FR2625600A1 - Procede pour ajuster un condensateur plan - Google Patents
Procede pour ajuster un condensateur plan Download PDFInfo
- Publication number
- FR2625600A1 FR2625600A1 FR8817414A FR8817414A FR2625600A1 FR 2625600 A1 FR2625600 A1 FR 2625600A1 FR 8817414 A FR8817414 A FR 8817414A FR 8817414 A FR8817414 A FR 8817414A FR 2625600 A1 FR2625600 A1 FR 2625600A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- lower electrode
- electrode
- substrate
- capacitor
- laser emission
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/255—Means for correcting the capacitance value
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/351—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for trimming or tuning of electrical components
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
On focalise une émission laser sur une électrode 2 d'un condensateur formé sur un substrat 1 transparent à l'émission laser et comportant une électrode supérieure 4, une couche isolante 3 et une électrode inférieure 2, pour obtenir un effet de passivation sur l'électrode. On focalise l'émission laser localement sur l'électrode inférieure 2 à travers le substrat 1 pour obtenir un effet de chauffage sur l'électrode inférieure 2. Ceci oxyde le matériau de l'électrode de sorte que l'électrode inférieure 2 passe localement à un état électriquement non conducteur, tout en étant protégée par le substrat 1 et par la couche isolante 3. Utilisation pour rendre l'ajustement stable dans le temps.
Description
La présente invention concerne un procédé pour ajuster un condensateur
plan, procédé dans lequel on
focalise une émission laser sur une électrode d'un conden-
sateur formé sur un substrat transparent à l'émission laser et comportant une électrode supérieure, une couche isolante
et une électrode inférieure, pour obtenir un effet de pas-
sivation sur l'électrode.
On connaît d'après le US-A-3 597 579, un procédé
d'ajustement des condensateurs dans lequel l'aire de l'élec-
trode du condensateur est modifiée par l'emploi d'une éner-
gie de rayonnement et dans lequel, pour éviter l'apparition
de courts-circuits, on applique une tension entre les élec-
trodes du condensateur.
Le procédé décrit ci-dessus a l'inconvénient de
n'être applicable qu'à un choix restreint de matériaux.
L'opération d'ajustement s'effectue sur l'électrode supérieure du condensateur, laissant ainsi la zone ajustée
sujette à la contamination et à la dégradation, en parti-
culier dans le cas de 1' utilisation en détecteur d'humidité.
Le but de la présente invention est de surmon-
ter les inconvénients de l'art antérieur mentionné ci-
dessus et de proposer un procédé entièrement nouveau pour
ajuster un condensateur plan.
L'idée qui est à la base de l'invention est
d'ajuster le condensateur en oxydant l'électrode infé-
rieure en la chauffant à travers le substrat, en utilisant
par exemple un laser.
De façon spécifique, le procédé conforme à l'invention se caractérise en ce que l'on focalise l'émission laser localement sur l'électrode inférieure à travers le substrat pour obtenir un effet de chauffage sur l'électrode inférieure, de façon à oxyder la matière de l'électrode, de sorte que l'électrode inférieure passe localement à un état électriquement non conducteur, tout en étant protégée par le substrat et par la couche isolante.
L'invention apporte des avantages significatifs.
On peut ajuster le condensateur avec précision à une valeur désirée de sa capacité, et cette valeur restera stable, puisque cette électrode inférieure reste protégée
sous la couche isolante.
On va expliquer ci-dessous l'invention plus en détail au moyen de réalisations prises à titre d'exemples et conformément aux dessins annexés, dans lesquels: - la figure 1 est une vue latérale, en coupe longitudinale, d'une structure typique de condensateur subissant le procédé conforme à l'invention; - la figure 2 est une vue de dessus d'une autre structure typique de condensateur qui est compatible avec
l'emploi du procédé conforme à l'invention.
Selon la figure 1, le condensateur comporte un substrat 1, qui est généralement en verre. En variante,
on peut utiliser comme substrat d'autres matériaux trans-
parents à l'émission laser. Sur le substrat 1 est fabriquée une électrode inférieure 2 dont le matériau peut être par exemple de l'aluminium. Une couche isolante 3 est adjacente à l'électrode inférieure et couvre celleci. Lorsqu'il s'agit par exemple de réaliser un détecteur d'humidité,
la couche 3 est en un polymère convenable absorbant l'eau.
Une électrode supérieure 4, déposée sur la couche isolante 3, est fabriquée, dans le cas du détecteur d'humidité, en un matériau perméable à l'humidité. L'ajustement du condensateur se fait en focalisant un faisceau 6 d'un
laser 5 à travers le substrat 1 sur l'électrode infé-
rieure 2, de façon à échauffer localement l'électrode inférieure sous l'action du faisceau 6, ce qui conduit à une oxydation de l'électrode inférieure 2 pour la faire passer à un état électriquement non conducteur. Par ce procédé l'aire efficace du condensateur se réduit et la capacité du condensateur diminue pour atteindre la valeur désirée. Le laser 5 peut être, par exemple, un laser
Nd:YAG à modulation du facteur Q, le courant d'alimenta-
tion correct étant de, par exemple, 20 A.
En variante, on peut fabriquer l'électrode infé-
rieure 2 en tantale.
Un condensateur conforme à la figure 2 comporte des électrodes inférieures 8 couvertes par une couche isolante (non représentée) déposéespar vaporisation sous vide sur le substrat en verre 7. Une électrode de surface 9
est en outre déposée, par électrolyse, sur la couche iso-
lante. Le procédé d'oxydation décrit ci-dessus en liaison avec la figure 1 s'effectue sur la zone de l'électrode inférieure qui, conformément à la figure 2, subsiste sous
l'électrode de surface 9.
Claims (3)
1. Procédé pour ajuster un condensateur plan, procédé dans lequel
- on focalise une émission laser sur une élec-
trode (2) d'un condensateur formé sur un substrat (1)
transparent à l'émission laser et comportant une élec-
tode supérieure (4), une couche isolante (3) et une
électrode inférieure (2), pour obtenir un effet de passi-
vation sur l'électrode, caractérisé en ce que - on focalise l'émission laser localement sur l'électrode inférieure (2) à travers le substrat (1) pour obtenir un effet de chauffage sur l'électrode inférieure (2), de façon à oxyder la matière de l'électrode de sorte que l'électrode inférieure (2) passe localement à un état électriquement non conducteur, tout en étant protégée par
le substrat (1) et par la couche isolante (3).
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la matière oxydable de l'électrode inférieure est
de l'aluminium.
3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la matière oxydable de l'électrode inférieure
est du tantale.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI875769A FI78577C (fi) | 1987-12-30 | 1987-12-30 | Foerfarande foer avstaemning av en plankondensator. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2625600A1 true FR2625600A1 (fr) | 1989-07-07 |
| FR2625600B1 FR2625600B1 (fr) | 1990-12-21 |
Family
ID=8525641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8817414A Expired - Fee Related FR2625600B1 (fr) | 1987-12-30 | 1988-12-29 | Procede pour ajuster un condensateur plan |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4924064A (fr) |
| JP (1) | JPH01204407A (fr) |
| DE (1) | DE3843980A1 (fr) |
| FI (1) | FI78577C (fr) |
| FR (1) | FR2625600B1 (fr) |
| GB (1) | GB2213323B (fr) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3906731A1 (de) * | 1989-03-03 | 1990-09-06 | Philips Patentverwaltung | Kondensator und verfahren zu seiner herstellung |
| JP2725439B2 (ja) * | 1990-05-17 | 1998-03-11 | 株式会社 村田製作所 | 電子部品の周波数調整方法 |
| DE4031289A1 (de) * | 1990-10-04 | 1992-04-09 | Telefunken Electronic Gmbh | Oszillator |
| US5264983A (en) * | 1991-09-19 | 1993-11-23 | Johanson Dielectrics, Inc. | Monolithic capacitor with variable capacitance |
| FR2687834B1 (fr) * | 1992-02-24 | 1996-09-27 | Coreci | Condensateur plan ajustable. |
| DE4215632A1 (de) * | 1992-05-12 | 1993-11-18 | Telefonbau & Normalzeit Gmbh | Kondensator für eine Schichtschaltung |
| US5347423A (en) * | 1992-08-24 | 1994-09-13 | Murata Erie North America, Inc. | Trimmable composite multilayer capacitor and method |
| US5345361A (en) * | 1992-08-24 | 1994-09-06 | Murata Erie North America, Inc. | Shorted trimmable composite multilayer capacitor and method |
| US5548474A (en) * | 1994-03-01 | 1996-08-20 | Avx Corporation | Electrical components such as capacitors having electrodes with an insulating edge |
| US6038134A (en) * | 1996-08-26 | 2000-03-14 | Johanson Dielectrics, Inc. | Modular capacitor/inductor structure |
| DE19901540A1 (de) | 1999-01-16 | 2000-07-20 | Philips Corp Intellectual Pty | Verfahren zur Feinabstimmung eines passiven, elektronischen Bauelementes |
| DE10004649A1 (de) * | 2000-02-03 | 2001-08-09 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Anpassung/Abstimmung von Signallaufzeiten auf Leitungssystemen oder Netzen zwischen integrierten Schaltungen |
| JP2002314218A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Hitachi Ltd | ガラス基板を含む電気回路基板とその加工方法及び加工装置 |
| US6867602B2 (en) * | 2002-07-09 | 2005-03-15 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for capacitive balancing of relative humidity sensors having integrated signal conditioning |
| US6853184B2 (en) * | 2002-12-02 | 2005-02-08 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for utilizing a ring magnet for magnetic sensing applications |
| DE102007015767A1 (de) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Oerlikon Optics UK Ltd., Yarnton | Methode zum Laserritzen von Solarzellen |
| US9099248B2 (en) * | 2007-06-29 | 2015-08-04 | Corporation for National Research Iniatives | Variable capacitor tuned using laser micromachining |
| DE102011014162B4 (de) * | 2011-03-16 | 2019-12-05 | Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung eines Trägers eines elektrostatischen Clamps |
| DE102020104907A1 (de) * | 2020-02-25 | 2021-08-26 | Berliner Glas GmbH | Verfahren zur Herstellung eines Bauelements durch atomares Diffusionsbonden |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1938767A1 (de) * | 1969-07-30 | 1971-02-18 | Siemens Ag | Verfahren zum Abgleichen von elektrischen Duennschicht-Kondensatoren |
| FR2352440A1 (fr) * | 1976-05-19 | 1977-12-16 | Siemens Ag | Procede et dispositif pour regler des reseaux electriques constitues par des feuilles en matiere plastique |
| GB2180990A (en) * | 1985-09-24 | 1987-04-08 | Fluke Mfg Co John | Hermetically sealed electronic component |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR96207E (fr) * | 1968-02-08 | 1972-05-19 | Western Electric Co | Condensateur en couches minces. |
| US4217570A (en) * | 1978-05-30 | 1980-08-12 | Tektronix, Inc. | Thin-film microcircuits adapted for laser trimming |
| US4439814A (en) * | 1982-08-12 | 1984-03-27 | General Electric Company | Laser adjustable capacitor and fabrication process |
| US4792779A (en) * | 1986-09-19 | 1988-12-20 | Hughes Aircraft Company | Trimming passive components buried in multilayer structures |
-
1987
- 1987-12-30 FI FI875769A patent/FI78577C/fi not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-12-16 GB GB8829381A patent/GB2213323B/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-26 JP JP63328795A patent/JPH01204407A/ja active Pending
- 1988-12-27 DE DE3843980A patent/DE3843980A1/de not_active Ceased
- 1988-12-28 US US07/291,225 patent/US4924064A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-29 FR FR8817414A patent/FR2625600B1/fr not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1938767A1 (de) * | 1969-07-30 | 1971-02-18 | Siemens Ag | Verfahren zum Abgleichen von elektrischen Duennschicht-Kondensatoren |
| FR2352440A1 (fr) * | 1976-05-19 | 1977-12-16 | Siemens Ag | Procede et dispositif pour regler des reseaux electriques constitues par des feuilles en matiere plastique |
| GB2180990A (en) * | 1985-09-24 | 1987-04-08 | Fluke Mfg Co John | Hermetically sealed electronic component |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FI875769A0 (fi) | 1987-12-30 |
| FR2625600B1 (fr) | 1990-12-21 |
| JPH01204407A (ja) | 1989-08-17 |
| FI78577B (fi) | 1989-04-28 |
| FI78577C (fi) | 1989-08-10 |
| US4924064A (en) | 1990-05-08 |
| GB2213323A (en) | 1989-08-09 |
| DE3843980A1 (de) | 1989-07-13 |
| GB2213323B (en) | 1992-01-15 |
| GB8829381D0 (en) | 1989-02-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2625600A1 (fr) | Procede pour ajuster un condensateur plan | |
| EP2324324B1 (fr) | Resonateur pour detecteur de parametre angulaire | |
| FR2513011A1 (fr) | Procede de fabrication de contacts a faible resistance dans des dispositifs a semi-conducteur | |
| FR2641646A1 (fr) | Cellule solaire et son procede de fabrication | |
| EP0191697B1 (fr) | Procédé de réalisation d'un détecteur photoélectrique du type photorésistance de grande sensibilité | |
| FR2583572A1 (fr) | Procede et appareil pour fabriquer un film mince cristallin. | |
| FR2824766A1 (fr) | Procede et dispositif pour un brasage sans martensite | |
| US5712499A (en) | Large photodetector array | |
| FR2779006A1 (fr) | Procede de formation de silicium poreux dans un substrat de silicium, en particulier pour l'amelioration des performances d'un circuit inductif | |
| EP1239515B1 (fr) | Substrat pour circuit électronique de puissance et module électronique de puissance utilisant un tel substrat | |
| FR2512590A1 (fr) | Transistor a effet de champ du type a jonction et procede de fabrication | |
| JPH0330292B2 (fr) | ||
| BE514930A (fr) | ||
| US3805124A (en) | Stannic oxide photoconductive device for detecting ultraviolet light and method for making the same | |
| FR2464006A1 (fr) | Organe de chauffage a coefficient de temperature positif | |
| JPH0786684A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| EP0067752A1 (fr) | Cellule de couplage thermique et enceinte thermostatée comportant une telle cellule | |
| JPH0714805A (ja) | 電極の形成方法及びその形成装置 | |
| FR2538099A1 (fr) | Amorce electrique a element resistif | |
| JPS5823431A (ja) | 半導体基体の製作方法 | |
| JPS6184073A (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
| SU1589926A1 (ru) | Способ изготовлени омических контактов к полупроводниковым приборам | |
| FR2509564A1 (fr) | Procede de connexion electrique de fines couches metalliques ou vitrometalliques sur circuit serigraphie multicouches | |
| EP0128061A1 (fr) | Transistor à effet de champ fonctionnant en mode de désertion profonde | |
| FR2474240A1 (fr) | Lampe a decharge electrique a ampoule en ceramique |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |