定盤上のワークピースの近傍まで下降させた
後、昇降機構の副昇降部により、上定盤をワークピース
に向けて連続的に下降させることができるので、大重量
の上定盤でもワークピースにソフトに接触させることが
でき、上定盤の接触時におけるワークピースの破損を防
止することができるという優れた効果がある。また、接
触後に、昇降機構の副昇降部を用いてワークピースへの
上定盤の押圧力を連続的に増加させることができるの
で、ワークピースへの押圧力を所望値に設定することが
でき、この結果、各バッチにおいて高精度の研磨レート
を得ることができる。
【図１】この発明の第１の実施形態にかかる両面研磨装
置を一部破断して示す正面図である。
置を一部破断して示す正面図である。
【図２】図１の矢視Ａ―Ａ断面図である。
【図３】ベアリング部材の構造を示す斜視図である。
【図４】ベアリング部材のレールへの組み付け状態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図５】上定盤の上昇状態を示す概略正面図である。
【図６】上定盤をワークピースの真上近接位置まで下降
させた状態を示す概略正面図である。
させた状態を示す概略正面図である。
【図７】上定盤をワークピースに接触した状態を示す概
略正面図である。
略正面図である。
【図８】この発明の第２の実施形態にかかる両面研磨装
置を一部破断して示す正面図である。
置を一部破断して示す正面図である。
【図９】従来例に係る両面研磨装置を示す断面図であ
る。
る。
１…下定盤、 ２…上定盤、 ３…昇降機構、 ４…連
結部材、 ６…主昇降部、 ７…副昇降部、 ６０…シ
リンダ、 ６１…ピストンロッド、 ７０…エアバッ
グ、 ７１…ホース、 ７２…エアポンプ、 Ｗ…ワー
クピース。
結部材、 ６…主昇降部、 ７…副昇降部、 ６０…シ
リンダ、 ６１…ピストンロッド、 ７０…エアバッ
グ、 ７１…ホース、 ７２…エアポンプ、 Ｗ…ワー
クピース。
Claims (5)
- 【請求項１】 回転可能な下定盤と、この下定盤の上方
に昇降自在に配された上定盤と、この上定盤を上記下定
盤に対して昇降させる昇降機構とを具備する両面研磨装
置において、 上記昇降機構は、 一方端部が上記上定盤の上部に連結された袋体内の流体
を増加，減少させ又は加熱，冷却することで、上記袋体
を膨張，縮小させる副昇降部と、 上記袋体の他方端部に連結されたピストンロッドをシリ
ンダ内圧力の調整で上下動させる主昇降部とを有するこ
とを特徴とする両面研磨装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の両面研磨装置におい
て、 上記昇降機構の副昇降部を、 一方端部が上記上定盤の上部に連結され且つ他方端部が
上記主昇降部のピストンロッドに連結された上記袋体と
してのエアバッグと、 上記エアバッグに接続されたホースと、 上記ホースを介して上記エアバッグ内の空気を出し入れ
するエアポンプとで構成したことを特徴とする両面研磨
装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載の両面研磨装置におい
て、 上記昇降機構の副昇降部を、 一方端部が上記上定盤の上部に連結され且つ他方端部が
上記主昇降部のピストンロッドに連結された上記袋体と
してのエアバッグと、 上記エアバッグ内の空気を加熱及び冷却可能な加熱冷却
器とで構成したことを特徴とする両面研磨装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
載の両面研磨装置において、 上記上定盤に、その上部から側方に延出した連結部材を
設け、 上記副昇降部の袋体の上端部を上記連結部材に連結し、 上記主昇降部のピストンロッドを上記袋体の下端部に連
結した、 ことを特徴とする両面研磨装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
載の両面研磨装置において、 上記副昇降部の袋体の下端部を上記上定盤の上部に連結
し、 上記袋体の上端部を上記主昇降部のピストンロッドに連
結した、 ことを特徴とする両面研磨装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17492698A JP2000006005A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 両面研磨装置 |
| EP99110960A EP0967048A1 (en) | 1998-06-22 | 1999-06-08 | Two-sided flattening apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17492698A JP2000006005A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 両面研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000006005A true JP2000006005A (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=15987142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17492698A Pending JP2000006005A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 両面研磨装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0967048A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000006005A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111940243A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-11-17 | 蒙特费罗(湖州)电梯部件有限公司 | 一种电梯轿厢生产用防腐处理装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11801580B1 (en) | 2019-12-16 | 2023-10-31 | Arc Specialties, Inc. | Dual airbag compliance device for ball and seat lapping |
| CN112171392A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-05 | 广东鼎泰机器人科技有限公司 | 一种带有压持结构的多方位刀具磨削机构 |
| CN116372695B (zh) * | 2023-04-04 | 2023-09-29 | 江苏盛安传动股份公司 | 一种齿轮加工用齿轮端面磨平装置 |
| CN117086774B (zh) * | 2023-10-19 | 2024-01-05 | 新乡市斯凯夫机械有限公司 | 一种陶瓷件专用研磨机及研磨工艺 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2950881C2 (de) * | 1979-12-18 | 1983-06-01 | Fa. Peter Wolters, 2370 Rendsburg | Steuereinrichtung für den Bearbeitungsdruck an Läpp-, Hon- und Schleißmaschinen |
| IT1244131B (it) * | 1990-10-17 | 1994-07-08 | Melchiorre Off Mecc | Metodo e dispositivo per il controllo continuo della spinta applicata sui pezzi in lavorazione in una macchina lappatrice a doppio plateau. |
| US5681215A (en) * | 1995-10-27 | 1997-10-28 | Applied Materials, Inc. | Carrier head design for a chemical mechanical polishing apparatus |
| US6024630A (en) * | 1995-06-09 | 2000-02-15 | Applied Materials, Inc. | Fluid-pressure regulated wafer polishing head |
| DE19651761A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-18 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zum Polieren von Halbleiterscheiben |
-
1998
- 1998-06-22 JP JP17492698A patent/JP2000006005A/ja active Pending
-
1999
- 1999-06-08 EP EP99110960A patent/EP0967048A1/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111940243A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-11-17 | 蒙特费罗(湖州)电梯部件有限公司 | 一种电梯轿厢生产用防腐处理装置 |
| CN111940243B (zh) * | 2020-06-30 | 2021-10-19 | 蒙特费罗(湖州)电梯部件有限公司 | 一种电梯轿厢生产用防腐处理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0967048A1 (en) | 1999-12-29 |
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