FR2832851A1 - Reductions des aberrations produites par un filtre de wien dans un microscope electronique a balayage et analogues - Google Patents
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Abstract
Pour améliorer la résolution d'un faisceau d'électrons (2) dans un microscope électronique à balayage ou analogues, caractérisé en ce que un filtre de Wien (15) est utilisé à des fins de détections de particules, le faisceau reçoit une enveloppe (3) avec un point de croisement (19), situé dans et, de préférence, centralement par rapport au filtre de Wien (15).
Description
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REDUCTIONS DES ABERRATIONS PRODUITES PAR UN FILTRE DE WIEN DANS UN MICROSCOPE ELECTRONIQUE
A BALAYAGE ET ANALOGUES
La présente invention concerne l'amélioration de la résolution d'un faisceau d'électrons qui frappe un échantillon imagé par un microscope électronique à balayage, ou bien des instruments comparables et, en particulier, pour minimiser les aberrations provoquées par l'utilisation d'un filtre de Wien dans la colonne de faisceau.
A BALAYAGE ET ANALOGUES
La présente invention concerne l'amélioration de la résolution d'un faisceau d'électrons qui frappe un échantillon imagé par un microscope électronique à balayage, ou bien des instruments comparables et, en particulier, pour minimiser les aberrations provoquées par l'utilisation d'un filtre de Wien dans la colonne de faisceau.
Divers instruments sont connus, reposant sur la détection de particules chargées émises depuis un échantillon (également appelée communément une cible) pour déduire des caractéristiques appartenant à l'échantillon. Des exemples de tels instruments sont les microscopes électroniques à balayage et les microscopes à faisceau d'ions focalisés.
Pour faciliter la description de la présente invention, l'explication va se faire en liaison avec un microscope électronique à balayage ("SEM"). Cependant, il est évident que l'invention n'est pas limitée à un SEM et qu'elle peut être appliquée par l'homme de l'art ordinaire dans d'autres instruments et machines demandant d'avoir un faisceau focalisé de particules chargées.
Un SEM fonctionne en générant un faisceau d'électrons de balayage primaire ou incident qui frappe un échantillon dont une surface est imagée. En résultat, les électrons redispersés et secondaires sont émis depuis la surface de l'échantillon et sont collectés par un détecteur placé près de la surface de l'échantillon. Le détecteur génère un signal à partir de l'émission d'électrons collectés depuis la surface de l'échantillon, lorsqu'elle est exposée au faisceau d'électrons. Le signal provenant du détecteur est typiquement traité pour créer une image de la surface qui, ensuite, est affichée sur un écran vidéo.
Sur son chemin entre la source d'électrons et l'échantillon, le faisceau incident est dévié par divers éléments de nature électromagnétique et électrostatique qui sont utilisés, par exemple, pour aligner, focaliser et faire que le faisceau produise un balayage, ainsi que pour corriger sa forme. Un agencement typique des composants principaux d'un SEM est représenté schématiquement sur la Figure 1. La source d'électrons 1 génère un faisceau d'électrons 2 représenté comme ayant une enveloppe 3 dispersée autour de l'axe 4 et dirigé vers l'échantillon 5. Le faisceau 2 est commandé par une lentille de condenseur de canon 7, des aligneurs de faisceau 9, une ouverture 11 et une lentille d'objectif 13. Un filtre de Wien 15 peut être placé entre l'ouverture 11 et l'objectif 13 déviant les particules chargées émises depuis la
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cible 5 vers un détecteur 17 qui peut être placé entre l'ouverture 11 et le filtre de Wien 15. La fonction de ces composants est bien connue. Les SEM contiennent beaucoup d'autres composants bien connus, devant commander le faisceau et effectuer d'autres fonctions vitales, qui ne sont pas décrites ici pour éviter de rallonger indûment et de compliquer la description de la présente invention. Il est évident que les SEM peuvent contenir plus que l'un quelconques des composants décrits ici. Egalement, les positions des divers composants n'ont pas à être telles que représentées sur la Fig. 1, qui est présentée à des fins illustratives plutôt que dans un souci de précision.
L'enveloppe 3 du faisceau représenté sur la Fig. 1 est une enveloppe typique.
Le point de croisement 19 est commandé par une lentille de condenseur de canon 7. (Le terme"croisement"est utilisé ici pour désigner là où la majorité des électrons croisent l'axe 4, ce qui se produit là où l'enveloppe 3 se restreint à un diamètre minimal). L'emplacement vertical du point de croisement 19 peut être fixé à un endroit quelconque sur le double chemin descendant vers l'échantillon 5. Cependant, il apparaît typiquement généralement de la façon illustrée sur la Fig. 1. Il est aisément évident que l'enveloppe du faisceau se disperse en s'écartant depuis le point de croisement 1 a, jusqu'à être focalisée jusqu'à l'échantillon 5 par la lentille d'objectif 13 puissante.
Il est connu que les filtres de Wien peuvent être utilisés avantageusement dans un SEM afin de dévier les électrons secondaires, qui autrement sont difficiles à détecter sur l'axe et à proximité de l'axe, en direction du détecteur, tel que décrit dans le brevet US NO 4 658 136. En bref, un filtre de Wien utilise des électrodes, dans le but de créer un champ électrique, et des pôles magnétiques, dans le but de créer un champ magnétique. Les deux champs appliquent des forces égales et opposées sur les électrons présents dans le faisceau incident, de sorte qu'il n'est pas dévié. Cependant, du fait de son sens de déplacement opposé, un électron secondaire est affecté par la force issue du champ magnétique, s'exerçant dans la même direction que la force de champ électrique et, ainsi, est dévié. En pratique cependant, les filtres de Wien n'ont pas été largement utilisés dans ce but dans un SEM du fait que des conceptions connues"dégradent la résolution suite aux aberrations provoquées sur le faisceau primaire", (Murack, et al., J. Vac. Sci. technol. B. Vol. 17, N06).
La Fig. 1 représente un filtre de Wien à la position relative approximative dans la colonne de faisceau à laquelle il serait placé afin de dévier des particules émises vers le détecteur 17. Lorsque des particules passent par le filtre de Wien 15, l'enveloppe 3 étant conformée tel que représenté sur la Fig. 1, la résolution du faisceau incident est dégradée par deux facteurs. Premièrement, les champs électriques et magnétiques ne sont pas uniformes en s'écartant de l'axe 4. Par
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conséquent, les électrons hors axe dans l'enveloppe 3 sont soumis à des aberrations qui sont manifestées en créant une plus grande taille de point et par conséquent, par une résolution inférieure. Deuxièmement, les électrons qui passent par le filtre de Wien 15, sous un angle relativement important, ce qui se produit lorsqu'une enveloppe de faisceau 3 est conformée tel que représenté, ont une composante de vitesse transversale créant des déviations sous l'effet du champ magnétique, qui ne sont pas dans la direction du champ électrique et qui par conséquent ne peuvent être annulées par celui-ci, ce qui agit également en augmentant de façon indésirable la taille du point et diminue la résolution. Bien que la lentille d'objectif 13 soit assez forte, elle ne peut compenser les aberrations provoquées par le filtre de Wien 15 dans le système typique représenté sur la Fig. 1.
Un but de la présente invention est d'améliorer la résolution d'un faisceau d'électrons qui frappe un échantillon en cours d'imagerie lorsqu'un filtre de Wien est utilisé pour faciliter la détection des particules émises.
Un autre but de la présente invention est de fournir une amélioration de la résolution pour des SEM, ou analogues, qui utilisent le filtre de Wien.
Un autre but de la présente invention est de minimiser les aberrations provoquées par un filtre de Wien dans un SEM ou analogue.
Encore un autre but de la présente invention est de localiser un point de croisement dans une enveloppe de faisceau de particules, de manière à améliorer les caractéristiques de détection de l'instrument impliqué.
Ces buts, ainsi que d'autres, sont atteints selon un aspect de la présente invention concernant un dispositif pour utilisation d'un faisceau focalisé de particules chargées.
Selon un mode de réalisation, lesdits moyens de filtrage sont formés d'un filtre de Wien.
Selon un autre mode de réalisation, ledit faisceau a un axe et lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement sensiblement sur ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation, lesdits moyens de filtrage ont un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation, ledit faisceau a un axe et passe par lesdits moyens de filtrage, sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement dans une moitié verticalement inférieure de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation, des moyens de filtrage ont un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
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Selon un autre mode de réalisation, ledit faisceau a un axe, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par lesdits moyens de filtrage, sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation, des moyens de filtrage ont un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un autre mode de réalisation, ledit faisceau a un axe et passe par lesdits moyens de filtrage sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement sensiblement sur ledit axe et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
Selon un autre mode de réalisation, des moyens de filtrage ont un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un autre mode de réalisation, ledit faisceau a un axe et passe par lesdits moyens de filtrage, sur une distance axiale donnée, et lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
Selon un autre mode de réalisation, des moyens de filtrage ont un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens de commande commandent ladite enveloppe de faisceau pour avoir un deuxième point de croisement entre lesdits moyens de production de faisceau et lesdits moyens de filtrage.
Selon un mode de réalisation, ledit faisceau a un axe et ledit deuxième point de croisement est situé sensiblement sur ledit axe de faisceau.
Un autre aspect de l'invention est orienté sur un dispositif pour utilisation de faisceaux focalisés, de particules chargées incluant une cible et une source de particule, dirigeant un faisceau de particules pour qu'elles se déplacent de la source vers la cible et en formant une enveloppe de faisceau. Un filtre de Wien est prévu, par lequel passe le faisceau, et une lentille d'objectif, par laquelle passe le faisceau, est placée entre le filtre de Wien et la cible. Au moins un déflecteur, par lequel passe le faisceau, est placé entre la source de particule et le filtre de Wien et agit pour produire dans l'enveloppe un point de croisement de faisceau dans le filtre de Wien.
Selon un mode de réalisation, ledit déflecteur comprend au moins une lentille.
Selon un autre mode de réalisation de ce dispositif, ledit faisceau a un axe et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement sensiblement sur ledit axe de faisceau.
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Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit filtre de Wien a un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit faisceau a un axe, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement dans une moitié verticalement inférieure de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit filtre de Wien à un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit faisceau a un axe, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien sur une distance axiale donnée et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit filtre de Wien à un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit faisceau a un axe, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement sensiblement sur ledit axe et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit filtre de Wien à un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit déflecteur commande ladite enveloppe de faisceau pour avoir un deuxième point de croisement situé entre ladite source de particule et ledit filtre de Wien.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, ledit faisceau a un axe et caractérisé en ce que ledit point de croisement est sensiblement sur ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation de ce dispositif, il comprend en outre une ouverture par laquelle passe ledit faisceau caractérisé en ce que ladite enveloppe a également un point de croisement à proximité de ladite ouverture.
Encore un autre aspect de l'invention concerne un procédé d'imagerie d'une cible par utilisation d'un faisceau focalisé de particules chargées. Un faisceau de particules chargées est produit et dirigé vers la cible. Un filtre est produit par lequel passe le faisceau. Le faisceau est commandé pour former une enveloppe de configuration prédéterminée ayant au moins un point de croisement, et le point de croisement est placé à l'intérieur du filtre.
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Selon un mode de réalisation du procédé, ledit faisceau a un axe et caractérisé en ce que ledit filtre est un filtre de Wien ayant un axe sensiblement aligné avec ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation du procédé, ledit point de croisement est positionné sensiblement sur ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation du procédé, ledit faisceau a un axe, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien sur une distance axiale donnée et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation du procédé, ledit faisceau passe par ledit filtre sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit point de croisement est positionné près d'un point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation du procédé, ledit point de croisement est positionné sensiblement sur ledit axe et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
Selon un mode de réalisation du procédé, ladite enveloppe de faisceau est commandée pour avoir un deuxième point de croisement entre les moyens de production de faisceau et ledit filtre.
Selon un mode de réalisation du procédé, ledit faisceau a un axe, et caractérisé en ce que ledit deuxième point de croisement est positionné sensiblement sur ledit axe de faisceau.
Selon un mode de réalisation du procédé, celui comprend en outre l'étape de fourniture d'une ouverture par laquelle passe ledit faisceau, caractérisé en ce que ledit deuxième point de croisement est positionné à proximité de ladite ouverture.
Pour atteindre les buts ci-dessus et d'autres buts ainsi que ceci va apparaître ciaprès, la présente invention concerne l'agencement du système de déviation de faisceau incluant un filtre de Wien tel que défini dans les revendications annexées et tel que décrit dans cette demande, lue conjointement avec les dessins annexés, dans lesquels :
La Fig. 1 illustre schématiquement un système SEM typique de l'art antérieur, utilisant un filtre de Wien ; et
La Fig. 2 illustre schématiquement un système SEM incluant un filtre de Wien, amélioré selon la présente invention.
La Fig. 1 illustre schématiquement un système SEM typique de l'art antérieur, utilisant un filtre de Wien ; et
La Fig. 2 illustre schématiquement un système SEM incluant un filtre de Wien, amélioré selon la présente invention.
Nous avons découvert que le problème de résolution produit par le filtre de Wien dans des systèmes du type discuté, pouvait être grandement amélioré en faisant que l'enveloppe de faisceau émis lorsqu'il passe de la source d'électrons 1 vers l'échantillon 5 ait un point de croisement en elle et, de préférence, centré dans le filtre de Wien lui-même. Lorsqu'on effectue ceci, les aberrations produites par le filtre de
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Wien sont ainsi atténuées que la lentille d'objectif 13 est suffisamment forte pour pratiquement les compenser. En ajoutant une instrumentalité de focalisation de faisceau additionnel et en l'alimentant de manière appropriée, on obtient une résolution de système qui est grandement améliorée.
Tel que représenté sur la Fig. 2, une lentille intermédiaire 21 a été ajoutée au système de la Fig. 1. La lentille intermédiaire 21 est de préférence une lentille électrostatique, parce que le champ d'une telle lentille est plus aisée à isoler du champ qu'on trouve dans la région du détecteur 17, même si le détecteur est proche de la lentille 21, empêchant de cette manière toute dispersion des électrons émis.
Cependant, une lentille magnétique peut être utilisée pour la lentille 21, lorsqu'une résolution plus élevée est souhaitée, bien qu'une plus grande séparation soit nécessaire entre une lentille magnétique et le détecteur 17.
La lentille de condenseur de canon 17 et la lentille intermédiaire 21 sont alimentés de telle manière et l'ouverture 11 est placée entre les lentilles 7 et 21 de telle manière que l'enveloppe de faisceau 3A prend une forme différente (globalement qualifiée d'enveloppe déviée par un déflecteur) par rapport à celle représentée sur la Fig. 1 avec un point de croisement 19A placé à proximité de l'ouverture 11, mais avec un point de croisement 19B additionnel placé dans les confins verticaux du filtre de Wien 15. Le point de croisement 19B est de préférence placé sur l'axe 4 et essentiellement à mi-distance entre les extrémités supérieures et inférieures du passage, traversées par le faisceau incident passant par le filtre de Wien 15. En variante, le point de croisement 19B peut être positionné sur l'axe 4, dans la moitié inférieure du filtre de Wien, mais aussi près que possible du point situé à mi-distance.
Il a été trouvé que le fait d'utiliser la lentille 21 pour produire le point de croisement 19B dans le filtre de Wien 15, avait l'effet global de maintenir l'enveloppe de faisceau d'électrons plus proche de l'axe 4, ce qui en soi minimise les aberrations.
Ceci est autre avantage significatif apporté au système de la présente invention dans le positionnement du point de croisement 19B au centre du filtre de Wien 15. Etant donné que le filtre de Wien est essentiellement formé d'un jeu de déflecteurs, la déflection entrant axiale apparaît provenir du centre du filtre. Dans un scénario idéalisé, le point de croisement 19B que l'on a dans le filtre de Wien 15 est un objet virtuel pour l'image finale, précisément le point sur l'échantillon formé par le faisceau primaire. En résultat, le filtre de Wien peut être ajusté pour optimiser la trajectoire du faisceau passant par la lentille d'objectif, dans le but de rendre maximale l'intensité et minimale les aberrations, sans qu'il y ait décalage de la position de l'image finale sur l'échantillon.
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Il est identifié que le fait de produire le point de croisement 19B à l'intérieur du filtre de Wien va produire une certaine dispersion du faisceau au-dessous du filtre de Wien. Cependant, la lentille d'objectif 13 qui est la lentille la plus puissante dans la colonne est suffisamment puissante pour refocaliser le faisceau et offrir la résolution souhaitée.
Il est à noter que ce que l'on a représenté sur les Figs. 1 et 2 est non seulement schématique, mais également n'est pas dessiné à l'échelle, que tous les éléments d'un SEM ne sont pas illustrés, mais uniquement ceux qui sont vraiment importants pour la présente invention et qu'ils fait vraiment partie de l'aptitude de l'homme de l'art ordinaire des SEM de déterminer de concevoir l'agencement structurel particulier et les instrumentalitées électriques pour produire les fonctions de lentille, de déviation et d'ouverture des éléments décrits. En effet, bien que la description de l'invention présentée ci-dessus décrive uniquement trois déflecteurs ou lentilles (7,9 et 13) en plus du filtre de Wien tel que représenté, une déviation de faisceau correcte pourra être obtenue avec un nombre inférieur ou supérieure de déflecteurs, ou avec des déflecteurs positionnés différemment de ceux représentés sur les figures.
L'emplacement du point de croisement 19B dans le filtre de Wien 15 a comme effet de produire l'amélioration souhaitée de la résolution du système et l'homme de l'art connaît de nombreuses manières de produire et de localiser ce point de croisement.
Bien que l'on ait décrit spécifiquement ci-dessus uniquement un mode de réalisation unique de la présente invention, diverses modifications à celui-ci vont être aisément évidentes à tout homme de l'art. La totalité de ces modifications sont considérées comme tombant dans le champ de la présente invention, tel que défini dans les revendications annexées.
Claims (34)
1. Dispositif pour utilisation d'un faisceau focalisé de particules chargées, comprenant : des moyens pour produire un faisceau de particules (2) chargées orientés vers une cible, des moyens pour commander ledit faisceau afin de former une enveloppe (3), d'une configuration prédéterminée, ayant au moins un point de croisement (19), et des moyens de filtrage (15), par lesquels passe ledit faisceau, caractérisé en ce que lesdits moyens de commande du faisceau positionnent ledit point de croisement (19) à l'intérieur desdits moyens de filtrage (15).
2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits moyens de filtrage (15) sont formés d'un filtre de Wien (15).
3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4) et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement (19) sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
4. Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que lesdits moyens de filtrage (15) ont un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
5. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par lesdits moyens de filtrage (15), sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement (19) dans une moitié verticalement inférieure de ladite distance axiale.
6. Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce que des moyens de filtrage (15) ont un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
7. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par lesdits moyens de filtrage (15), sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement (19) à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
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8. Dispositif selon la revendication 7, caractérisé en ce que des moyens de filtrage (15) ont un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
9. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par lesdits moyens de filtrage (15), sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que lesdits moyens de commande positionnent ledit point de croisement (19) sensiblement sur ledit axe (4) et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
10. Dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que des moyens de filtrage (15) ont un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
11. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits moyens de commande commandent ladite enveloppe (3) de faisceau pour avoir un deuxième point de croisement (19) entre lesdits moyens de production de faisceau et lesdits moyens de filtrage (15).
12. Dispositif selon la revendication 11, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4) et caractérisé en ce que ledit deuxième point de croisement (19) est situé sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
13. Dispositif pour utilisation de faisceaux focalisés de particules chargées, caractérisé en ce qu'il comprend : une cible, une source de particules, dirigeant un faisceau de particules (2) pour qu'elles se déplace de ladite source vers ladite cible et en formant une enveloppe (3) de faisceau, un filtre de Wien (15), par lequel passe ledit faisceau, une lentille d'objectif par laquelle passe ledit faisceau, et placé entre ledit filtre de Wien (15) et ladite cible, au moins un déflecteur, entre ladite source de particules et ledit filtre de Wien (15), par lequel passe ledit faisceau et agissant pour produire dans ladite enveloppe (3), un point de croisement (19) de faisceau à l'intérieur dudit filtre de Wien (15).
14. Dispositif selon la revendication 13, caractérisé en ce que ledit déflecteur comprend au moins une lentille.
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15. Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4) et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement (19) sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
16. Dispositif selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit filtre de Wien (15) a un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
17. Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien (15) sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement (19) dans une moitié verticalement inférieure de ladite distance axiale.
18. Dispositif selon la revendication 17, caractérisé en ce que ledit filtre de Wien (15) à un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
19. Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien (15) sur une distance axiale donnée et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement (19) à proximité d'un point médian de ladite distance axiale.
20. Dispositif selon la revendication 19, caractérisé en ce que ledit filtre de Wien (15) à un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
21. Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre de Wien (15) sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit déflecteur positionne ledit point de croisement (19) sensiblement sur ledit axe (4) et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
22. Dispositif selon la revendication 21, caractérisé en ce que ledit filtre de Wien (15) à un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
23. Dispositif selon la revendication 13, caractérisé en ce que ledit déflecteur commande ladite enveloppe (3) de faisceau pour avoir un deuxième point de croisement (19) situé entre ladite source de particule et ledit filtre de Wien (15).
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24. Dispositif selon la revendication 23, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4) et caractérisé en ce que ledit point de croisement (19) est sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
25. Dispositif selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une ouverture (11) par laquelle passe ledit faisceau caractérisé en ce que ladite enveloppe (3) a également un point de croisement (19) à proximité de ladite ouverture (11).
26. Procédé d'imagerie d'une cible, par utilisation d'un faisceau focalisé de particules chargées, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : produire un faisceau de particules (2) chargées avec des moyens de production de faisceau, diriger ledit faisceau vers la cible, fournir un filtre par lequel passe ledit faisceau, commander ledit faisceau pour former une enveloppe (3) d'une configuration prédéterminée ayant au moins un point de croisement (19), et positionner ledit point de croisement (19) à l'intérieur dudit filtre.
27. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4) et caractérisé en ce que ledit filtre est un filtre de Wien (15) ayant un axe (4) sensiblement aligné avec ledit axe (4) de faisceau.
28. Procédé selon la revendication 27, caractérisé en ce que ledit point de croisement (19) est positionné sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
29. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit point de croisement (19) est positionné dans une moitié verticalement inférieure de ladite distance axiale.
30. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit point de croisement (19) est positionné près d'un point médian de ladite distance axiale.
31. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que ledit faisceau passe par ledit filtre sur une distance axiale donnée, et caractérisé en ce que ledit
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point de croisement (19) est positionné sensiblement sur ledit axe (4) et à proximité du point médian de ladite distance axiale.
32. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que ladite enveloppe (3) de faisceau est commandée pour avoir un deuxième point de croisement (19) entre les moyens de production de faisceau et ledit filtre.
33. Procédé selon la revendication 32, caractérisé en ce que ledit faisceau a un axe (4), et caractérisé en ce que ledit deuxième point de croisement (19) est positionné sensiblement sur ledit axe (4) de faisceau.
34. Procédé selon la revendication 32, comprenant en outre l'étape de fourniture d'une ouverture (11) par laquelle passe ledit faisceau, caractérisé en ce que ledit deuxième point de croisement (19) est positionné à proximité de ladite ouverture (11).
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