FR2491094A1 - Rouleau a faible resistivite transversale pour depot electrolytique - Google Patents
Rouleau a faible resistivite transversale pour depot electrolytique Download PDFInfo
- Publication number
- FR2491094A1 FR2491094A1 FR8118338A FR8118338A FR2491094A1 FR 2491094 A1 FR2491094 A1 FR 2491094A1 FR 8118338 A FR8118338 A FR 8118338A FR 8118338 A FR8118338 A FR 8118338A FR 2491094 A1 FR2491094 A1 FR 2491094A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- solution
- palladium
- deposition
- grams
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
- C22C19/05—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium
- C22C19/051—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium and Mo or W
- C22C19/055—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel with chromium and Mo or W with the maximum Cr content being at least 20% but less than 30%
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
L'INVENTION CONCERNE UN ROULEAU A FAIBLE RESISTIVITE TRANSVERSALE POUR LE DEPOT ELECTROLYTIQUE CONSTITUE ESSENTIELLEMENT EN POURCENTAGES PONDERAUX DE MOINS DE 0,1 DE C, MOINS DE 1,5 DE SI, MOINS DE 1,5 DE MN, 14 A 21 DE CR, 13 A 20 DE MO, MOINS DE 6 DE FE, LE RESTE ETANT PRATIQUEMENT DU NICKEL; LE ROULEAU PEUT DE PLUS CONTENIR UN OU PLUSIEURS ELEMENTS CHOISIS PARMI MOINS DE 0,5 D'AL, MOINS DE 1,0 DE TI, MOINS DE 1,5 DE NB, MOINS DE 0,5 DE V ET MOINS DE 3,0 DE W.
Description
i 2491094 La présente invention est relative à un procédé pour utiliser la
solution de dépôt d'un alliage de palladium et de nickel décrite au brevet du Royaume-Uni de Grande-Bretagne et
d'Irlande No. 1.143.178.
Jusqu'ici, le dépôt d'un alliage de palladium et de
nickel a été effectué en utilisant une solution de dépôt élec-
trolytique qui comprend de l'ammoniaque contenant de 5 à 30 grammes/litre de palladium et de 5 à 30 grammes/litre de nickel, ce qui donne un dépôt d'alliage de palladium et de nickel ayant une teneur en palladium de 30 à 90 % en poids et ayant une résistance excellente à la corrosion. Dans cette solution de dépôt, le palladium et le nickel forment des sels d'amine complexes et se dissolvent dans l'ammoniaque et en particulier le palladium se dissout dans l'ammoniaque sous la forme de
chlorure de palladotétramine Pd(NH3)4C12.
Dans ce procédé, au fur et à mesure que l'opération de
dépôt se déroule, la quantité de palladium contenue dans la so-
lution de dépôt diminue peu à peu par électrolyse.
C'est ainsi, par exemple, que comme l'indique l'exemple mentionné ciaprès, quand on effectue un dépôt d'un alliage de
palladium et de nickel en utilisant une solution de dépôt com-
prenant de l'ammoniaque contenant 20 grammes/litre de palladium et 10 grammes/litre de nickel, on perd environ 2 grammes de palladium et environ 0,5 gramme de nickel/litre de la solution
de dépôt en 3 heures dans les conditions décrites à l'exemple 1.
En d'autres termes, la concentration de palladium de la solution de dépôt est passée de 20 grammes/litre à 18 grammes/ litre en 3 heures. Pour effectuer un dépôt normal, il est souhaitable de maintenir la concentration de palladium entre 18 et 22 grammes/litre et, pour continuer l'opération de dépôt, il est nécessaire de corriger la concentration de palladium en
rechargeant en palladium. On effectue habituellement ce rechar-
gement en ajoutant par intermittences un sel de palladium, après avoir déterminé par analyse quantitative la concentration de palladium, par exemple par analyse chimique, etc. Le sel de palladium utilisé pour cette recharge a été jusqu'ici par exemple un sel complexe de pallado-amine tel que le chlorure de pallado-diamine Pd(NH3)2C1i etc., des sels simples tels que le chlorure de palladium PdCl2 etc., des palladichlorure de métal
2 2491094
alcalin, tels que le palladichlorure de potassium K2PdCl4, le palladichlorure d'ammonium (NH4)2PdCl4 etc. Ces sels sont tous solubles dans l'ammoniaque et réagissent chimiquement sur -l'ammoniac pour former du chlorure de pallado-tétramine Pd(NH3)4C12. On peut mettre directement ces sels dans la solution de dépôt et les y dissoudre, mais comme la concentration d'ammoniac de la solution de dépôt est faible et est habituellement de plus ou moins 5 grammes/litre, il faut du temps pour dissoudre
le sel et l'opération de dépôt est arrêtée pendant ce temps.
C'est ainsi, par exemple, que pour dissoudre 4 grammes de
chlorure de pallado-diamine qui correspond à 2 grammes de palla-
dium dans 1000 cm3 de la solution de dépôt de l'exemple 1, il faut de 30 à 60 minutes, même en agitant la solution de dépôt,
et avec d'autres sels de palladium, on a besoin d'un temps en-
core plus long. Ceci s'oppose beaucoup à ce que l'opération se
déroule sans problèmes dans une usine.
En variante, il est possible aussi de dissoudre ces
sels dans de l'ammoniaque et, ensuite, d'ajouter cette solu-
tion d'ammoniaque à la solution de dépôt. Mais dans ce cas,
bien qu'il ne soit pas nécessaire d'arrêter l'opération de dé-
pôt, le volume de la solution de dépôt augmente peu à peu en répétant l'opération ci-dessus et on obtient ainsi une solution de dépôt d'un volume qui n'est pas nécessaire. C'est ainsi, par
exemple, que si l'on utilise une solution ayant une concentra-
tion de palladium de 150 grammes/litre (la solution saturée à C), chaque recharge de 2 grammes/litre de palladium augmente
de 13 cm3 la solution de dépôt pour 1000 cm3 de celle-ci.
En d'autres termes, dans les conditions de l'exemple 1,
si on utilise la solution du sel de palladium dans l'ammonia-
que, même s'il s'agit de la solution saturée, la solution de dépôt augmente de 13 cm3 toutes les 3 heures. Au fur et à mesure que l'opération de dépôt se déroule, la solution de
dépôt continue à augmenter au-delà de la perte due à l'évapora-
tion spontanée et, finalement, son volume ne devient plus négligeable pour le déroulement de l'opération et, en même
temps, ce volume ajouté devient parfaitement inutile.
C'est pourquoi, actuellement, ce volume ajouté est traité séparément pour en récupérer le métal noble qu'est le palladium, ou est réchauffé pour évaporer l'eau afin d'obtenir un volume plus petit et, le cas échéant, si cela est possible, est retourné à la solution de dépôt. Mais ces opérations non
seulement augmentent le coût, mais rendent les opérations diffi-
ciles à mener. L'invention vise à éliminer les difficultés mentionnées cidessus auxquelles on se heurte lorsque l'on régénère la solution de dépôt et on y parvient, suivant l'invention, en
rechargeant la solution de dépôt par addition directe de chlo-
rure de pallado-tétramine cristallin. Les sels utilisés habi-
tuellement, tels que le chlorure de pallado-diamine Pd(NH3)2Ci2, le chlorure de palladium PdCl2, le palladichlorure de potassium K2PdCl4, le palladichlorure d'ammonium (NH4)2PdCl4 etc., sont tous solubles dans l'ammoniaque et réagissent chimiquement sur l'ammoniac pour former une solution d'ammoniaque du sel dit d'amine complexe dans lequel NH3 est coordinné à l'atome de métal, plus particulièrement le chlorure de pallado-tétramine Pd(NH3)4C12. Il n'y a pas d'exemple, jusqu'ici, dans lequel la
régénération de la solution de dépôt s'effectue par recharge-
ment de celle-ci en y ajoutant directement du chlorure de
pallado-tétramine cristallin.
Comme le chlorure de pallado-tétramine cristallin est
facilement soluble non seulement dans l'eau et dans l'ammonia-
que, mais aussi dans la solution de dépôt elle-même, l'addition directe de ce sel à une solution de dépôt ayant une faible
concentration en ammoniac peut régénérer cette solution de dé-
pôt sans avoir besoin d'interrompre l'opération de dépôt, et sans provoquer une augmentation de volume de cette solution
de dépôt.
C'est ainsi, par exemple, que lorsque l'on met 5 gram-
mes de chlorure de pallado-tétramine cristallin Pd(NH4)4Ci2.
H20 (2 grammes en palladium) dans 1000 cm3 de la solution de dépôt et quand on agite, il y a dissolution complète en une
demi-minute à une minute.
On peut également appliquer le procédé suivant l'inven-
tion au cas o la solution de dépôt contient un sulfamide aroma-
tique, un acide naphtalène sulfonique, un sel d'un acide organi-
que ou un sel d'un acide minéral. En outre, ce procédé peut être appliqué aussi à une solution de dépôt préparée en utilisant
du chlorure de pallado-diamine ou d'autres sels de palladium.
On peut enfin appliquer ce procédé,quelle que soit la concentra-
tion en ammoniac et donc quel que soit le pH de la solution de dépôt. Le chlorure de pallado-tétramine existe sous des formes répondant aux formules: Pd(NH3)4C12 et Pd(NH3)4C12, H20, toutes deux étant obtenues sous la forme de poudre cristalline
blanche à légèrement jaunâtre.
La solution aqueuse de ce produit présente une certaine alcalinité due à l'ammoniac s'expliquant par la réaction chimique suivante: Pd(NH3)4C12,: Pd(NH3) 2C12 + 2NH3 Si l'ammoniac engendré s'échappe à l'atmosphère, l'équilibre est déplacé vers la droite et la dissolution devient incomplète. C'est pourquoi pour maintenir la stabilité de cette solution aqueuse, il est souhaitable qu'un excès d'ammoniac soit toujours présent en solution. Comme la solution de dépôt
est une solution d'ammoniaque, le sel utilisé suivant l'inven-
tion peut être stable dans la solution. Ce sel est facilement soluble dans l'eau, dans l'ammoniaque et dans la solution de dépôt et la dimension des cristaux n'est donc pas déterminante
aux fins de l'invention.
Les exemples suivants illustrent l'invention.
EXEMPLE 1
On prend 39,7 grammes (20 grammes en palladium) de chlorure de palladodiamine Pd(NH3)2C12 et on y ajoute 700 cm
d'eau et 90 cm d'ammoniaque à 25 % pour le dissoudre.
On ajoute ensuite, jusqu'à dissolution, 50 grammes de sulfate d'ammonium et 45 grammes (10 grammes en nickel) de sulfate de nickel NiSO4 6H20 et on ajuste le pH entre 8,5 et 9,0 en utilisant de l'acide sulfurique dilué, après quoi on ajoute l'eau pour avoir un volume total de 1000 cm3. En utilisant cette solution comme solution de dépôt, on effectue un dépôt par électrolyse, en respectant les conditions
d'électrolyse suivantes.
Pd(NH3)2C12 39,7 g/l (Pd: 20 g/l) NiS0416H20 45 g/l (Ni: 10 g/l) (NH4) 2S04 50 g/l pH 8,5 à 9,0 Température: 25 C Volume de la solution de dépôt: 1000 cm3 Type de cathode: plaque de laiton Surface de la cathode: 0,5 dm2 Densité de courant cathodique: 1A/dm2 Anode: plaque de palladium Densité de courant anodique: 1 A/dm2 Concentration de courant: 0,5 A/1 Alliage électrodéposé: 80 % en poids de Pd et 20 % en poids de Ni Masse volumique de l'alliage électrodéposé: 11,0 g/cm3 Rendement de courant: 99 %
Vitesse d'électro-
déposition de l'alliage: 0,0141 g/mn.
(Vitesse d'électro-
déposition du Pd): (0,0113 g/mn).
Toutes les 30 minutes de dépôt, on échange la cathode et, quand la concentration de palladium de la solution de dépôt
s'abaisse en-deçà de 18 grammes/litre, ou quand la concentra-
tion de nickel s'abaisse en-deçà de 9 grammes/litre, on jette
dans la solution de dépôt, en vue de la régénérer à la concen-
tration initiale, une quantité calculée, soit de chlorure de palladotétramine cristallin Pd(NH3)4C12,H20,sDit de sulfate de nickel cristallin NiSO 4,6H20. On effectue l'ajustement du pH en utilisant de l'ammoniaque à 25 %. On effectue ainsi un dépôt jusqu'à la quantité totale de palladium rechargée atteignant
grammes/litre.
On dissout complètement du chlorure de pallado-tétra-
mine cristallin en une demi-minute à une minute, temps pendant lequel on interrompt le dépôt. On n'observe rien d'anormal sur le dépôt et l'adhérence et la résistance à la corrosion de ce dépôt sont bons. On n'observe pas d'augmentation importante du
volume de la solution de dépôt.
6 2491094
EXEMPLE 2
Comme brillanteur, on ajoute et on dissout dans la solu-
tion de dépôt de l'exemple 1, 5 grammes/litre de 1,3,6-naphta-
lènetrisulfonate de sodium. En utilisant cette solution comme solution de dépôt, on effectue une expérience dans les mêmes conditions qu'à l'exemple 1. Dans ce cas, on obtient les mêmes
résultats si ce n'est que le revêtement est plus brillant.
EXEMPLE 3
On prend 19,9 grammes (10 grammes en palladium) de chlorure de palladodiamine Pd(NH3)2C12 et on y ajoute pour le dissoudre 700 cm3 d'eau et 30 cm3 d'ammoniaque à 25 %. Puis on y ajoute, jusqu'à dissolution, 50 grammes de sulfate d'ammonium et 45 grammes (10 grammes en nickel) de sulfate de nickel NiS04,6H20, puis on ajoute de l'eau pour obtenir un volume total de 1000 cm3. En utilisant cette solution dans la solution de dépôt, on effectue un dépôt dans les conditions suivantes: Pd(NH3)2C12: 19,9 g/l (Pd: 10 g/l) NiSO4,6H20: 45 g/1 (Ni: 10 g/l) (NH4)2S04 50 g/l pH: 7,0 à 7,5 Température: 30 C Volume de la solution de dépôt: 1000 cm3 Type de cathode: plaque de laiton Surface de la cathode: 0,5 dm2 Densité du courant cathodique 1 A/dm2 Anode: plaque de palladium Densité du courant anodique: 1 A/dm2 Concentration de courant: 0,5 A/1 Alliage électrodéposé: 55 % en poids de Pd et % en poids de Ni Masse volumique d'alliage électrodéposé: 10,04 g/cm3 Rendement de courant: 99 %
Vitesse d'électrodépo-
sition de l'alliage: 0,0120 g/mn
7 2491094
(Vitesse d'électrodépo-
sition de Pd): (0,0066 g/mn).
Toutes les 30 minutes, on échange la cathode et, lors-
que la concentration de palladium de la solution de dépôt s'abaisse endeçà de 9 grammes/litre, ou lorsque la concentra- tion de nickel s'abaisse en-deçà de 9 grammes/litre, on jette dans la solution de dépôt, en vue de régénérer une solution ayant la concentration initiale, une quantité calculée soit de chlorure de pallado-tétramine cristallin Pd(NH3) 4C12'H20, soit
de sulfate de nickel cristallin NiS0416H20.
On effectue ainsi un dépôt jusqu'à ce que la quantité
totale de palladium rechargée ait atteint 20 grammes/litre.
On dissout complètement du chlorure de pallado-tétra-
mine cristallin en une demi-minute à une minute, temps pendant lequel on n'interrompt pas le dépôt. La surface ayant reçu le
dépôt est brillante et on n'y observe rien d'anormal. L'adhé-
rence et la résistance à la corrosion sont bonnes. On n'obser-
ve pas d'augmentation importante du volume de la solution de dépôt.
8 2491094
Claims (1)
- REVENDICATIONProcédé pour recharger une solution de dépôt d'un allia-ge de palladium et de nickel, dans un procédé de dépôt par électrolyse d'un alliage de palladium et de nickel utilisant à titre de solution de dépôt une solution ammoniaquée contenant de 5 à 30 grammes/litre de palladium et de 5 à 30 grammes/litrede nickel, caractérisé en ce qu'il consiste à ajouter du chlo-rure de palladotétramine à la solution de dépôt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55134399A JPS5857501B2 (ja) | 1980-09-29 | 1980-09-29 | 電気メツキ用通電ロ−ル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2491094A1 true FR2491094A1 (fr) | 1982-04-02 |
FR2491094B1 FR2491094B1 (fr) | 1985-04-26 |
Family
ID=15127482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR8118338A Granted FR2491094A1 (fr) | 1980-09-29 | 1981-09-29 | Rouleau a faible resistivite transversale pour depot electrolytique |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4374721A (fr) |
JP (1) | JPS5857501B2 (fr) |
DE (1) | DE3138468A1 (fr) |
FR (1) | FR2491094A1 (fr) |
GB (1) | GB2084188B (fr) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5940741U (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | 三洋電機株式会社 | 空気調和機 |
JPH064900B2 (ja) * | 1984-12-19 | 1994-01-19 | 日立金属株式会社 | 耐食性高強度Ni基合金 |
US4778576A (en) * | 1986-07-31 | 1988-10-18 | The Dow Chemical Company | Nickel alloy anodes for electrochemical dechlorination |
JPS6473047A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-17 | Kubota Ltd | Electrifying roll alloy for electroplating |
JPH028337A (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-11 | Nippon Stainless Steel Co Ltd | 電気めっき用通電ロールおよびその製造方法 |
US5120614A (en) * | 1988-10-21 | 1992-06-09 | Inco Alloys International, Inc. | Corrosion resistant nickel-base alloy |
FI83439C (fi) * | 1989-08-24 | 1991-07-10 | Valmet Paper Machinery Inc | Vals i pappersmaskin och foerfarande foer framstaellning av denna. |
US5111568A (en) * | 1989-08-24 | 1992-05-12 | Valmet Paper Machinery Inc. | Paper machine roll |
JPH0361915U (fr) * | 1989-10-20 | 1991-06-18 | ||
JPH0499240A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-31 | Kubota Corp | 銅箔表面処理用給電ロール合金 |
EP0499969B1 (fr) * | 1991-02-18 | 1995-05-17 | Mitsubishi Materials Corporation | Procédé de fabrication de matériau de coupe à ténacité améliorée |
US5355932A (en) * | 1992-03-06 | 1994-10-18 | Hitachi Metals, Ltd. | Method of producing a compound roll |
US5632861A (en) * | 1995-06-08 | 1997-05-27 | Beloit Technologies, Inc. | Alloy coating for wet and high temperature pressing roll |
US7785532B2 (en) * | 2006-08-09 | 2010-08-31 | Haynes International, Inc. | Hybrid corrosion-resistant nickel alloys |
JP6068935B2 (ja) | 2012-11-07 | 2017-01-25 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | Ni基鋳造合金及びそれを用いた蒸気タービン鋳造部材 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1309587A (fr) * | 1961-12-22 | 1962-11-16 | Basf Ag | Alliage de nickel-chrome-molybdène d'une haute résistance à la corrosion, notamment à la corrosion intercristalline |
US3374165A (en) * | 1965-02-18 | 1968-03-19 | Electro Coatings | Conductor roll |
FR2216361A1 (fr) * | 1973-02-06 | 1974-08-30 | Cabot Corp | |
FR2401231A1 (fr) * | 1977-08-24 | 1979-03-23 | Cabot Corp | Alliage nickel-chrome-molybdene a module eleve d'elasticite et son procede de preparation |
FR2418817A1 (fr) * | 1978-03-01 | 1979-09-28 | Exxon Research Engineering Co | Superalliage de type nickel-chrome-molybdene resistant bien a la fragilisation par l'hydrogene |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA457040A (fr) * | 1949-05-31 | Carnegie-Illinois Steel Corporation | Rouleau conducteur | |
US1836317A (en) * | 1928-10-31 | 1931-12-15 | Electro Metallurg Co | Corrosion resistant alloys |
DE1210566B (de) * | 1961-04-01 | 1966-02-10 | Basf Ag | Verfahren zum Herstellen einer hoch-korrosionsbestaendigen und warmfesten Nickel-Chrom-Molybdaen-Legierung mit erhoehter Bestaendigkeit gegen interkristalline Korrosion |
US3510294A (en) * | 1966-07-25 | 1970-05-05 | Int Nickel Co | Corrosion resistant nickel-base alloy |
US3674656A (en) * | 1969-06-19 | 1972-07-04 | Circuit Foil Corp | Bonding treatment and products produced thereby |
US3870618A (en) * | 1971-11-26 | 1975-03-11 | M & F Chemicals Inc | Chromium plating method |
US3860099A (en) * | 1973-05-18 | 1975-01-14 | Bethlehem Steel Corp | Composite contactor roll for electroplating |
US3918964A (en) * | 1973-12-21 | 1975-11-11 | Sorcery Metals Inc | Nickel-base alloys having a low coefficient of thermal expansion |
US3942230A (en) * | 1974-03-05 | 1976-03-09 | Plasma Coatings, Inc. | Composite metallic roll with release surface and method of making same |
US4064608A (en) * | 1976-09-30 | 1977-12-27 | Eutectic Corporation | Composite cast iron drier roll |
US4318794A (en) * | 1980-11-17 | 1982-03-09 | Edward Adler | Anode for production of electrodeposited foil |
-
1980
- 1980-09-29 JP JP55134399A patent/JPS5857501B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-09-25 US US06/305,398 patent/US4374721A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-09-26 DE DE19813138468 patent/DE3138468A1/de active Granted
- 1981-09-28 GB GB8129180A patent/GB2084188B/en not_active Expired
- 1981-09-29 FR FR8118338A patent/FR2491094A1/fr active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1309587A (fr) * | 1961-12-22 | 1962-11-16 | Basf Ag | Alliage de nickel-chrome-molybdène d'une haute résistance à la corrosion, notamment à la corrosion intercristalline |
US3374165A (en) * | 1965-02-18 | 1968-03-19 | Electro Coatings | Conductor roll |
FR2216361A1 (fr) * | 1973-02-06 | 1974-08-30 | Cabot Corp | |
FR2401231A1 (fr) * | 1977-08-24 | 1979-03-23 | Cabot Corp | Alliage nickel-chrome-molybdene a module eleve d'elasticite et son procede de preparation |
FR2418817A1 (fr) * | 1978-03-01 | 1979-09-28 | Exxon Research Engineering Co | Superalliage de type nickel-chrome-molybdene resistant bien a la fragilisation par l'hydrogene |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3138468A1 (de) | 1982-04-15 |
US4374721A (en) | 1983-02-22 |
GB2084188B (en) | 1984-02-08 |
JPS5760044A (en) | 1982-04-10 |
JPS5857501B2 (ja) | 1983-12-20 |
GB2084188A (en) | 1982-04-07 |
DE3138468C2 (fr) | 1987-09-03 |
FR2491094B1 (fr) | 1985-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FR2491094A1 (fr) | Rouleau a faible resistivite transversale pour depot electrolytique | |
FR2490684A1 (fr) | Solution de depot d'un alliage de palladium et de nickel par voie electrolytique | |
US4168214A (en) | Gold electroplating bath and method of making the same | |
JPS6127480B2 (fr) | ||
CH381493A (fr) | Bain pour le dépôt par voie chimique de revêtements adhérents de palladium, et utilisation dudit bain | |
CN101387000A (zh) | 无氰预镀铜工艺方法 | |
TWI507571B (zh) | 藉由電鑄法但不使用有毒金屬或類金屬而獲致黃金合金沉積的方法 | |
FR2576609A1 (fr) | Composition et procede pour former un revetement en palladium en alliages de palladium | |
FR2807450A1 (fr) | Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages | |
EP1268347B1 (fr) | Sel complexe de palladium et son utilisation pour ajuster la concentration en palladium d'un bain electrolytique destine au depot du palladium ou d'un de ses alliages | |
CN104480500A (zh) | 铜或铜合金镀银用的无氰电镀液、制备方法及镀银工艺 | |
JPH0270084A (ja) | 金めっき浴及び金めっき方法 | |
US3935005A (en) | Composition and method for stripping gold and silver | |
US4400415A (en) | Process for nickel plating aluminum and aluminum alloys | |
CN111962104A (zh) | 一种22k无氰电铸黄金及其制备工艺 | |
JPS60500296A (ja) | パラジウム−銀合金の電気めっき浴 | |
FR2537164A1 (fr) | Procede de purification de bains de revetement electrolytique de chrome trivalent | |
FR2519656A1 (fr) | Procede de revetement electrolytique de chrome trivalent sans formation d'ion chrome hexavalent, en utilisant une anode en ferrite | |
FR2538815A1 (fr) | Procede pour former, par electrolyse, un revetement de cuivre sur un substrat, a partir d'un bain exempt de cyanure, et anode pour la mise en oeuvre de ce procede | |
JP2522101B2 (ja) | ニッケル―モリブデン合金めっき浴及びめっき方法 | |
RU2334833C1 (ru) | Электролит для осаждения покрытий из сплава кадмий-кобальт | |
JP2005520048A5 (fr) | ||
RU2809766C1 (ru) | Способ получения гальванического покрытия индием | |
WO2001038609A1 (fr) | PROCEDE DE PRODUCTION D'UN REVETEMENT EN ALLIAGE AuCuGa PAR ELECTROLYSE, ET ALLIAGES PRODUITS AU MOYEN D'UN TEL PROCEDE | |
SU645993A1 (ru) | Электролит дл нанесени покрытий сплавом палладий-рутений |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |