FR2725215A1 - Cellule d'electrodeposition en continu d'alliages metalliques - Google Patents
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Abstract
Cellule d'électrodéposition comprenant une cuve d'électrolyse (2) contenant un bain d'électrodéposition (S), au moins une anode immergée (3) dans ledit bain (S), des moyens pour faire défiler la bande dans le bain (S) face à la surface active d'un rebord (3A) de ladite surface active (13) à un autre rebord opposé (3B) de la même surface (13), et des masques électriquement isolants (4A, 4B) disposés le long desdits rebords (3A, 3B) et débordant par rapport auxdits rebords d'une largeur au moins égale à la distance séparant ladite anode (3) du chemin de défilement de bande. Application pour le revêtement en continu de bandes métalliques, notamment d'acier, d'une couche d'alliage, notamment à base de zinc, présentant des propriétés mécaniques améliorées, notamment pour résister à l'effritement lors de déformations ou au gravillonnage après mise en peinture.
Description
L'invention concerne une cellule d'électrodéposition pour le revêtement en
continu de bandes métalliques par une couche d'alliage métallique. Dans la mise en oeuvre ou l'utilisation d'une tôle revêtue en continu par électrodéposition d'une couche d'alliage métallique, notamment d'une tôle revêtue d'alliage de zinc, on a constaté un certain nombre de problèmes, notamment au moment de la mise en forme ou après mise en peinture. A l'emboutissage d'une telle tôle revêtue, on observe fréquemment un effritement du revêtement, ou "poudrage", qui provoque un encrassement des outils de mise en forme et une diminution de la protection apportée à la
tôle par le revêtement.
Lors de certaines opérations de mise en forme de ladite tôle, notamment de pliage, on observe parfois également un décollage d'une partie du revêtement, notamment par délamination dans l'épaisseur même
du revêtement.
Par ailleurs, une telle tôle revêtue par électrodéposition d'une couche d'alliage métallique puis peinte, notamment par cataphorèse, ne présente pas au test de gravillonnage une résistance suffisante, notamment pour des applications automobiles; le test de gravillonnage consiste à projeter sur la tôle peinte des gravillons solides et à évaluer la résistance au gravillonnage par exemple en comptant le nombre d'impacts sur la tôle o la peinture a été arrachée; après le test de gravillonnage d'une telle tôle peinte, on observe en effet des écaillages nombreux de peinture et on constate que l'arrachement des écailles de peinture se produit en fait dans
l'épaisseur du revêtement électrodéposé.
Pour éviter ces problèmes au moment de la mise en forme de telles
tôles, il est possible d'améliorer la lubrification des outils de mise en forme.
Pour améliorer la résistance au gravillonnage de telles tôles qui sont
peintes, il est possible d'augmenter l'épaisseur de la couche de peinture.
Néanmoins, de telles solutions rendent plus complexes et plus coûteuses les opérations de mise en forme et de mise en peinture de ces tôles. L'invention a pour but d'améliorer la qualité, notamment la résistance mécanique, des revêtements d'alliages métalliques déposés en continu par
électrodéposition sur des bandes métalliques.
L'invention a pour objet une cellule d'électrodéposition pour le revêtement en continu d'une bande métallique, notamment par une couche d'alliage métallique, comprenant une cuve d'électrolyse contenant un bain d'électrodéposition, au moins une anode immergée dans ledit bain et présentant une surface active délimitée par des rebords, des moyens pour faire défiler la bande dans le bain face à ladite surface active d'un rebord de ladite surface à un autre rebord opposé de la même surface, lesdits moyens définissant un chemin de défilement de bande, et des moyens pour faire passer un courant électrique entre ladite anode et ladite bande en défilement servant de cathode, caractérisée en ce que la dite surface active de chaque anode immergée est bordée sur chacun desdits deux rebords opposés par un masque présentant, le long dudit rebord correspondant et face audit chemin de défilement, une surface électriquement isolante, plus proche dudit chemin de défilement que ledit rebord et débordant vers l'extérieur de ladite surface active d'anode d'une largeur de débordement, mesurée le long de la direction de défilement, au moins égale à la distance
qui sépare ledit rebord dudit chemin de défilement.
L'invention peut également présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes: - la distance qui sépare chaque masque bordant un rebord de surface active d'anode, du chemin de défilement de bande est inférieure à 0,5 fois la distance qui sépare ledit rebord du chemin de défilement de bande, - ledit masque est en forme de panneau plan et intégralement construit en un matériau électriquement isolant, - I'épaisseur dudit panneau est inférieure à la distance qui sépare ledit rebord du chemin de défilement de bande et une portion dudit panneau est insérée dans l'intervalle qui sépare ladite anode dudit chemin de défilement de bande pour recouvrir ledit rebord, - ladite cellule est de type radial, lesdites anodes sont solubles et/ou ledit bain d'électrodéposition est à base d'anions chlorures, L'invention a également pour objet une installation d'électrodéposition pour le revêtement en continu d'une bande métallique, notamment par une couche d'alliage métallique, comprenant une succession en cascade de
cellules selon l'invention.
L'invention a également pour objet l'utilisation de cellules d'électrodéposition selon l'invention pour le revêtement en continu de
bandes métalliques par une couche d'alliage métallique.
Dans ce cas, I'invention peut également présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes - ledit alliage métallique est à base de zinc,
- la teneur pondérale en zinc dudit alliage est supérieure à 10%.
L'invention a encore pour objet un procédé de revêtement d'une bande métallique par électrodéposition d'un alliage métallique, notamment à base de zinc, a l'aide d'une installation comprenant plusieurs cellules selon l'invention disposées en cascade dans lequel on fait défiler ladite bande successivement dans lesdites cellules de l'installation, on fait circuler un courant électrique entre les anodes des cellules et ladite bande en défilement, caractérisée en ce que la vitesse de défilement de ladite bande dans l'installation est supérieure à 50 m/minute et/ou la densité du courant électrique circulant entre les anodes des cellules et ladite bande est
supérieure à 50 A/dm2.
L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va
suivre, donnée à titre d'exemple et en référence aux dessins annexés, sur lesquels: - la figure 1 est un schéma en coupe d'une cellule plane d'électrodéposition selon l'invention, - la figure 2 est un schéma en coupe d'une cellule radiale
d'électrodéposition selon l'invention.
L'installation d'électrodéposition comprend plusieurs cellules
d'électrodéposition identiques disposées en cascade.
La première cellule de l'installation est représentée à la figure 1, désignée dans son ensemble par la référence 1, et comprend une cuve d'électrolyse 2 contenant un bain d'électrodéposition S, des moyens assurant le défilement d'une bande métallique B dans le bain S et définissant un chemin de défilement de bande, et, positionnés successivement sous le chemin de défilement de bande et face à lui, deux anodes 3; la cellule 1 comprend également des moyens de circulation d'un courant électrique entre lesdites anodes 3 et la bande B en défilement
servant de cathode, qui ne sont pas représentés ici.
Sans se départir de la présente invention, la cellule d'électrodéposition
peut comporter moins ou plus de deux anodes successives.
La nature des anodes, la nature, la température et la composition du bain d'électrodéposition seront précisés ultérieurement dans l'exposé de la
mise en oeuvre de la cellule selon l'invention.
Les moyens de défilement comprennent des cylindres de support de bande à axes parallèles, à savoir deux cylindres d'entrée de bande 5,6, deux cylindres de sortie de bande 7,8 et un cylindre intermédiaire 9 de soutien de bande dans la cuve. Du côté de l'entrée comme du côté de la sortie de la cuve, I'un 6,7 des deux cylindres est immergé, I'autre 5,8 est émergé; le cylindre intermédiaire 9 est immergé; les cylindres émergés ,8 sont conducteurs et sont motorisés pour entraîner la bande B en défilement. Les trois cylindres 6,9,7 immergés dans la cuve d'électrolyse définissent le chemin de défilement de bande dans la cuve d'électrolyse,
qui est ici approximativement dans un plan horizontal.
Les deux anodes 3 sont positionnées chacune entre deux cylindres immergés et présentent chacune une surface active plane 13 placée au
dessous du chemin de défilement de bande et orientée parallèlement à lui.
La distance qui sépare la surface active 13 des anodes 3 du chemin
de défilement de bande est de préférence comprise entre 0,5 et 10 cm.
D'une manière connue en elle-même et non décrite ici, les surfaces actives 13 des anodes 3 s'étendent transversalement à la direction de défilement sur toute la largeur de la bande à revêtir. Par ailleurs, les surfaces actives 13 des anodes 3 s'étendent le long de la direction de
défilement de bande entre deux rebords opposés 3A, 3B.
Selon l'invention, chaque anode 3 est bordée, le long de ces deux rebords opposés 3A,3B, par deux masques 4A,4B en forme de panneaux
plans étroits.
Chaque masque 4A, 4B en forme de panneau s'étend le long d'un rebord correspondant 3A, 3B de la surface active d'anode 3 et est disposé dans un plan approximativement parallèle au chemin de défilement de
bande.
Les masques sont en matériau électriquement isolant, de préférence
en matériau composite ou en matière plastique.
Les masques 4A, 4B, qui longent chacun un rebord 3A, 3B de surface active d'anode, sont toujours plus proches du chemin de défilement de bande que les anodes. De préférence, la distance qui sépare un masque 4A, 4B du chemin de défilement de bande est inférieure à 0,5 fois la distance inter-électrode, c'est à dire celle qui sépare le rebord
correspondant 3A, 3B du même chemin de défilement.
Sans se départir de l'invention, les masques peuvent se présenter sous un forme différente de celle d'un panneau plan étroit tout en offrant, face au chemin de défilement et le long d'un rebord de surface active d'anode, une surface de masquage électriquement isolante et plus proche
du chemin de défilement que ledit rebord.
L'épaisseur des masques 4A, 4B est de préférence largement inférieure à ladite distance inter-électrode, de telle sorte que lesdits masques peuvent être partiellement insérés entre l'anode et le chemin de
défilement de bande sous le rebord de surface active d'anode.
Ainsi, I'épaisseur des masques est couramment de l'ordre de 1 cm. De préférence, chaque masque 4A, 4B, qui longe un rebord 3A, 3B de surface active d'anode, présente une intersection continue avec la surface abstraite passant par ledit rebord 3A, 3B et orthogonale au chemin
de défilement de bande.
Le masque 4A, 4B, en forme de panneau plan étroit, s'étend en largeur de chaque côté de ladite intersection, c'est à dire, recouvrant d'un côté le rebord correspondant 3A, 3B de la surface active d'anode et débordant largement de l'autre côté vers l'extérieur de ladite surface active. De préférence, la largeur de recouvrement du masque 4A, 4B par rapport au rebord 3A, 3B correspondant d'anode 3 est très faible et
inférieure à 1 cm.
La largeur de débordement du masque 4A, 4B par rapport au rebord 3A, 3B correspondant d'anode 3 est supérieure ou égale à la distance
inter-électrode, au niveau dudit rebord.
Selon une variante de l'invention, le masque, en forme de panneau plan étroit, s'étend en largeur vers l'extérieur de la surface active d'anode,
sans recouvrir le rebord correspondant de surface active d'anode.
Selon la description ci-dessus, chaque anode 3 est ainsi bordée par
deux masques 4A, 4B le long de deux rebords opposés 3A, 3B; selon une variante de l'invention, deux masques, qui se suivent immédiatement le long du chemin de défilement de bande et qui encadrent deux anodes successives, peuvent être jointifs et ne former qu'un seul panneau plan. Un
même masque peut ainsi servir à border deux anodes successives.
Les moyens de circulation d'un courant électrique entre les anodes 3 et la bande en défilement servant de cathode comprennent les deux cylindres émergés 5,8 qui sont conducteurs, sont connus par ailleurs en
eux mêmes et ne sont pas décrits ici en détail.
L'invention s'applique à toutes les géométries de cellule d'électrodéposition, notamment aux cellules radiales; on a ainsi représenté à la figure 2 un schéma en coupe d'une cellule radiale, désignée dans son ensemble par la référence 1', comprenant une cuve 2' contenant un bain d'électrodéposition S', des moyens de défilement de bande comprenant deux cylindres émergés conducteurs 5', 8' et un cylindre partiellement immergé 9' dont la surface définit le chemin de défilement de bande, deux anodes immergées 3' en forme d'arc de cercle faisant face à la partie
immergée dudit cylindre 9', et trois masques 10, 1 1 et 12.
Le premier masque 10 se situe au niveau du rebord d'anode qui voit la bande rentrer dans le bain et le troisième masque 12 se situe au niveau du
dernier rebord d'anode qui voit la bande sortir du bain.
Dans la configuration particulière représentée à la figure 2, le premier
et le troisième masques peuvent présenter une partie émergée.
Le deuxième masque 11 est un masque intermédiaire qui s'étend entre les deux anodes 3' et borde donc à la fois un des rebords de chaque
anode 3'.
Selon une variante de l'invention, lorsque la cellule d'électrodéposition est dotée de dispositifs d'injection de bain d'électrodéposition, en particulier de rampes d'éjecteurs également positionnés au niveau de rebords d'anodes et débouchant dans l'intervalle séparant les anodes du chemin de défilement de bande, les masques peuvent être supportés par
lesdites rampes.
Dans le cas o une desdites rampes présente un seul éjecteur s'étendant sur toute la largeur du chemin de défilement de bande, ledit éjecteur peut avantageusement servir de masque à condition d'être électriquement isolant et la surface de masquage qui fait face au chemin de
défilement de bande n'est pas forcément plane.
On va maintenant décrire la mise en oeuvre de l'installation d'électrodéposition comprenant une succession de cellules d'électrodéposition 1 selon l'invention pour procéder au revêtement d'une couche d'alliage de zinc à la surface d'une bande d'acier B. On équipe les différentes cellules 1 de l'installation d'anodes solubles
en zinc.
On remplit les cuves 2 des différentes cellules 1 d'un bain d'électrodéposition S à base d'anions chlorures et contenant des cations de zinc et des éléments d'alliage dans des proportions et des concentrations connues en elles-mêmes pour obtenir ladite couche d'alliage
à la composition souhaitée.
De préférence, lesdits éléments d'alliage sont choisis parmi le nickel,
le fer ou le cobalt.
A l'aide des moyens de défilement de bande, on fait défiler la bande B
successivement dans chacune des cellules de l'installation.
A l'aide des moyens de circulation du courant électrique, on fait passer un courant électrique entre les anodes des différentes cellules et la
bande d'acier B servant de cathode.
La vitesse de défilement de bande et la densité de courant électrique des différentes cellules sont ajustées d'une manière connue en elle-même, en particulier en fonction de l'épaisseur de la couche d'électrodéposition souhaitée. De préférence, la vitesse de défilement de bande est supérieure à 50 m/min.
De préférence, la densité de courant est supérieure à 50 A/dm2.
La demanderesse a constaté avec surprise qu'on ne constatait que très peu d'effritement du revêtement électrodéposé lors d'opérations ultérieures de mise en forme, notamment d'emboutissage, d'une bande d'acier ainsi revêtue d'alliage de zinc, ou de tôles découpées dans la dite bande, même lorsque ces opérations de mise en forme entraînent des
déformations importantes de ladite bande ou desdites tôles.
La demanderesse a constaté également avec surprise que ladite bande peinte, notamment par cataphorèse, résistait beaucoup mieux au test de gravillonnage qu'une tôle revêtue de manière classique de la même couche
d'alliage et peinte de la même façon.
Selon une variante de l'invention, on équipe les cellules de l'installation d'électrodéposition d'électrodes insolubles et on remplit les cuves des cellules d'un bain d'électrolyse à base d'autres anions que
d'ions chlorures, notamment d'ions sulfates.
Selon une autre variante de l'invention, la couche électrodéposée est un alliage métallique basé sur d'autres métaux que le zinc, notamment à base d'étain et de plomb, ou à base de fer et de nickel, ou à base de cuivre et de nickel. La composition du bain d'électrodéposition est adaptée d'une
manière connue en elle-même au type d'alliage du revêtement à déposer.
On peut mettre en oeuvre l'installation d'électrodéposition décrite ci-
dessus pour procéder au revêtement de bande d'acier ou d'autres bandes
métalliques, notamment de bandes en acier inoxydable.
Globalement, la demanderesse a constaté qu'en utilisant une installation comprenant une succession de cellules selon l'invention pour revêtir en continu une bande métallique, notamment d'acier, d'une couche d'alliage, notamment à base de zinc, on obtenait avantageusement un revêtement présentant dans son épaisseur une grande homogénéité, notamment de composition, et d'excellentes propriétés mécaniques,
notamment une résistance à la délamination.
La demanderesse attribue cette grande homogénéité de composition au fait que les masques bordant les anodes des cellules d'électrodéposition de l'installation provoquent une variation brutale du passage du courant électrique responsable de l'électrodéposition lors du défilement de la bande
successivement face aux différentes anodes de l'installation.
Les exemples suivants illustrent l'invention Essai 1: Cet essai a pour but de préparer un revêtement d'alliage de zinc sur
une bande d'acier dans des cellules d'électrodéposition selon l'invention.
L'installation d'électrodéposition comporte une succession de cellules radiales 1' selon l'invention, du type précédemment décrit et représenté à
la figure 2.
Le cylindre partiellement immergé 9' qui définit le chemin de défilement de bande dans la cellule présente une largeur de 2 m et un
diamètre de 2 m.
Les deux anodes 3' sont en zinc et solubles. La distance moyenne
séparant les anodes et ledit cylindre 9' est de 3 cm.
Les trois masques 10, 11 et 12 sont disposés à environ 1 cm dudit cylindre 9' et pénètrent à peine, sur une profondeur de moins de 1 cm,
dans l'intervalle qui sépare les anodes 3' dudit cylindre 9'.
Les trois masques 10, 11, 12 qui bordent les deux anodes sont des panneaux plans en polypropylène de 2 m de long, environ 20 cm de large
et de 1 cm d'épaisseur.
Le bain d'électrodéposition contient - 140 g/I d'ions de zinc, - 16 g/I d'ions de nickel,
- 300 g/I d'ions chlorure.
La température du bain est maintenue à 57 C et le pH du bain est maintenu à une valeur de environ 4,5 par des additions d'acide chlorhydrique. La bande à revêtir est en acier, présente une largeur de 1,5 m et une
épaisseur de 1 mm.
On fait défiler la bande dans l'installation à une vitesse de 100 m/min.
et on fait passer un courant électrique entre les anodes et la bande de 100 A/dm2. On obtient une bande revêtue sur une face d'une couche d'alliage de zinc contenant 12% en poids de nickel et d'une épaisseur d'environ 4 micromètres. Essai 2: Cet essai a pour but d'indiquer qu'une tôle revêtue selon l'invention d'une couche d'alliage peut être mise en forme sans risque de dégradation sensible de son revêtement. A partir d'une même bande d'acier, on prépare trois flans de tôles de mêmes dimensions A, B, C revêtues selon trois procédés différents d'une même couche d'épaisseur 4 micromètres d'alliage zinc-nickel à 12%
pondérai en nickel.
Le revêtement du flan de tôle A a été préparé en discontinu d'une manière connue en elle-même en immergeant et en maintenant ledit flan de tôle à revêtir dans une cellule d'électrodéposition face à une anode, sans défilement, et en faisant passer un courant électrique entre ladite anode et
le flan de tôle servant de cathode.
Le flan de tôle B est découpé dans une bande d'acier revêtue en continu selon l'art antérieur, c'est à dire par défilement de ladite bande dans des cellules d'électrodéposition qui ne sont pas dotées de masques d'anodes. Le flan de tôle C est découpé dans une bande d'acier revêtue en
continu selon l'essai n 1 ci-dessus.
On procède ensuite dans les mêmes conditions à l'emboutissage des flans de tôles A, B, C et on mesure, à l'issue de l'opération d'emboutissage, la perte de poids de chaque flan de tôle rapportée à la surface du revêtement. Le résultat de la mesure est un indicateur
proportionnel à l'effritement ou au "poudrage" du revêtement.
On obtient les résultats suivants de perte de poids par unité de
surface: flan A: 0,3 g/m2 - flan B: 1,1 g/m2 - flan C: 0,4 g/m2.
Ainsi, le revêtement d'alliage préparé en continu sur une tôle d'acier dans des cellules d'électrodéposition selon l'invention présente une
excellente résistance à l'effritement et au "poudrage".
Essai n 3: Cet essai a pour but d'indiquer qu'une tôle peinte préalablement revêtue selon l'invention d'une couche d'alliage résiste particulièrement
bien au test de gravillonnage.
D'une manière connue en elle-même, on peint par cataphorèse et dans les mêmes conditions chaque flan de tôle A, B, C de l'essai n 2. D'une manière classique, I'épaisseur de la couche de peinture est d'environ 100 micromètres. On soumet ensuite chaque flan de tôle A, B, C au même test de gravillonnage, qui consiste à projeter pendant un temps prédéterminé des
gravillons sur les flans de tôle à tester.
Selon la résistance du revêtement, les impacts de gravillons sur les flans de tôle peinte A, B, C, provoquent ou non des arrachements de la
peinture et du revêtement.
On mesure d'une manière connue en elle-même et dans une échelle de O à 7 la proportion de surface peinte qui a été arrachée lors du test, O signifiant l'absence d'arrachement et une excellente résistance au gravillonnage et 7 signifiant un arrachement très important et une mauvaise
résistance au gravillonnage.
Les résultats des mesures de résistance au gravillonnage sont les
suivants: flan A: 2 - flan B: 4 - flan C: 2.
Par l'observation des points d'impact, on constate que l'arrachement de peinture sur le flan B entraîne souvent, par délamination, une partie du revêtement d'alliage alors que l'arrachement de peinture sur les flans A et B n'entraîne généralement pas le revêtement. Cette observation permet d'attribuer les meilleures performances réalisées sur les flans A et C au
revêtement d'alliage lui-même.
On constate donc une amélioration très sensible de la résistance au gravillonnage de tôles peintes préalablement revêtue d'alliage en continu selon l'invention par rapport à celle de tôles peintes de la même façon et préalablement revêtues en continu de la même couche d'alliage, mais d'une manière classique, notamment à l'aide de cellules d'électrodéposition
ne comportant pas de masques.
ll
Claims (8)
1.- Cellule d'électrodéposition (1) pour le revêtement en continu d'une bande métallique (B), notamment par une couche d'alliage métallique, comprenant une cuve d'électrolyse (2) contenant un bain d'électrodéposition (S), au moins une anode immergée (3) dans ledit bain et présentant une surface active (13) délimitée par des rebords, des moyens pour faire défiler la bande dans le bain (S) face à ladite surface active d'un rebord (3A) de ladite surface active à un autre rebord opposé (3B) de la même surface, lesdits moyens définissant un chemin de défilement de bande, et des moyens pour faire passer un courant électrique entre ladite anode (3) et ladite bande (B) en défilement servant de cathode, caractérisée en ce que la dite surface active (13) de chaque anode immergée (3) est bordée sur chacun desdits deux rebords opposés (3A, 3B) par un masque (4A, 4B) présentant, le long dudit rebord (3A, 3B) correspondant et face audit chemin de défilement, une surface électriquement isolante, plus proche dudit chemin de défilement que ledit rebord (3A, 3B) et débordant vers l'extérieur de ladite surface active (13) d'anode d'une largeur de débordement, mesurée le long de la direction de défilement, au moins égale à la distance qui sépare ledit rebord (3A, 3B)
dudit chemin de défilement.
2.- Cellule d'électrodéposition selon la revendication 1, caractérisée en ce que la distance qui sépare chaque masque (4A, 4B), bordant un rebord (3A, 3B) de surface active (13) d'anode (3), du chemin de défilement de bande est inférieure à 0,5 fois la distance qui sépare ledit rebord (3A, 3B)
du chemin de défilement de bande.
3.- Cellule d'électrodéposition selon l'une quelconque des
revendications 1 ou 2, caractérisée en ce que ledit masque (4A, 4B) est en
forme de panneau plan et en matériau électriquement isolant.
4.- Cellule d'électrodéposition selon la revendication 3, caractérisée en ce que l'épaisseur dudit panneau est inférieure à la distance qui sépare ledit rebord (3A, 3B) du chemin de défilement de bande et en ce qu'une portion dudit panneau est insérée dans l'intervalle qui sépare ladite anode (3) dudit chemin de défilement de bande pour recouvrir ledit rebord
(3A, 3B).
5.- Cellule d'électrodéposition selon l'une quelconque des
revendications 1 à 4, caractérisée en ce que ladite cellule est de type
radial. 6.- Cellule d'électrodéposition selon l'une quelconque des
revendications 1 à 5 caractérisée en ce que lesdites anodes (3) sont
solubles et/ou en ce que ledit bain d'électrodéposition (S) est à base d'anions chlorures, 7.- Installation d'électrodéposition pour le revêtement en continu d'une bande métallique (B), notamment par une couche d'alliage métallique, comprenant une succession en cascade de cellules (1) selon
l'une quelconque des revendications 1 à 6.
8.- Utilisation d'une cellule d'électrodéposition selon l'une quelconque
des revendications 1 à 6 ou d'une installation d'électrodéposition selon la
revendication 7 pour le revêtement en continu de bandes métalliques (B)
par une couche d'alliage métallique.
9.- Utilisation selon la revendication 8 caractérisée en ce que ledit alliage est à base de zinc, 10.- Utilisation selon la revendication 9 caractérisée en ce que la
teneur pondérale en zinc dudit alliage est supérieure à 10%.
11.- Procédé de revêtement d'une bande métallique (B) par électrodéposition d'un alliage métallique, notamment à base de zinc, à l'aide d'une installation comprenant plusieurs cellules (1) selon l'une
quelconques des revendications 1 à 6, disposées en cascade dans lequel
on fait défiler ladite bande (B) successivement dans lesdites cellules (1) de l'installation, on fait circuler un courant électrique entre les anodes (3) des cellules et ladite bande (B) en défilement, caractérisée en ce que la vitesse de défilement de ladite bande (B) dans l'installation est supérieure à 50 m/minute et/ou la densité du courant électrique circulant entre les anodes
(3) des cellules et ladite bande (B) est supérieure à 50 A/dm2.
Priority Applications (8)
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