IN187131B - - Google Patents

Info

Publication number
IN187131B
IN187131B IN165CA1996A IN187131B IN 187131 B IN187131 B IN 187131B IN 165CA1996 A IN165CA1996 A IN 165CA1996A IN 187131 B IN187131 B IN 187131B
Authority
IN
India
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Krautschneider
Lothar Risch
Franz Hofmann
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of IN187131B publication Critical patent/IN187131B/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00Read-only memory [ROM] devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00Read-only memory [ROM] devices
    • H10B20/27ROM only
    • H10B20/30ROM only having the source region and the drain region on the same level, e.g. lateral transistors
    • H10B20/38Doping programmed, e.g. mask ROM
    • H10B20/383Channel doping programmed
IN165CA1996 1995-03-20 1996-01-31 IN187131B (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19510042A DE19510042C2 (de) 1995-03-20 1995-03-20 Festwert-Speicherzellenanordnung und Verfahren zu deren Herstellung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
IN187131B true IN187131B (fr) 2002-02-09

Family

ID=7757156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
IN165CA1996 IN187131B (fr) 1995-03-20 1996-01-31

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5920099A (fr)
EP (1) EP0815594B1 (fr)
JP (1) JPH11502370A (fr)
KR (1) KR19980703121A (fr)
CN (1) CN1079994C (fr)
AR (1) AR001255A1 (fr)
DE (2) DE19510042C2 (fr)
IN (1) IN187131B (fr)
WO (1) WO1996029739A1 (fr)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19545903C2 (de) * 1995-12-08 1997-09-18 Siemens Ag Festwertspeicherzellenanordnung und Verfahren zu deren Herstellung
DE19630050B4 (de) * 1996-07-25 2005-03-10 Infineon Technologies Ag Herstellverfahren für eine Lackmaske auf einem Substrat mit einem Graben
DE19640235C2 (de) 1996-09-30 2001-10-25 Infineon Technologies Ag Halbleiter-Festwertspeicher mit in Grabenseitenwänden vertikal verlaufenden Transistoren und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19652547C2 (de) 1996-12-17 2002-04-25 Infineon Technologies Ag Speicherzellenanordnung mit Grabenstruktur und einem Gatedielektrikum, das ein Material mit Ladungsträger-Haftstellen enthält, und Verfahren zu deren Herstellung
KR19980084469A (ko) * 1997-05-23 1998-12-05 문정환 마스크 롬 및 그의 제조방법
DE19742397C2 (de) * 1997-09-25 2000-07-06 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur mit einer Mehrzahl von Gräben
TW406419B (en) * 1998-01-15 2000-09-21 Siemens Ag Memory-cells arrangement and its production method
DE19805712A1 (de) 1998-02-12 1999-08-26 Siemens Ag Speicherzellenanordnung und entsprechendes Herstellungsverfahren
DE19807776A1 (de) * 1998-02-24 1999-09-02 Siemens Ag Halbleitervorrichtung und entsprechendes Herstellungsverfahren
DE19807920A1 (de) * 1998-02-25 1999-09-02 Siemens Ag Speicherzellenanordnung und entsprechendes Herstellungsverfahren
CN1165999C (zh) 1998-03-24 2004-09-08 因芬尼昂技术股份公司 存储器单元装置及其制造方法
DE19843979C1 (de) * 1998-09-24 2000-03-02 Siemens Ag Speicherzellenanordnung mit ferroelektrischem oder dynamischen Speicherzellen und entsprechendes Herstellungsverfahren

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04226071A (ja) * 1990-05-16 1992-08-14 Ricoh Co Ltd 半導体メモリ装置
JPH04354159A (ja) * 1991-05-31 1992-12-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JPH05102436A (ja) * 1991-10-09 1993-04-23 Ricoh Co Ltd 半導体メモリ装置とその製造方法
JPH05110036A (ja) * 1991-10-18 1993-04-30 Ricoh Co Ltd 半導体メモリ装置とその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
AR001255A1 (es) 1997-09-24
DE19510042A1 (de) 1996-09-26
WO1996029739A1 (fr) 1996-09-26
CN1079994C (zh) 2002-02-27
DE59602872D1 (de) 1999-09-30
US5920099A (en) 1999-07-06
EP0815594A1 (fr) 1998-01-07
JPH11502370A (ja) 1999-02-23
CN1179234A (zh) 1998-04-15
DE19510042C2 (de) 1997-01-23
EP0815594B1 (fr) 1999-08-25
KR19980703121A (ko) 1998-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69638352D1 (fr)
DE69637714D1 (fr)
BR122012014331A2 (fr)
BRPI9612258B1 (fr)
BRPI9612138B1 (fr)
IN188012B (fr)
IN187267B (fr)
DK143195A (fr)
ECSDI950232S (fr)
IN187131B (fr)
EP0779652A3 (fr)
CH0741373H1 (fr)
IN188604B (fr)
DK0727898T3 (fr)
ECSDI950233S (fr)
IN181876B (fr)
IN183312B (fr)
BR7502120U (fr)
IN183561B (fr)
IN180420B (fr)
IN177930B (fr)
IN184027B (fr)
AU1627395A (fr)
IN187891B (fr)
IN184624B (fr)