JP2000001459A - 不飽和基含有アクリレ―ト類、その誘導体及びそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コーティング、インキ、接着剤、シーラント
などの用途を含むさまざまな方面で有用な不飽和基含有
アクリレート類及びエポキシアクリレート類を提供する
こと。 【解決手段】 アクリル酸、メタクリル酸又はα−エチ
ルアクリル酸等のアクリル酸類のカルボキシル基をイソ
プレン、５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン（ＥＢＨ）、又はジペンテン（リモネン）等
の二重結合と反応させて、アクリロイル基が４級炭素に
結合した不飽和基含有アクリレート類が得られ、該不飽
和基含有アクリレート類の不飽和基をエポキシ化してエ
ポキシアクリレート類が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、４級炭素を持つ不
飽和基を含有する新規なアクリレート類及びそれをエポ
キシ化して得られる新規なエポキシアクリレート類に関
するものである。これらは、コーティング、インキ、接
着剤、シーラントなどの用途を含むさまざまな方面で有
用なものである。

【０００２】

【従来の技術】脂肪族エポキシ基や脂環式エポキシ基を
有するアクリレート類は、一般にコーティング、イン
キ、接着剤、及びシーラントなどの分野の材料として有
用な化合物である。なかでも、脂環式エポキシ基含有ア
クリレート類は、たとえば、屋外暴露に耐える特性を有
することが知られている。脂環式エポキシ基含有アクリ
レート類は、通常、その分子中の脂環式エポキシ基のオ
キシラン環の開環反応性又はアクリレートのエチレン系
不飽和基の反応性によって所定の性能を発揮するもので
ある。

【０００３】従来、脂肪族エポキシ基（通常、エポキシ
基は末端にある。）や脂環式エポキシ基を有するアクリ
レート類としては、以下のものが知られている。すなわ
ち、脂肪族エポキシ基を持つアクリレートしては、例え
ばグリシジルメタクリレートや１−メチル−グリシジル
メタクリレートなどがある。脂環式エポキシ基を持つア
クリレートとしては、サイクロマーＡ−２００およびＭ
−１００(それぞれダイセル化学工業製)の商品名である
アクリル酸（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル
およびメタクリル酸（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）メチルが挙げられる。さらに、米国特許第３５３６
６８７号には、α，β−不飽和酸のシクロヘキセニル−
アルキル及びアルキルシクロヘキセニル−アルキルアル
コールエステルならびにそれらのホモポリマー及びコポ
リマーが記載されている。ジャーナル・オブ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティー第８１巻、第３３５０ペー
ジ（１９５９年）には、アクリル酸（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）メチル及びアクリル酸（３，４−エポ
キシ−６−メチルシクロヘキシル）メチルが記載されて
いる。ドイツ国特許第１０６３８０８号（１９５９年８
月２０日）及びケミカル・アブストラクツ５５：１４９
８３eには、３，４−エポキシシクロヘキサンメタノー
ルのメタクリレート（１２個までの炭素原子を有するア
ルキル基によって、特に６位置の炭素においてメチルに
よって置換されていてもよい。）が記載されている。こ
れらの化合物は、単独で又はオレフィン系化合物ととも
に重合され、ついでエポキシ基を反応させることによっ
て硬化される。これらの化合物は、特開平１−９６１７
７号、及び特開平１−１８６８７６号公報に記載されて
いる。特開平２−１８４１０号には、シロヘキシルメタ
クリレートをメタクリル酸(３，４−エポキシシクロヘ
キシル)メチルによって硬化させることによる、消去可
能な白色板用のコーティング組成物の製造が記載されて
いる。特開昭５７−４７３６５号には、アクリル酸又は
メタクリル酸(３，４−エポキシシクロヘキシル)メチル
を含有するコポリマーが熱硬化性粉末状コーティング組
成物として有効であると記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、不飽
和基含有アクリレート類、その誘導体及びそれらの製造
方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、種々の化合
物について鋭意検討した結果、不飽和基を含有し、４級
炭素においてエステル結合したアクリレート類及びそれ
をエポキシ化して得られるエポキシアクリレート類がコ
ーティング、インキ、接着剤、及びシーラントなどの原
料として有効であることを見出し、本発明を完成するに
到った。即ち本発明の第１は、下記一般式［１］で示さ
れる不飽和基含有アクリレート類を提供する。

【化４】 本発明の第２は、下記一般式［２］で示されるエポキシ
アクリレート類を提供する。

【化５】 本発明の第３は、下記一般式［３］で示される化合物を
アクリル酸、メタクリル酸又はα−エチルアクリル酸と
反応させることを特徴とする本発明の第１に記載の一般
式［１］で示される不飽和基含有アクリレート類の製造
方法を提供する。

【化６】 本発明の第４は、一般式［３］で示される化合物がイソ
プレン、５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン、又はジペンテンであることを特徴とする本
発明の第３に記載の不飽和基含有アクリレート類の製造
方法を提供する。本発明の第５は、本発明の第１に記載
の一般式［１］で示される不飽和基含有アクリレート類
の不飽和結合をエポキシ化することを特徴とする本発明
の第２に記載の一般式［２］で示されるエポキシアクリ
レート類の製造方法を提供する。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の上記一般式［１］で示される不飽和基含有アク
リレート類は、アクリル酸類のカルボキシル基を上記一
般式［３］で表される化合物の二重結合に付加させて得
られる。アクリル酸類としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸又はα−エチルアクリル酸等が挙げられる。なお、
本発明で不飽和アクリレートという場合のアクリレート
は、アクリレート、メタクリレート、α−エチルアクリ
レート等を示す。一般式［３］で表される化合物として
は、下記式に表されるイソプレン、５−エチリデンビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ＥＢＨ）、又は
ジペンテン（リモネン）が例示される。

【０００７】

【化７】

【０００８】アクリル酸類の上記一般式［３］の化合物
に対する付加反応の方法は、溶媒の存在下又は非存在下
で、触媒の存在下で、好ましくは重合禁止剤の存在下
で、反応温度６０〜１４０℃、好ましくは、７０〜１２
０℃で反応させて得られる。反応に使用する溶媒として
は、特に制限はないが、ヘキサン、シクロヘキサン、ト
ルエン、ベンゼン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホ
ルムが好ましい。さらにグリコールエーテルやグリコー
ルアセテート類なども使用できる。反応時の触媒として
は、硫酸、パラトルエンスルホン酸などの酸触媒、３フ
ッ化ホウ素などのカチオン系のもの等、さらにはホウ酸
エステル、ルイス酸、有機金属化合物、有機酸金属塩等
も用いることができる。触媒の使用量は、アクリル酸類
と一般式［３］の化合物の合計量１００重量部に対して
０．０３〜５重量部であり、望ましくは、０．０５〜３
重量部である。

【０００９】アクリル基の重合禁止剤としては、メトキ
ノン、ハイドロキノン、フェノチアジンなどの一般に使
用されるものを用いることができる。使用量は、アクリ
ル酸類と一般式［３］の化合物の合計１００重量部に対
して０．０３〜５重量部であり、望ましくは、０．０５
〜３重量部である。

【００１０】上記のようにして得られた一般式［１］で
表される不飽和基含有アクリレート類は、過酢酸のよう
なエポキシ化剤と反応させることによって、前記一般式
［２］で示されるエポキシアクリレート類が得られる。
使用できるエポキシ化剤としては、過酸類及びハイドロ
パーオキサイド類が通常使用される。過酸類としては、
過ギ酸、過酢酸、過イソ酪酸、過安息香酸、トリフルオ
ロ過酢酸等を用いることができる。このうち特に過酢酸
は工業的に安価に入手可能で、かつ安定度も高く、好ま
しいエポキシ化剤である。ハイドロパーオキサイド類と
しては、過酸化水素、ターシャリブチルハイドロパーオ
キサイド、クメンハイドロパーオキサイド等を用いるこ
とができる。エポキシ化の際には必要に応じて触媒を用
いることができる。たとえば過酸の場合、炭酸ソーダな
どのアルカリや硫酸などの酸を触媒として用い得る。ま
た、ハイドロパーオキサイドの場合、タングステン酸と
苛性ソーダの混合物を過酸化水素と、又は有機酸を過酸
化水素と、あるいはモリブデンヘキサカルボニルをター
シャリブチルハイドロパーオキサイドと使用して触媒効
果を得ることができる。エポキシ化剤の量に厳密な制限
がなく、それぞれの場合における最適量は、使用する個
々のエポキシ化剤、所望されるエポキシ化度、使用する
個々の被エポキシ化物等のごとき可変要因によって決ま
る。

【００１１】エポキシ化反応は、装置や原料物性に応じ
て不活性溶媒使用の有無や反応温度を調節して行なう。
不活性溶媒としては、原料粘度の低下、エポキシ化剤の
希釈による安定化などの目的で使用することができ、過
酢酸の場合であれば芳香族化合物、エーテル類、エステ
ル類などを用いることができる。不活性で特に好ましい
溶媒は、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、ベンゼ
ン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホルムである。

【００１２】エポキシ化の反応温度域は用いるエポキシ
化剤の反応性によって定まる。好ましいエポキシ化剤で
ある過酢酸についていえば、０〜７０℃が好ましい。上
記温度範囲未満では反応が遅く、上記温度範囲を超える
と過酢酸の分解が顕著になる。又、ハイドロパーオキサ
イドの１例であるターシャルブチルハイドロパーオキサ
イドと触媒としてモリブデン二酸化物ジアセチルアセト
ナートを使用した系では、反応温度は２０℃〜１５０℃
が好ましい。上記温度範囲未満では反応が遅く、上記温
度範囲を超えるとターシャルブチルハイドロパーオキサ
イドの分解が顕著になる。

【００１３】不飽和結合に対するエポキシ化剤の仕込み
モル比は、１分子中に不飽和結合をどれくらい残存させ
たいかなどの目的に応じて変化させることができる。１
分子中にエポキシ基を多く含む化合物が目的の場合、エ
ポキシ化剤は不飽和基に対して等モルかそれ以上加える
ことが好ましい。ただし、経済性、及び次に述べる副反
応の問題から２倍モルを越えることは通常不利であり、
過酢酸の場合１〜１．５倍モルが好ましい。反応混合物
の特別な操作は必要なく、例えば混合物を０．５〜５時
間攪拌すればよい。得られたエポキシ化物の単離は適当
な方法、例えば貧溶媒で沈殿させる方法、エポキシ化物
を熱水中に攪拌の下で投入し溶媒を蒸留除去する方法、
直接脱溶媒法などで行うことができる。

【００１４】本発明の一般式［１］で表される不飽和基
含有アクリレート類は、例えば反応性溶媒として用いる
ことができる。また、本発明の不飽和基含有アクリレー
ト類は、低圧下で水素と反応させることにより不飽和基
を含有しないエステル化合物を、又はカルボニル基も水
素化することによりエーテル化合物を製造することもで
きる。得られたエステル化合物やエーテル化合物は不活
性溶媒として使用できる。さらに、本発明の不飽和基含
有アクリレート類は、不飽和基にハロゲンを反応させた
り、ハロゲンと置換反応させることによって、ハロゲン
含有化合物を製造することができる。得られたハロゲン
含有化合物は、難燃性添加剤として種々のポリマーに添
加したり、他の化合物と併用することが可能である。

【００１５】本発明の一般式［１］で表される不飽和基
含有アクリレート類及び一般式［２］で表されるエポキ
シアクリレート類等の誘導体は、単独重合、他のビニル
基含有化合物との共重合、又はさらに他の化合物と反応
させることによってコーティング剤、インキ、接着剤、
シーラント等のさまざまな用途や、成形品等に使用可能
である。上記用途の一具体例としては、家具コーティン
グ、装飾コーティング、自動車下塗り、シーラー及び仕
上げ塗り、自動車ロッカーパネルコーティング、飲料等
の缶コーティング及び缶縁コーティング、文字情報又は
画像情報用のインキ、電子部品用のシーラント、立体平
板印刷材料、印刷版又は印刷回路版を開発するのに適し
たフォトレジスト、注型印刷ロール等が挙げられる。上
記エポキシアクリレート類を使用して得られるコーティ
ング、インキ、接着剤、シーラントなどは耐熱性、透明
性、良好な誘電特性を持つ。上記用途の他の具体例とし
ては、不飽和ポリエステル及びスチレンを主体とするも
のに添加して、ガラス、炭素、グラファイト又は、他の
繊維によって強化された成形配合物又はシート形成配合
物によって作られた成形品等が挙げられる。上記用途の
他の具体例としては、化合物として、酸除去剤、溶媒、
難燃剤などが挙げられる。

【００１６】

【実施例】以下の実施例は、本発明を例示するためのも
のであり、その範囲を何ら限定するものではない。例中
の「部」及び「％」は、それぞれ「重量部」及び「重量％」
を表わす。

【００１７】（実施例１）冷却管を備えた容積１リット
ルのジャケット付フラスコにアクリル酸１４４g、パラ
トルエンスルホン酸１．３６ｇ、メトキノン１．３６
ｇ、溶媒としてトルエン２７５ｇを仕込んだ。液中に空
気を吹き込みながら、反応系内の温度を９０℃にしてか
らイソプレン１００ｇを約１時間かけて液中に吹込ん
だ。吹込終了後、系内の温度を１００℃としてさらに２
時間反応させた。この反応液を水洗して、不飽和アクリ
レート（Ａ）のトルエン溶液４８０ｇを得た。トルエン
溶液の一部を採取し、トルエンを留去して得られた生成
物の¹Ｈ−ＮＭＲ測定から、イソプレンのメチル基の置
換した二重結合のプロトンのδ４．８ｐｐｍのピークが
確認されなくなったことから所定の位置に反応して４級
炭素が生じていることを確認した。生成物のＩＲスペク
トルより３，０００ｃｍ^-1付近のＯＨによる吸収が無く
なり、１，７２０ｃｍ^-1付近にエステル結合による吸収
が生じた。また、トルエン溶液のＧＣ−ＭＳよりＭ／ｅ
１４０のピークが面積％で４１％であり、残りはトルエ
ンであることから不飽和アクリレート（Ａ）の生成が確
認された。上記で得た不飽和アクリレート（Ａ）のトル
エン溶液３２０ｇを使用して、反応系内の温度を５０℃
に保ちながら、約２時間かけて過酢酸３００．４ｇ（過
酢酸濃度：２９．１％）を滴下した。過酢酸滴下終了
後、５０℃で３Ｈｒ熟成し反応を終了した。さらに５０
℃で反応粗液を水洗し、７０℃／１０ｍｍＨｇで低沸分
を留去し、エポキシアクリレート（Ｂ）１２４．８ｇを
得た。得られた製品の性状は、オキシラン酸素濃度９．
８３％、粘度４６ｃＰ／２５℃であり、¹Ｈ−ＮＭＲか
らδ４．５〜５付近の二重結合に由来するピークが消失
し、δ２．９〜３．３付近にエポキシ基に由来するプロ
トンのピークの生成が確認されたことによりエポキシア
クリレート（Ｂ）の生成を確認した。

【００１８】（実施例２）実施例１で使用したものと同
様のフラスコにアクリル酸１２４g、パラトルエンスル
ホン酸１．３ｇ、メトキノン１．３ｇ、溶媒としてトル
エン２００ｇを仕込んだ。液中に空気を吹き込みなが
ら、反応系内の温度を９０℃にしてから５−エチリデン
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ＥＢＨ）２
００ｇを約２時間かけて滴下した。滴下終了後、系内の
温度を１００℃として、さらに２時間反応させた。この
反応液を水洗して、不飽和アクリレート（Ｃ）のトルエ
ン溶液４３７．４ｇを得た。トルエン溶液の一部を採取
し、トルエンを留去して得られた生成物の¹Ｈ−ＮＭＲ
より、δ６ｐｐｍ付近の５−エチリデン基の二重結合の
プロトンに由来するピークがほぼ消失していること、及
び２，３−不飽和基のプロトンは残存することから所定
の位置に反応して４級炭素が生じていることを確認し
た。生成物のＩＲスペクトルよりエステル結合が生成し
ていることを確認した。また、トルエン溶液のＧＣ−Ｍ
ＳよりＭ／ｅ１９２のピークの面積％が５７％であり、
残りはトルエンであることより不飽和アクリレート
（Ｃ）の生成の確認を行った。上記で得た不飽和アクリ
レート（Ｃ）のトルエン溶液３１７ｇを使用して、反応
系内の温度を５０℃に保ちながら、約２時間かけて過酢
酸３１３．４ｇ（過酢酸濃度：２９．１％）を滴下し
た。過酢酸滴下終了後、５０℃で３Ｈｒ熟成し反応を終
了した。さらに５０℃で粗液を水洗し、７０℃／１０ｍ
ｍＨｇで低沸分を留去し、脂環骨格を持ったエポキシア
クリレート（Ｄ）を得た。得られた製品の性状は、オキ
シラン酸素濃度８．０１％、粘度８８ｃＰ／２５℃であ
り、¹Ｈ−ＮＭＲからδ４．５〜５ｐｐｍ付近の二重結
合に由来するピークが消失し、δ２．９〜３．３付近に
エポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認さ
れたことによりエポキシアクリレート（Ｄ）の生成を確
認した。

【００１９】（実施例３）実施例１で使用したものと同
じフラスコにジペンテン１３６ｇ、硫酸１．２５ｇ、メ
トキノン１．２５ｇ、溶媒としてトルエンを２５０ｇ仕
込んだ。液中に空気を吹き込みながら、反応系内の温度
を８０℃にしてからアクリル酸１１４ｇを約１時間かけ
て滴下した。滴下終了後、系内の温度を１００℃としさ
らに反応させた。ＧＣにより系内のアクリル酸が０．２
％になった時点で反応を終了とした。この反応液をイオ
ン交換水５００ｇで洗浄した後、７０℃／１０ｍｍＨｇ
で低沸分を留去し、不飽和アクリレート（Ｅ）を２５１
ｇ得た。得られた生成物の¹Ｈ−ＮＭＲより５〜６ｐｐ
ｍ付近の二重結合のピークが減少したこと、ビニリデン
基のメチレン基の代りにメチルに由来するピークが生じ
ていること、及び環内二重結合のプロトンは残存するこ
とから環外二重結合の位置に反応して４級炭素が生じて
いることを確認した。生成物のＩＲスペクトルよりエス
テル結合が生成していることを確認した。また、ＧＣ−
ＭＳによりＭ／ｅ２０８のピークが８７％であることよ
り不飽和アクリレート（Ｅ）の生成の確認を行った。こ
の反応物１００ｇと酢酸エチル５０ｇを仕込み、窒素ガ
スを吹き込みながら、反応系内の温度を５０℃になるよ
うに約１時間かけて過酢酸１２３．７ｇ（過酢酸濃度；
２９．１％）を滴下した。過酢酸滴下終了後、５０℃で
４Ｈｒ熟成して反応を終了した。さらに５０℃で粗液を
水洗し、７０℃／１０ｍｍＨｇで低沸分を留去し、脂環
骨格を持ったエポキシアクリレート（Ｆ）を得た。得ら
れた製品の性状は、オキシラン酸素濃度６．７９％であ
り、¹Ｈ−ＮＭＲからδ４．５〜５．５付近の二重結合
に由来するピークが消失し、δ２．９〜３．３付近にエ
ポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認され
た。

【００２０】（実施例４）実施例１で使用したものと同
じフラスコにメタクリル酸１３６ｇ、パラトルエンスル
ホン酸触媒１．２５ｇ、メトキノン１．２５ｇを仕込ん
だ。液中に空気を吹き込みながら、反応系内の温度を１
００℃にしてからイソプレン１１４ｇを吹込んだ。系内
の温度を１００℃としてさらに反応させた。ＧＣにより
系内のメタクリル酸が０．６％になった時点で反応を終
了し、不飽和アクリレート（Ｇ）を２５１ｇ得た。得ら
れた生成物の¹Ｈ−ＮＭＲより、イソプレンのメチル基
の置換した二重結合のプロトンのδ４．８ｐｐｍのピー
クが確認されなくなったこと、代りにメチル基が生じて
いること、及びビニリデン基のプロトンは残存すること
から所定の位置に反応して４級炭素が生じていることを
確認した。生成物のＩＲスペクトルよりエステル結合が
生成していることを確認した。また、ＧＣ−ＭＳにより
Ｍ／ｅ１５４の面積％が８８％であることより不飽和メ
タクリレート（Ｇ）の生成が確認された。この反応物１
００ｇと酢酸エチル５０ｇを仕込み、窒素ガスを吹き込
みながら、反応系内の温度を５０℃になるように約１時
間かけて過酢酸１２３．７ｇ（過酢酸濃度；２９．１
％）滴下した。過酢酸滴下終了後、５０℃で４Ｈｒ熟成
し反応を終了した。さらに５０℃で粗液を水洗し、７０
℃／１０ｍｍＨｇで脱低沸を行い、エポキシメタクリレ
ート（Ｈ）を得た。得られた製品の性状は、オキシラン
酸素濃度５．７７％であり、¹Ｈ−ＮＭＲからδ４．５
〜５付近の二重結合に由来するピークが消失し、δ２．
９〜３．３付近にエポキシ基に由来するプロトンのピー
クの生成が確認された。

【００２１】（実施例５）実施例１で使用したものと同
じフラスコに実施例で使用したＥＢＨ１３６ｇ、パラト
ルエンスルホン酸触媒１．２５ｇ，メトキノン１．２５
ｇを仕込んだ。液中に空気を吹き込みながら、反応系内
の温度を９０℃にしてからメタクリル酸１１４ｇを約１
時間かけて滴下した。滴下終了後、系内の温度を１００
℃としさらに反応させた。ＧＣにより系内のメタクリル
酸が０．２％になった時点で反応を終了とした。不飽和
アクリレート（Ｉ）を２５１ｇ得た。得られた生成物の
¹Ｈ−ＮＭＲより、δ５．４ｐｐｍ付近の５−エチリデ
ン基の二重結合に由来するピークがほぼ消失しているこ
と、代りにエチル基に由来するピークが生じているこ
と、及び２，３−二重結合のプロトンは残存することか
ら所定の位置に反応して４級炭素が生じていることを確
認した。生成物のＩＲスペクトルよりエステル結合が生
成していることを確認した。また、ＧＣ−ＭＳよりＭｗ
２０６付近のピークの面積％が８８％であることより不
飽和メタクリレート（Ｉ）の生成の確認を行った。この
反応物１００ｇと酢酸エチル５０ｇを仕込み、窒素ガス
を吹き込みながら、反応系内の温度を５０℃になるよう
に約１時間かけて過酢酸（過酢酸濃度；２９．１％）を
滴下した。過酢酸滴下終了後、５０℃で４Ｈｒ熟成し反
応を終了した。さらに５０℃で粗液を水洗し、７０℃／
１０ｍｍＨｇで脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキ
シメタクリレート（Ｊ）を得た。得られた製品の性状
は、オキシラン酸素濃度５．７７％であり、¹Ｈ−ＮＭ
Ｒからδ４．５〜５付近の二重結合に由来するピークが
消失し、δ２．９〜３．３付近にエポキシ基に由来する
プロトンのピークの生成が確認された。

【００２２】

【発明の効果】本発明により、コーティング、インキ、
接着剤、シーラントなどの用途を含むさまざまな方面で
有用な新規な不飽和基含有アクリレート類及びエポキシ
アクリレート類が提供される。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式［１］で示される不飽和基含
   有アクリレート類。 【化１】
2. 【請求項２】 下記一般式［２］で示されるエポキシア
   クリレート類。 【化２】
3. 【請求項３】 下記一般式［３］で示される化合物をア
   クリル酸、メタクリル酸又はα−エチルアクリル酸と反
   応させることを特徴とする請求項１に記載の一般式
   ［１］で示される不飽和基含有アクリレート類の製造方
   法。 【化３】
4. 【請求項４】 一般式［３］で示される化合物がイソプ
   レン、５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−
   ２−エン、又はジペンテンであることを特徴とする請求
   項３に記載の不飽和基含有アクリレート類の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の一般式［１］で示され
   る不飽和基含有アクリレート類の不飽和結合をエポキシ
   化することを特徴とする請求項２に記載の一般式［２］
   で示されるエポキシアクリレート類の製造方法。