NO180028B - Fremgangsmåte til fremkalling av bestrålingsfölsomme blandinger og fremkallervæske til bruk i fremgangsmåten - Google Patents
Fremgangsmåte til fremkalling av bestrålingsfölsomme blandinger og fremkallervæske til bruk i fremgangsmåten Download PDFInfo
- Publication number
- NO180028B NO180028B NO894172A NO894172A NO180028B NO 180028 B NO180028 B NO 180028B NO 894172 A NO894172 A NO 894172A NO 894172 A NO894172 A NO 894172A NO 180028 B NO180028 B NO 180028B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- stated
- developer liquid
- mixture
- developer
- sodium
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- -1 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 claims abstract description 5
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 claims abstract description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M sodium octanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC([O-])=O BYKRNSHANADUFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 3
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 2
- LFLCNBLTOXIVOQ-UHFFFAOYSA-N hydron;octan-3-yl sulfate Chemical compound CCCCCC(CC)OS(O)(=O)=O LFLCNBLTOXIVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims 1
- DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COS([O-])(=O)=O DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- IIWMSIPKUVXHOO-UHFFFAOYSA-N ethyl hexyl sulfate Chemical compound CCCCCCOS(=O)(=O)OCC IIWMSIPKUVXHOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 102100026816 DNA-dependent metalloprotease SPRTN Human genes 0.000 description 2
- 101710175461 DNA-dependent metalloprotease SPRTN Proteins 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHGOKSLTIUHUBF-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl sulfate Chemical compound CCCCC(CC)COS(O)(=O)=O MHGOKSLTIUHUBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical group CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical compound [N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001481710 Cerambycidae Species 0.000 description 1
- 101000996935 Homo sapiens Putative oxidoreductase GLYR1 Proteins 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100034301 Putative oxidoreductase GLYR1 Human genes 0.000 description 1
- WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol monododecyl ether Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCO WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår fremgangsmåte til fremkalling av bestrål-ingsfølsomme blandinger og fremkallervæske til bruk i frem-gangsmåten og angår fremkalling av slike blandinger som anvendes for fremstilling av trykkplater og fotoresistmaterialer.
I fremstillingen av trykkplater og fotoresistmaterialer blir en strålingsfølsom blanding belagt på et substrat for å danne en strålingsfølsom plate som deretter eksponeres billedmessig for stråling for selektivt å eksponere forskjellige områder av belegget. De strålingsrammede områder og ikke-strålingsrammede områder har forskjellig oppløselighet i fremkallervæsker og således kan de mer oppløselige områder fjernes selektivt fra substratet ved anvendelse av en egnet fremkallervæske for å etterlate et bilde på substratet bestående av de mindre oppløselige områder.
Strålingsfølsomme blandinger blir vanligvis klassifisert som enten positivt-virkende eller negativt-virkende. Positivt-virkende blandinger har den egenskap at de blir mer oppløselige i en gitt fremkallervæske når de utsettes for bestråling, mens negativt-virkende blandinger har den egenskap at de blir mindre oppløselige.
Denne forskjell har gjort at de fremkallervæsker som tidligere er benyttet for de to klasser blandinger vært vesentlig forskjellige. Nærmere bestemt har negativt-virkende blandinger generelt krevet en fremkallervæske som omfatter en betydelig del av et organisk oppløsningsmiddel. Således ville ikke en fremkallervæske egnet for positivt-virkende blandinger fremkalle en negativt-virkende blanding, og en fremkallervæske egnet for en negativt-virkende blanding ville overfremkalle en positivt-virkende blanding.
Det er en hensikt med oppfinnelsen å skaffe en fremkallervæske som er egnet til bruk ved fremkalling av både positivt- og negativt-virkende blandinger.
I henhold til en side ved oppfinnelsen er der skaffet en fremgangsmåte til fremkalling av en billedmessig eksponert strålingsfølsom blanding som omfatter det trinn å bringe blandingen i kontakt med en fremkallervæske inneholdende et alkalisk silikat, et etylheksylsulfat og et overflateaktivt middel.
I henhold til en annen side ved oppfinnelsen er der skaffet en fremkallervæske som er egnet til å fremkalle både positivt- og negativt-virkende strålingsfølsomme blandinger etter billedmessig eksponering, som er kjennetegnet ved at fremkallervæsken omfatter et alkalisk silikat, et etylheksylsulfat og et overflateaktivt middel.
Fremkallervæsken kan anvendes enten med positivt-virkende blandinger såsom blandinger omfattende et kinondiazid og en alkali-oppløselig harpiks, blandinger omfattende en diazoester og en novolakharpiks og blandinger omfattende en novolakester, eller negativt-virkende blandinger såsom blandinger omfattende en diazoforbindelse inneholdende grupper med strukturen
hvor Ar er et toverdig eller annet flerverdig radikal som fås fra en aromatisk eller heteroaromatisk forbindelse; X og X<1> som kan være de samme eller forskjellige, er hver 0, S eller en iminogruppe, forutsatt at minst én av X og X* er en im.Lno-gruppe; Y er 0 eller S; R er en enkeltbinding eller en toverdig eller et annet flerverdig radikal og A~ er et anion (som beskrevet i EP-A-0030862), blandinger omfattende minst én fotoinitiator og minst én fotopolymeriserbar forbindelse som er en akryl- eller metakrylester av en tetrafunksjonell polyol som har den generelle formel
C(C<H>20)4(C3H60)nH4
hvor den midlere grad av propoksylering n er 3-6, 50-90% av de tilgjengelige hydroksygrupper er blitt omdannet til akrylat-eller metakrylatgrupper og de resterende hydroksygrupper er
blitt omsatt med et diisocyanat eller et polyisocyanat (som beskrevet i EP-A-0260823), blandinger omfattende et tioksan-thon-sensibiliseringsmiddel og en lysfølsom polymer som har pendante dimetylmaleimidgrupper, blandinger omfattende båret diazodifenylamin/formaldehyd-kondensat og blandinger omfattende trimetyloletantriakrylat og en metylmetakrylat/metakrylsyre-kopolymer som bindemiddel.
Fremkallervæsken er spesielt egnet til bruk i maskiner for automatisk fremkalling av strålingsfølsomme plater innbefattet slike blandinger. Generelt kan fremkallervæsken anvendes i et hvilket som helst fremkallingsapparat konstruert for fremkalling av positivt-virkende plater. Fremkallervæskens nyttige levetid vil avhenge av måten som fremkallerseksjonen i fremkallingsapparatet er konstruert på. Fremkallingsapparater med fullt innelukkede fremkallertanker vil gi lengre bad-levetid pga. begrenset kontakt av fremkallervæsken med atmosfæren. Aktiviteten av fremkallervæsken kan opprettholdes ved fornyelse og overvåkes ved bestemmelse av dens konduk-tivitet som beskrevet i EP-A-0107454.
Det alkaliske materiale er det primære fremkallingsmiddel for positivt-virkende blandinger og dets konsentrasjon bestemmer graden av fremkalling og den nyttige levetid av fremkallervæsken. Det alkaliske materiale kan være et hydroksid, et fosfat, et amin såsom monoetanolamin eller et silikat og er fortrinnsvis natriummetasilikat. I det sistnevnte tilfelle vil natrium-metasilikatkonsentrasjonen generelt være fra 4 til 20 vekt/- volum-prosent, fortrinnsvis fra 7 til 12 vekt/volum-prosent. Egnede hydroksidkonsentrasjoner er 0,2-10 vekt/volum-prosent, fortrinnsvis 2,0-5,0 vekt/volum-prosent, egnede fosfatkon-sentrasjoner er 4-20 vekt/volum-prosent (fortrinnsvis 7-12 vekt/volum-prosent) og egnede aminkonsentrasjoner er 1-20 volumprosent, (fortrinnsvis 5-10 volumprosent).
Etylheksylsulfatet tjener som et fremkallingsiddel for negativt-virkende blandinger og foreligger fortrinnsvis i form av natriumsaltet. Andre salter kan imidlertid anvendes. Generelt vil dets konsentrasjon være fra 2-20 volumprosent, fortrinnsvis fra 3-5 volumprosent av en 40 vekt/volum-prosent-oppløsning.
Det overflateaktive middel hindrer overfremkalling av positivt-virkende blandinger og kan være et ikke-ionisk overflateaktivt middel såsom en polyoksyetylenlauryleter eller et etylenok-sid/propylenoksid-kondensat av poly(etylen)glykol. Den sistnevnte foretrekkes fordi den også hindrer at tilsmussende belegg dannes på plateoverflaten når strålingsfølsomme plater fremkalles i visse automatiske platefremkallingsapparater ved anvendelse av hardt vann i deres platevaskeseksjon. Generelt vil det overflateaktive middel foreligge i en mengde på 0,075-1,5 volumprosent, fortrinnsvis 0,2-0,5 volumprosent.
I en utførelsesform omfatter fremkalleren dessuten et vann-oppløselig salt av en alifatisk karboksylsyre. Det kan være kalium- eller natriumsaltet av en syre inneholdende 1-9 karbonatomer, fortrinnsvis oktansyre. Den tjener som et fremkallingsmiddel for både positivt- og negativt-virkende blandinger. Bruken av natriumoktanoat foretrekkes. Det vannoppløselige salt vil generelt foreligge i en mengde på 1-20 volumprosent, fortrinnsvis 2-6 volumprosent av en 40 vekt/ volum-prosent-oppløsning.
I en utførelsesform omfatter fremkalleren dessuten natriumsaltet av etylendiamidtetraeddiksyre. Dette har den fordel at det danner kompleks av kalsium- og magnesiumioner som foreligger i vaskevannet for å hindre dannelsen av salter av hardt vann. Det vil generelt foreligge i en mengde på 0,2-10,0 vekt/volumprosent, fortrinnsvis 1-3 vekt/volum-prosent.
De følgende eksempler belyser oppfinnelsen.
Eksempel 1
En rekke positivt-virkende på forhånd sensibiliserte plater bestående av et etset og anodisert aluminiumsubstrat belagt med en blanding basert på et kinondiazid og en alkali-oppløselig novolakharpiks ble eksponert i en overføringsramme under en gråkile med kontinuerlig tone.
Platene ble deretter behandlet i en Howson-Algraphy Positive Plate Processor som i fremkallerseksjonen inneholdt en fremkal-leroppløsning som hadde den følgende sammensetning:
Rewopol NEHS-40 er 40% oppløsning av natriumsaltet av 2-etylheksylsulfat (n - etylheksylsulfat) produsert av Rewo Chemicals Ltd., Nervanaid B Conc er natriumsaltet av etylendiamintetraeddiksyre (ABM Chemicals Ltd), og Brij 30 (I.C.I.) er en polyoksyetylenlauryleter.
Der var ikke noe tegn til at platen var overfremkalt.
Eksempel 2
En rekke negativt-virkende plater ble fremstilt iht. eksempel 1 i europeisk patentskrift nr. 0030862 og ble eksponert og behandlet på samme måte som platen i eksempel 1. Platene ble fremkalt på ren måte.
Eksempel 3
Eksempel 2 ble gjentatt bortsett fra at plater fremstilt iht. eksempel 1 i europeisk patentskrift nr. 0260823 ble anvendt.
Lignende resultater ble oppnådd.
Eksemplene 4- 6
Eksemplene 1-3 ble gjentatt, idet der som fremkaller ble benyttet den følgende blanding:
Lignende resultater ble oppnådd i hvert tilfelle.
Eksempel 7
Eksemplene 1-3 ble gjentatt, idet der som fremkaller ble benyttet den følgende blanding:
Supronic B10 er en etylenoksid/propylenoksid-kopolymer av poly(etylen)glykol.
Lignende resultater ble oppnådd i hvert tilfelle.
Eksempel 8
Eksemplene 1-3 ble gjentatt, idet der som fremkaller ble benyttet den følgende blanding:
Lignende resultater ble oppnådd i hvert tilfelle.
Eksempel 9
Den følgende fremkallerresept ble anvendt i et Autopos automatisk platefremkallingsapparat for å fremkalle en billedmessig eksponert Super Amazon-plate (Howson-Algraphy) innbefattet en positivt-virkende strålingsfølsom blanding basert på en diazoester og et novolakharpiks:
Platen ble fremkalt ren uten noen tegn til overfremkalling.
Lignende resultater ble oppnådd ved bruk av Super Spartan-plate (Howson-Algraphy) og en Triton-plate (Howson-Algraphy) som på lignende måte er basert på positivt-virkende diazoester/novo-lak-blandinger.
Eksempel 10
Den ovenfor angitte resept ble brukt til å fremkalle negativt-virkende AQ2- og AQ3-plater (Howson-Algraphy) innbefattet strålingsfølsomme blandinger basert på en diazoharpiks og bindemiddel.
Platene ble fremkalt rene uten noe resterende belegg.
Eksempler 11- 15
Eksemplene 9 og 10 ble gjentatt ved bruk av de følgende fremkallerresepter.
I hvert tilfelle ble platene fremkalt rene.
Eksempler 16 og 17
Eksemplene 9 og 10 ble gjentatt ved bruk av de følgende f remka1lerresepter:
Platene ble fremkalt rene i hvert tilfelle.
Eksempel 17
Eksempel 9 ble gjentatt ved bruk av i handelen tilgjengelige positivt-virkende plater, nemlig New Capricorn (Horsell) omfattende en strålingsfølsom blanding basert på novolakester, P61 (Hoechst) som omfattet en strålingsfølsom blanding basert på en diazoester og novolakharpiks og Nylolith PMS (BASF) innbefattet en strålingsfølsom blanding basert på en novolakester. Disse plater ble fremkalt rent uten noen overfremkalling.
Eksempel 18
Eksempel 9 ble gjentatt ved bruk av Nylolith NL (en i handelen tilgjengelig negativt-virkende plate fra BASF som innbefattet en strålingsfølsom blanding basert på et båret diazosystem). Den ble fremkalt ren.
Eksempel 19
Fremkallerresepten ifølge eksempel 9 ble brukt i et NP60-fremkallerapparat (Horsell) for å fremkalle AQ3-, Super Amazon-og Super Spartan-plater og ble anvendt i et VA6-fremkaller-apparat for å fremkalle AQ3 og Super Amazon-plater og en Ultrapos-plate (Horsell) som innbefattet en strålingsfølsom blanding basert på en novolakester. I alle tilfeller ble det funnet at den fremkalte både negative og positive plater rent.
Claims (15)
1. Fremgangsmåte til fremkalling av en billedmessig eksponert strålingsfølsom blanding,
karakterisert ved at blandingen bringes i kontakt med en fremkallervæske inneholdende et alkalisk silikat, et etylheksylsulfat og et overflateaktivt middel.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det anvendes en positivt-virkende blanding.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karakterisert ved at det anvendes en blanding som omfatter et kinondiazid og en alkalioppløselig harpiks.
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det anvendes en negativt-virkende blanding.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 4, karakterisert ved at det anvendes en blanding som omfatter en diazoforbindelse inneholdende grupper som har strukturen
hvor Ar er et toverdig eller annet flerverdig radikal som fås fra en aromatisk eller heteroaromatisk forbindelse, X og X' som kan være de samme eller forskjellige, er hver 0, S eller en iminogruppe, forutsatt at minst én av X og X' er en iminogruppe, Y er 0 eller S, R er en enkeltbinding eller et toverdig eller annet flerverdig radikal og A~ er et anion.
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 4, karakterisert ved at det anvendes en Islanding som omfatter minst én fotoinitiator og minst én fotopolymeriserbar forbindelse som er en akryl- eller metakrylester av en tetrafunksjonell polyol med den generelle formel:
hvor den midlere grad av propoksylering n er 3-6, 50-90 % av de tilgjengelige hydroksygrupper er blitt omdannet til akrylat-eller metakrylatgrupper og de resterende hydroksygrupper er blitt omsatt med et diisocyanat eller et polyisocyanat.
7. Fremgangsmåte som angitt i et hvilket som helst av de foregående krav, karakterisert ved at den strålingsfølsomme blandingen anvendes i form av et belegg på et substrat.
8. Fremkallervæske som er egnet til å fremkalle både positivt- og negativt-virkende strålingsfølsomme blandinger etter billedmessig eksponering,
karakterisert ved at fremkallervæsken omfatter et alkalisk silikat, et etylheksylsulfat og et overflateaktivt middel.
9. Fremkallervæske som angitt i krav 8, karakterisert ved at det alkaliske materiale er natriummetasilikat.
10. Fremkallervæske som angitt i krav 8 eller 9, karakterisert ved at det overflateaktive middel er en polyoksyetylenlauryleter eller et etylenok-sid/propylenoksid-kondensat av poly(etylen)glykol.
11. Fremkallervæske som angitt i krav 8, 9 eller 10, karakterisert ved at den omfatter et vannoppløselig salt av en alifatisk karboksylsyre.
12. Fremkallervæske som angitt i krav 11, karakterisert ved at det vannoppløselige salt er natrium- eller kaliumsaltet av en syre med 1-9 karbonatomer.
13. Fremkallervæske som angitt i krav 12, karakterisert ved at syren er oktansyre.
14. Fremkallervæske som angitt i et av kravene 8-13, karakterisert ved at den omfatter natriumsaltet av etylendiamintetraeddiksyre.
15. Fremkallervæske som angitt i krav 8, karakterisert ved at den omfatter 40-2 00 g/l natriummetasilikat, 0,75 - 15,00 ml/l overflateaktivt middel,
4-80 g/l natriumoktanoat, 8-80 g/l natriumetylheksylsulfat og inntil 100 g/l av natriumsaltet av etylendiamintetraeddiksyre.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888824841A GB8824841D0 (en) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | Development of radiation sensitive compositions |
| GB898905577A GB8905577D0 (en) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | Development of radiation sensitive compositions |
| GB898916717A GB8916717D0 (en) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | Development of radiation sensitive compositions |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO894172D0 NO894172D0 (no) | 1989-10-19 |
| NO894172L NO894172L (no) | 1990-04-25 |
| NO180028B true NO180028B (no) | 1996-10-21 |
| NO180028C NO180028C (no) | 1997-01-29 |
Family
ID=27264138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO894172A NO180028C (no) | 1988-10-24 | 1989-10-19 | Fremgangsmåte til fremkalling av bestrålingsfölsomme blandinger og fremkallervæske til bruk i fremgangsmåten |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0366321B1 (no) |
| JP (1) | JP2954951B2 (no) |
| AT (1) | ATE134050T1 (no) |
| AU (1) | AU607640B2 (no) |
| BR (1) | BR8905389A (no) |
| DE (1) | DE68925610T2 (no) |
| DK (1) | DK529189A (no) |
| ES (1) | ES2082786T3 (no) |
| FI (1) | FI97573C (no) |
| IE (1) | IE61183B1 (no) |
| NO (1) | NO180028C (no) |
| NZ (1) | NZ231122A (no) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2529984C (en) | 2003-06-26 | 2012-09-25 | Isa Odidi | Oral multi-functional pharmaceutical capsule preparations of proton pump inhibitors |
| US7186498B2 (en) | 2003-10-02 | 2007-03-06 | Willi-Kurt Gries | Alkaline developer for radiation sensitive compositions |
| US8394409B2 (en) | 2004-07-01 | 2013-03-12 | Intellipharmaceutics Corp. | Controlled extended drug release technology |
| US10624858B2 (en) | 2004-08-23 | 2020-04-21 | Intellipharmaceutics Corp | Controlled release composition using transition coating, and method of preparing same |
| US10064828B1 (en) | 2005-12-23 | 2018-09-04 | Intellipharmaceutics Corp. | Pulsed extended-pulsed and extended-pulsed pulsed drug delivery systems |
| US10960077B2 (en) | 2006-05-12 | 2021-03-30 | Intellipharmaceutics Corp. | Abuse and alcohol resistant drug composition |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2110401A (en) * | 1981-11-04 | 1983-06-15 | Bicc Plc | Developer solutions and processes for making lithographic printing plates |
| US4436807A (en) * | 1982-07-15 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material |
| DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
| US4780396A (en) * | 1987-02-17 | 1988-10-25 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant |
-
1989
- 1989-10-16 DE DE68925610T patent/DE68925610T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-16 AT AT89310598T patent/ATE134050T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-10-16 EP EP89310598A patent/EP0366321B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-16 ES ES89310598T patent/ES2082786T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-19 NO NO894172A patent/NO180028C/no unknown
- 1989-10-23 AU AU43636/89A patent/AU607640B2/en not_active Ceased
- 1989-10-23 FI FI895029A patent/FI97573C/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-10-23 BR BR898905389A patent/BR8905389A/pt not_active Application Discontinuation
- 1989-10-23 IE IE340389A patent/IE61183B1/en not_active IP Right Cessation
- 1989-10-24 JP JP1275073A patent/JP2954951B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-24 NZ NZ231122A patent/NZ231122A/xx unknown
- 1989-10-24 DK DK529189A patent/DK529189A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO180028C (no) | 1997-01-29 |
| JP2954951B2 (ja) | 1999-09-27 |
| FI97573C (fi) | 1997-01-10 |
| BR8905389A (pt) | 1990-05-22 |
| IE893403L (en) | 1990-04-24 |
| FI97573B (fi) | 1996-09-30 |
| FI895029A0 (fi) | 1989-10-23 |
| DK529189D0 (da) | 1989-10-24 |
| ATE134050T1 (de) | 1996-02-15 |
| EP0366321A2 (en) | 1990-05-02 |
| EP0366321B1 (en) | 1996-02-07 |
| DK529189A (da) | 1990-04-25 |
| AU607640B2 (en) | 1991-03-07 |
| NO894172D0 (no) | 1989-10-19 |
| NZ231122A (en) | 1990-08-28 |
| DE68925610D1 (de) | 1996-03-21 |
| ES2082786T3 (es) | 1996-04-01 |
| EP0366321A3 (en) | 1990-06-20 |
| IE61183B1 (en) | 1994-10-05 |
| NO894172L (no) | 1990-04-25 |
| AU4363689A (en) | 1990-04-26 |
| DE68925610T2 (de) | 1996-07-25 |
| JPH02178663A (ja) | 1990-07-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0080042B1 (en) | Method for the development of photoresist layers, and developer | |
| US4469776A (en) | Developing solution for light-sensitive printing plates | |
| US4171974A (en) | Aqueous alkali developable negative working lithographic printing plates | |
| JP2578020B2 (ja) | 現像剤濃縮物、およびそれから調製した、最上層を有する露出陰画処理再生層用の現像剤 | |
| US4579811A (en) | Process for developing exposed diazo negative-working reproduction layers using aqueous developer having salt of aromatic carboxylic acid with adjacent group substituent | |
| US4822723A (en) | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates | |
| EP0326715A2 (en) | Developer/finisher compositions for litographic plates | |
| CA1189376A (en) | Developer for positive photolithographic articles including sodium silicate and sodium chloride | |
| US5149614A (en) | Developer compositions for ps plates and method for developing the same wherein the developer composition contains a surfactant having an aryl group, an oxyalkylene group and a sulfate ester or sulfonic acid group | |
| NO180028B (no) | Fremgangsmåte til fremkalling av bestrålingsfölsomme blandinger og fremkallervæske til bruk i fremgangsmåten | |
| CA1206365A (en) | Developer for light-sensitive lithographic printing plate precursor | |
| EP0602739A2 (en) | Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity | |
| US4366224A (en) | Inorganic lithium developer composition | |
| US5278030A (en) | Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12 | |
| US5043252A (en) | Developer composition for PS plates for use in making lithographic printing plate and method of plate-making | |
| US5126229A (en) | Process for preparing positive or negative lithographic printing plates using a developer having at least one alkali-soluble mercapto compound and/or thioether compound | |
| US4980271A (en) | Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate | |
| JPH11352700A (ja) | ホトレジスト用アルカリ性現像液 | |
| US5066568A (en) | Method of developing negative working photographic elements | |
| CA2001174A1 (en) | Development of radiation sensitive compositions | |
| JPS6064351A (ja) | 感光性平版印刷版の現像方法 | |
| JP2733952B2 (ja) | 現像液組成物 | |
| EP0415422A2 (en) | Method for forming images | |
| JPH0239157A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液 | |
| JP2934059B2 (ja) | 現像処理方法 |