CZ112093A3 - Steaming material for producing medium-refractive optical layers, process for producing and use thereof - Google Patents
Steaming material for producing medium-refractive optical layers, process for producing and use thereof Download PDFInfo
- Publication number
- CZ112093A3 CZ112093A3 CZ931120A CZ112093A CZ112093A3 CZ 112093 A3 CZ112093 A3 CZ 112093A3 CZ 931120 A CZ931120 A CZ 931120A CZ 112093 A CZ112093 A CZ 112093A CZ 112093 A3 CZ112093 A3 CZ 112093A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layers
- vapor deposition
- optical layers
- refractive optical
- producing
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000010025 steaming Methods 0.000 title description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);trifluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[Ce+3] QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- MJGARAGQACZIPN-UHFFFAOYSA-N aluminum hafnium(4+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[Al+3].[Hf+4] MJGARAGQACZIPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/44—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/30—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6
- C01F17/32—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6 oxide or hydroxide being the only anion, e.g. NaCeO2 or MgxCayEuO
- C01F17/34—Aluminates, e.g. YAlO3 or Y3-xGdxAl5O12
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Geology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
Napařovací materiál pro výrobu- středně lomných— optických vrstev, způsob jeho výroby a jeho^oužití
Oblast technikv
Vynález se týká napařovacího materiálu pro výrobu střednělomných optických vrstev, způsobu jeho výroby a jeho použití. Dále se vynález týká způsobu výroby střednělomných optických vrstev na různých substrátech.
Dosavadní stav technikv
Tenkých vrstev oxidů se v technice, zejména v optice, v širokém rozsahu používá jako chránících vrstev nebo vrstev, zajištujících optické funkce. Může se jich tedy používat pro ochranu proti korozi a mechanickému poškození nebo pro zušlechtování povrchů optických dílů a přístrojů, jako jsou zejména čočky, zrcadla, hranoly atd. Tenkých vrstev oxidů se dále používá pro výrobu vysoko-, středně nebo nízkolomných optických vrstev, které slouží pro zvýšení nebo snížení odrazivosti. Jejich hlavním polem použití je výroba antireflexních a protiodrazových vrstev na brýlových sklech a čočkách pro objektivy fotografických přístrojů, dalekohledů a optických částí optických měřicích přístrojů a použití v laserové technice. Dále se jich používá při výrobě vrstev s určitým indexem lomu a/nebo určitými optickými absorpčními vlastnostmi, například u interferenčních zrcadel, děličů záření, tepelných filtrů a zrcadel na studené světlo.
Výchozí látky pro výrobu takových optických vrstev jsou o sobě známé. Obvykle se používá oxidu křemičitého, jakož i mnoha oxidů kovů, popřípadě ve vzájemné kombinaci. Jejich volba se v podstatě provádí empiricky na základě požadovaných optických vlastností a zpracovatelnosti. Výroba těchto vrstev se provádí o sobě známou technologií vakuového naparování. Jako ilustrativní příklad je zde možno citovat německý patentový spis DE 12 28 489 a publikaci H. A. Macleod, Thin Film Optical Filters’', A. Hilger Ltd. , Bristol, 1986. Z těchto publikací je možno se dovědět informace, které se vztahuji k použitelným materiálům a technikám zpracování a které obecně souvisí s problematikou tohoto oboru.
Pro výrobu střednělomných vrstev, tedy vrstev, jejichž hodnota optického indexu lomu leží v rozmezí od 1,6 do 1,9 je volba v principu vhodných výchozích látek omezena. Jako výchozí látky zde přicházejí v úvahu v podstatě oxidy hliníku, hořčíku, yttria, lanthanu, praseodymu, dále též fluorid ceru a fluorid lanthanu, jakož i směsné systémy na bázi těchto látek. Přednostní výchozí látkou pro středně lomné vrstvy je oxid hlinitý.
Tyto látky, které jsou sami o sobě vhodné, mají však řadu nevýhod, které se zejména projevují při zpracování.
před zahájením tehdy se dosáhne
Nevýhodné zejména je, že tyto látky mají vysokou teplotu tání a teplotu varu a navíc tyto teploty jsou si poměrně navzájem blízké. Z praktického hlediska je však důležité, aby se napařovaný materiál znatelného naparování úplně roztavil. Jen rovnoměrného a dostatečného stupně naparování. To je nutné pro vytvoření homogenních a rovnoměrně tlustých vrstev na předmětech, na něž se vrstva naparuje. U oxidů hořčíku a yttria tomu však, za praktických podmínek použití, tak není. Tyto látky, při obvyklých podmínkách zpracování netají nebo netají úplné. Celkově se obtížně odpařují a získají se s nimi vrstvy s kolísavou tloušťkou.
Oxid hořečnatý vždy vytváří porézní vrstvy, v nichž se může snadno usazovat vlhkost a tím se stávají tyto vrstvy nestabilními. Totéž platí pro oxid lanthanu. Ani fluorid ceru ani fluorid lanthanu nevytvářejí homogenní vrstvy s dostatečnou tvrdostí a stálostí.
Existuje tedy snaha pomocí vhodných přísad snížit teplotu tání základních materiálů. Tyto přísady kromě toho slouží k tomu, aby bylo možno měnit a plánovaně nastavovat index lomu získané vrstvy v určitém rozmezí.
Volba vhodných přísad pro tento účel je omezena požadavkem, aby nedocházelo k absorpci. Jako takové přísady přicházejí tedy v úvahu jen takové oxidy kovů, které neobsahují žádné absorpce ve vlnovém rozsahu od blízké infračervené a viditelné oblasti spektra do blízké oblasti UV-záření (asi 200 nm).
_ Z tohoto důvodu je například nevhodný oxid titaničitý, oxid praseodymu a oxid neodymu.
Výše uvedené problémy je sice možno vyřešit vhodnou volbou přísad nebo vhodnou volbou odpovídajících směsných látek, použití směsných systémů však samo o sobě nelze při technologii vakuového napařování doporučit. Důvodem je, že se směsné systémy zpravidla nekongruentně odpařují, t.j. v průběhu postupu odpařování se mění jejich složení a tím se mění i složení vyloučených vrstev a tedy i index lomu. Jako typické příklady je možno uvést směsný systém oxid tantalu oxid hliníku nebo oxid hafnia - oxid hliníku.
Úkolem vynálezu je tedy vyvinout napařovací materiál pro výrobu střednělomných optických vrstev technologií vakuového napařování, který by neměl nevýhody známých materiálů a pomocí něhož by zejména bylo možno získat rovnoměrné vrstvy o homogenním složení, které by nevykazovaly žádnou absorpci ve viditelné oblasti spektra.
Na základě předběžné úvahy se jako z tohoto hlediska zajímavý systém jevil systém na bázi oxidu lanthanu a oxidu hliníku.
Směsi těchto oxidů se však ukázaly jako nevhodné z hlediska praktické manipulace, poněvadž přijímají vlhkost a nevratně se mění na hydroxidy, které jsou pro vakuové napařování nepoužitelné.
Podstata vynálezu
S překvapením se nyní zjistilo, že sloučeniny obecného vzorce Lal-xA1l+x°3 kde x představuje číslo s hodnotou od 0 do 0,84, se výborně hodí jako napařovací materiál pro výrobu střednělomných optických vrstev technologií vakuového napařování. Ukázalo se, že tyto materiály se bez problémů a bez stříkání za vakua odpařují a za pracovních podmínek, které jsou při technologii vakuového napařování obvyklé, bez dalších opatření vytvářejí homogenní stabilní vrstvy, které neobsahují absorpce.
Předmětem tohoto vynálezu je tedy napařovací materiál pro výrobu střednělomných optických vrstev vakuovým napařováním na substráty, který je tvořen sloučeninou obecného vzorce Lai-xA1i+x°3 > kde x představuje číslo s hodnotou od 0 do 0,84.
Jako obzvlášť vhodný napařovací materiál je možno
označit sloučeninu obecného vzorce Lai-xAl1+xO3, kde x představuje číslo s hodnotou od 0 do 0,6.
Předmětem vynálezu je dále způsob výroby střednělomných optických vrstev, jehož podstata spočívá v tom, že se na substráty za vakua naparuje výše uvedený materiál.
V případě napařovacího materiálu podle vynálezu se nejedná o směsi obou oxidů, nýbrž o směsné oxidové sloučeniny s určitým, stechiometricky definovaným složením. V těchto sloučeninách může být molární poměr oxidu lanthanu k oxidu hliníku 1:1 až 1:11, přednostně 1:1 až 1:5. Ve všech těchto směsných oxidových sloučeninách je obsah kyslíku přísně stechiometrický.
Při vakuovém napařování materiálu podle vynálezu nedochází k žádnému vylučování kyslíku. Zvolené rozmezí složení vede k tomu, že se za pracovních podmínek, které jsou obvyklé při technologii vakuového napařování, bez dalších opatření získají vrstvy, které neobsahují absorpce. Přitom se kromě toho ukázalo, že optické vlastnosti získaných vrstev prakticky nejsou ovlivněny kolísáním zbytkového tlaku kyslíku v průběhu vakuového napařování.
Tato zjištění jsou velmi překvapující a nebylo možno je předem předvídat.
Napařovací materiály podle vynálezu je možno získat tak, že se v odpovídajícím stechiometrickém poměru smíchá oxid lanthanu s oxidem hliníku a vzniklá směs se sintruje za vysokého vakua při teplotě nižší než je teplota tání. Tento způsob výroby napařovacích materiálů tvoří rovněž jeden z aspektů tohoto vynálezu. Sintrovaný produkt se získá ve formě tvrdých bílých zrn a úplně taje při teplotě nad asi 1 800 °C, přičemž je možno ho odpařit za vakua přibližně
10~5mPa, při teplotě v rozmezí od 2 200 do 2 300 °C.
Napařovacího materiálu podle vynálezu se může používat v zařízeních či aparaturách pro vakuové napařování, které jsou v tomto oboru techniky obvyklé, známým způsobem a za obvyklých pracovních podmínek. Vakuové napařování se nemusí provádět jen odpařováním za tepla, nýbrž se může použít i odpařování pomocí proudu elektronů.
Pomocí materiálu podle vynálezu se mohou na libovolných vhodných substrátech vytvářet homogenní tenké vrstvy s rovnoměrnou tloušťkou, které mají dobrou adhezi a jsou velmi odolné proti mechanickým a chemickým vlivům. Tyto vrstvy jsou střednělomné; jejich index lomu, v závislosti na složení a na vlnové délce, při níž se měření provádí, leží v rozmezí od 1,6 do 1,9. Tyto vrstvy mají vysokou transmisi v rozsahu vlnových délek od blízké UV-oblasti (nad asi 200 nm) přes viditelnou oblast až do blízké infračervené oblasti (asi 7 000 nm) a jsou, zejména ve viditelné oblasti spektra, prosté absorpcí.
Vynález je blíže objasněn následujícími příklady provedení. Tyto příklady mají výhradně ilustrativní charakter a rozsah vynálezu v žádném ohledu neomezují.
Příklady provedeni vynálezu
Příklad 1
Výroba
Vyrobí se prášková směs z % hmotnostních oxidu lanthanitého a % hmotnostních oxidu hlinitého a ta se granuluje. Složení je zvoleno tak, aby vznikla sloučenina vzorce LaQ gAl^^ 5O3.
Granulát se 3 až 8 hodin sintruje za vysokého vakua (105 mPa) při teplotě 1 600 až 1 680 °C. Získaný bílý produkt má teplotu tání 1 930 °C.
Příklad2
Výroba
Vyrobí se prášková směs z % hmotnostních oxidu lanthanitého a % hmotnostních oxidu hlinitého a ta se granuluje. Složení je zvoleno tak, aby vznikla sloučenina vzorce LaAlOg.
Granulát se 3 až 8 hodin sintruje za vysokého vakua (105 mPa) při teplotě 1 600 až 1 680 °C. Získaný bílý produkt má teplotu tání 1 850 °C.
Příklad 3
Použití
Granulát z příkladu 1 se umístí do odpařovacího kelímku z mědi a přenese do přístroje pro vakuové naparování, v němž se odpařování provádí proudem elektronů. Použité zařízení je běžného obchodního typu.
Jako substrátu, na něž se materiál napařuje, se použije křemenného skla nebo skla.
Povrstvování se provádí při teplotě 2 200 až 2 300 °C za zbytkového tlaku kyslíku 2 x IO“5 MPa při teplotě substrátu 250 °C a rychlosti naparování 0,4 nm/s tak dlouho, dokud se nedosáhne tloušťky vrstvy 250 nm.
Vzniklá vrstva má index lomu při 500 nm n = 1,7. Vrstva nevykazuje žádnou absorpci ve viditelné oblasti spektra až do vlnové délky přibližně 200 nm.
Při podobném zpracování granulátu z příkladu 2 se získá vrstva s indexem lomu při 500 nm n = 1,8.
Claims (5)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Napařovací materiál pro výrobu střednělomných optických vrstev vakuovým napařováním na substráty, vyznačující se tím, že je tvořen sloučeninou obecného vzorce Lai-xA1i+x°3/ kde x představuje číslo s hodnotou od 0 do 0,84.
- 2. Napařovací materiál podle nároku 1, v y znáčů j í c í se tím, že je tvořen sloučeninou obecného vzorce Lai_xAl1+xO3, kde x představuje číslo s hodnotou od 0 do 0,6.
- 3. Způsob výroby odpařovacího materiálu podle nároku 1 a 2, vyznačující se tím, že se smísí oxidy lanthanu a hliníku v molárním poměru 1:1 až 1:11 a směs se sintruje za vysokého vakua při teplotě nižší, než je teplota tání.
- 4. Použití napařovacího materiálu podle nároku 1 a 2 pro výrobu střednělomných optických vrstev.
- 5. Způsob výroby střednělomných optických vrstev vakuovým napařováním materiálu na substráty, vyznačující se t í m, že se jako napařovacího materiálu použije materiálu podle nároku 1 a 2.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4219817A DE4219817A1 (de) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | Aufdampfmaterial zur Herstellung mittelbrechender optischer Schichten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ112093A3 true CZ112093A3 (en) | 1994-08-17 |
Family
ID=6461205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ931120A CZ112093A3 (en) | 1992-06-17 | 1993-06-09 | Steaming material for producing medium-refractive optical layers, process for producing and use thereof |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5415946A (cs) |
| EP (1) | EP0574785B1 (cs) |
| JP (1) | JP3723580B2 (cs) |
| KR (1) | KR940000880A (cs) |
| CN (1) | CN1043367C (cs) |
| AT (1) | ATE138420T1 (cs) |
| CA (1) | CA2098447A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ112093A3 (cs) |
| DE (2) | DE4219817A1 (cs) |
| HU (1) | HUT67512A (cs) |
| SK (1) | SK57593A3 (cs) |
| TW (1) | TW241292B (cs) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19807163C1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-10-28 | Rainer Gadow | Wärmedämmaterial und Verfahren zum Herstellen eines solchen |
| JP4218744B2 (ja) * | 1998-09-10 | 2009-02-04 | 日鉄ハード株式会社 | 溶射材料およびそれを溶射して形成した皮膜を有する部材 |
| US6327087B1 (en) * | 1998-12-09 | 2001-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical-thin-film material, process for its production, and optical device making use of the optical-thin-film material |
| JP2004501857A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | ノース・キャロライナ・ステイト・ユニヴァーシティ | マイクロエレクトロニクス、光学及び他の適用に使用するための新規な非晶質酸化物 |
| DE10119909B4 (de) * | 2001-04-23 | 2005-04-21 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Inspektionsmikroskop für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich und Reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich |
| US20050040478A1 (en) * | 2001-06-25 | 2005-02-24 | Gerald Lucovsky | Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications |
| US6678082B2 (en) | 2001-09-12 | 2004-01-13 | Harris Corporation | Electro-optical component including a fluorinated poly(phenylene ether ketone) protective coating and related methods |
| JP4174216B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2008-10-29 | フジノン株式会社 | バリア層を有する光学素子、光学系および投映プロジェクタ装置 |
| JP4792871B2 (ja) * | 2005-08-16 | 2011-10-12 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学反射部材 |
| US7382944B1 (en) | 2006-07-14 | 2008-06-03 | The United States Of America As Represented By The Administration Of The National Aeronautics And Space Administration | Protective coating and hyperthermal atomic oxygen texturing of optical fibers used for blood glucose monitoring |
| CN101363920B (zh) * | 2008-09-18 | 2010-06-02 | 北京有色金属研究总院 | 中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法 |
| JP5308246B2 (ja) * | 2009-06-19 | 2013-10-09 | キヤノンオプトロン株式会社 | 薄膜形成用組成物および光学薄膜 |
| CN104557039B (zh) * | 2014-12-24 | 2017-04-19 | 福建阿石创新材料股份有限公司 | 中折射率蒸发镀膜材料及其制备工艺和应用 |
| KR102886222B1 (ko) * | 2020-02-18 | 2025-11-14 | 엘지전자 주식회사 | 가스 난방장치 및 그 제어 방법 |
| CN112323023B (zh) * | 2020-11-06 | 2022-03-18 | 江苏北方湖光光电有限公司 | 一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH391198A (de) * | 1958-10-30 | 1965-04-30 | Balzers Patent Beteilig Ag | Verfahren zur Herstellung dünner Oxydschichten |
| FR2508054A1 (fr) * | 1981-06-19 | 1982-12-24 | Labo Electronique Physique | Melange de depart pour une encre serigraphiable contenant un verre au plomb a cuire en atmosphere non oxydante et encre serigraphiable obtenue |
| JPS5930507A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光回路用基板 |
| JPS63156057A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-29 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ペロブスカイトセラミックスの製造法 |
| CH672380A5 (en) * | 1987-01-27 | 1989-11-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Reduce darkening of mercury vapour UV tube - using hafnium, lanthanum, thorium or aluminium oxide coating |
| SU1581765A1 (ru) * | 1988-04-04 | 1990-07-30 | Черкасский Филиал Киевского Политехнического Института Им.50-Летия Великой Октябрьской Социалистической Революции | Порошковый материал дл покрыти поршневых колец |
| US5082688A (en) * | 1989-05-04 | 1992-01-21 | Eastman Kodak Company | Processes of forming Ag doped conductive crystalline bismuth mixed alkaline earth copper oxide films |
| JP3015408B2 (ja) * | 1989-05-23 | 2000-03-06 | 三洋電機株式会社 | 超電導トランジスタの製造方法 |
| US5137703A (en) * | 1989-06-26 | 1992-08-11 | Trustees Of Boston University | Thermal catalytic methods for converting oxides of nitrogen into environmentally compatible products |
| US5219826A (en) * | 1990-08-20 | 1993-06-15 | Conductus, Inc. | Superconducting junctions and method of making same |
| US5157466A (en) * | 1991-03-19 | 1992-10-20 | Conductus, Inc. | Grain boundary junctions in high temperature superconductor films |
| US5213911A (en) * | 1991-10-17 | 1993-05-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Solid-oxide fuel cell electrolyte |
-
1992
- 1992-06-17 DE DE4219817A patent/DE4219817A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-06-07 AT AT93109115T patent/ATE138420T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-06-07 DE DE59302657T patent/DE59302657D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-07 EP EP93109115A patent/EP0574785B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-08 SK SK575-93A patent/SK57593A3/sk unknown
- 1993-06-09 CZ CZ931120A patent/CZ112093A3/cs unknown
- 1993-06-11 KR KR1019930010612A patent/KR940000880A/ko not_active Withdrawn
- 1993-06-14 TW TW082104702A patent/TW241292B/zh not_active IP Right Cessation
- 1993-06-15 CA CA002098447A patent/CA2098447A1/en not_active Abandoned
- 1993-06-15 JP JP14380593A patent/JP3723580B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-17 HU HU9301767A patent/HUT67512A/hu unknown
- 1993-06-17 CN CN93107220A patent/CN1043367C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-17 US US08/077,594 patent/US5415946A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE138420T1 (de) | 1996-06-15 |
| JPH06184730A (ja) | 1994-07-05 |
| CN1083543A (zh) | 1994-03-09 |
| CA2098447A1 (en) | 1993-12-18 |
| EP0574785B1 (de) | 1996-05-22 |
| US5415946A (en) | 1995-05-16 |
| CN1043367C (zh) | 1999-05-12 |
| JP3723580B2 (ja) | 2005-12-07 |
| KR940000880A (ko) | 1994-01-10 |
| DE59302657D1 (de) | 1996-06-27 |
| TW241292B (cs) | 1995-02-21 |
| DE4219817A1 (de) | 1993-12-23 |
| HU9301767D0 (en) | 1993-11-29 |
| SK57593A3 (en) | 1994-01-12 |
| HUT67512A (en) | 1995-04-28 |
| EP0574785A1 (de) | 1993-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ112093A3 (en) | Steaming material for producing medium-refractive optical layers, process for producing and use thereof | |
| KR100271510B1 (ko) | 고굴절 광학 코팅물 제조용 증착물질 | |
| EP1211524B1 (en) | Method for producing composition for vapor deposition, composition for vapor deposition, and method for producing optical element with antireflection film | |
| US5776847A (en) | Stabilized vapour-deposition materials based on titanium oxide | |
| TW200420903A (en) | Vapour-deposition material for the production of optical layers of medium refractive index | |
| JP5008807B2 (ja) | 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法 | |
| JP4964584B2 (ja) | 高屈折率の光学的層を製造するための蒸着材料の使用、その蒸着材料、及びその蒸着材料を調製する方法 | |
| JP2011084819A (ja) | 高屈折率光学層を製造するための蒸着材料 | |
| TW502006B (en) | Vapor-deposition materials and process for the production of optical coatings of medium refractive index |