FI97573B - Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen - Google Patents
Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen Download PDFInfo
- Publication number
- FI97573B FI97573B FI895029A FI895029A FI97573B FI 97573 B FI97573 B FI 97573B FI 895029 A FI895029 A FI 895029A FI 895029 A FI895029 A FI 895029A FI 97573 B FI97573 B FI 97573B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- composition
- sodium
- development solution
- radiation
- solution according
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M sodium octanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC([O-])=O BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 8
- IIWMSIPKUVXHOO-UHFFFAOYSA-N ethyl hexyl sulfate Chemical compound CCCCCCOS(=O)(=O)OCC IIWMSIPKUVXHOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 7
- -1 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 claims abstract description 7
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims 1
- IDUWTCGPAPTSFB-UHFFFAOYSA-N hexyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCOS(O)(=O)=O IDUWTCGPAPTSFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 9
- WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol monododecyl ether Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCO WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 102100026816 DNA-dependent metalloprotease SPRTN Human genes 0.000 description 2
- 101710175461 DNA-dependent metalloprotease SPRTN Proteins 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHGOKSLTIUHUBF-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl sulfate Chemical compound CCCCC(CC)COS(O)(=O)=O MHGOKSLTIUHUBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical group CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical compound [N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001481710 Cerambycidae Species 0.000 description 1
- AHJKRLASYNVKDZ-UHFFFAOYSA-N DDD Chemical compound C=1C=C(Cl)C=CC=1C(C(Cl)Cl)C1=CC=C(Cl)C=C1 AHJKRLASYNVKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000996935 Homo sapiens Putative oxidoreductase GLYR1 Proteins 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100034301 Putative oxidoreductase GLYR1 Human genes 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000009469 supplementation Effects 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
Description
97573 5 Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen Utveckling av strälningskänsliga sammansättningar
Keksinnön kohteena on menetelmä kuvamaisesti valotetun säteilyherkän koostumuksen kehittämiseksi.
Keksinnön kohteena on myös kehitysneste sekä positiivisesti että negatii-10 visesti toimivien säteilyherkkien koostumusten kehittämiseksi kuvamaisen valotuksen jälkeen.
Painolevyjen ja valoresistien tuotannossa, säteilylle herkkä koostumus pinnoitetaan substraatille säteilylle herkän levyn muodostamiseksi, joka 15 sitten kuvanomaisesti altistetaan säteilylle päällysteen eri alueiden selektiiviseksi valottamiseksi. Niillä alueilla, joihin säteily on osunut ja niillä, joihin se ei ole osunut, on eri liukoisuus kehitysliuoksissa ja siten liukenevammat alueet voidaan selektiivisesti poistaa substraatista levittämällä sopiva kehitysliuos kuvan jättämiseksi substraatille, 20 joka muodostuu vähemmän liukoisista alueista.
Säteilyherkät koostumukset luokitellaan tavallisimmin joko positiivisesti toimiviin tai negatiivisesti toimiviin. Positiivisesti varautuneilla koostumuksilla on sellainen ominaisuus, että ne tulevat liukenevammaksi 25 tietyssä kehitysliuoksessa, kun ne altistetaan säteilylle, kun taas negatiivisesti toimivilla koostumuksilla on sellainen ominaisuus, että ne tulevat vähemmän liukenevammaksi.
Tämä ero on ennen merkinnyt sitä, että kehitysliuokset, joita käytetään 30 näiden kahden eri koostumusryhmien yhteydessä, ovat olleet olennaisen erilaisia. Varsinkin negatiivisesti toimivat koostumukset ovat yleisesti ottaen vaatineet kehitysliuoksen, joka käsittää olennaisen osuuden orgaanista liuotinta. Siten kehitysliuos, joka sopii positiivisesti toimiville koostumuksille, ei kehittäisi negatiivisesti toimivaa koostu-35 musta ja kehitysliuos, joka on sopiva negatiivisesti toimiville koostumukselle, ylikehittäisi positiivisesti toimivan koostumuksen.
2 97573 Tämän keksinnön kohteena on aikaansaada kehitysliuos, joka on sopiva käytettäväksi sekä positiivisesti että negatiivisesti toimivien koostumusten yhteydessä.
5 Keksinnön mukainen menetelmä on tunnettu siitä, että menetelmä käsittää koostumuksen saattamisen kontaktiin kehitysnesteen kanssa, joka sisältää alkalista silikaattia, etyyliheksyylisulfaattia ja pinta-aktiivista ainetta.
10 Keksinnön mukainen kehitysneste on tunnettu siitä, että se käsittää alkalista silikaattia, etyyliheksyylisulfaattia ja pinta-aktiivista ainetta.
Kehitysliuosta voidaan käyttää joko positiivisesti toimivien koostumusten 15 yhteydessä, kuten sellaisten koostumusten, jotka käsittävät kinonidiatsi-din ja alkaaliin liukenevan hartsin, tai käsittävät diatsoesterin ja novolak -hartsin, tai käsittävät novolak -esterin, tai negatiivisesti toimivien koostumusten kanssa, kuten koostumusten, jotka käsittävät diatsoyhdisteen, jotka sisältävät ryhmiä, joiden kaava on 20
Y
II
A'N2+ - Ar - R - X - C - X' - 25 joissa Ar on kaksiarvoinen tai muu moniarvoinen radikaali, joka on johdettu aromaattisesti tai heteroaromaattisesta yhdisteestä; X ja X' voivat olla samanlaisia tai erilaisia ja kumpikin tarkoittaa 0, S tai iminoryhmää, sillä edellytyksellä että ainakin yksi ryhmistä X ja X' on iminoryhmä; Y on 0 tai S; R on yksinkertainen sidos tai kaksiarvoinen tai 30 muu moniarvoinen radikaali; ja A" on anioni (kuten on kuvattu julkaisussa EP-A-0030862, jonka sisältöön viitataan tässä), tai käsittävät ainakin yhden fotoinitiaattorin ja ainakin yhden fotopolymerisoitavan yhdisteen, joka on tetrafunktionaalisen polyolin akryyli- tai metakryyliesteri, jonka yleinen kaava on: C(CH20)A(C3H60)n H, 35 3 97573 jossa keskimääräinen propoksylointiaste n on 3-6, 50 % - 90 % saatavilla olevista hydroksiryhmistä on muutettu akrylaatti- tai metakrylaattiryh-miksi, ja jäljellä olevat hydroksiryhmät on saatettu reagoimaan di-isosyanaatin tai polyisosyanaatin kanssa (kuten on kuvattu julkaisussa 5 EP-A-0202823, jonka sisältöön viitataan tässä), tai käsittävät tioksan- toniherkistimen ja valolle herkän polymeerin, jossa on liikkuvia dimetyy-limaleimidiryhmiä, tai käsittävät tuettua diatsodifenyyliamiini/formalde-hydikondensaattia, tai käsittävät trimetyylioletaanitriakrylaattia ja metyylimetakrylaatti/metakryylihappokopolymeeriä sideaineena.
10
Kehitysliuos on erityisen käyttökelpoinen koneissa, jotka on tarkoitettu automaattisesti kehittäviä säteilyherkkiä levyjä varten, jotka sisältävät sellaisia koostumuksia. Yleisesti ottaen kehitysliuosta voidaan käyttää missä vain prosessorissa, joka on suunniteltu positiivisesti varautunei-15 den levyjen kehittämiseen. Kehitysliuoksen käyttöikä riippuu siitä tavasta, millä prosessorin kehitysosa rakennetaan. Prosessoreita, joissa on täysin koteloitu kehityssäiliö, saavat aikaan suuremman haude-eliniän riippuen kehitysliuoksen rajoitetusta kontaktista ilmakehään. Kehitysliuoksen aktiivisuutta voidaan ylläpitää täydentämällä ja se suoritetaan 20 määrittämällä sen johtokyky, kuten on esitetty julkaisussa EP-A-0107454.
Alkaalinen materiaali on ensisijainen kehitysaine positiivisesti varautuneille koostumuksille ja sen konsentraatio määrää kehitysasteen ja kehitysliuoksen käyttöiän. Alkaalinen materiaali voi olla hydroksidi, 25 fosfaatti, amiini, kuten monoetanoliamiini tai silikaatti ja edullisesti natriummetasilikaatti. Viimeksi mainitussa tapauksessa natriummetasili-kaatin konsentraatio on yleisesti 4-20 p/t %, edullisesti 7-12 p/t %. Sopivia hydroksidikonsentraatioita ovat 0,2-10 p/t % (edullisesti 2,0-5,0 p/t %), sopivia fosfaattikonsentraatioita ovat 4-20 p/t % (edullisesti 30 7-12 p/t %), ja sopivia amiinikonsentraatioita ovat 1-20 t/t % (edulli sesti 5-10 t/t %).
Etyyliheksyylisulfaatti toimii kehitysapuaineena negatiivisesti toimivilla koostumuksille ja on edullisesti natriumsuolan muodossa. Voidaan 35 kuitenkin käyttää muita suoloja. Yleisesti ottaen sen konsentraatio on 2-20 t-%, edullisesti 3-5 t-% 40 p/t %:n liuoksesta.
4 97573
Pinta-aktiivinen aine estää positiivisesti varautuneiden koostumusten ylikehittymisen ja se voi olla ei-joninen pinta-aktiivinen aine, kuten polyoksietyleenilauryylieetteeri tai poly(etyleeni)glykolin etyleenioksi-di/propyleenioksidikondensaatti. Viimeksi mainittu on edullinen, koska se 5 myös estää kiinteitä jätteitä, joita muodostuu levyn pinnalle, kun kehitetään säteilylle herkkiä levyjä eräissä automaattisissa levyproses-soreissa, jotka käyttävät kovaa vettä levyn pesuosassa. Yleisesti ottaen pinta-aktiivinen aine on läsnä määrässä 0,075 % - 1,5 t-%, edullisesti 0,2-0,5 t-%.
10
Eräässä suoritusmuodossa kehitin käsittää lisäksi alifaattisen karb-oksyylihapon veteen liukenevan suolan. Tämä voi olla sellaisen hapon kalium- tai natriumsuola, joka sisältää 1-9 hiiliatomia, edullisesti oktanoidihappo. Se toimii sekä positiivisesti että negatiivisesti varau-15 tuneiden koostumusten kehitysapuaineena. Natriumoktanoaattisuolan käyttö on edullista. Veteen liukeneva suola on yleisesti läsnä määrässä 1 til-% - 20 til-%, edullisesti 2-6 til-%, 40 %:sta p/t liuoksista.
Eräässä suoritusmuodossa kehitin sisältää lisäksi etyleenidiamiinitetra-20 etikkahapon natriumsuolaa. Tällä on se etu, että se kompleksoi kalsium-ja magnesium-joneja, jotka ovat läsnä pesuvedessä kovien vesisuolojen muodostuksen estämiseksi. Sitä on yleensä läsnä määrässä 2-10 p/t %, edullisesti 1-3 p/t %.
25 Seuraavat esimerkit kuvaavat keksintöä ESIMERKKI 1
Ryhmä positiivisesti toimivia esiherkistettyjä levyjä, jotka muodostuivat 30 jyvänmuotoon saatetusta ja anodisoidusta alumiinisubstraatista, joka oli päällystetty koostumuksella, joka perustui kinonidiatsidiin ja alkali-liukoiseen novolak -hartsiin, valotettiin kopiontikehyksessä jatku-vasävykiilan avulla.
35 Levyjä käsiteltiin sitten Howson-Algraphy Positive Plate -prosessorissa, jonka kehitysosa sisälsi kehitysliuoksen, jonka formulointi oli:
II
5 97573
Natriummetasilikaatti 3,5 kg
Brij 30 0,25 1
Rewopol NEHS-40 5 1
Natriumoktanoaattiliuos 5 (40 % p/p) 5 1
Nervanaid BConc. 1,0 kg
Vettä tilavuuteen 50 1
Rewopol NEHS-40 on 2-etyyliheksyylisulfaatin 40 % natriumsuolaliuos (n-10 etyyliheksyylisulfaatin), jota tuottaa Rewo Cehraicals Ltd, Nervanaid B Cone on etyleenidiaminitetraetikkahapon natriumsuola (ABM Chemicals Ltd) ja Brih 30 (I.C.I.) on polyoksietyleenilauryylieetteri.
Ei ollut mitään merkkiä siitä, että levy olisi ylikehitetty.
15 ESIMERKKI 2
Joukko negatiivisesti toimivia levyjä tehtiin Euroopan patenttijulkaisun n:o 0030862 esimerkin 1 mukaisesti ja altistettiin ja käsiteltiin samalla 20 tavalla kuin esimerkin 1 levyt. Levyt kehitettiin puhtaasti.
ESIMERKKI 3
Esimerkki 2 toistettiin paitsi, että käytettiin levyjä, joita oli tehty 25 Euroopan patenttihakemuksen n:o 0260823 esimerkin 1 mukaisesti.
Samanlaisia tuloksia saatiin.
ESIMERKIT 4-6 30
Esimerkit 1-3 toistettiin käyttämällä kehittimenä seuraavaa koostumusta:
Nervanaid B Conc 0,25 kg
Natriummetasilikaatti 3,50 kg 35 Natriumoktanoaatti (40 %) 2,50 1
Rewopol NEHS 40 5,00 1 6 97573
Brij 30 0,25 1
Vettä 50 1 5 Samanlaisia tuloksia saatiin jokaisesta.
ESIMERKKI 7
Esimerkit 1-3 toistettiin käyttämällä kehitintä, jolla oli seuraava 10 koostumus:
Nervanaid B conc 20 kg
Natriummetasilikaatti (5H20) 70 kg
Natriumoktanoaatti (40 %) 100 1 15 Rewopol NEHS 40 100 1
Supronic BIO 2 1
Demineralisoitu vesi 1000 1
Supronic BIO on poly(etyleeniglykoli)n etyleenioksi/propyleenioksidikopo-20 lymeeri.
Samanlaisia tuloksia saatiin jokaisesta.
ESIMERKKI 8 25
Esimerkit 1-3 toistettiin käyttämällä kehittimenä seuraavaa koostumusta:
Nervanaid B conc. 20 kg
Natriummetasilikaatti (5HzO) 70 kg 30 Natriumoktanoaatti (40 %) 100 1
Rewopol NEHS 40 100 1
Supronic BIO 0,75 1
Demineralisoitu vesi 1000 1 tilavuuteen
Samanlaisia tuloksia saatiin jokaisesta.
35 ESIMERKKI 9 7 97573
Seuraavaa kehitinformulointia käytettiin Autopos automatic -levypro-sessorissa kuvamaisesti näytetyn Super Amazon -levyn kehittämiseksi 5 (Howson-Algraphy), joka sisälsi positiivisesti toimivan säteilyherkän koostumuksen, joka perustui diatsoesteriin ja novolak -hartsiin:
Natriummetasilikaatti 70 kg
Brij 30 51 10 Rewopol NEHS 40 100 1
Natriumoktanoaatti (40 kiint.) 100 1
Nervanaid B Conc 20 kg
Demineralisoitu vesi 1000 1 tilavuuteen 15
Levy kehittyi puhtaasti ilman minkäänlaista ylikehityksen merkkiä.
Samanlaisia tuloksia saatiin käyttämällä Super Spartan Plate -levyä (Howson-Algraphy) ja Triton Plate -levyä (Howson-Algraphy), jotka myös 20 perustuvat positiivisesti toimiviin diatsoesteri/novolak -koostumuksiin.
ESIMERKKI 10
Edellä olevaa formulointia käytettiin negatiivisesti toimivien AQ2 ja 25 AQ3 -levyjen kehittämiseksi (Howson-Algraphy), jotka sisälsivät säteily-herkkiä koostumuksia, jotka perustuivat diatsohartsiin ja sideaineeseen.
Levyt kehittyivät puhtaasti ilman mitään jäännöspäällystystä.
30 ESIMERKIT 11-15 8 97573
Esimerkit 9 ja 10 toistettiin käyttämällä seuraavia kehitinformulointeja: 5 EX11 EX12 EX13 EX14 EX15
Natriummetasilikaatti 70 kg 40 kg 70 kg 70 kg 70 kg
Brij 30 15 1 51 5151 51
Rewopol NEGS-40 100 1 100 1 50 1 100 1 100 1 10 Natriumoktanoaatti (40 % ) 100 1 100 1 100 1 50 1 100 1
Nervanaid B Conc 20 kg 20 kg 20 kg 20 kg 40 kg
Demineralisoitu vesi 1000 1 1000 1 1000 1 1000 1 1000 1 tilavuuteen 15
Kaikki levyt kehittyivät puhtaasti.
ESIMERKIT 16 JA 17 20 Esimerkit 9 ja 10 toistettiin käyttämällä seuraavia kehitinformulointeja: EX16 EX17
Natriummetasilikaatti 70 kg 70 kg 25 EX16 EX17
Supronic BIO 0,75 1 21
Rewopol NEHS-40 100 1 100 1
Natriumoktanoaatti (40 % ) 100 1 100 1 30 Nervanaid B Conc 20 kg 20 kg
Demineralisoitu vesi 1000 1 1000 1 tilavuuteen
Kaikki levyt kehittyivät puhtaasti.
35 li ESIMERKKI 17 9 97573
Esimerkki 9 toistettiin käyttämällä kaupallisesti saatavia positiivisesti toimivia levyjä, jotka olivat viz New Capricorn (Horsell), joka sisälsi 5 säteilyherkän koostumuksen, joka perustui novolak -esteriin, P61 (Hoechst), joka sisälsi säteilyherkän koostumuksen, joka perustui diat-soesteriin ja novolak -hartsiin ja Nylolith PMS (BASF), joka sisälsi säteilyherkän koostumuksen, joka perustui novolak -esteriin. Nämä levyt käsiteltiin puhtaasti ilman ylikehitystä.
10 ESIMERKKI 18
Esimerkki 9 toistettiin käyttämällä Nylolith NL levyä (kaupallisesti saatavilla oleva negatiivisesti toimiva BASFin levy, joka sisälsi sätei-15 lyherkän koostumuksen, joka perustui kannatettuun diatsosysteemiin). Se kehittyi puhtaasti.
ESIMERKKI 19 20 Esimerkin 9 mukaista kehitinformulointia käytettiin NP60 -prosessorissa (Horsell) AQ3, Super Amazon ja Super Spartan -levyjen kehittämiseksi, joita käytettiin VA6 -prosessorissa (Hoechst) AQ3 ja Super Amazon -levyjen kehittämiseksi sekä Ultrapos (Horsell) -levyn, joka sisälsi säteilyherkän koostumuksen, joka perustui novolak -esteriin. Havaittiin, 25 että se kehittää sekä negatiiviset ja positiiviset levyt puhtaasti kaikissa tapauksissa.
Claims (15)
1. Menetelmä kuvamaisesti valotetun säteilyherkän koostumuksen kehittämiseksi, tunnettu siitä, että menetelmä käsittää koostumuksen 5 saattamisen kontaktiin kehitysnesteen kanssa, joka sisältää alkalista silikaattia, etyyliheksyylisulfaattia ja pinta-aktiivista ainetta.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että koostumus on positiivisesti toimiva koostumus.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että koostumus käsittää kinonidiatsidin ja alkaliin liukenevan hartsin.
4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, 15 että koostumus on negatiivisesti toimiva koostumus.
5. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että koostumus käsittää diatsoyhdisteen, joka sisältää ryhmiä, joiden rakenne on 20 Y A"V - Ar - R - X - C - X' - 25 jossa Ar on kaksiarvoinen tai muu moniarvoinen radikaali, joka on johdettu aromaattisesta tai heteroaromaattisesta yhdisteestä; X ja X' , jotka voivat olla samanlaisia tai erilaisia, tarkoittavat kumpikin O, S tai iminoryhmää, sillä edellytyksellä että ainakin yksi ryhmistä X ja X' on iminoryhmä; Y on O tai S; R on yksinkertainen sidos tai kaksiarvoinen tai 30 muu moniarvoinen radikaali; ja A‘ on anioni.
6. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että koostumus käsittää ainakin yhden fotoinitiaattorin ja ainakin yhden fotopolymerisoitavan yhdisteen, joka on tetrapolyolin akryyli-tai meta- 35 kryyliesteri, jonka yleinen kaava on: C ( CH20 ) t, ( C3H60) „ Ha n 97573 jossa propoksyloinnin keskimääräinen aste n on 3-6, 50-90 % saatavilla olevista hydroksiryhmistä on muunnettu akrylaatti- tai metakrylaatti-ryhmiksi, jäljellä olevat hydroksiryhmät on saatettu reagoimaan di-isosyanaatin tai polyisosyanaatin kanssa. 5
7. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että säteilyherkkä koostumus on substraatilla olevan päällysteen muodossa.
8. Kehitysneste sekä positiivisesti että negatiivisesti toimivien sätei- lyherkkien koostumusten kehittämiseksi kuvamaisen valotuksen jälkeen, tunnettu siitä, että se käsittää alkalista silikaattia, etyyli-heksyylisulfaattia ja pinta-aktiivista ainetta.
9. Patenttivaatimuksen 8 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että alkalinen materiaali on natriummetasilikaatti.
10. Patenttivaatimuksen 8 tai 9 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että pinta-aktiivinen aine on polyoksietyleenilauryylieetteri tai 20 poly(etyleeni)glykolin etyleenioksidi/propyleenioksidikonsentraatti.
11. Patenttivaatimuksen 8,9 tai 10 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että se lisäksi sisältää alifaattisen karboksyylihapon veteen liukenevan suolan. 25
12. Patenttivaatimuksen 11 mukainen kehitysliuos, tunne ttu siitä, että veteen liukeneva suola on sellaisen hapon natrium- tai kaliumsuola, joka sisältää 1-9 hiiliatomia.
13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että happo on oktaanihappo.
14. Jonkin patenttivaatimuksen 8-13 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että se lisäksi sisältää etyleenidiamiinitetraetikkaha-35 pon natriumsuolaa. 97573
15. Patenttivaatimuksen 8 mukainen kehitysliuos, tunnettu siitä, että se käsittää 4-200 g/1 natriummetasilikaattia, 0,75-15,00 ml/1 pinta-aktiivista ainetta, 4-80 g/1 natriumoktanoaattia, 8-80 g/1 natriume-tyyliheksyylisulfaattia ja jopa 100 g/1 etyleenidiamiinitetraetikkahapon 5 natriumsuolaa. 97573
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888824841A GB8824841D0 (en) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | Development of radiation sensitive compositions |
| GB8824841 | 1988-10-24 | ||
| GB8905577 | 1989-03-10 | ||
| GB898905577A GB8905577D0 (en) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | Development of radiation sensitive compositions |
| GB8916717 | 1989-07-21 | ||
| GB898916717A GB8916717D0 (en) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | Development of radiation sensitive compositions |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI895029A0 FI895029A0 (fi) | 1989-10-23 |
| FI97573B true FI97573B (fi) | 1996-09-30 |
| FI97573C FI97573C (fi) | 1997-01-10 |
Family
ID=27264138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI895029A FI97573C (fi) | 1988-10-24 | 1989-10-23 | Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0366321B1 (fi) |
| JP (1) | JP2954951B2 (fi) |
| AT (1) | ATE134050T1 (fi) |
| AU (1) | AU607640B2 (fi) |
| BR (1) | BR8905389A (fi) |
| DE (1) | DE68925610T2 (fi) |
| DK (1) | DK529189A (fi) |
| ES (1) | ES2082786T3 (fi) |
| FI (1) | FI97573C (fi) |
| IE (1) | IE61183B1 (fi) |
| NO (1) | NO180028C (fi) |
| NZ (1) | NZ231122A (fi) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2112920B1 (en) | 2003-06-26 | 2018-07-25 | Intellipharmaceutics Corp. | Proton pump-inhibitor-containing capsules which comprise subunits differently structured for a delayed release of the active ingredient |
| US7186498B2 (en) | 2003-10-02 | 2007-03-06 | Willi-Kurt Gries | Alkaline developer for radiation sensitive compositions |
| US10624858B2 (en) | 2004-08-23 | 2020-04-21 | Intellipharmaceutics Corp | Controlled release composition using transition coating, and method of preparing same |
| US10064828B1 (en) | 2005-12-23 | 2018-09-04 | Intellipharmaceutics Corp. | Pulsed extended-pulsed and extended-pulsed pulsed drug delivery systems |
| US10960077B2 (en) | 2006-05-12 | 2021-03-30 | Intellipharmaceutics Corp. | Abuse and alcohol resistant drug composition |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2110401A (en) * | 1981-11-04 | 1983-06-15 | Bicc Plc | Developer solutions and processes for making lithographic printing plates |
| US4436807A (en) * | 1982-07-15 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material |
| DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
| US4780396A (en) * | 1987-02-17 | 1988-10-25 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant |
-
1989
- 1989-10-16 AT AT89310598T patent/ATE134050T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-10-16 ES ES89310598T patent/ES2082786T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-16 DE DE68925610T patent/DE68925610T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-16 EP EP89310598A patent/EP0366321B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-19 NO NO894172A patent/NO180028C/no unknown
- 1989-10-23 IE IE340389A patent/IE61183B1/en not_active IP Right Cessation
- 1989-10-23 AU AU43636/89A patent/AU607640B2/en not_active Ceased
- 1989-10-23 FI FI895029A patent/FI97573C/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-10-23 BR BR898905389A patent/BR8905389A/pt not_active Application Discontinuation
- 1989-10-24 JP JP1275073A patent/JP2954951B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-24 DK DK529189A patent/DK529189A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-10-24 NZ NZ231122A patent/NZ231122A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2082786T3 (es) | 1996-04-01 |
| NO180028B (no) | 1996-10-21 |
| EP0366321B1 (en) | 1996-02-07 |
| EP0366321A3 (en) | 1990-06-20 |
| DE68925610T2 (de) | 1996-07-25 |
| NO894172D0 (no) | 1989-10-19 |
| NZ231122A (en) | 1990-08-28 |
| IE61183B1 (en) | 1994-10-05 |
| DK529189D0 (da) | 1989-10-24 |
| EP0366321A2 (en) | 1990-05-02 |
| ATE134050T1 (de) | 1996-02-15 |
| DE68925610D1 (de) | 1996-03-21 |
| AU607640B2 (en) | 1991-03-07 |
| NO180028C (no) | 1997-01-29 |
| IE893403L (en) | 1990-04-24 |
| FI97573C (fi) | 1997-01-10 |
| JPH02178663A (ja) | 1990-07-11 |
| DK529189A (da) | 1990-04-25 |
| FI895029A0 (fi) | 1989-10-23 |
| AU4363689A (en) | 1990-04-26 |
| JP2954951B2 (ja) | 1999-09-27 |
| BR8905389A (pt) | 1990-05-22 |
| NO894172L (no) | 1990-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0080042B1 (en) | Method for the development of photoresist layers, and developer | |
| US4469776A (en) | Developing solution for light-sensitive printing plates | |
| US4374920A (en) | Positive developer containing non-ionic surfactants | |
| EP1103859B1 (en) | Developing composition for alkaline-developable lithographic printing plates with different interlayers | |
| US4822723A (en) | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates | |
| US4395480A (en) | Developer mixture and process for developing exposed negative-working diazonium salt layers | |
| JPH0470756A (ja) | 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液 | |
| FI97573B (fi) | Säteilylle herkkien koostumusten kehittäminen | |
| US6660454B2 (en) | Additive composition for both rinse water recycling in water recycling systems and simultaneous surface treatment of lithographic printing plates | |
| US5278030A (en) | Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12 | |
| US4366224A (en) | Inorganic lithium developer composition | |
| JPH03101735A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| DE3913183C2 (de) | Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten | |
| CA2001174A1 (en) | Development of radiation sensitive compositions | |
| US6093522A (en) | Processing of lithographic printing plate precursors | |
| JPS6289060A (ja) | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 | |
| US6063554A (en) | Processing of lithographic printing plate precursors | |
| JP2001125281A (ja) | 現像液組成物 | |
| JPH0391750A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS62153952A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真材料の現像処理方法 | |
| JPH06348037A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JPH0756356A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる現像液 | |
| JPS6221154A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法及び装置 | |
| JPH03103857A (ja) | 現像液組成物 | |
| JPH02226147A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB | Publication of examined application | ||
| MM | Patent lapsed | ||
| MM | Patent lapsed |
Owner name: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |