FR2556878A1 - Resistance pour un cathoscope - Google Patents
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Abstract
L'INVENTION CONCERNE UNE RESISTANCE DESTINEE A DELIVRER DES TENSIONS ELEVEES APPLIQUEES AUX ELECTRODES D'UN CANON A ELECTRONS DE CATHOSCOPE. LA RESISTANCE COMPORTE UNE PLAQUE ISOLANTE1 SUR LAQUELLE EST FORMEE UNE COUCHE RESISTIVE5A DIVISEE EN DEUX PARTIES DONT LA PREMIERE5AL A UNE RESISTANCE PAR UNITE DE LONGUEUR NETTEMENT PLUS ELEVEE QUE CELLE DE LA SECONDE PARTIE5AH. LA COUCHE RESISTIVE EST COUVERTE PAR UN REVETEMENT ISOLANT ET LA JONCTION ENTRE LES DEUX PARTIES EST FAITE EN UN POINTP OU LA DIFFERENCE DE POTENTIEL SUBIE PAR LE REVETEMENT ISOLANT EST LA PLUS ELEVEE. L'INVENTION S'APPLIQUE NOTAMMENT A DES CATHOSCOPES DE TELEVISION EN COULEURS.
Description
La présente invention se rapporte d'une façon générale aux résistances
destinées à diviser une haute tension dans un cathoscope; particulièrement,
l'invention concerne une résistance utilisée en com-
binaison avec un canon à électrons, dans un cathos- cope pour délivrer des tensions relativement élevées qui doivent être appliquées aux électrodes du canon
à électrons.
Un cathoscope en couleurs utilisé dans un récepteur de télévision en couleurs a été proposé dans lequel des tensions relativement élevées doivent être appliquées à des électrodes de convergence pour faire converger plusieurs faisceaux d'électrons, des électrodes de focalisation destinées à focaliser chacun des faisceaux d'électrons, et ainsi de suite, en plus
d'une tension d'anode. Dans ce cathoscope, une résis-
tance est utilisée conjointement avec un canon à électrons qui contient les électrodes de convergence, les électrodes de focalisation et autres électrodes, afin de diviser la tension d'anode et de délivrer les tensions relativement élevées appliquées aux électrodes respectives. Les figures 1 et 2 représentent une résistance déjà proposée, destinée à un cathoscope en couleurs de la manière mentionnée ci-dessus. La figure 1 est une vue en plan d'une résistance 7 déjà proposée dont une majeure partie est représentée à travers un isolant de revêtement formant une partie extérieure, et la figure 2 est une vue de côté de l'ensemble de la résistance 7. La résistance 7 comporte une plaque isolante 1 faite par exemple en céramique et munie de plusieurs bornes formées par des couches conductrices séparées, déposées sur sa surface. Ces bornes comprennent une borne 2 d'électrodes d'anode qui reçoit la tension d'anode, une borne 3 d'électrodes de convergence qui délivre la tension relativement élevée applquée aux électrodes de convergence, c'est-à-dire une tension
de convergence et une borne 4 d'électrodes de masse.
Une couche résistive 5 de division de tension est également déposée sur la surface de la plaque isolante 1. Cette couche résistive 5 de division de tension consiste en une couche résistive partielle 5a formée en zig- zag avec une résistance prédéterminée pour connecter la borne 3 d'électrodes de convergence à la borne 4
d'électrode de masse, une autre couche résistive par-
tielle 5b formée également en zig-zag avec une résis-
tance prédéterminée pour connecter la borne 2 d'électrodes d'anode à la borne 3 d'électrodes de convergence et une couche résistive de réglage 5b prévue pour être connectée à la borne 3 d'électrodes de convergence et aux couches résistives partielle 5a et b. La résistance de chacune des couches résistives
partielles 5a et 5b peut être réglée en éliminant par-
tiellement la couche résistive de réglage 5c au cours de la fabrication de la résistance 7. En outre, dans la partie hachurée de la plaque isolante 1, un isolant de revêtement 6, par exemple en verre au plomb, couvre la
couche résistive 5, de division de tension.
La résistance 7 ainsi constituée est utilisée dans un cathoscope en couleurs de la manière illustrée par la figure 3. Selon cette figure, un canon à électrons 9 est disposé dans le col 8a du tube 8 du cathoscope, et il comporte trois électrodes K, un arrangement d'une première électrode de grille G1, d'une
seconde électrode de grille G2, d'une troisième élec-
trode de grille G3, d'une quatrième électrode de grille G4 et d'une cinquième électrode de grilleG5alignées en commun avec les trois électrodes K et des électrodes de convergence 10 prévues après la cinquième électrode de grille G5. Les électrodes de grille G1 à G5, de la premiere à la cinquième et les électrodes de convergence sont reliées mécaniquement par des tiges de verre 11 pour être supportées en commun et la troisième et la cinquième électrodes de grille G3 et G5 sont reliées S électriquement entre elles par un fil conducteur 13o Les électrodes de convergence 10 comprennent deux plaques d'électrodes de déviation intérieures 10a et O10b se faisant face et connectées électriquement à la cinquième électrode de grille G5 par une plaque conductrice 14 et deux plaques d'électrodes de déviation extérieures c et 10d disposées en face des plaques intérieures
a et 10b respectivement.
La résistance 7 représentée sur les figures 1 et 2 est fixée sur le canon à électrons 9, avec la borne 2d'électrodes d'anode connectée sur une pièce de connexion conductrice 12 à la cinquième électrode de grille G5. Sur la surface intérieure de la partie évasée 8b du tube 8, le revêtement de graphite 15 est formé jusqu'à la surface intérieure du col 8a et la tension d'anode lui est appliquée par un bouton d'arrivée de haute tension, c'est-à-dire un bouton d'anode, non représenté sur la figure, formé dans la partie évasée 8b. La plaque conductrice 14 porte des ressorts conducteurs 16 qui viennent en contact avec le revêtement de graphite 15 afin que la tension d'anode soit appliquée à la cinquième électrode de grille G5, à la troisième électrode de grille G3, aux plaques d'électrodes de déviation intérieures 10a et 10b des électrodes de convergence 10 et à la borne d'électrodes d'anode 2 de la résistance 7. La borne 3 d'électrodes de convergence de la résistance 7 est connectée par une pièce de connexion conductrice 17 aux plaques d'électrodes de déviation extérieures 10c et 10d des électrodes de convergence 10 et la borne 4 d'électrodes de masse de la résistance 7 est connectée par une broche d'électrodes de masse 19 fixée par le culot 18 à l'extrémité du col 8a du tube 8 pour être mise à la masse directement ou par une résistance variable disposée à l'extérieur du tube 8 de manière que la tension de convergence obtenue à la borne 3 d'électrodes de convergence résul- tant de la division de la tension d'anode par les couches résistives partielles 5a et 5b soit appliquée aux plaques d'électrodes de déviation extérieure 10c et
d des électrodes de convergence 10.
Dans le cathoscope contenant le canon à élec-
trons 9 et la résistance 7 mentionnés ci-dessus, si le canon 9 comporte des saillies aigues, des décharges électriques indésirables peuvent se produire sur certaines de ces parties en saillie aigues pendant le fonctionnement réel. Par conséquent, le cathoscope en couleurs est soumis à un traitement par éclatement pendant les opérations de fabrication, dans lequel les parties en saillie aigues sur le canon à électrons 9, sur lesquelles des décharges électriques risquent de se produire, sont soumises préalablement à des décharges électriques de manière à être éliminées par
fusion dans le but de stabiliser le fonctionnement en uti-
lisation pratique. Au cours du traitement par éclatement, la troisième et la cinquième électrodes de grille G3 et G5 du canon à électrons 9 et la borne d'électrodes d'anode 2 de résistance 9 reçoivent une haute tension (tension d'éclatement) deux à trois fois plus élevée que la tension d'anode en utilisation pratique du cathoscope, et la première, la seconde et la quatrième
électrodes de grille G1, G2 et G4 sont à la masse.
Dans les conditions de ce traitement par éclatement, la surface extérieure de l'isolant de revêtement 6 constituant l'extérieur de la résistance 7 est chargée électriquement à un potentiel relativement élevé, sauf certaines de ses parties et le revêtement 6 reçoit une tension plus élevée qu'en utilisation pratique du cathoscope, particulièrement sur le côté à basse tension de la couche résistive partielle 5a,
La figure 4 montre le potentiel sur la surface exté-
rieure du revêtement isolant 6 et le potentiel sur la couche résistive partielle 6a disposé entre la borne 4 d'électrode de masse et la borne 3 d'électrode de convergence pendant le traitement par éclatement, par les courbes a et b respectivement et montre également la différence entre les potentiels représentés par les
courbes a et b par une courbe c, les ordonnées repré-
sentant la tension V et les abscisses représentant la distance L mesurée sur la surface de la plaque isolante i à partir de la borne 4 d'électrode de masse jusqu'à la borne 3 d'électrode de convergence de la résistance
7, par rapport à la résistance 7 et le canon à élec-
trons 9. Comme le montre la figure 4, la différence de potentiel entre la couche résistive partielle 5a et la surface extérieure de l'isolant de revêtement 6 atteint un maximum dans une position P voisine de la troisième
électrode de grille G3 qui reçoit la tension d'éclate-
ment sur le côté à basse tension de la couche résis-
tive partielle 5a et par conséquent, la tension maximale est appliquée à l'isolant de revêtement 6 dans la position P. Par conséquent, le risque existe qu'une tension dépassant la limite supérieure de la tension admissible pour le revêtement isolant 6 soit appliquée à ce dernier dans une position près de la troisième électrode de grille G3 du canon à électrons 9 en produisant une détérioration de rigidité diélectrique ou un amorçage diélectrique de l'isolant de revêtement 6 et par conséquent, la couche résistive partielle 5a peut être endommagée et sa résistance peut varier considérablement. Pour éviter ces variations de résistance de la couche résistive partielle 5a résultant d'une détérioration de rigidité diélectrique d'un amorçage diélectrique dans l'isolant de revêtement 6 de la manière mentionnée ci-dessus, il peut être avantageux que l'isolant de revêtement 6 soit plus épais pour avoir une plus grande rigidité diélectrique. Ainsi, il est possible d'éviter la détérioration de rigidité électrique ou l'amorçage diélectriaue de l'isolant de revêtement 6 et de restreindre ainsi les variations de résistance\de la couche résistive partielle 5a en réalisant l'isolant de revêtement 6 avec une épaisseur
plus grande.
Mais il est désavantageux pour les prix de production de la résistance 7 d'augmenter sans autre considération l'épaisseur du revêtement isolant 6. En outre, un isolant de revêtement 6 à une plus grande épaisseur peut soulever le problème d'un gauchissement
indésirable de la résistance 7 en raison de la diffé-
rence des coefficients de dilatation thermique entre la plaque isolante 1 et l'isolant de revêtement 6 et ce dernier tend à se détacher de la plaque isolante 1 ou à se fissurer par la répétition des augmentations de
températures de la résistance 7 à l'état de fonctionne-
ment et de diminution de température de cette résistance à l'état de repos, apparaissant alternativement. Il en
résulte que la fiabilité de la résistance 7 est abaissée.
Un objet de l'invention est donc de proposer une résistance destinée à un cathoscope, éliminant les inconvénients et les problèmes précités de techniques
antérieures.
Un autre objet de l'invention est de proposer une résistance destinée à un cathoscope, formée avec une couche résistive déposée en une configuration prédéterminée sur une plaque isolante et un isolant de revêtement couvrant la couche résistive, et qui peut limiter les variations de résistance de la couche résistive par le traitement par éclatement auquel un cathoscope comportant la résistance est soumis, sans
augmenter le coût de production ni abaisser la fiabilité.
VUn autre objet de l'invention est de proposer une résistance destinée à un cathoscope, formé avec une touche résistive déposée dans une configuration predé'terminée sur une plaque isolante et un isolant de revêtement couvrant la couche résistive, et qui permet d'éviter toute détérioration de rigidité diélectrique ou amorçage diélectrique provoqué dans 1 'isolant de revêtement par le traitement par éclatement auquel un cathoscope comportant la résistance est soumis,
sans augmenter l'épaisseur de l'isolant de revêtement.
Selon un aspect, l'invention concerne donc une résistance destinée à un cathoscope, comprenant une plaque isolante avec une surface sur laquelle sont fixées au moins une première et une seconde bornes d'électrodes utilisées respectivement avec une tension relativement élevée et une tension relativement basse, un isolant de revêtement disposé sur la surface de la plaque isolante pour la recouvrir et une couche résistive formée dans une configuration prédéterminée sur la surface de la plaque isolante, pour relier entre elles la première et la seconde bornes d'électrodes, et recouvertes par l'isolant de revêtement, la disposition étant telle que la résistance par unité de longueur
sur la plaque isolante entre la seconde borne d'élec-
trodes et une position de différence de potentiel élevée sur la première et la seconde bornes d'électrodes, la différence de potentiel entre la surface extérieure de l'isolant de revêtement et la couche résistive doit être relativement grande quand la résistance est utilisée dans le cathoscope, est supérieure à celle entre la position de différence de potentiel élevée
et la première borne d'électrode.
Avec la résistance ainsi constituée selon l'invention, quand la première et la seconde bornes d'électrodes sur la plaque isolante sont utilisées respectivement avec la tension relativement haute et
la tension relativement basse, en pratique, le poten-
tien sur la couche résistive présente un gradient croissant brusquement de la seconde borne d'électrodes à la position de différence de potentiel élevée sur la plaque isolante et par conséquent, le potentiel sur la couche résistive dans la région autour de la position de différences de potentiel élevées est augmenté de sorte que la différence de potentiel entre la surface
de l'isolant de revêtement et la couche isolante, c'est-
à-dire la tension appliquée au revêtement isolant est réduite. Il en résulte que l'isolant de revêtement est maintenu en condition appropriée sans subir de détérioration de rigidité diélectrique ou d'amorçage diélectrique et par conséquent, la résistance de la couche résistive ne peut varier considérablement même dans la position de différences de potentiel élevée, sous l'effet du traitement par éclatement auquel
un cathoscope comprenant la résistance est soumis.
Pour obtenir une disposition telle que la résistance de la couche résistive ontenues par unité de longueur sur la plaque isolante entre la seconde borne d'électrodes et la position de différence de potentiel élevé soit supérieure à celle entre la position de différence de potentiel élevée et la première borne d'électrode, les modes suivants de
réalisation sont donnés à titre d'exemples.
Dans un mode de réalisation, la couche résistive sur la plaque isolante est faite d'une matière résistive pratiquement homogène avec une
section constante et elle est formée dans une confi-
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guration spécifique telle que la longueur de couche résistive par unité de longueur sur la plaque isolante entre la seconde borne d'électrode et la position de différence de potentiel élevée soit S plus grande que celle entre la position de différence
de potentiel élevée et la première borne d'électrodes.
Dans un autre mode de réalisation, la couche résistive sur la plaque isolante est faite partiellement de matières résistives différentes ou avec des sections différentes de manière que la résistance par unité de longueur de la couche résistive entre la seconde borne d'électrodes et la position de différence de potentiel élevée soit plus grande que celle entre la position de différence de potentiel élevée et la première borne
d'électrodes.
Dans chacun des autres modes de réalisation, la couche résistive sur la plaque isolante est dérivée d'une combinaison des modes de réalisation mentionnés ci-dessus. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à la lecture de la dexcription qui va suivre de plusieurs exemples de réalisation et en se référant aux dessins annexés sur
lesquels: -
Les figures 1 et 2 sont respectivement une vue en plan et une vue de côté d'une résistance déjà proposée pour un cathoscope; La figure 3 est une vue de côté schématique d'une partie d'un cathoscope comportant la résistance des figures 1 et 2, La figure 4 est une représentation utilisée
pour expliquer les relations de potentiel de la résis-
tance utilisée dans le cathoscope de la figure 3, La figure 5 est une vue en plan d'un mode de réalisation d'une résistance destinée à un cathoscope 1 0 selon l'invention, La figure 6 est une représentation utilisée pour expliquer les relations de potentiel dans le mode de réalisation de la figure 5, Les figures 7, 8, 9, 10 et 11 sont des vues en plan et de côté d'autres modes de réalisation d'une résistance selon l'invention pour un cathoscope, et La figure 12 est une représentation graphique utilisée pour expliquer les variations de la valeur de la résistance déjà proposée et de la résistance selon l'invention. Des modes de réalisation d'une résistance destinée à un cathoscope, selon l'invention, seront
maintenant décrits en regard des dessins annexés.
La figure 5 représente un exemple d'une résistance selon l'invention dont une majeure partie est vue à travers un isolant de revêtement formant une partie extérieure, de la même manière que selon la figure 1. Sur la figure 5, les éléments et pièces correspondants à ceux des figures 1 et 2 sont désignés
par les mêmes références et leur description n'en sera
pas répétée.
Dans cet exemple de résistance selon l'invention, la couche résistive 5 de division de tension qui est déposée sur la surface de la plaque isolante 1 est couverte par l'isolant de revêtement en verre au plomb (non représenté. sur la figure 5) consiste en une couche résistive partielle 5'a, formée en zig-zag pour relier la borne 3 d'électrodes de convergence avec la borne 4 d'électrodes de masse, une couche résistive partielle 5b formée également en zig-zag pour connecter la borne 4 d'électrodes d'anode à la borne 3 d'électrodes de convergence et une couche résistive de réglage 5c prévue pour connecter la borne 3 d'électrodes de convergence et les couches résistives partielles 5'a et b d'une manière similaire à celle de la résistance
des figures 1 et 2.
La couche résistive 5 de division de tension est faite d'une matière rêsistive homogène avec une section pratiquement constante. La couche résistive partielle 5'a est formée en zig-zag avec une largeur constante des méandres dans sa totalité, et elle comprend une partie inférieure 5'al avec un pas réduit Pl des méandres entre la borne 4 d'électrodes de masse et une position P' sur la plaque isolante 1 qui correspond à la position P de la résistance 7 des figures 1, 2 et 4, et une partie supérieure 5'ah avec un pas plus grand P2 des méandres (p2>p1) entre la position p' et la borne 3 d'électrodes de convergence, faisant suite à la partie inférieure 5'al. La position p' se trouve dans une position o la différence de potentiel entre la couche résistive partielle 5'a et la surface extérieure de l'isolant de revêtement atteint un maximum quand la résistance est utilisée conjointement avec le canon à électrons 9 dans le cathoscope en couleurs comme le montre la figure 3, et elle reçoit la tension d'anode de la borne 2
d'électrodes d'anode. (La position Pl est appelée ci-
apres la position de différence de potentiel maximale) Dans la couche résistive partielle 5'a de la couche résistive 5 de division de tension sur la plaque isolante 1, la longueur de la partie inférieure 'al ayant le pas réduit P1 dans l'unité de longueur de la plaque isolante 1 entre la borne 4 d'électrodes de masse et la position P' de différence de potentiel maximale est plus grande que la longueur de la partie supérieure 5'ah ayant le plus grand pas P2 dans l'unité de longueur sur la plaque isolante 1 entre la position P' de différence de potentiel maximale et la borne 3 d'électrodes de convergence. Par conséquent, la résistance de la couche résistive partielle S'a obtenue par unité de longueur sur la plaque isolante 1 entre la borne 4 d'électrodes de masse et la position P' de différence de potentiel maximale est plus grande que celle entre la position P' de différence de poten*
tiel maximale et la borne 3 d'électrodes de convergence.
Ainsi, dans le cas o la résistance repré-
sentée sur la figure 5 est utilisée conjointement avec le canon à électrons 9 dans le cathoscope comme le
montre la figure 3, de la même manière que la résis-
tance 7 déjà proposée, et lorsque la tension d'éclate-
ment et le potentiel de la masse sont appliqués à la borne 2 d'électrodes d'anode et à la borne 4 d'électrode de masse respectivement, au cours du traitement par éclatement auquel le cathoscope est soumis, le potentiel de la partie inférieure 5'al de la couche résistive partielle 5'a varie avec un-gradient croissant brusquement à partir de la borne 4 d'électrodes de masse jusqu'à la position P' de référence de potentiel maximale et au contraire, le potentiel sur la partie supérieure 5'ah de la couche résistive partielle 5'a varie avec un gradient croissant lentement à partir de la position P' de différence de potentiel maximale jusqu'à la borne 3 d'électrode de convergence comme le montre la.courbe b' sur la représentation graphique, sur laquelle les ordonnées représentent la tension V et les abscisses représentent la distance L mesurée
sur la surface de la plaque isolante 1 depuis la -
borne 4 d'électrodes de la masse vers la borne 3 d'électrodes de convergence, comme le montre la figure 6. Par conséquent, le potentiel sur la couche résistive partielle 5'a est augmenté dans son ensemble avec la position P' de différence de potentiel maximale comme chiffre central, comparativement au potentiel correspondant sur la résistance 7 déjà proposée, qui est représenté par la courbe b sur la figure 6. Il en résulte que la différence entre le potentiel de la
surface extérieure de l'isolant de revêtement, repré-
senté par la courbe a' sur la figure 6 et le potentiel sur la couche résistive partielle 5'a, c'est-à-dire la tension appliquée à l'isolant de revêtement est réduite comparativement à la tension correspondante appliquée à l'isolant de revêtement 6 de la résistance
7 déjà proposée.
Dans ce cas, en supposant que la longueur de la partie inférieure 5'al de la couche résistive partielle 5'a est Xl, que la longueur de la partie supérieure 5'ah de la couche résistive partielle 5'a est Xh, le potentiel à la borne 3 d'électrodes de convergence est Vc et que le potentiel à la borne 4 d'électrodes de masse est Ve, le potentiel V'p sur la couche résistive partielle 5'a à la position P' de différence de potentiel maximale s'exprime par:
V'p = Ve + (Vc - Ve). X1/(Xl + Xh).
En supposant en outre que le potentiel sur l'isolant de revêtement à la position P' de différence de potentiel maximale est Vs, la différence de potentiel (Vs - V'p) appliquée à l'isolant de revêtement s'exprime par:
Vs - V'p = Vs - Ve - (Vc - Ve). X1/(X1 + Xh).
Par conséquent, la longueur Xl et la longueur Xh sont choisies chacune de manière que la différence de potentiel (Vs-V'p) exprimée ci-dessus soit inférieure à la limite supérieure de la tension que peut supporter
l'isolant de revêtement.
La figure 7 montre un autre exemple d'une résistance selon l'invention. Cet exemple comporte également une couche résistive partielle 5'a, faite d'une matière résistante homogène avec une section constante, formée en zig-zag pour connecter la borne 3 d'électrodes de convergence à la borne 4 d'électrodes de masse, et comporte la partie inférieure 5'al et la partie supérieure 5'ah suivant la partie inférieure 'al. Mais, dans cet exemple, la partie inférieure et
la partie supérieure 5'al et 5'ah sans former un zig-
zag avec le même pas des méandres mais des largeurs des méandres qui diffèrent entre elles. La largeur de méandres h1 de la partie inférieure 5'al est plus grande que la largeur de méandres h2 de la partie
supérieure 5'ah (h1>h2) comme le montre la figure 7.
Dans cet exemple également, la longueur de la partie supérieure 5'al dans l'unité de longueur sur la plaque isolante 1 entre la borne 4 d'électrodes de masse et la position P de différence de potentiel maximale est donc plus grande que la longueur de la partie supérieure 5'ah dans l'unité de longueur sur la plaque isolante entre la postion P' de différence de potentiel maximale et la borne 3 d'électrodes de convergence et par conséquent, l'avantage de l'exemple
représenté sur la figure 5 est également obtenu.
Les figures 8 à 11 montrent d'autres exemples d'une résistance selon l'invention. Chacun de-:ces exemples comportent la couche résistive partielle 'a formée en zig zag sur la plaque isolante 1 pour connecter la borne 3 d'électrodes de convergence à la borne 4 d'électrodes de masse et comprenant la partie inférieure et la partie supérieure 5'al et 5'ah avec une largeur de méandres constante de la même manière que dans l'exemple de la figure 5, la partie inférieure et la partie supérieure 5'al et 5'ah étant agencées de manière que la résistance de la partie inférieure 'al par unité de longueur soit plus grande que la résistance de la partie supérieure 5'ah dans une unité de longueur. Par conséquent, dans chaque exemple, la résistance de la couche résistive partielle 5'a obtenue par unité de longueur sur la plaque isolante 1 entre la borne 4 d'électrodes de masse et la position P' de différence de potentiel maximale est plus grande que celle entre la position P' de différence de potentiel maximale et l'électrode 3 d'électrode de convergence et par conséquent, l'avantage obtenu dans l'exemple de la
figure 3 est également maintenu.
Dans l'exemple représenté sur la figure 8, la couche résistive partielle est faite d'une matière
r(sis-tive homogène et la largeur w1 de la couche résis-
tive de la partie inférieure 5'al est inférieure à la largeur w2 de la couche résistive dans la partie supérieure 51ah, de sorte que la section de la couche resistive de la partie inférieure S'al est inférieure
à celle de la partie supérieure 5'ah.
Dans l'exemple représenté sur la figure 9, chacune des parties inférieure et supérieure 5'al et 5'ah de la couche résistive partielle S'a est faite d'une matière résistive différente et la résistance spécifique m1 de la matière utilisée pour la partie inférieure 5'al est plus grande que la résistance spécifique m2 de la matière utilisée pour la partie
supérieure 5'ah.
Dans l'exemple illustré par les figures 10 et 11, montrant une coupe suivant la ligne X1-X1 de la figure 10, la couche résistive partielle 5'a est faite d'une matière résistive homogène et l'épaisseur t1 de la couche résistive de la partie inférieure 5'al est inférieure à l'épaisseur t2 de la couche résistive dans la partie supérieure 5'ah de sorte que la section de la couche résistive dans la partie inférieure 'al est inférieure à celle de la partie supérieure 'ah. Comme cela a été expliqué ci-dessus, dans chacun des exemples représentés sur les figures 8 à 11, la disposition selon laquelle la résistance de la couche résistive partielle 5'a obtenue par unité de longueur sur la plaque isolante entre la borne 4 d'électrode de masse et la position P' de différence de potentiel maximaleest plus grande à celle entre la position P' de différence de potentiel maximale et la borne 3 d'électrodes de convergence est obtenue de la manière décrite. Par conséquent, dans le cas o la résistance représentée sur l'une des figures 8 à 11 est utilisée conjointement avec le canon à électrons 9 dans le cathoscope, comme le montre la figure 3, de la même manière que la résistance 7 déjà proposée et lorsque la tensiond'amorçage et le potentiel de la masse sont fournis à la borne 2 d'électrodes d'anode et à la borne 4 d'électrodes de masse respectivement pendant le
traitement d'éclatement auquel le cathoscope en cou-
leurs est soumis, le potentiel sur la couche résistive partielle 5'a augmente dans sa totalité avec laposition P' de différence de potentiel maximale comme valeur centrale comparativement au potentiel correspondant à la résistance 7 déjà proposée et il en résulte que la différence entre le potentiel sur la surface extérieure de l'isolant de revêtement, représenté par la courbe
a'sur la figure 6 et le potentiel sur la couche résis-
tive partielle 5'a, c'est-à-dire la tension appliquée à l'isolant de revêtement est réduite comparativement à la tension correspondante appliquée à l'isolant de
revêtement 6 de la résistance 7 déjà proposée.
Dans le cas ci-dessus, si l'on suppose que la résistance de la partie inférieure 5'al de la couche résistive partielle 5'a est Rl, que la résistance de
la partie supérieure 5'ah de la couche résistive par-
tielle 5'a est Rh, que le potentiel à la borne 3 de l'électrode de convergence est Vc et que le potentiel à la borne 4 de l'électrode de masse est Ve, le potentiel V'p sur la couche résistive partielle 5'a à la position P' de différence de potentiel maximale s'exprime comme suit:
V'p = Ve + (Vc - Ve). R1/(R1 + Rh).
Si l'on suppose en outre que le potentiel sur l'isolant de-revêtement à la position P' de différence de potentiel maximale est Vs, la différence de potentiel (Vs - V'p) appliquée à l'isolant de revêtement s'exprime par:
Vs - V(p = Vs - Ve - (Vc.- Ve). R1/(R1 + Rh).
Les résistances Rl et Rh sont donc choisies de manière que la différence de potentiel (Vs - V'p)
exprimée ci-dessus soit inférieure à la limite supé-
rieure de la tension que peut supporter l'isolant de revêtement. La figure 12 montre un exemple de relation entre la tension d'éclatement et des variations de résistance de la couche résistive partielle 5a de la résistance 7 déjà proposée à laquelle la tension d'éclatement est appliquée au cours du traitement par éclatement, par une courbe c' et un exemple de la relation entre une tension d'éclatement et des variations de la résistance de la couche résistive partielle 5'a de la résistance selon l'invention à laquelle la tension d'éclatement est appliquée au cours du traitement par éclatement, obtenue par
expérience, par une courbe d', les ordonnées représen-
tant les variations de résistance AR et les abscisses représentant la tension d'éclatement Vn. Il apparait en regard de ces relations que la couche résistive partielle 5'a de la résistance selon l'invention n'entraine pas de variation de résistance au cours du traitement conventionnel par éclatement, mais est limitée à de petites variations au cours de ce traitement lorsqu'une tension d'éclatement extrêmement
élevée lui est appliquée.
En plus des modes de réalisation décrits ci-dessus, la résistance selon l'invention peut être formée de manière à comporter une couche résistive partielle 5'a qui correspond à une combinaison de celles utilisées dans deux ou plusieurs des exemples précités. Bien que la limite entre la partie inférieure et la partie supérieure 5'al et 5'ah de la couche résistive partielle 5'a sur la plaque isolante 1 soit disposée pour coïncider avec la position P' de
différence de potentiel maximale dans les modes de réa-
lisation mentionnés ci-dessus, il est bien entendu que la résistance selon l'invention n'est pas limitée à ces modes de réalisation et que cette limite entre la partie inférieure et la partie supérieure 5'al et 5'ah dans la résistance selon l'invention peut être disposée dans une position sur la plaque isolante 1 voisine de la position P' de différence de potentiel maximale.
Comme cela ressort de la description ci-dessus,
dans la résistance selon l'invention, étant donné que la différence de potentiel entre la couche résistive déposée sur la plaque isolante et la surface extérieure de l'isolant de revêtement couvrant d'une couche résistive est réduite particulièrement dans la position o cette différence de potentiel atteint une valeur relativement grande quand la résistance est utilisée pour recevoir une tension relativement élevée dans un cathoscope, l'isolant de revêtement est maintenu dans une condition appropriée sans subir de détérioration de rigidité diélectrique ou d'amorçage diélectrique
même dans des conditions o une haute tension d'éclate-
ment est appliquée à la résistance au cours du traitement par éclatement auquel le cathoscope comportant la résistance est soumis, et par conséquent, les variations de résistance de la couche résistive sont limitées à un minimum. En outre, étant donné qu'un isolant de revêtement d'épaisseur accrue n'est pas utilisé, la résistance selon l'invention ne risque pas de gauchir de façon indésirable sous l'effet d'une différence de coefficient de dilatation thermique entre la plaque isolante et l'isolement de revêtement et;ne risque pas non plus d'être rendue défectueuse par un décollement entre l'isolement de revêtement et la plaque isolante ou par des fissures et elle peut être fabriquée à un
pris relativement bas.
Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux modes de réalisation décrits et illustrés à titre d'exemples
nullement limitatifs sans sortir du cadre de l'invention.
Claims (9)
1. Résistance destinée à un cathoscope, comprenant une plaque isolante (1) sur laquelle sont prévues au moins une première et une seconde bornes d'électrodes (3,4) pour être utilisées respectivement avec des tensions relativement hautes et relativement basses dans le cathoscope, un isolant de revêtement prévu sur ladite plaque isolante (1) pour la couvrir
et une couche résistive (5'a) disposée dans une confi-
guration prédéterminée sur ladite plaque isolante (1) pour connecter entre elles ladite première et ladite seconde bornes d'électrodes (3,4) et étant couvertes par ledit isolant de revêtement, résistance caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est agencée de manière que la résistance de ladite couche résistive est obtenue par unité de longueur sur ladite plaque isolante entre ladite seconde borne d'électrodes (4) et une position de différence de potentiel élevée (P')
entre ladite première et ladite seconde bornes d'élec-
trodes (3,4) o la différence de potentiel entre la surface extérieure dudit isolant de revêtement et ladite couche résistive (5'a) doit être relativement grande pendant l'utilisation de ladite résistance dans le cathoscope, soit supérieure à celle entre ladite position de différence de potentiel élevée (P') et
ladite première borne d'électrodes (3).
2. Résistance selon la revendication 1, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est faite d'une matière résistive pratiquement homogène avec une section pratiquement constante, formée dans une configuration spécifique telle que la longueur de ladite couche résistive (5'a) dans l'unité de longueur de ladite plaque isolante (1) entre ladite seconde borne d'électrode (4) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') est supérieure à celle entre ladite position de différence de potentiel élevée
(P') et ladite première borne d'électrodes (3).
3. Résistance selon la revendication 2, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est formée en une configuration en zig-zag avec une largeur de méandres pratiquement constante, et comprenant une première partie (5'ah) prévue avec un premier pas de méandres (p2) entre ladite première borne d'électrodes (3) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') et une seconde partie (5'al) prévue pour succéder à ladite première partie (5'ah) avec un second pas de méandres (pl) inférieur audit premier pas de méandres (pl) entre ladite position de différence de
potentiel élevée (P') et ladite seconde borne d'élec-
trodes (4).
4. Résistance selon la revendication 2 caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est formée dans la configuration en zig-zag avec un pas de méandres pratiquement constant et comprenant une première partie (5'ah) prévue avec une première largeur de méandres (h2) entre ladite première borne d'électrodes (3) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') et une seconde partie (5'al) prévue pour succéder à ladite première partie (5'ah) avec une seconde largeur de méandres (h1) supérieure à ladite première largeur de méandres (h2) entre ladite position de différence de potentiel élevée
(P') et ladite seconde borne d'électrodes (4).
5. Résistance selon la revendication 1, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est faite d'une matière résistive pratiquement homogène et partiellement avec des sections différentes de manière que la résistance dans une unité de longueur de ladite couche résistive (5'a) entre ladite seconde borne d'électrodes (4) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') soit supérieure à celle entre ladite position de différence de potentiel
élevée (P') et ladite première borne d'électrodes (3).
6. Résistance selon la revendication 5, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est formée avec une épaisseur pratiquement constante et comporte une première partie (5'ah) prévue avec une première largeur (w2) de couche résistive entre ladite première borne d'électrodes (3) et ladite position de différence.de potentiel élevée (P') et une seconde partie (5'al) prévue pour succéder à ladite première partie (5'al) avec une seconde largeur (w1) de la couche résistive plus étroite que ladite première largeur (w2) de la couche résistive entre ladite position de différence de potentiel élevée (P') et ladite
seconde borne d'électrodes (4).
7. Résistance selon la revendication 5, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est formée avec une largeur pratiquement constante et comporte une première partie (5'ah) prévue avec une première épaisseur (t2) entre ladite première borne d'électrodes (3) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') et une seconde partie (5'al) prévue pour succéder à la première partie (5'ah) avec une seconde épaisseur (t1) inférieure à ladite première épaisseur (t2) entre ladite position de différence de
potentiel élevée (P') et ladite seconde borne d'élec-
trodes (4).
8. Résistance selon la revendication 1, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) est faite partiellement d'une matière résistive différente avec une section pratiquement constante de manière que la résistance par unité de longueur de ladite couche résistive entre ladite seconde borne d'électrodes (4) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') soit supérieure à celle entre ladite position de différence de potentiel élevée (P')
et ladite première borne d'électrodes (3).
9. Résistance selon la revendication 8, caractérisée en ce que ladite couche résistive (5'a) comporte une première partie (5'ah) faite d'une première
matière résistive ayant une première résistance spéci-
fique (m2) et prévue entre ladite première borne d'électrodes (3) et ladite position de différence de potentiel élevée (P') et une seconde partie (5'al) ayant une seconde résistance spécifique (m1) supérieure à ladite première résistance spécifique (m2) et prévue pour succéder à ladite première partie (5'ah) entre ladite position de différence de potentiel élevée (P')
et ladite seconde borne d'électrodes (4).
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