FR2971065A1 - Dispositif et procede de developpement de motifs a haut rapport de forme - Google Patents

Abstract

Des motifs sont développés dans une couche mince (7), disposée sur un support (8) par sa face arrière et munie d'une face avant (7a) comprenant un plan principal (P), grâce à un bac de développement (2) destiné à contenir le bain de liquide de développement (3), des moyens de préhension du support (8) comprenant des moyens de positionnement de la couche mince (7) dans le bain de liquide de développement (3) et des moyens de mise en circulation dudit liquide de développement à l'intérieur du bain (3). Pendant le développement des motifs, la couche mince (7) est mise en position dans le bain de liquide de développement (3) pour que son plan principal (P) soit parallèle au fond (4) du bac de développement (2), avec une orientation vers le fond (4) du bac de développement (2). De plus, la mise en circulation du liquide à l'intérieur du bain (3) crée au moins un mouvement de circulation (F1) balayant la face avant (7a) de la couche mince (7) parallèlement au plan principal (P), une fois ladite couche mince (7) en position dans le bain de développement (3).

Description

1

Dispositif et procédé de développement de motifs à haut rapport de forme.

Domaine technique de l'invention

L'invention est relative à un dispositif et à un procédé de développement de motifs dans une couche mince disposée sur un support, notamment utilisés dans le domaine de la photolithographie. État de la technique

La photolithographie est une technique permettant, notamment dans le 15 domaine de la micro-technologie, d'obtenir des motifs présentant des dimensions micrométriques ou sub-micrométriques, à partir d'un matériau déposé en couche mince sur un support, aussi appelé substrat.

D'une manière générale, un procédé de photolithographie comprend les 20 étapes suivantes : - préparation de la surface du support (décontamination, activation de surface...) et application en couche mince sur la surface du support d'un matériau photosensible, par exemple par centrifugation (ou dépôt à la tournette également connu sous le nom anglo-saxon de « spin coating »), 25 - traitement thermique, afin de durcir et stabiliser mécaniquement la couche en matériau photosensible, qui est encore humide à l'issue de son dépôt, - insolation, le plus souvent à travers un masque (même s'il est possible de réaliser une insolation directe, dirigée par laser), du matériau photosensible afin d'engendrer des modifications chimiques localisées au sein du matériau 30 photosensible, - traitement thermique permettant de finaliser la réaction chimique amorcée lors de l'insolation.10

- développement des motifs dans la couche mince en matériau photosensible, en mettant la couche mince en contact avec un développeur liquide destiné à dissoudre certaines parties de la couche mince en matériau photosensible (parties insolées ou non insolées en fonction du type de matériau photosensible) - et traitement thermique optionnel, destiné à stabiliser définitivement les propriétés des motifs développés dans la couche mince.

Dans le procédé de photolithographie, une des étapes les plus importantes à maîtriser concerne l'étape de développement des motifs. Elle est, en général, réalisée par aspersion de liquide de développement sur la surface à développer ou bien par immersion de ladite surface dans un bain de liquide de développement.

Or, pour certaines applications, il est nécessaire de réaliser des motifs fins, avec un rapport de forme élevé. Par « motifs fins », on entend des motifs présentant au moins une dimension inférieure au micromètre ou de l'ordre du micromètre. De plus, le rapport de forme d'un motif correspond au rapport entre la hauteur et la largeur du motif considéré. Ce rapport est considéré comme élevé, dès lors qu'il est supérieur à 5, comme mentionné dans le brevet US6440639. Ces motifs fins à haut rapport de forme forment, en général, une microstructure recherchée dans divers domaines, tels que le domaine de la microfluidique, de l'optique et des microsystèmes.

Cependant, l'obtention par photolithographie de microstructures avec des motifs fins à haut rapport de forme nécessite une méthode de développement adaptée prenant en compte : 1) la fragilité des motifs, car les microstructures peuvent être cassées, déformées, décollées... 2) le risque de pollution : une grande quantité de résine se dissout dans le solvant et peut se redéposer sur le substrat ou les structures. 3) le risque de développer de façon incomplète les motifs : une structure à haut rapport a tendance à protéger ou « écranter » les zones environnantes et donc à gêner fortement le processus de dissolution de la résine.

Le brevet US6440639 propose, par exemple, un liquide de développement utilisant un mélange d'eau et d'alcool pour réaliser le développement de motifs à haut rapport de forme dans une couche en matériau polymère, développable dans un milieu solvant organique, tel que l'isopropanol. Selon le brevet US6440639, un tel mélange eau-alcool empêche un gonflement excessif ainsi que des fissures dans le matériau, pendant le développement des motifs.

En tout cas, pour la réalisation de motifs fins à haut rapport de forme, la technique de développement dite par aspersion doit être écartée, car elle suscite des efforts mécaniques risquant d'endommager les motifs. Ainsi, la technique de développement dite par immersion doit être privilégiée. Cependant, les dispositifs et les méthodes de développement par immersion actuellement utilisés ne sont pas toujours satisfaisants pour la réalisation de motifs fins à haut rapport de forme.

À titre d'exemple, le brevet WO-A-9802786 décrit une méthode et un dispositif de développement de motifs dans une couche souple par immersion dans un bain de développement contenant un liquide de développement. Des guides introduisent la couche souple munie du matériau photosensible après insolation dans le bain de développement, afin d'immerger la couche dans le liquide de développement. De plus, le dispositif comporte une pompe appliquant, par l'intermédiaire de buses d'injection disposées au-dessus de la couche souple, le liquide de développement sous pression sur la couche souple. Un tel dispositif n'est pas adapté à la réalisation de motifs fins à haut rapport de forme, car l'utilisation de jets 4

immergés dans le bain de développement présente des risques importants de détérioration.

Objet de l'invention

L'objet de l'invention consiste à proposer un dispositif et un procédé de développement de motifs dans une couche mince disposée sur un support, particulièrement adaptés à la réalisation de motifs fins à haut rapport de 1 o forme.

Selon l'invention, cet objet est atteint par un dispositif de développement de motifs dans une couche mince disposée sur un support et munie d'une face avant comprenant un plan principal et d'une face arrière en contact avec ledit 15 support, par immersion de la couche mince dans un bain de liquide de développement, ledit dispositif comprenant : - un bac de développement destiné à contenir le bain de liquide de développement, - des moyens de mise en circulation dudit liquide de développement à 20 l'intérieur du bain, - et des moyens de préhension du support comprenant des moyens de positionnement de la couche mince dans le bain de liquide de développement de sorte que le plan principal de la face avant de la couche mince soit parallèle au fond du bac de développement, 25 caractérisé en ce que : - les moyens de positionnement de la couche mince dans le bain de liquide de développement orientent la face avant de la couche mince vers le fond du bac de développement, - les moyens de mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur 3o du bain sont agencés pour créer au moins un mouvement de circulation balayant la face avant de la couche mince parallèlement au plan principal, une fois ladite couche mince en position dans le bain de développement.

Cet objet est également atteint par un procédé de développement de motifs dans une couche mince disposée sur un support et munie d'une face avant comprenant un plan principal et d'une face arrière en contact avec ledit 5 support, par immersion de la couche mince dans un bain de liquide de développement contenu dans un bac de développement, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : - la mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain, - et la mise en position de la couche mince dans le bain de liquide de développement, de sorte que le plan principal de la face avant de la couche mince soit parallèle au fond du bac de développement, caractérisé en ce que la face avant de la couche mince est orientée vers le fond du bac de développement lors de la mise en position de la couche mince et en ce que la mise en circulation du liquide à l'intérieur du bain crée au moins un mouvement de circulation balayant la face avant de la couche mince parallèlement au plan principal, une fois ladite couche mince en position dans le bain de développement.

Description sommaire des dessins

D'autres avantages et caractéristiques ressortiront plus clairement de la description qui va suivre de modes particuliers de réalisation de l'invention donnés à titre d'exemples non limitatifs et représentés aux dessins annexés, dans lesquels : - la figure 1 représente schématiquement et en coupe un premier mode de réalisation d'un dispositif selon l'invention. - la figure 2 représente sous forme de schéma blocs différentes étapes d'un procédé de développement utilisant le premier mode de réalisation. - la figure 3 est un cliché obtenu par microscopie électronique à balayage d'une structure développée selon le dispositif de la figure 1. 6

- la figure 4 représente schématiquement et en vue de dessus une variante de réalisation du dispositif selon la figure 1. - les figures 5 et 6 représentent schématiquement, une vue en coupe et une vue de dessus d'un second mode de réalisation d'un dispositif selon l'invention.

Description de modes préférentiels de l'invention Des motifs fins avec un rapport de forme élevé peuvent être développés de manière satisfaisante dans une couche mince disposée sur un support et par immersion dans un bain de liquide de développement (également appelé ci-après bain de développement ou simplement bain) en prenant en compte au moins les deux facteurs suivants : - la disposition de la couche mince dans le bain de développement et - la circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain, lorsque la couche mince est mise en position dans le bain de développement.

La couche mince est, en particulier, formée par un matériau dont une partie peut être éliminée dans un solvant formant le liquide de développement, après une exposition localisée de la couche mince à un rayonnement lumineux. La couche mince peut, par exemple, être formée par une résine photosensible, organique ou inorganique. À titre d'exemple, elle peut être constituée par un sol-gel hybride, par exemple un sol-gel hybride photosensible à base de 2-(3, 4-Epoxycyclohexyl)EthylTrimethoxysilane. Le choix du liquide de développement est fonction de la nature du matériau constituant la couche mince. II est, par exemple, constitué d'isopropanol (également appelé IPA), d'éthanol ou d'autres solvants connus par l'homme du métier sous les références TMAH 238® (ou « tetramethylammonium hydroxide »), MF720®, MF319®. 7

De plus, la couche mince est munie d'une face avant comprenant un plan principal, dite face active, par laquelle le matériau est amené en contact avec le liquide de développement, et d'une face arrière en contact avec le support. Le support, qui a pour fonction principale de maintenir mécaniquement la couche mince, peut être de tout type. Il est, par exemple, constitué par une plaque en verre, métallique, en saphir ou en céramique ou bien il peut être constitué par un matériau semi-conducteur, tel que le silicium.

Ainsi, une fois exposée localement à un rayonnement lumineux, la couche ~o mince est positionnée dans le bain de développement par l'intermédiaire de moyens de préhension du support. En particulier, elle est disposée pendant le développement des motifs, dans une disposition spécifique permettant au plan principal de la face avant de la couche mince d'être parallèle au fond du bac de développement, en orientant la face avant de la couche mince vers le 15 fond du bac de développement. La face avant de la couche mince est plus particulièrement en regard et à une distance déterminée du fond du bac de développement. Par plan principal de la face avant de la couche mince parallèle au fond du bac de développement, on admet que le plan principal peut être sensiblement parallèle au fond du bac : il peut alors présenter une 20 très légère inclinaison par rapport au fond du bac de développement.

Or, positionner la couche mince dans le bain de liquide de développement dans une telle position évite les risques de pollution de la structure constituée par les motifs développés. En effet, dans ce cas, le matériau 25 dissous par le liquide de développement tombe au fond du bac sans risquer de polluer la structure. Si la face avant de la couche mince était disposée à l'inverse vers le haut du bac, le matériau dissous de la couche mince pourrait stagner à proximité des motifs et il risquerait de se redéposer et de les polluer. 30 De plus, il a aussi été trouvé que la qualité du développement de motifs fins à rapport de forme élevé était améliorée en faisant circuler le liquide de 2971065 s

développement à l'intérieur du bain de développement selon une direction particulière. II s'agit de créer, pour le liquide de développement, au moins un mouvement de circulation balayant la face avant de la couche mince parallèlement au plan principal, une fois ladite couche mince en position 5 dans le bain de développement. Ceci permet de réaliser un balayage mécanique continu et doux des motifs par le liquide de développement et donc de favoriser le renouvellement du liquide de développement au voisinage des motifs. Avantageusement, le balayement de la face avant de la couche mince par le liquide de développement peut être réalisé dans une direction ou bien dans plusieurs directions. Dans le cas d'un balayage dans plusieurs directions, celui-ci est alors réalisé de manière successive dans ces différentes directions. Le débit associé à la circulation du liquide de développement est de l'ordre de 2 à 4 fois le volume de liquide effectivement mis en oeuvre par minute.

Enfin, le liquide de développement à l'intérieur du bac de développement est, avantageusement, renouvelé au cours du procédé de développement. En particulier, des ajouts ponctuels de liquide de développement peuvent être réalisés en cours de procédé de développement de motifs, par des moyens d'alimentation en liquide de développement du bac de développement. Ils sont, en général, couplés à des moyens d'évacuation du trop-plein de liquide de développement, afin de maintenir un volume de bain constant et de ne pas cumuler une trop grande quantité de liquide au fil du procédé.

Les ajouts ponctuels de liquide de développement couplés à des moyens d'évacuation du trop-plein en cours de procédé permettent de maintenir un taux de développement efficace à l'intérieur du bain de développement, en diminuant la concentration de matériau dissous pendant le développement jusqu'à renouvellement total du bain de développement.

Les moyens d'évacuation du trop-plein de liquide de développement sont, en particulier, formés par des orifices d'évacuation situés dans la partie 9

supérieure d'au moins une paroi latérale du bac, avec possibilité de récupérer le trop-plein dans un réservoir subsidiaire. Ces orifices d'évacuation forment un système passif reproductible et efficace, ne nécessitant pas de système électronique d'asservissement. Cependant, un système automatique de régulation de niveau pourrait aussi être envisagé.

Le fait de placer les orifices d'évacuation du trop plein dans la partie supérieure du bac plutôt qu'au fond du bac évite de générer des turbulences non contrôlées ou même des bulles capables de détériorer les structures. De plus, l'évacuation en fond de bac peut aussi interférer avec le mouvement de circulation du liquide issu de la pompe de circulation et générer des turbulences destructrices. En bref, les moyens d'évacuation du trop-plein ainsi placés permettent d'éliminer un facteur susceptible d'altérer l'efficacité et la reproductibilité du procédé. De plus, une évacuation en fond de cuve obligerait à surveiller le niveau du liquide en permanence. En effet, si le support est mis à l'air au cours du développement à cause d'un niveau du liquide descendu trop bas, les structures seront altérées de façon irréversible.

Bien entendu, le dispositif peut convenir à au moins un support portant une couche mince, mais aussi à plusieurs supports immergés dans le même bain de développement.

Un premier exemple de dispositif 1 de développement de motifs est illustré sur la figure 1. Il comporte un bac de développement 2 destiné à contenir le bain 3 de liquide de développement.

Le bac de développement 2 peut, comme représenté sur la figure 1, être sous la forme d'un parallélépipède rectangle avec une base carrée. Il peut aussi être d'une autre forme, par exemple cubique. 10

Sur la figure 1, le bac de développement 2 comprend un fond 4 et des parois latérales 5. Au moins une paroi latérale 5 est, avantageusement, munie d'un ou de plusieurs orifices 6 d'évacuation du trop-plein de liquide de développement. Ces orifices permettent l'évacuation de liquide de développement excédentaire pendant le procédé de développement, notamment lorsque du liquide de développement est ajouté en cours de procédé. De plus, sur la figure 1, le trait en pointillés, disposé sous l'orifice 6, représente le niveau maximal de liquide de développement pouvant être contenu dans le bac de développement. En particulier, les orifices 6 peuvent être situés au dessus du plan horizontal du support 8.

Une couche mince 7 solidaire d'un support 8 est positionnée dans le bain 3 de développement, par des moyens de préhension du support 8. Ces moyens de préhension sont, par exemple, formés par une ventouse 9 disposée au bout d'une pince 10. La ventouse 9 maintient le support 8 et la couche mince 7 parallèlement au fond 4 du bac 2 (et donc en général en position horizontale), tandis que la pince 10 permet au support muni de la couche mince d'entrer et de sortir du bain 3 de développement. Dans cette position, la face avant 7a de la couche mince 7 est orientée vers le fond 4 du bac 2 et la face arrière 7b de la couche mince 7 est en contact avec le support 8. Plus particulièrement, la face arrière 7b de la couche mince 7 est solidaire du support 8. De plus, la couche mince 7 est, plus particulièrement, disposée à une distance prédéterminée non nulle du fond 4 du bac de développement 3.

Sur la figure 1, deux parois latérales opposées 5 du bac 2 de développement comportent également chacune, dans leur partie inférieure, c'est-à-dire dans la partie disposée sous l'orifice 6 d'évacuation du trop-plein, un orifice 11a ou 11 b. Les orifices 11 a et 11 b sont connectés entre eux par une canalisation externe 12 munie d'une pompe de circulation 13. Ainsi, le liquide de développement sort du bac de développement par l'orifice 11a, dit orifice de sortie, et il est entraîné vers l'orifice 11b, dit orifice d'entrée, par la pompe de Il

circulation 13. Ces éléments permettent d'assurer une mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain 3 de développement. Ceci crée un mouvement de circulation (voir flèche F1 sur la figure 1) balayant la face avant 7a de la couche mince 7 parallèlement au plan principal P, une fois la couche mince 7 en position dans le bain de développement 3. De plus, les deux orifices 11 a et 11 b peuvent être, avantageusement, disposés dans des coins opposés du bac 2 de développement, pour que le mouvement de circulation F1 suive une diagonale du bac 2. Le mouvement de circulation F1 du liquide de développement engendré dans le bain de liquide de développement permet d'homogénéiser le bain pendant la durée du développement des motifs et il crée un balayage doux et continu des motifs à développer.

Par ailleurs, dans un mode avantageux, le support 8 peut être soumis à un mouvement de rotation dans le plan horizontal (flèche F2 sur la figure 1), afin d'exposer la couche mince au mouvement de circulation du liquide de développement, selon différentes directions successives. Ceci permet, en particulier, d'obtenir un développement uniforme des motifs. Le dispositif autorisant la rotation du support peut être un moteur faisant tourner la pince 10. La rotation du support peut être une rotation continue et lente, par exemple de quelques degrés par minute. Elle peut aussi être une rotation discontinue, avantageusement, sur 360°C. À titre d'exemple, pour une rotation discontinue, le support, une fois mis en place dans le bain 3 de développement, peut être tourné 3 fois de suite selon un angle de 90°, avec un temps d'attente minimum entre chaque rotation, afin que le développement des motifs puisse être effectué dans chaque position. Selon une alternative, le support pourrait aussi être tourné 7 fois selon un angle de 45°.

Comme illustré sur la figure 2, le développement de motifs peut être obtenu en utilisant un dispositif tel que celui représenté sur la figure 1 et en réalisant les étapes suivantes : 12

1) remplissage du bac de développement 2 avec le liquide de développement, afin de former le bain de développement 3, 2) mise en route de la pompe de circulation 13 pour créer le mouvement de circulation F1 dans le bain de développement 3, 3) immersion du support 8 muni de la couche mince 7 dans le bain de développement 3, à une distance prédéterminée non nulle du fond 4 du bac de développement 2, 4) ajout d'une quantité prédéterminée de liquide de développement dans le bac de développement 2, avantageusement par la partie supérieure du bac de développement, au moyen d'éléments d'alimentation du bac. 5) rotation du support dans le plan horizontal selon un angle de rotation non nul et ajout d'une nouvelle quantité prédéterminée de liquide de développement dans le bac de développement 2, 6) et retrait du support suivi de son rinçage et de son séchage.

Un délai de 15 minutes est avantageusement laissé entre les étapes 4 et 5. De plus, avant le retrait du support, l'étape 5 est, en particulier, réitérée 3 fois de suite, avec un intervalle de 15 minutes d'attente après chaque ajout de liquide et un angle de rotation de 90° pour chaque rotation.

En particulier, un bac de développement cubique présentant un volume de 16x16x16 cm3 a été rempli (étape 1) avec un litre d'isopropanol (IPA) servant de liquide de développement. II présente 3 orifices d'évacuation du trop plein de liquide d'un diamètre d'environ 1mm, avec un débit d'évacuation de l'ordre de 40ml/minute. Ces orifices d'évacuation du trop-plein sont percés juste au-dessus du niveau atteint par le liquide, lorsque le bac contient 1 litre d'IPA, soit à environ 4cm au-dessus du fond du bac.

Une pompe de circulation est ensuite mise en route avec un débit de 4,5 litres par minute afin de créer, dans le bain de développement, un mouvement de circulation de liquide de développement dans le sens d'une diagonale du bac de développement (étape 2). 13 Ensuite, un support constitué par une plaquette de verre présentant une surface de 5x5 cm2 et muni d'une couche mince en sol-gel hybride photosensible à base de 243, 4-Epoxycyclohexyl)EthylTrimethoxysilane est immergé dans le bac de développement. La couche mince est alors positionnée à l'horizontale, à une distance d'environ 3,5cm du fond du bac tandis que le support est à environ 5mm sous le niveau du liquide de développement (étape 3).

Ensuite, 600 mL d'IPA (étape 4) sont ajoutés dans le bac de développement, avantageusement par le dessus du bac de développement et, après un délai de 15 minutes environ, le support est tourné de 90° dans le plan horizontal avec un nouvel ajout de 600mL d'IPA (étape 5). Cette étape 5 est réitérée 3 fois, avec un délai d'attente de 15 minutes après chaque ajout d'IPA.

Cet exemple de procédé a permis de développer, sans altération, des motifs fins avec un rapport de forme de 10,3 comme illustré sur la figure 3. Le motif illlustré sur la figure 3 présente, en effet, une hauteur de 29,07µm et une largeur de 2,81 µm.

Selon une alternative de réalisation illustrée sur la figure 4, les orifices 11 a et 11 b utilisés pour créer le mouvement de circulation F1 dans le bain de développement peuvent être respectivement connectés à une rampe d'injection 14 et à une rampe de reprise 15. Les deux rampes 14 et 15 sont, en particulier, disposées dans la partie inférieure du bac de développement, le long de deux parois latérales 5 opposées du bac 2. Une telle alternative est, en particulier, utilisée pour des supports de grande taille (par exemple supérieur à une surface de 5x5 cm2). Ainsi, le liquide de développement balaie la face principale de la couche mince, sous la forme d'une nappe de circulation. 14 Dans les modes de réalisation décrits ci-dessus, le balayement de la couche mince par le liquide de développement peut être réalisé dans plusieurs directions successives, en faisant tourner le support dans le plan horizontal, alors que le mouvement de circulation est maintenu dans une direction unique. Or, selon un autre mode de réalisation, le balayement de la couche mince dans plusieurs directions successives peut aussi être obtenu par les moyens permettant la mise en circulation du liquide de développement dans le bain de développement, sans faire tourner le support dans le plan horizontal. Un tel mode de réalisation est, en particulier, adapté lorsque le support est un support souple, ne pouvant pas tourner dans le plan horizontal, puisque soumis à un mouvement de défilement par l'intermédiaire de guides, le faisant entrer par défilement dans le bain de liquide de développement en vue de l'immerger pendant un temps prédéterminé, puis de l'en sortir.

C'est, par exemple, le cas dans le second exemple de réalisation illustré sur les figures 5 et 6. Le liquide de développement peut être mis en circulation à l'intérieur du bain de développement 3 selon deux mouvements de circulation possibles, notés F3 et F4 sur la figure 6. Ces mouvements de circulation F3 et F4 peuvent, ainsi, balayer chacun et successivement la face avant 7a de la couche mince 7, parallèlement au plan principal de la face avant 7a, une fois la couche mince 7 mise en position dans le bain de développement 3. Le bac de développement 2 est sensiblement identique à celui illustré sur la figure 1, à l'exception des moyens de mise en circulation du liquide de développement dans le bain.

Le bac de développement 2 comprend, en plus des deux orifices 11 a et 11 b, une seconde paire d'orifices 16a et 16b. Les orifices 11 a et 11 b ou 16 et 16b d'une même paire sont connectés entre eux par une canalisation externe 12 ou 17 munie d'une pompe de circulation 13 ou 18. Les orifices de chaque paire 11 a/11 b ou 16a/16b sont respectivement disposés dans la partie 15

inférieure de parois latérales 5 opposées, avantageusement au centre desdites parois latérales. De plus, les pompes de circulation 13 et 18 peuvent être à double circulation, comme illustré sur la figure 6.

Une telle disposition permet en particulier d'obtenir deux mouvements de circulation F3 et F4 présentant des directions de circulation coplanaires et perpendiculaires l'une à l'autre. Par ailleurs, dans ce mode de réalisation, la couche mince est immergée dans le bain de développement de façon non statique, c'est-à-dire en étant amenée par défilement du support à l'aide de 4 guides 19 (flèches F5). Ces guides 19 sont agencés pour qu'une partie dite partie active de la couche mince soit positionnée à un instant donné dans le bain de développement, afin que le plan principal P de la face avant 7a de la couche mince 7 soit parallèle au fond 4 du bac de développement 2, avec une orientation des motifs à développer en direction du fond 4 du bac 2.

Enfin, la vitesse de défilement du support 8 souple est, avantageusement, adaptée pour que le développement des motifs puisse être effectué sur la partie active de la couche mince 7.

Dans ce cas, il n'est pas possible de faire tourner le support 8 dans le plan horizontal. Ainsi, les moyens de mise en circulation du liquide de développement dans le bain 3 permettent d'obtenir un balayage successif de la couche mince 7 dans plusieurs directions.

Enfin, comme dans le premier exemple de réalisation, le bac de développement selon les figures 5 et 6 peut comprendre des moyens d'évacuation du trop-plein de liquide de développement, notamment lorsque des ajouts de liquide sont effectués au cours du procédé de développement, afin d'assurer le renouvellement du bain.

Claims (14)

1. REVENDICATIONS1. Dispositif (1) de développement de motifs dans une couche mince (7) disposée sur un support (8) et munie d'une face avant (7a) comprenant un plan principal (P) et d'une face arrière (7b) en contact avec ledit support (8), par immersion de la couche mince (7) dans un bain de liquide de développement (3), ledit dispositif (1) comprenant : - un bac de développement (2) destiné à contenir le bain de liquide de 1 o développement (3), - des moyens de mise en circulation dudit liquide de développement à l'intérieur du bain (3), - et des moyens de préhension du support (8) comprenant des moyens de positionnement de la couche mince (7) dans le bain de liquide de 15 développement (3) de sorte que le plan principal (P) de la face avant (7a) de la couche mince (7) soit parallèle au fond (4) du bac de développement (2), caractérisé en ce que : - les moyens de positionnement de la couche mince (7) dans le bain de liquide de développement (3) orientent la face avant (7a) de la couche mince 20 (7) vers le fond (4) du bac de développement (2) - et les moyens de mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain (3) sont agencés pour créer au moins un mouvement de circulation (F1), balayant la face avant (7a) de la couche mince (7) parallèlement au plan principal (P), une fois ladite couche mince (7) en 25 position dans le bain de développement (3).
2. 2. Dispositif (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que les moyens de mise en circulation du liquide de développement comprennent deux d'orifices (11 a, 11 b) respectivement disposés dans la partie inférieure des 30 parois latérales (5) opposées du bac de développement (3) et connectés entre eux par une canalisation externe (12) munie d'une pompe de circulation (13). 16 17
3. 3. Dispositif selon la revendication 2, caracérisé en ce que les deux orifices (11a, 11b) sont disposés dans des coins opposés du bac de développement (2), pour que le mouvement de circulation (F1) suive une diagonale du bac de développement (2).
4. 4. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que les deux orifices (11a, 11b) sont respectivement connectés à une rampe d'injection (14) et à une rampe de reprise (15), disposées dans la partie inférieure de parois latérales (5) opposées du bac de développement (2).
5. 5. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les moyens de préhension du support comprennent des moyens de mise en rotation du support (8) dans le plan horizontal.
6. 6. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que les moyens de mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain (3) sont agencés pour créer au moins deux mouvements de circulation (F3, F4), balayant chacun et successivement la face avant (7a) de la couche mince (7) parallèlement au plan principal (P), une fois ladite couche mince (7) en position dans le bain de développement (3).
7. 7. Dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que les deux mouvements de circulation (F3, F4) présentent des directions de circulation 25 respectives, coplanaires et perpendiculaires l'une à l'autre.
8. 8. Dispositif selon l'une des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que les moyens de mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain (3) comprennent deux paires d'orifices (11a, 11 b et 16a, 16b), les 30 orifices de chaque paire (11a, 11 b ou 16a, 16b) étant respectivement disposés dans la partie inférieure de parois latérales (5) opposées du bac de 18 développement (2) et connectés entre eux par une canalisation externe (12, 17) munie d'une pompe de circulation (13, 18).
9. 9. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que le support (8) est un support souple et en ce que les moyens de préhension dudit support comprennent des guides (19) pour faire défiler le support (8) dans le bain de liquide de développement (3).
10. 10. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que le bac de développement (2) comporte au moins un orifice d'évacuation (6) du trop-plein de liquide de développement.
11. 11. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le dispositif comporte des moyens d'alimentation du bac de développement (2) en liquide de développement.
12. 12. Procédé de développement de motifs dans une couche mince (7) disposée sur un support (8) et munie d'une face avant (7a) comprenant un plan principal (P) et d'une face arrière (7b) en contact avec ledit support (8), par immersion de la couche mince (7) dans un bain de liquide de développement (3) contenu dans un bac de développement (2), ledit procédé comprenant les étapes suivantes : - la mise en circulation du liquide de développement à l'intérieur du bain (3), - et la mise en position de la couche mince (7) dans le bain de liquide de développement (3), de sorte que le plan principal (P) de la face avant (7a) de la couche mince (7) soit parallèle au fond (4) du bac de développement (2), caractérisé en ce que la face avant (7a) de la couche mince (7) est orientée vers le fond (4) du bac de développement (2) lors de la mise en position de la couche mince (7) et en ce que la mise en circulation du liquide à l'intérieur du bain (3) crée au moins un mouvement de circulation (F1) balayant la face avant (7a) de la couche mince (7) parallèlement au plan principal (P), une fois ladite couche mince (7) en position dans le bain de développement (3). 19
13. 13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que l'étape de la mise en position de la couche mince (7) dans le bain de liquide de développement (3) est suivie d'une étape d'ajout de liquide de développement dans le bain de développement (3) et d'une étape de rotation du support (8) dans le plan horizontal accompagnée par un ajout supplémentaire de liquide de développement dans le bain (3).
14. 14. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que la face avant (7a) de la couche mince (7) est balayée successivement par au moins deux mouvements de circulation (F3, F4), coplanaires et parallèles au plan principal (P), une fois ladite couche mince (7) en position dans le bain de développement (3).15