IL306035A - מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס - Google Patents

מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס

Info

Publication number
IL306035A
IL306035A IL306035A IL30603523A IL306035A IL 306035 A IL306035 A IL 306035A IL 306035 A IL306035 A IL 306035A IL 30603523 A IL30603523 A IL 30603523A IL 306035 A IL306035 A IL 306035A
Authority
IL
Israel
Prior art keywords
sample
inspection
ray sources
ray
inspection system
Prior art date
Application number
IL306035A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Rigaku Semiconductor Instr Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Semiconductor Instr Ltd filed Critical Rigaku Semiconductor Instr Ltd
Priority to IL306035A priority Critical patent/IL306035A/he
Priority to JP2024159858A priority patent/JP7839839B2/ja
Priority to TW113135336A priority patent/TWI905947B/zh
Priority to EP24200988.4A priority patent/EP4524558A1/en
Priority to KR1020240126489A priority patent/KR20250041602A/ko
Publication of IL306035A publication Critical patent/IL306035A/he

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
IL306035A 2023-09-18 2023-09-18 מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס IL306035A (he)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL306035A IL306035A (he) 2023-09-18 2023-09-18 מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס
JP2024159858A JP7839839B2 (ja) 2023-09-18 2024-09-17 デュアルソースx線検査システムおよび方法
TW113135336A TWI905947B (zh) 2023-09-18 2024-09-18 雙源x射線檢驗系統及方法
EP24200988.4A EP4524558A1 (en) 2023-09-18 2024-09-18 Dual source x-ray inspection system and method
KR1020240126489A KR20250041602A (ko) 2023-09-18 2024-09-19 듀얼 소스 x-선 검사 시스템 및 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL306035A IL306035A (he) 2023-09-18 2023-09-18 מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס

Publications (1)

Publication Number Publication Date
IL306035A true IL306035A (he) 2025-04-01

Family

ID=95250164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
IL306035A IL306035A (he) 2023-09-18 2023-09-18 מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס

Country Status (2)

Country Link
IL (1) IL306035A (he)
TW (1) TWI905947B (he)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2180439C2 (ru) * 2000-02-11 2002-03-10 Кумахов Мурадин Абубекирович Способ получения изображения внутренней структуры объекта с использованием рентгеновского излучения и устройство для его осуществления
US9606073B2 (en) * 2014-06-22 2017-03-28 Bruker Jv Israel Ltd. X-ray scatterometry apparatus
EP3658033A4 (en) * 2017-07-26 2021-02-24 Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. SYSTEM WITH A SPATIAL EXTENSION X-RAY SOURCE FOR X-RAY IMAGING
CN114486971A (zh) * 2022-01-25 2022-05-13 深圳市埃芯半导体科技有限公司 多源设计的x射线分析系统和方法
CN115791862B (zh) * 2022-12-22 2024-03-26 南开大学 一种晶圆表面量测设备、检测方法及应用

Also Published As

Publication number Publication date
TWI905947B (zh) 2025-11-21
TW202519858A (zh) 2025-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5722861B2 (ja) 検査方法及び検査装置
CN102004113B (zh) X线分析装置以及x线分析方法
US7600916B2 (en) Target alignment for X-ray scattering measurements
JP2005525580A (ja) 一時的痕跡を使用するエミッション・コンピューテッド・トモグラフィのための方法と装置
US8548121B2 (en) X-ray analyzer
US10697908B2 (en) Metrology inspection apparatus
KR101387844B1 (ko) X선 분석 장치 및 x선 분석 방법
US12050187B1 (en) Dual source X-ray inspection system and method
EP4524558A1 (en) Dual source x-ray inspection system and method
IL306035A (he) מערכת ושיטה לבדיקה עם שני מקורות גלי איקס
JP7839839B2 (ja) デュアルソースx線検査システムおよび方法
KR20250041602A (ko) 듀얼 소스 x-선 검사 시스템 및 방법
JP7765525B2 (ja) デュアルヘッドx線検査システム
US10697907B2 (en) Metrology measuring apparatus
JP4349146B2 (ja) X線分析装置
KR20150102682A (ko) X-선 형광을 이용한 측정 대상의 측정 방법
JP2023061041A (ja) 蛍光x線分析装置および蛍光x線分析方法
JPH1114566A (ja) X線回折測定及び蛍光x線測定のためのx線装置
CN119833433B (zh) 单晶半导体晶圆测量系统及方法
JP2006189281A (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
JP2008286735A (ja) 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構
WO2021112079A1 (ja) 蛍光x線分析装置
JPH08304308A (ja) X線試験・検査装置
JPH08145647A (ja) 形状測定器
JPH07318518A (ja) 全反射蛍光x線分析方法及びその装置