FR2415367A1 - Procede et dispositif pour le reglage d'un appareil de traitement a rayonnement electronique - Google Patents
Procede et dispositif pour le reglage d'un appareil de traitement a rayonnement electroniqueInfo
- Publication number
- FR2415367A1 FR2415367A1 FR7901367A FR7901367A FR2415367A1 FR 2415367 A1 FR2415367 A1 FR 2415367A1 FR 7901367 A FR7901367 A FR 7901367A FR 7901367 A FR7901367 A FR 7901367A FR 2415367 A1 FR2415367 A1 FR 2415367A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- adjustment
- images
- electronic
- electronic radiation
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Procédé et dispositif pour le réglage d'un appareil de traitement à rayonnement électronique dans lequel est obtenue une section de rayonnement limitée de préférence sous forme rectangulaire qui est déviée dans des directions x et y, et dans lequel l'image du point de croisement du système producteur de rayonnement est formée dans le plan de basculement d'un système déviateur et est reproduite à partir de là dans le plan du diaphragme d'ouverture (pupille d'entrée) de l'objectif. Sur un écran lumineux sont successivement formées des images de la section de rayonnement électronique et des images de la pupille d'entrée et à l'aide de ces images les paramètres de réglage sont amenés à l'état nominal, des effets en retour sur des paramètres déjà réglés étant évités en effectuant certaines opérations de réglage les unes après les autres. L'invention est applicable par exemple à la fabrication de circuits électroniques miniaturisés.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD78203296A DD134582A1 (de) | 1978-01-19 | 1978-01-19 | Verfahren und einrichtung zur justierung einer elektronenstrahlbearbeitungsanlage |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2415367A1 true FR2415367A1 (fr) | 1979-08-17 |
Family
ID=5511289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR7901367A Pending FR2415367A1 (fr) | 1978-01-19 | 1979-01-19 | Procede et dispositif pour le reglage d'un appareil de traitement a rayonnement electronique |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4393310A (fr) |
DD (1) | DD134582A1 (fr) |
FR (1) | FR2415367A1 (fr) |
SU (1) | SU940256A1 (fr) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2513398A1 (fr) * | 1981-09-22 | 1983-03-25 | Thomson Csf | Dispositif de correction d'astigmatisme dans un systeme d'optique electronique |
EP0133016A2 (fr) * | 1983-07-28 | 1985-02-13 | Varian Associates, Inc. | Lentille magnétique à intervalles multiples par la focalisation des faisceaux de particules chargées |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0732108B2 (ja) * | 1982-07-28 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | 電子線露光装置 |
JPS5957431A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-03 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
JPS5961134A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム露光装置 |
NL8803153A (nl) * | 1988-12-23 | 1990-07-16 | Philips Nv | Elektronenbundel apparaat met dynamische focussering. |
US5747814A (en) * | 1996-12-06 | 1998-05-05 | International Business Machines Corporation | Method for centering a lens in a charged-particle system |
DE19827819C2 (de) * | 1998-06-17 | 2003-07-03 | Equicon Software Gmbh Jena | Verfahren zur Steuerung von Elektronenstrahl-Belichtungsanlagen mit Formstrahlprinzip |
JP3968334B2 (ja) * | 2002-09-11 | 2007-08-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 |
DE102004037781A1 (de) * | 2004-08-03 | 2006-02-23 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Elektronenstrahlgerät |
JP4322823B2 (ja) * | 2005-02-07 | 2009-09-02 | 株式会社東芝 | 電子ビーム描画装置 |
JP5123754B2 (ja) * | 2008-06-24 | 2013-01-23 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び荷電粒子ビームの焦点合わせ方法 |
EP2228817B1 (fr) * | 2009-03-09 | 2012-07-18 | IMS Nanofabrication AG | Fonction de dispersion globale du point dans la formation de motifs à plusieurs faisceaux |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2337420A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Fujitsu Ltd | Appareil lithographique a faisceau electronique |
FR2351497A1 (fr) * | 1976-05-14 | 1977-12-09 | Thomson Csf | Dispositif permettant le trace programme de figures de formes differentes |
DE2627632A1 (de) * | 1976-06-19 | 1977-12-22 | Jenoptik Jena Gmbh | Verfahren und einrichtung zur nichtthermischen elektronenstrahlbearbeitung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1463748A (en) * | 1973-09-03 | 1977-02-09 | Jeol Ltd | Electron beam apparatus |
US4075488A (en) * | 1974-09-06 | 1978-02-21 | Agency Of Industrial Science & Technology | Pattern forming apparatus using quadrupole lenses |
NL7416395A (nl) * | 1974-12-17 | 1976-06-21 | Philips Nv | Elektronenmikroskoop. |
DE2542356C2 (de) * | 1975-09-19 | 1977-10-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Fokussierung der Objektivlinse eines Korpuskular-Durchstrahlungs-Rastermikroskops und Einrichtung zur selbsttätigen Durchführung des Verfahrens, sowie Anwendung |
JPS5412675A (en) * | 1977-06-30 | 1979-01-30 | Jeol Ltd | Electon beam exposure method |
-
1978
- 1978-01-19 DD DD78203296A patent/DD134582A1/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-12-19 SU SU787770391A patent/SU940256A1/ru active
-
1979
- 1979-01-05 US US06/000,502 patent/US4393310A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-01-19 FR FR7901367A patent/FR2415367A1/fr active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2337420A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Fujitsu Ltd | Appareil lithographique a faisceau electronique |
FR2351497A1 (fr) * | 1976-05-14 | 1977-12-09 | Thomson Csf | Dispositif permettant le trace programme de figures de formes differentes |
DE2627632A1 (de) * | 1976-06-19 | 1977-12-22 | Jenoptik Jena Gmbh | Verfahren und einrichtung zur nichtthermischen elektronenstrahlbearbeitung |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2513398A1 (fr) * | 1981-09-22 | 1983-03-25 | Thomson Csf | Dispositif de correction d'astigmatisme dans un systeme d'optique electronique |
EP0133016A2 (fr) * | 1983-07-28 | 1985-02-13 | Varian Associates, Inc. | Lentille magnétique à intervalles multiples par la focalisation des faisceaux de particules chargées |
EP0133016A3 (fr) * | 1983-07-28 | 1986-04-16 | Varian Associates, Inc. | Lentille magnétique à intervalles multiples par la focalisation des faisceaux de particules chargées |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD134582A1 (de) | 1979-03-07 |
US4393310A (en) | 1983-07-12 |
SU940256A1 (ru) | 1982-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FR2415367A1 (fr) | Procede et dispositif pour le reglage d'un appareil de traitement a rayonnement electronique | |
JPS56128911A (en) | Subminiature zoom lens | |
FR2385124A1 (fr) | Procede pour la production de pellicules photosensibles et pellicules photographiques resultant de ce procede | |
JPS633291B2 (fr) | ||
KR970003195B1 (ko) | 자동 정렬식 개구 | |
JPS5574270A (en) | Focusing detector for tv camera | |
JP2000349268A (ja) | 固体撮像装置およびその製造方法並びにマスク作製方法 | |
JPS6113722B2 (fr) | ||
US3612698A (en) | Automatic holographic wafer positioning system and method | |
JPH097937A (ja) | 露光装置及びこの装置を用いた露光方法 | |
US3659098A (en) | Arrangement for facilitating adjustment of the electronic beam of an electronic-beam microanalyzer and method of producing same | |
JPH049846A (ja) | デバイスの製造方法およびこれに使用するマスク群 | |
FR2362423A1 (fr) | Procede pour la production d'une pellicule photographique de base comportant une composition formant substratum et pellicules photographiques de base produites par ce procede | |
JPS5754939A (en) | Optical mask and its manufacture | |
JPH0737801A (ja) | 露光パターンの分割方法 | |
JPS56113108A (en) | Preparation for echelette grating | |
SU1254417A1 (ru) | Способ изготовлени фотошаблонов дл неплоских объектов | |
JPS59104627A (ja) | 雲台装置 | |
JPH02281725A (ja) | 投影露光装置 | |
FR2421399A1 (fr) | Dispositif pour regler de facon precise l'image d'un objet dans un plan image | |
US1167506A (en) | Method of producing dot-screens for photographic work. | |
JPS57186333A (en) | Projecting exposure device | |
JPS58151017A (ja) | 薄膜の形成方法および形成装置 | |
Popova | The Curvature of the Paths of Some Meteors during Their Motion Through the Earth's Atmosphere | |
SU125474A1 (ru) | Способ изготовлени растров |