HUT67512A - Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating - Google Patents

Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating Download PDF

Info

Publication number
HUT67512A
HUT67512A HU9301767A HU9301767A HUT67512A HU T67512 A HUT67512 A HU T67512A HU 9301767 A HU9301767 A HU 9301767A HU 9301767 A HU9301767 A HU 9301767A HU T67512 A HUT67512 A HU T67512A
Authority
HU
Hungary
Prior art keywords
medium refractive
oxide
refractive index
mixed
vacuum
Prior art date
Application number
HU9301767A
Other languages
English (en)
Other versions
HU9301767D0 (en
Inventor
Martin Friz
Original Assignee
Merck Patent Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent Gmbh filed Critical Merck Patent Gmbh
Publication of HU9301767D0 publication Critical patent/HU9301767D0/hu
Publication of HUT67512A publication Critical patent/HUT67512A/hu

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/44—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F17/00—Compounds of rare earth metals
    • C01F17/30—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6
    • C01F17/32—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6 oxide or hydroxide being the only anion, e.g. NaCeO2 or MgxCayEuO
    • C01F17/34—Aluminates, e.g. YAlO3 or Y3-xGdxAl5O12
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

A találmány vegyes oxidokra vonatkozik, amelyekkel közepes törésmutatójú optikai rétegek alakíthatók ki gőzölögtetés utján.
Sok műszaki területen, különösen az optikában használnak vékony oxidrétegeket, védőbevonatként vagy optikai célokra, például korrózió és mechanikai károsodás elleni védelemként vagy optikai alkatrészek és eszközek, főleg lencsék, tükrök, prizmák stb. felületének nemesítésére. Vékony oxidrétegek továbbá nagy, közepes, illetve alacsony törésmutatójú optikai rétegek kialakítására is szükségesek, mely rétegekkel a fényvisszaverődést csökkentik vagy fokozzák. Ilyen alkalmazási területek főleg antireflex (tükröződésmentes) , ill. nemesítő rétegek szemüveglencséken vagy fényképezőgépek objektivának, távcsövek, optikai műszerek, lézerek optikai alkatrészeinek felületén. Meghatározott törésamutatójú és/vagy abszorpciójú rétegek előállítására, például interferencia-tükrök, sugárosztók, hőszűrők, hidegfény-tükrök gyártásához szükség van.
Az ilyen oxidrétegek kiindulási anyagai önmagukban ismertek. Szokásosan szilicium-dioxidot, valamint fémoxidok egész sorát alkalmazzák, adott esetben kombináltan is. A kiválasztás lényegében empirikus módon történik, a kívánt optikai tulajdonságok és a feldolgozhatóság alapján. A rétegek előállítása az ismert vákuumos gőzölögtetéssel történik, amelyet például a 12 28 489 sz. német szabadalmi leírás ismertet. További irodalom: Thin Film Optical Filters” A. Hilger Ltd., Bristol 1986. Az említett irodalom tájékoztf tf ·· ···· tf · · · · • · · · · · • · · · ·
- 3 tatást nyújt az alkalmazható anyagok, a technika, az esetleges problémák vonatkozásában.
A közepes törésmutatójú rétegek (1,6 és 1,9 között) előállítására rendelkezésre álló, alapvetően alkalmas kiindulási anyagok köre korlátozott. Lényegében az alumínium, magnézium, yttrium, lantán, prazeodim oxidjai, továbbá cérium-fluorid és lantán-fluorid, valamint a felsoroltakból álló kombinált rendszerek jöhetnek számításba. A közepesen fénytörő rétegek előnyben részesített kiindulási anyaga az alumínium-oxid.
Az elvilag alkalmas anyagoknak azonban számos hátránya van, amelyek főleg a feldolgozhatóság területén jelentkeznek.
így például az alkalmas anyagoknak igen magas az olvadás-, illetve forráspontja,ráadásul e kettő eléggé közel esik egymáshoz. Gyakorlati követelmény viszont az, hogy a gőzölögtetés előtt az anyag teljesen elolvadjon, mert csak így biztosítható az egyenletes és elegendő gőzfejlődés. Az utóbbira azért van szükség, hogy a gőzölögtetett tárgyakon homogén és azonos vastagságú réteg alakuljon ki. Magnéziumés yttrium-oxid esetében ez a feltétel a gyakorlati alkalmazási körülmények között nincs meg, mert ez a két anyag a szokásos munkakörülmények között nem, illetve csak részben olvad. Elgőzölögtetésük nehéz, és a kapott réteg vastagsága változó.
Magnézium-oxid porózus rétegeket eredményez, amelyek könnyen vesznek fel nedvességet; ilyen réteg nem stabil. A • · · • · · ♦ · ·*· · · * • · · · · «· ·· ··
- 4 lantán-oxidra ugyanez áll. Cérium-fluorid és lantán-fluorid inhomogén rétegeket képez, mely rétegek keménysége és tartóssága nem kielégítő.
A fentiekből következtethetően igyekvések voltak, hogy alkalmas adalékok adagolásával csökkentsék az alapanyagok olvadáspontját. Az adalékok a kapott réteg törésmutatójának beállítását is szolgálják.
Tekintettel arra, hogy az adalékkal szemben támasztott követelmények között az abszorpció hiánya is szerepel, azaz az adalék nem nyelhet el fényt, az alkalmas anyagok választéka elég csekély; adalékként csak olyan fémoxid jöhet számításba, amely a fény közeli infravörös és a látható tartományától a közeli UV-hullámhosszig (kb. 200 nm-ig) nem abszorbeál.
Titán-dioxid, prazeodim-oxid és neodim-oxid a fenti oknál fogva nem alkalmas.
Bár a fenti problémák az adalékok alkalmas megválasztásával, illetve megfelelő anyagkeverékek megválasztásával megoldhatók, a vákuumos felgőzölögtetési technikában elvileg nem előnyös a kevert rendszerek alkalmazása, mégpedig azért nem, mert a kombinált rendszerek rendszerint nem párolognak el egyenletesen, ennek következtében az olvadék összetétele a gőzölögtetés során megváltozik, és vele együtt a leválasztott réteg összetétele és törésmutatója is. Erre tipikus példa a tantáloxid-alumíniumoxid-, illetve a háfniumoxid-alumíniumoxid-rendszer.
A találmány feladata gőzölögtetéssel kialakítható, • 9»·
- 5 közepesen fénytörő rétegek előállítására alkalmas, az ismert anyagok hátrányaitól mentes anyag kifejlesztése volt, amellyel egyenletes vastagságú, homogén összetételű, a látható fényt nem abszorbeáló rétegek alakíthatók ki. alakítására alkalmas
Bizonyos megfontolásokból lantán és alumínium oxidjain alapuló rendszer tűnt Ígéretesnek, de a gyakorlati kipropálás során ez az anyagkeverék alkalmatlannak bizonyult, mert nedvességet vesz fel, irreverzibilis módon hidroxiddá alakul és a vákuumos gőzölögtetés céljára többé nem használható.
Meglepő módon azonban azt találtuk, hogy az olyan Lal-xA4l+x°3 képletű vegyes oxid, amelyben x értéke 0 és 0,84 között van, kiválóan alkalmas közepesen fénytörő rétegek vákuumos gőzölögtetés utján történő előállítására. A fenti vegyes oxid probléma, szétfröccsenés nélkül elgőzölögtető vákuumban, és a vákuumtechnika területén szokásos munkakörülmények között homogén, stabil, nem abszorbeáló rétegek eredményez.
A találmány tárgya tehát közepesen fénytörő rétegek vákuumos gőzölögtetés utján történő előállítására alkalmas anyag, amely azzal jellemezhető, hogy La1_xAl1+xO3 képletű vegyes oxid, amelyben x értéke 0 és 0,84 között van.
Különösen előnyben részesítjük az olyan Lai_xAli+x03 képletű anyagot, amelyben x értéke 0 és 6 közötti.
A találmány tárgya továbbá eljárás közepesen fénytörő optikai rétegek előállítására. Az eljárásra jellemző, • · ·
- 6 hogy szubsztrátumot vákuumban a fenti vegyes oxidot elgőzölögtetve oxidréteggel látunk el.
Az elgőzölögtetésre alkalmas találmány szerinti anyag nem a két oxid keveréke, hanem diszkrét, definiált összetételű vegyes oxidokról van szó. E vegyületekben a lantánoxid és az alumíniumoxid mólaránya 1:1 és 1:11 közötti, előnyösen 1:1 és 1:5 közötti lehet. Mindegyik ilyen vegyes oxidban az oxigéntartalom szigorúan sztöchiometriás.
A találmány szerinti vegyes oxidok vákuumban történő elgőzölögtetése során nem szabadul fel oxigén. A választott összetétel-tartomány biztosítja, hogy a vákuumos elgőzölögtetés szokásos munkafeltételei mellett minden további nélkül nem abszorbeáló réteg alakul ki. Bebizonyosodott továbbá, hogy a kapott réteg optikai tulajdonságaira a vákuumos elgőzölögtetés során meglévő oxigén maradéknyomás alig van befolyással.
Ezek a tapasztalatok nagy mértékben meglepőek és előre nem láthatók.
Az elgőzölögtetésre alkalmas találmány szerinti vegyes oxidokat úgy állíthatjuk elő, hogy lantán-oxidot és alumíniumoxidot a megfelelő sztöchiometrikus arányban összekeverünk és a keveréket nagyvákuumban az olvadáspontnál alacsonyabb hőmérsékleten szinterezzük. Ez az eljárás szintén a találmány tárgyához tartozik. A szinterezett termék kemény, fehér szemcséket képez, mintegy 1800 °C-on teljesen olvad, és kb. 10-4 mbar (= 10-2 Pa) vákuumban 2200-2300 °C-on elgőzölögtethető.
Az elgőzölögtetésre alkalmas találmány szerinti vegyes oxidot a vákuumtechnikában szokásos vákuumos elpárologtató berendezésekben ismert módon, az ilyen célokra szokásos munkakörülmények között alkalmazhatjuk. A vákuumos elgőzölögtetés termikus után végezhető, de elektronsugárral is elindítható .
A találmány szerinti anyaggal tetszőleges szubsztrátumon homogén, vékony, azonos vastagságú réteget hozhatunk létre, amely jól tapad az alapon, és mechanikai, valamint kémiai behatásokkal szemben nagy mértékben ellenálló. A rétegek törésmutatója közepes; az összetétel, valamint a méréshez felhasznált hullámhossz függvényében a törésmutató 1,6 és 1,9 közötti. A közeli UV-fénytől (mintegy 200 nm-től) a látható tartományon át a közeli infravörösig (kb. 7000 nm) a rétegek transzmisszója nagy, és főleg a látható tartományban nem abszorbeálnak.
1. példa
Előállítás tömeg% lantán(III)-oxidból és 49 tömeg% alumíniumoxidból porkeveréket készítünk. Az összetétel olyan, hogy Lap, 5A1]_, 5O3 képletű vegyület keletkezzen. A granulátumot nagyvákuumban (10-2 Pa) 1600-1680 °C hőmérsékleten 3-8 órán át szinterezzük.A kapott fehér termék olvadáspontja 1930 °C.
2. példa
Előállítás tömeg% lantán(III)-oxidból és 24 tömeg% alumínium(III)-oxidból porkeveréket készítünk. Az össze1
- 8 tétel olyan, hogy LaAl3 képletű vegyület keletkezzen. A granulátumot nagyvákuumban (10-2 Pa) 1600-1680 °C hőmérsékleten 3-8 órán át szinterezzük.A kapott fehér termék olvadáspontja 1850 °C.
3. példa
Az 1. példa szerinti granulátumot rézből álló elgőzölögtető üstbe töltjük és elektronsugaras elpárologtató-ba helyezzük A bevonni kívánt tárgy kvarcból vagy üvegből áll. A réteg kialakítása során a hőmérséklet 2200-2300 °C, az oxigén maradéknyomása 2x 10-2 Pa, a szubsztrátum hőmérséklete 250 °C, és a leválasztás! sebesség 0,4 nm/mp. A leválasztást folytatjuk, mig a 250 nm-es rétegvastagságot el nem érjük. ·
A réteg törésmutatója 500 cm hullámhossznál mérve n = 1,7. Látható fényben és 200 nm-ig a réteg nem abszorbeál.
Ha a 2. példa szerinti granulátumot azonos módon dolgozzuk fel, olyan réteget kapunk, amelynek az 500 nm-nél mért törésmutatója 1,8.

Claims (5)

  1. Szabadjaim! igénypontok
    1. Közepesen fénytörő rétegek vákuumos gőzölögtetés utján történő előállítására alkalmas anyag, azzal jellemezve, hogy Lai_xAl1+x03 képletű vegyes oxid, amelyben x értéke 0 és 0,84 között van.
  2. 2. Az 1. igénypont szerinti vegyes oxid, azzal jellemezve, hogy La^_xAli+x03 képletben x értéke 0 és 0,6 közötti.
  3. 3. Eljárás az 1. vagy 2. igénypont szerinti vegyes oxidok előállítására, azzal jellemezve, hogy lantán-oxidot és alumínium-oxidot 1:1 és 1:11 közötti mólarányban összekeverünk és a keveréket nagyvákuumban az olvadáspontnál alacsonyabb hőmérsékleten szinterezzük.
  4. 4. Az 1. és 2. igénypont szerinti vegyes oxidok alkalmazása közepesen fénytörő optikai rétegek előállítására.
  5. 5. Eljárás közepesen fénytörő optikai rétegek előállí- tására vákuumban végzett gőzölögtetés utjfih, azzal jellemezve, hogy az 1. vagy 2. igénypont szerinti vegyes oxidot gőzölögtetjük el.
HU9301767A 1992-06-17 1993-06-17 Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating HUT67512A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4219817A DE4219817A1 (de) 1992-06-17 1992-06-17 Aufdampfmaterial zur Herstellung mittelbrechender optischer Schichten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HU9301767D0 HU9301767D0 (en) 1993-11-29
HUT67512A true HUT67512A (en) 1995-04-28

Family

ID=6461205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
HU9301767A HUT67512A (en) 1992-06-17 1993-06-17 Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5415946A (hu)
EP (1) EP0574785B1 (hu)
JP (1) JP3723580B2 (hu)
KR (1) KR940000880A (hu)
CN (1) CN1043367C (hu)
AT (1) ATE138420T1 (hu)
CA (1) CA2098447A1 (hu)
CZ (1) CZ112093A3 (hu)
DE (2) DE4219817A1 (hu)
HU (1) HUT67512A (hu)
SK (1) SK57593A3 (hu)
TW (1) TW241292B (hu)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19807163C1 (de) * 1998-02-20 1999-10-28 Rainer Gadow Wärmedämmaterial und Verfahren zum Herstellen eines solchen
JP4218744B2 (ja) * 1998-09-10 2009-02-04 日鉄ハード株式会社 溶射材料およびそれを溶射して形成した皮膜を有する部材
US6327087B1 (en) * 1998-12-09 2001-12-04 Canon Kabushiki Kaisha Optical-thin-film material, process for its production, and optical device making use of the optical-thin-film material
WO2002001622A2 (en) * 2000-06-26 2002-01-03 North Carolina State University Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications
DE10119909B4 (de) * 2001-04-23 2005-04-21 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Inspektionsmikroskop für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich und Reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich
US20050040478A1 (en) * 2001-06-25 2005-02-24 Gerald Lucovsky Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications
US6678082B2 (en) 2001-09-12 2004-01-13 Harris Corporation Electro-optical component including a fluorinated poly(phenylene ether ketone) protective coating and related methods
JP4174216B2 (ja) * 2002-01-18 2008-10-29 フジノン株式会社 バリア層を有する光学素子、光学系および投映プロジェクタ装置
JP4792871B2 (ja) * 2005-08-16 2011-10-12 コニカミノルタオプト株式会社 光学反射部材
US7382944B1 (en) 2006-07-14 2008-06-03 The United States Of America As Represented By The Administration Of The National Aeronautics And Space Administration Protective coating and hyperthermal atomic oxygen texturing of optical fibers used for blood glucose monitoring
CN101363920B (zh) * 2008-09-18 2010-06-02 北京有色金属研究总院 中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法
JP5308246B2 (ja) 2009-06-19 2013-10-09 キヤノンオプトロン株式会社 薄膜形成用組成物および光学薄膜
CN104557039B (zh) * 2014-12-24 2017-04-19 福建阿石创新材料股份有限公司 中折射率蒸发镀膜材料及其制备工艺和应用
CN112323023B (zh) * 2020-11-06 2022-03-18 江苏北方湖光光电有限公司 一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH391198A (de) * 1958-10-30 1965-04-30 Balzers Patent Beteilig Ag Verfahren zur Herstellung dünner Oxydschichten
FR2508054A1 (fr) * 1981-06-19 1982-12-24 Labo Electronique Physique Melange de depart pour une encre serigraphiable contenant un verre au plomb a cuire en atmosphere non oxydante et encre serigraphiable obtenue
JPS5930507A (ja) * 1982-08-12 1984-02-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光回路用基板
JPS63156057A (ja) * 1986-12-19 1988-06-29 科学技術庁無機材質研究所長 高密度ペロブスカイトセラミックスの製造法
CH672380A5 (en) * 1987-01-27 1989-11-15 Bbc Brown Boveri & Cie Reduce darkening of mercury vapour UV tube - using hafnium, lanthanum, thorium or aluminium oxide coating
SU1581765A1 (ru) * 1988-04-04 1990-07-30 Черкасский Филиал Киевского Политехнического Института Им.50-Летия Великой Октябрьской Социалистической Революции Порошковый материал дл покрыти поршневых колец
US5082688A (en) * 1989-05-04 1992-01-21 Eastman Kodak Company Processes of forming Ag doped conductive crystalline bismuth mixed alkaline earth copper oxide films
JP3015408B2 (ja) * 1989-05-23 2000-03-06 三洋電機株式会社 超電導トランジスタの製造方法
US5137703A (en) * 1989-06-26 1992-08-11 Trustees Of Boston University Thermal catalytic methods for converting oxides of nitrogen into environmentally compatible products
US5219826A (en) * 1990-08-20 1993-06-15 Conductus, Inc. Superconducting junctions and method of making same
US5157466A (en) * 1991-03-19 1992-10-20 Conductus, Inc. Grain boundary junctions in high temperature superconductor films
US5213911A (en) * 1991-10-17 1993-05-25 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Solid-oxide fuel cell electrolyte

Also Published As

Publication number Publication date
DE59302657D1 (de) 1996-06-27
JP3723580B2 (ja) 2005-12-07
TW241292B (hu) 1995-02-21
CZ112093A3 (en) 1994-08-17
DE4219817A1 (de) 1993-12-23
KR940000880A (ko) 1994-01-10
EP0574785B1 (de) 1996-05-22
CA2098447A1 (en) 1993-12-18
US5415946A (en) 1995-05-16
SK57593A3 (en) 1994-01-12
CN1083543A (zh) 1994-03-09
ATE138420T1 (de) 1996-06-15
HU9301767D0 (en) 1993-11-29
CN1043367C (zh) 1999-05-12
EP0574785A1 (de) 1993-12-22
JPH06184730A (ja) 1994-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HUT67512A (en) Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating
US5340607A (en) Vapor-deposition material for the production of high-refraction optical coatings
NL8301652A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze.
US2964427A (en) Ultra-violet filter
US5776847A (en) Stabilized vapour-deposition materials based on titanium oxide
US5476696A (en) White thermal control surfaces containing ZrSiO4
US6087014A (en) Optical coatings of medium refractive index
JP5008807B2 (ja) 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法
US3837884A (en) Method of producing blue colored transparent layers
JPH07331412A (ja) 赤外線用光学部品及びその製造方法
US4465739A (en) Substrates coated with aluminum oxide solutions
EP0072995B1 (en) Clear aluminum oxide solutions and glasses
Bond et al. Pulsed laser deposition of transparent fluoride glass
US5474851A (en) Thin film of gallium oxide and method of producing the film
US3900609A (en) Method for manufacture of a refracting, light permeable oxide layer

Legal Events

Date Code Title Description
DFD9 Temporary protection cancelled due to non-payment of fee