FI84112B - Positivt arbetande straolkaenslig blandning. - Google Patents
Positivt arbetande straolkaenslig blandning. Download PDFInfo
- Publication number
- FI84112B FI84112B FI864753A FI864753A FI84112B FI 84112 B FI84112 B FI 84112B FI 864753 A FI864753 A FI 864753A FI 864753 A FI864753 A FI 864753A FI 84112 B FI84112 B FI 84112B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- radiation
- acid
- sensitive mixture
- dye
- dyes
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 53
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 claims abstract description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 9
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000013589 supplement Substances 0.000 claims description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 claims 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 claims 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 71
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 abstract description 10
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract 1
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 9
- 235000007119 Ananas comosus Nutrition 0.000 description 8
- 244000099147 Ananas comosus Species 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical class C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 3-{[(4-{[4-(dimethylamino)phenyl](4-{ethyl[(3-sulfophenyl)methyl]amino}phenyl)methylidene}cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)(ethyl)azaniumyl]methyl}benzene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 3
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 3
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical class C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 3
- QFVDKARCPMTZCS-UHFFFAOYSA-N methylrosaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(O)(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 QFVDKARCPMTZCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960003926 methylrosaniline Drugs 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- OCQDPIXQTSYZJL-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(butylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NCCCC)=CC=C2NCCCC OCQDPIXQTSYZJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXGIHDNEIWPDFW-UHFFFAOYSA-M acid red 4 Chemical compound [Na+].COC1=CC=CC=C1N=NC1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(C=CC=C2)C2=C1O ZXGIHDNEIWPDFW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical group CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 2
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- MCTQNEBFZMBRSQ-UHFFFAOYSA-N (3-amino-4-phenyldiazenylphenyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.NC1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 MCTQNEBFZMBRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKPRIMCNMKYSG-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazolidin-2-one Chemical class O=C1NCC[Se]1 BDKPRIMCNMKYSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOIUNOZNGBEQOJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazolidine-2,4-dione Chemical class O=C1C[Se]C(=O)N1 FOIUNOZNGBEQOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIQBABDKNOOCQD-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(dibromomethyl)benzene Chemical compound BrC(Br)C1=CC=C(C(Br)Br)C=C1 VIQBABDKNOOCQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- YQSWHOKVTBVSEE-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromo-1-(2,4-dimethylphenyl)ethanone Chemical compound CC1=CC=C(C(=O)C(Br)(Br)Br)C(C)=C1 YQSWHOKVTBVSEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFBXKNYTITZTFT-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromo-1-(3-nitrophenyl)ethanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C(=O)C(Br)(Br)Br)=C1 XFBXKNYTITZTFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCZNFGBAORROPB-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(dibromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound BrC(Br)C1=NC(C(Br)Br)=NC(C(Br)Br)=N1 CCZNFGBAORROPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPUQWCPXNUGDML-UHFFFAOYSA-N 2-(1,2-dihydroacenaphthylen-5-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=3C=CC=C4CCC(C=34)=CC=2)=N1 VPUQWCPXNUGDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBEYTQRSRKIXFN-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-dioxan-2-yloxy)-1,3-dioxane Chemical class O1CCCOC1OC1OCCCO1 QBEYTQRSRKIXFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical group CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 NLNVSTLNDJGLTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SABSXVKEPZCTSD-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyanthracen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC3=CC=CC=C3C=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 SABSXVKEPZCTSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNKYRBLODJDMKS-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methoxynaphthalen-2-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 CNKYRBLODJDMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDYYQHILRSDDMP-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethyl)quinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(Br)(Br)Br)=CC=C21 UDYYQHILRSDDMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVFSYTFFWGYEMM-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC2=C1 ZVFSYTFFWGYEMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNNGUFMVYQJGTD-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutanal Chemical compound CCC(CC)C=O UNNGUFMVYQJGTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazolidone Chemical class O=C1NCCO1 IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(C=CC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZYHIPQRGTUDU-UHFFFAOYSA-N 2-[dithiocarboxy(methyl)amino]acetic acid Chemical compound SC(=S)N(C)CC(O)=O KEZYHIPQRGTUDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVUPQEKUVSNRCD-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1,3-oxazol-4-one Chemical class NC1=NC(=O)CO1 KVUPQEKUVSNRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FODGZFNGNBYJTJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(3-hydroxypropoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCCCO FODGZFNGNBYJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJRAJWLELDMHJL-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(4-hydroxybutoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCCCCO KJRAJWLELDMHJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GCSVNNODDIEGEX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-oxazolidin-4-one Chemical class O=C1COC(=S)N1 GCSVNNODDIEGEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUBDZIBOKNKQPO-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-selenazolidin-4-one Chemical class O=C1C[Se]C(=S)N1 IUBDZIBOKNKQPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AARUHTRKSOIIPR-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3,4-dihydronaphthalen-2-yloxy)propoxy]-1,2-dihydronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2CCC(OCCCOC=3CCC4=CC=CC=C4C=3)=CC2=C1 AARUHTRKSOIIPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000499 3-oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- VUXPFJFDDXIYCA-UHFFFAOYSA-N 4-(2,2-dibromoacetyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(=O)C(Br)Br)C=C1 VUXPFJFDDXIYCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZWUBUYHFCOTFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-6-(3,3,3-trichloroprop-1-enyl)pyran-2-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=CC(=O)OC(C=CC(Cl)(Cl)Cl)=C1 XZWUBUYHFCOTFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXNUCFJMXPIBDI-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethyl-1,3-oxazol-4-one Chemical compound CC1(C)OC=NC1=O PXNUCFJMXPIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXVPJVKJUOONPX-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-[2-[[5-ethyl-5-(methoxymethyl)-1,3-dioxan-2-yl]oxymethyl]-2-(methoxymethyl)butoxy]-5-(methoxymethyl)-1,3-dioxane Chemical compound C(C)C1(COC(OC1)OCC(COC1OCC(CO1)(COC)CC)(COC)CC)COC JXVPJVKJUOONPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQRMGOMZGHIOIW-UHFFFAOYSA-N 5-sulfanylidenepiperazin-2-one Chemical class O=C1CNC(=S)CN1 IQRMGOMZGHIOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPULOMQHYQDNNT-UHFFFAOYSA-N 5h-1,3-oxazol-2-one Chemical class O=C1OCC=N1 UPULOMQHYQDNNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical class OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical class C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001710 Polyorthoester Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000003542 behavioural effect Effects 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- IWNNBBVLEFUBNE-UHFFFAOYSA-N bromonium Chemical compound [BrH2+] IWNNBBVLEFUBNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000003096 carboxylic acid amide acetal group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- IGJWHVUMEJASKV-UHFFFAOYSA-N chloronium Chemical compound [ClH2+] IGJWHVUMEJASKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001854 cinnolines Chemical class 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diol Chemical compound OC1CCC(O)CC1 VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 150000002084 enol ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008624 imidazolidinones Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002092 orthoester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- COWNFYYYZFRNOY-UHFFFAOYSA-N oxazolidinedione Chemical class O=C1COC(=O)N1 COWNFYYYZFRNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical class C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075930 picrate Drugs 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M picrate anion Chemical compound [O-]C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWELDVXSEVIIGI-UHFFFAOYSA-N piperazin-2-one Chemical class O=C1CNCCN1 IWELDVXSEVIIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXRNXXXXHLBUKK-UHFFFAOYSA-N piperazine-2,5-dione Chemical class O=C1CNC(=O)CN1 BXRNXXXXHLBUKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002745 poly(ortho ester) Substances 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 150000003195 pteridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical class N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 150000003216 pyrazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004892 pyridazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- VTGOHKSTWXHQJK-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-2-ol Chemical class OC1=NC=CC=N1 VTGOHKSTWXHQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003246 quinazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003252 quinoxalines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical class O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical compound [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000992 solvent dye Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- VTLHPSMQDDEFRU-UHFFFAOYSA-O telluronium Chemical compound [TeH3+] VTLHPSMQDDEFRU-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/16—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/127—Spectral sensitizer containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Basic Packing Technique (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
Description
1 84112
Positiivisesti toimiva säteilynherkkä seos
Keksintö koskee positiivisesti toimivaa, ts. säteilyn vaikutuksesta liukoiseksi muuttuvaa, säteilyn-5 herkkää seosta, joka sisältää olennaisina aineosinaan a) säteilytettäessä vahvaa happoa muodostavaa yhdistettä, b) yhdistettä, joka sisältää vähintään yhden hapon avulla katkaistavissa olevan C-O-C-sidoksen, 10 c) veteen liukenematonta mutta emästen vesiliuok siin liukenevaa sideainetta sekä d) väriainetta ja joka soveltuu fotoresistien, elektronisten komponenttien ja painolaattojen valmistukseen sekä levyjen osien 15 syövyttämiseen. Koostumukseltaan mainitun kaltaisia seoksia on kuvattu esimerkiksi US-patenttijulkaisuissa 3 779 778, 4 101 323 ja 4 189 323, DE-hakemusjulkaisuissa 27 18 254 ja 29 28 636 sekä EP-hakemusjulkaisuissa 0 006 626, 0 006 627 ja 0 022 571. EP-hakemusjulkaisu 20 0 042 562 ja DE-hakemusjulkaisu 31 51 078 koskevat lisä-parannuksia ja -muunnoksia.
Valotettaessa näitä aineita muodostuu yhdisteen (a) fotolyysin seurauksena happoa, joka saa aikaan yhdisteen (b) C-O-C-ryhmien hajoamisen niin, että tuloksena 25 on valonherkkien kerrosten valotettujen alueiden muuttuminen kehitteeseen liukeneviksi. Valonherkät seokset voivat sisältää lisäksi myös liukoisia tai dispergoitavissa olevia hienojakoisia väriaineita sekä käyttötarkoituksesta riippuen myös UV-valoa absorboivia aineita. Erityisen 30 hyviksi väriaineiksi ovat osoittautuneet trifenyylimetaani-väriaineet, erityisesti karbinoliemäsmuodossaan, jotka väriaineet saavat aikaan kuvan selvän kontrastin jo valo-tuksen jälkeen eikä vasta kehityksen jälkeen.
On tunnettua, että triaryylimetaaniväriaineita 35 käytetään yleisesti tietyissä säteilynherkissä seoksissa sensibilisaattoreina, jotka saavat aikaan herkkyyden 2 84112 absorptioalueen 550-820 nm suhteen. Mitä tulee tähän triaryylimetaaniryhmään luettaviin väriaineisiin, jotka voivat kuitenkin olla myös substituoitujen bentso/"a7-karbatsolien johdannaisia, niiden leuko- tai karbinoli-5 emäksiä lisäämällä saavutettavaa, kyseisten säteilyn-herkkien seosten suurempaa valonherkkyyttä selostetaan DE-patenttijulkaisuissa 26 08 082 (= US-patenttijulkaisu 4 218 247), 11 17 391 (= GB-hakemusjulkaisu 944 126) ja 25 26 720 (= US-patenttijulkaisu 4 063 948), DE-hakemus-10 julkaisuissa 28 17 428 (= US-patenttijulkaisu 4 252 880) ja 32 40 935 sekä EP-hakemusjulkaisussa 0 102 745.
US-patenttijulkaisussa 3 109 736 lisätään tri-fenyyli- tai difenyylimetaanivärlaineiden leukoemäksiä valonherkkien seosten sensibilisoimiseksi. Osoittautui 15 kuitenkin, että sellaiset säteilynherkät seokset eivät kestä varastointia, koska leukoemäs hapettuu jo pimeässä väriaineeksi, ts. myös tausta muuttuu voimakkaan väriseksi.
Trifenyylimetaaniväriaineiden käyttöä alussa mainituissa, positiivisesti toimivissa, säteilynherkissä seok-20 sissa, joita nimitetään useimmiten hapolla hajotettavissa oleviksi systeemeiksi, kuvataan EP-hakemusjulkaisussa 0 042 562 ja DE-hakemusjulkaisussa 31 51 078. Näissäkin seoksissa osoittautuvat US-patenttijulkaisussa 3 109 736 kuvatut, triaryylimetaaniväriaineita käytettäessä ilmene-25 vät puutteet huomattaviksi. Lisäksi vielä toive kestävästä kuvan kontrastista ei kuitenkaan aina täyty. On lisäksi osoittautunut, että nestemäisissä seoksissa, ts. päällystysliuoksissa ja niin sanotuissa nestemäisissä resisteissä, värin stabiilisuus ei osaksi käytettyjen 30 liuottimien laadusta ja puhtaudesta johtuen ole riittävä.
Triaryylimetaanivärlaineiden ohella voidaan valon-herkissä seoksissa yleensä käyttää myös polymetiiniväri-aineita, jotka luetaan fotoväriaineiden ryhmään kuuluviksi ja joilla on teknistä käyttöä valokuvausteollisuu-35 dessa. Fotografisten hopeahalogenidiemulsioiden lisäaineina sekä muiden valonherkkien aineiden, kuten sinkkioksidin,
II
3 84112 titaani(IV)oksidin tai orgaanisten fotojohteiden, jotka ovat herkkiä ainoastaan (ultra)violetin alueen suhteen, lisinä täytyy näiden väriaineiden täyttää seuraavat vaatimukset: 5 käytettäessä niitä sensibilisaattoreina niiden tehtävänä on laajentaa vain (ultra)violetilla alueella herkkien hopeahalogenidiemulsioiden spektraalinen herkkyys-alue myös spektrin näkyvälle ja mahdollisesti infrapunai-selle alueelle; 10 käytettäessä niitä antihalogeeniväriaineina niiden tehtävänä on toimia suodatusväriaineina ei-toivottujen aallonpituuksien, erityisesti UV-alueella olevien, absor-boimiseksi. Tämä ominaisuus estää samanaikaisesti fotogra-fisen emulsion aiheuttaman valon dispersion ja sen aiheut-15 tämän kuvan terävyyden heikkenemisen.
Periaate, että positiivisesti tai negatiivisesti toimiviin reprografisiin seoksiin lisätään tällaisia foto-väriaineita, on eräiden säteilynherkkien seosten yhteydessä tunnettu. Näissä tapauksissa on pääasiallisesti 20 kysymys valonherkkien materiaalien tekemisestä herkiksi myös spektrin näkyvän alueen suhteen. Näiden systeemien, jotka eivät tosin vastaa alussa esitettyjä, hapolla hajotettavissa olevia systeemejä, tapauksessa herkistys-alue on aallonpituudeltaan identtinen tai ainakin pitkälti 25 yhtenevä fotoväriaineiden absorptioalueiden kanssa.
Syaniinivärlaineiden tapauksessa tämä spektrialue on yleensä 350 nm:n ja 450 nm:n välillä.
US-patenttijulkaisussa 3 106 466 on esimerkiksi esitetty värin muodostavien materiaalien, fotoresistien 30 ja painolaattojen valmistukseen tarkoitettu, halogeeni-hiilivetyihin pohjautuva kopiointimateriaali, jolla voidaan kyllä syaniiniväriaineiden lisäyksen jälkeen saavuttaa hyvä kuvan terävyys, mutta seosten valonherkkyys on suhteellisen heikko. Siinä mainitaan, että näissä tapauk-35 sissa on merosyaniiniväriaineita pidettävä parempina.
4 84112
Eräs sensibilisaattori, jolla on sekä syaniini-väriaineen että merosyaniiniväriaineen tunnusmerkit, on esitetty patenttihakemuksessa W0 83/00752 esimerkissä, joka koskee elektrofotografista ainetta. Kyseisellä sensibi-5 lisaattorilla on oltava hyvä absorptiokyky näkyvällä alueella, ja valotetun väriaineen valonkestävyyden on oltava hyvä.
DE-patenttijulkaisuissa 12 83 093 ja 12 86 898 valonherkkien, mutta tässä tapauksessa värin muodostavien, 10 halogeenihiilivetyihin ja N-vinyyliyhdisteisiin pohjautuvien materiaalien herkistämiseen käytetään kolmiytimisiä emäksisiä merosyaniiniväriaineita. Näillä seoksilla on oltava suuri valonherkkyys, niiden on saatava aikaan voimakas väri ja hyvä kuvan terävyys, ja niiden stabiilisuuden 15 on oltava hyvä.
EP-hakemusjulkaisussa 110 165 on esitetty nestemäisen resistin valmistukseen tarkoitettu, emäsiiukoiseen sideaineeseen ja o-kinonidiatsidiin pohjautuva, positiivisesti toimiva seos, jonka absorptioalue voidaan siirtää 20 alueelle, joka on 350 nm:n alapuolella, ts. lyhyemmän aallonpituuden alueelle, käyttämällä polymetiiniväriaineita, joiden sisältämää konjugoitua systeemiä on pidennetty symmetrisesti nitroneilla. Nämäkin väriaineet saavat aikaan hyvän kuvan terävyyskontrastin.
25 Lisäksi on tunnettua, että yhdistämällä useampia väriaineita voidaan saada aikaan ns. pankromaattisesti herkistettyjä kuvantallennusmateriaaleja, jotka mahdollistavat herkistämisen yli koko spetrialueen. Sellaisia systeemejä kuvataan elektrofotografisiä materiaaleja käsi-30 telien DE-hakemusjulkaisuissa 28 17 428 ja 23 53 639 sekä EP-hakemusjulkaisussa 0 004 944.
DE-patenttijulkaisussa 27 18 259 (= US-patentti-julkaisu 4 189 323) on esitetty valonherkkiä seoksia, jotka sisältävät halogeenipitoisia, säteilytettäessä hap-35 poa vapauttavia yhdisteitä, esimerkiksi trikloorimetyyli-triatsiinijohdannaisia, yhdistettä, jossa vähintään yksi il 5 84112 hapon avulla katkaistavissa oleva C-O-C-sidos, sideainetta, liuottimena ketonia ja värinmuutosten aikaansaamiseksi triaryylimetaaniväriaineita, esimerkiksi kristalliviolet-tia. Tämän patenttijulkaisun esimerkit 3 ja 4 osoittavat, 5 että väriaineina on mahdollista käyttää myös bentseeni-renkaaseen kondensoituneen heterosyklisen renkaan sisältävää styryylivärlainetta tai epäsymmetristä syaniiniväri-ainetta. Herkistysvaikutuksesta ei tässä patenttijulkaisussa mainita mitään.
10 Fotopolymeroitavissa oleviin yhdisteisiin pohjau tuvien valonherkkien seosten herkistämisessä voivat mainittujen väriaineiden ohella alueella 350-400 nm periaatteessa tulla kysymykseen myös hemisyaniinit (DE-hake-musjulkaisu 34 10 387), oksadiatsolit (EP-hakemusjulkai-15 su 0 188 766) sekä hemioksonolit tai oksonolit (EP-hakemus julkaisu 0 146 411, DE-hakemusjulkaisu 3 319 991).
EP-hakemusjulkaisussa 0 146 411 on esitetty positiivisesti ja negatiivisesti toimivia valonherkkiä seoksia, jotka sisältävät oniumsuolan ja sideaineen lisäksi 20 protoneja luovuttavaa ainetta, kuten esimerkiksi o-kinoni-diatsidia, mutta protoneja luovuttaviin aineisiin kuuluvat myös väriaineiden leukoemäkset, jotka hapetetaan herkistetyn oniumsuolan avulla väriaineiksi. Tässä hakemus-julkaisussa mainitaan jopa, että periaatteessa kaikki 25 oniumsuolat soveltuvat absorboimaan tai herkistettäviksi näkyvällä alueella, koska protonointi tai positiivinen varaus yleensä johti batokromiseen värisiirtymään.
Mainituiksi tulevat jodonium-, sulfonium-, bromo-nium-, kloronium-, fosfonium-, sulfoksonium-, oksisulfo-30 nium-, selenonium-, telluronium- ja arsoniumsuolat, kvaternisoinnin kautta positiivisen varauksen saaneet syaniiniväriaineet mutta myös anioniset, ts. negatiivisesti varautuneet, oksonoliväriaineet sekä neutraalit merosyaniiniväriaineet.
35 DE-hakemusjulkaisu 33 19 991 saattaa kyseenalaisek si sellaisen, tähän saakka tavanomaisen yleistyksen, että 6 84112 absorptiospektristä on mahdollista saada selville väriaineen herkistysalue. Kyseinen hakemusjulkaisu koskee negatiivisesti toimivaa valonherkkää seosta, joka koostuu diatsohartsista ja mahdollisesti sideaineesta ja joka 5 herkistetään oksonoliväriaineilla alueella 350-450 nm. Näillä väriaineilla saavutetaan hyvän herkistyksen ohella riittävä hajasäteilyn absorptio, joka mahdollistaa kuvan paremman kontrastin pitemmänkin säteilytyksen jälkeen, ja suurempi kuvan terävyys. Sitä vastoin tämän hakemus-10 julkaisun vertailuesimerkissä 1 käytetyt väriaineet, esimerkiksi bentseeniatsofenyyliamiini, krysoidiini, MC-kristalli tai hemioksonoliväriaine, vähentävät valonherkän seoksen herkkyyttä, vaikka niiden pitäisi absorptio-spektriensä perusteella soveltua herkistykseen, kuvan 15 terävyyden ollessa tosin yhtä hyvä.
Tämän perusteella ei siis ole ilman muuta mahdollista määritellä etukäteen väriainetta, joka soveltuu sensibilisaattoriksi joihinkin nimenomaisiin valonherk-kiin seoksiin.
20 Tämän keksinnön tarkoituksena on siksi ollut sel laisen, positiivisesti toimivan, säteilynherkän seoksen aikaansaanti, joka sisältää olennaisina aineosinaan a) säteilynherkkää yhdistettä, joka aktiinisen säteilyn vaikutuksesta muodostaa vahvaa happoa, 25 b) yhdistettä, joka sisältää vähintään yhden hapon avulla katkaistavissa olevan C-O-C-sidoksen, c) veteen liukenematonta mutta emästen vesiliuoksiin liukenevaa sideainetta sekä d) polymetiiniväriainetta.
30 Keksinnön mukaiselle seokselle on tunnusomaista, että kyseinen polymetiiniväriaine on hemioksonoliväriaine tai symmetrinen syaniiniväriaine.
Seokset saavat aikaan suuremman valonherkkyyden ja valotuksen jälkeen kuvan suuremman kontrastin, joka 35 on suurimmaksi osaksi myös irreversiibeli. Lisäksi sellaisia väriaineita käytettäessä nestemäisten resistien, ts.
Il 84112 7 päällystysliuosten, joita asiakkaat levittävät käsiteltäville alustoille osittain vasta kuukausien kuluttua valmistuksesta, väri säilyy suurin piirtein muuttumattomana, kun sen sijaan hapolla hajoitettavissa oleviin systeemei-5 hin pohjautuvissa fotoresistiliuoksissa, jotka on värjätty trifenyylimetaaniväriaineilla, tätä värin muuttumattomuutta ei saavuteta läheskään.
Vertailukokeilla on kyetty osoittamaan, että herkisty sasteeseen vaikuttaa paitsi käytettävän väriaineen 10 absorptiospektri myös sideaine. Niinpä esimerkiksi hemi-oksonoliväriaine, kuten esimerkiksi happovioletti 520 ΡΙΝΑ ® tuottaa happamassa polyakrylaattihartsissa tulokseksi jonkin verran heikomman kuvan kontrastin kuin fenoli-formaldehydihartsikerroksessa.
15 Mitään selvää riippuvuutta, jonka pitäisi johtaa keksinnön mukaisten kerrosten herkkyyden lisääntymiseen, värin antavalla näkyvällä spektrialueella ilmenevän ja valonherkällä alueella ilmenevän absorboitumisen välillä ei sen vuoksi esiinny. Otaksutaan, että keksinnön mukai-20 sesti käytettävät väriaineet muodostavat keksinnön kohteina olevissa valonherkissä systeemeissä stabiilimpia protonoituneita väliasteita, jotka ovat kuvan kontrastin suuremman stabiilisuuden edellytyksenä.
Väriaineita voidaan käyttää yksittäin tai seoksina, 25 jolloin väriaineen tai seoksen kokonaispitoisuus on noin 0,05-1,0 p-% valonherkän seoksen haihtumattornien aineosien kokonaismassasta laskettuna. Edullisissa toteutusmuodoissa kokonaisosuus on noin 0,1-0,6 p-%.
Edullisia hemioksonoliväriaineita ovat sellaiset, 30 jotka vastaavat yleiskaavaa I: /'rr, /r1 0=C — C=L-(L=L)n_i - Kj^-N (I) XR2 1 2 35 Tässä kaavassa R ja R voivat olla joko vety- atomeja tai alkyyliryhmiä, jolloin symmetrinen substituutio 8 84112 12 1 (ts. R = R ) on edullinen. Ollessaan alkyyliryhmiä R ja 2 R ovat erityisesti lyhytketjuisia haaroittumattomia ryhmiä, jotka sisältävät edullisesti 1-3 hiiliatomia.
K tarkoittaa hiiliatomeista koostuvaa konjugoitunutta 5 nutta rengasrakennetta. K:na voivat tulla kysymykseen kaikki aromaattiset rakenteet. Esimerkkejä ovat bentseeni, syklopentadieeni ja 1-, 2- ja 3-ytimiset konjugoituneet aromaattiset rengasrakenteet, kuten naftaleeni ja fenantree-ni, sekä bentseenin ja syklopentadieenin väliset seka-10 konjugaatit, kuten esimerkiksi indeeni ja fluoreeni.
Edullisissa toteutusmuodoissa käytetään kuitenkin sellaisia aromaattisia rakenteita, joiden runkona on bentseenirengas.
m on 0 tai 1, edullisesti 1.
15 L tarkoittaa metiiniryhmää. Se voi olla substituoi- maton tai lyhyellä, useimmiten haaroittumattomalla alkyyli-ryhmällä substituoitu, jolloin substituutio tapahtuu erityisesti meso-asemaan, ts. polymetiiniketjun keskellä olevaan hiiliatomiin; n on positiivinen luku 1-3, edulli-20 sesti 1 tai 2.
tarkoittaa ei-metallisia atomeja, jotka täydentävät 5 tai 6 rengasatornia sisältävää heterosyklistä rengasta, joka voi olla myös substituoitu. Voidaan käyttää 5 tai 6 rengasatomia sisältäviä heterosyklisiä renkaita, 25 jotka useimmiten sisältävät karbonyyliryhmän viereisessä asemassa renkaan osana typpiatomin, niin että syntyy syklinen happoamidi kaikille rengasrakenteille yhteisenä tunnusmerkkinä.
5 rengasatomia sisältävinä heterosyklisinä renkaina 30 voivat tulla kysymykseen (seuraavan artikkelin perusteella: L. Berlin ja O. Riester, Cyanine, teoksessa Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, osa V/ld, 4. painos, Stuttgart, 1972): tiatsolidinonit, kuten esimerkiksi 2,4-dioksotetra-35 hydro-1,3-tiatsolit ja 4-okso-2-tioksotetrahydro-1,3- tiatsolit, erityisesti 3-(1-bentsotiatsolyyli)-4-okso-2-
II
9 84112 tioksotetrahydro-1,3-tiatsoli, mukaan luettuina 3-alkyyli-ja 3-aryylijohdannaiset; tiatsolinonit, kuten esimerkiksi 4-oksodihydro-1,3-tiatsoliinit, mukaan luettuina 2-alkyyli- ja 2-aryyli-5 johdannaiset sekä 2-dialkyyliamino-, 2-diaryyliamino- ja 2- alkyyliaryyliaminojohdannaiset; oksatsolidinonit, kuten esimerkiksi 2,4-diokso-tetrahydro-1,3-oksatsolit ja 4-okso-2-tioksotetrahydro- 1.3- oksatsolit, mukaan luettuina 3-alkyyli- ja 3-aryyli-10 johdannaiset/ sekä 2-imino-4-oksotetrahydro-1,3-oksatsolit, mukaan luettuina 2- ja/tai 3-aryyli-, 2- ja/tai 3- alkyyli, 2,3-diaryyli- ja 2,3-dialkyylijohdannaiset; oksatsolinonit, kuten esimerkiksi 4-oksodihydro- 1.3- oksatsoliinit, mukaan luettuina 2-alkyyli- ja 2-aryy-15 lijohdannaiset; imidatsolidinonit, kuten esimerkiksi 2,4-diokso-tetrahydro-1,3-imidatsolit ja 4-okso-2-tioksotetrahydro- 1.3- imidatsolit, mukaan luettuina 1- ja 3-alkyyli-, 1- ja 3-aryyli-, 1,3-dialkyyli-, 1,3-diaryyli- ja 1,3-aryyli- 20 alkyylijohdannaiset; selenatsolidinonit, kuten esimerkiksi 2,4-diokso-tetrahydro-1,3-selenatsolit ja 4-okso-2-tioksotetrahydro- 1.3- selenatsolit, mukaan luettuina niiden johdannaiset (vrt. tiatsolidinoneihin); sekä 25 pyratsolinonit, kuten esimerkiksi 5-oksodihydro- pyratsolit, mukaan luettuina 1- ja 3-alkyyli-, 1- ja 3-aryyli-, 1,3-dialkyyli-, 1,3-diaryyli- ja 1,3-alkyyli-aryylijohdannaiset, jotka voivat olla myös substituoituja. Substituentteina tulevat kysymykseen karboksyyli- ja 30 sulfonihapporyhmät, jotka voivat olla myös ytimeen liittyneitä.
6 rengasatomia sisältävinä heterosyklisinä renkaina voivat tulla kysymykseen: pyrimidinonit, kuten esimerkiksi 2,4,6-trioksopyri-35 midiini (barbituurihappo) ja 4,6-diokso-2-tioksopyrimidiini, mukaan luettuina 1- ja 3-alkyyli-, 1- ja 3-aryyli-, 10 841 1 2 1.3- dialkyyli-, 1,3-diaryyli- ja 1,3-alkyyliaryylijohdannaiset (vrt. pyratsolinoneihin); ja piperatsinonit, kuten esimerkiksi 2,5-dioksopipe-ratsiinit ja 5-okso-2-tioksopiperatsiinit, mukaan luet-5 tuina 1- ja 3-alkyyli-, 1- ja 3-aryyli-, 1,3-dialkyyli-f 1.3- diaryyli- ja 1,3-alkyyliaryylijohdannaiset.
Erityisen edullisia ovat hemioksonoliväriaineet, jotka sisältävät heterosyklisenä renkaana pyratsolinoni-renkaan. Niihin kuuluvat myös Riedel-de Haen AG:n ΡΙΝΑ ®-10 valikoiman antihalogeeniväriaineet, esimerkiksi happo-violetti 520 ΡΙΝΑ®, laatunumero 28 587, happovioletti 520 A ΡΙΝΑ ®, laatunumero 28 582, happovioletti 520 N ΡΙΝΑ®, laatunumero 28 500, happovioletti 520 T ΡΙΝΑ®, laatunumero 28 579, happovioletti 596 ΡΙΝΑ®, laatunumero 15 28 513, sekä happopunainen 4 96 ΡΙΝΑ®, laatunumero 28 591.
Hemioksonoliväriaineiden valmistusmenetelmiä on esitetty US-patenttijulkaisuissa 2 089 729, 2 165 339, 2 186 608 ja 2 216 441. R.C. Elderfield kuvaa teoksessa 20 The Chemistry of Heterocyclic Compounds, osa 5, John
Wiley & Sons, New York - London, 1957, s. 125-126, pyrat-solinonijohdannaisten ja (vinyylisten) aldehydien välistä kondensaatioreaktiota, joka on yleiskaavaa I vastaavien hemioksonoliväriaineiden synteesin perustana.
25 Hemioksonoliväriaineiden ohella myös edullisesti symmetriset syaniiniväriaineet, jotka vastaavat yleiskaavaa II, täyttävät asetettuun päämäärään sisältyvät ehdot.
' z2 \ ' , r * 30 ( C=L-(L=L)n_-, -C (+),.
Y (_) (II) I I, x r3 R4 35 Tässä kaavassa L tarkoittaa substituoimatonta tai alkyyliryhmällä substituoitua metiiniryhmää, il ,, 84112 n on positiivinen kokonaisluku 1-4, 3 4 R ja R tarkoittavat kumpikin alkyyliryhmää, Z2 tarkoittaa heterosyklisen rengasrakenteen, joka mahdollisesti on substituoitu, täydennykseksi vaadittavia ato-5 meja ja X ^ ^ tarkoittaa anionia.
Kvaternisaatio, ts. positiivisen varauksen muodostuminen, saadaan aikaan emästen ja tunnettujen alkylointi-aineiden välisellä reaktiolla. Alkylointireagenssin valin-10 ta määrää siten ennalta anionin X , joka on yksiarvoinen happotähde. Sillä on muun muassa suurin vaikutus väriaineen liukoisuuteen.
Liukoisuus alenee anionin myötä järjestyksessä fluo-ridi, kloridi, metyylisulfaatti, bromidi, tolueenisulfo-15 naatti, rodanidi, jodidi, perkloraatti, tetrafluori-boraatti, pikraatti, fosforivolframaatti. Edullisissa toteutusmuodoissa kvaternisointiin käytetään lyhytketjuisia haaroittumattomia alkyylibromideja, erityisesti sellaisia, jotka sisältävät 1-4 hiiliatomia.
20 Ollessaan substituoitu lineaarinen, hiiliatomeista koostuva, konjugoitu systeemi =L-(L=L)n_^- sisältää edullisesti lyhytketjuisia haaroittumattomia alkyyliryhmiä, erityisesti meso-asemassa. Lyhytketjuisilla alkyyliryh-millä tarkoitetaan alkyyliryhmiä, jotka sisältävät noin 25 1-4 hiiliatomia; n:llä on edullisesti arvo 1-3.
Heterosyklisenä rengasrakenteina Z2 tulevat periaatteessa kysymykseen kaikki sellaiset heterosykliset renkaat, jotka sisältävät heteroatornina ainakin yhden typpiatornin. Kulloisenkin heterosyklisen renkaan mukaan 30 voidaan erottaa oksokarbosyaniinit, imidokarbosyaniinit, indokarbosyaniinit, tiokarbosyaniinit, selenokarbosyanii-nit ja kinokarbosyaniinit. Heterosyklisinä renkaina voidaan tällöin nostaa esiin pyrrolit, 1,3-oksatsolit, bentso- 1.3- oksatsolit, 1,3-tiatsolit, bentso-1,3-tiatsolit, 35 nafto/~1,2-d7-1,3-tiatsolit, nafto/2,1 -d7~ 1,3-tiatsolit, 1.3- selenatsolit, bentso-1,3-selenatsolit, nafto/l,2-d7- 12 841 1 2 1, 3-selenatsolit, nafto/2,1-d7-1,3-selenatsolit, 1,3-pyratsolit, 1,2-pyratsolit, indolit, bentso/c,d7indolit, bentsimidatsolit, tiatsiinit, oksatsiinit, pyridiinit, pyratsiinit, pyridatsiinit, pyrimidiinit, triatsiinit, 5 puriinit, kinoliinit, sinnoliinit, ftalatsiinit, kinatso-liinit, kinoksaliinit ja pteridiinit.
Edullisesti käytetään kinoliineja, 1,3-tiatsoleja, 1,3-selenatsoleja, bentso-1,3-tiatsoleja, 1,3-selenatsoleja sekä nafto/1,2-dJ- ja nafto/2,1-d7~1,3-tiatsoleja. Näihin 10 kuuluvat myös Riedel-de Haen AG:n, Seelze, PINA ®-valikoiman fotoväriaineet, erityisesti sensibilisaattorit S 935 PINA®, laatunumero 28 246, KF 509 PINA®, laatunumero 28 297 ja KF 605 PINA® , laatunumero 28 590.
Syaniinivärlaineiden syntetisointimahdollisuudet 15 ovat moninaisia. Yleiskatsauksen niistä on esittänyt F.M. Hamer artikkelissa The Cyanine Dyes and Related Compounds teoksessa The Chemistry of Heterocyclic Compounds, John Wiley & Sons, New York - London 1964.
Kuten edellä on mainittu, keksinnön mukaiset seok-20 set sisältävät lisäksi säteilyn- tai valonherkkää yhdiste-yhdistelmää .
Komponentteihin, jotka muodostavat tai joista lohkeaa säteilytettäessä vahvaa happoa, kuuluu suuri joukko tunnettuja yhdisteitä ja seoksia, kuten diatsonium-, 25 fosfonium-, sulfonium- ja jodoniumsuoloja, halogeeniyhdis-teitä, o-kinonidiatsidisulfoklorideja ja organometallisten ja orgaanisten halogeeniyhdisteiden yhdistelmiä.
Mainittuja diatsonium-, fosfonium-, sulfonium- ja jodoniumyhdisteitä käytetään yleensä orgaanisiin liuotti-30 miin liukenevien suolojensa muodossa, useimmiten kompleksisten happojen, kuten boorifluorivetyhapon tai heksa-fluorifosfori-, heksafluoriantimoni- tai heksafluori-arseenihapon, avulla saatuina saostumistuotteina.
Periaatteessa halogeenipitoisina, säteilynherkkinä 35 ja halogeenivetyhappoa muodostavina yhdisteinä voidaan käyttää kaikkia fotokemiallisina radikaali-initiaattoreina
II
13 841 1 2 tunnettuja orgaanisia halogeeniyhdisteitä, esimerkiksi sellaisia, jotka sisältävät yhteen hiiliatomiin tai aromaattiseen renkaaseen liittyneenä useampia kuin yhden halogeeniatomin. Esimerkkejä sellaisista on esitetty 5 US-patenttijulkaisuissa 3 515 552, 3 536 489 ja 3 779 778, DE-patenttijulkaisussa 26 10 842 sekä DE-hakemusjulkaisuissa 22 43 621, 27 18 259 ja 33 37 024. Edullisia näistä yhdisteistä ovat s-triatsiinijohdannaiset, jotka sisältävät 2 halogeenimetyyliryhmää, erityisesti trikloori-10 metyyliryhmää, ja triatsiiniytimessä yhden aromaattisen tai tyydyttymättömän substituentin ja jollaisia on esitetty DE-hakemusjulkaisuissa 27 18 259 ja 33 37 024.
Esimerkkejä sopivista initiaattoreista ovat 4-(di-n-propyyliamino)bentseenidiatsoniumtetrafluoriboraatti, 15 4-(p-tolyylimerkapto)-2,5-dietoksibentseenidiatsonium- heksafluorifosfaatti ja -tetrafluoriboraatti, difenyyli-amiini-4-diatsoniumsulfaatti, 4-metyyli-6-trikloorimetyyli-2-pyroni, 4-(4-metoksistyryyli)-6-(3,3,3-triklooriprope-nyyli)-2-pyroni, 2-trikloorimetyylibentsimidatsoli, 2-tri-20 bromimetyylikinoliini, 2,4-dimetyyli-1-(tribromiasetyyli)-bentseeni, 3-nitro-1-(tribromiasetyyli)bentseeni, 4-(di-bromiasetyyli)bentsoehappo, 1,4-bis(dibromimetyyli)bentseeni, tris(dibromimetyyli)-s-triatsiini, 2-(6-metoksi-naft-2-yyli)-, 2-(naft-1-yyli)-, 2-(naft-2-yyli)-, 2—(4— 25 etoksietyylinaft-1-yyli)-, 2-(bentsopyran-3-yyli)-, 2-(4-metoksiantras-1-yyli)-, 2-(4-styryylifenyyli)- ja 2-(fenantr-9-yyli)-4,6-bis(trikloorimetyyli)-s-triatsiini sekä esimerkeissä mainitut yhdisteet.
Myös initiaattorin määrä voi vaihdella suuresti 30 initiaattorin kemiallisen luonteen ja seoksen koostumuksen mukaan. Edullisia tuloksia saavutetaan määrillä, jotka ovat noin 0,1-10 p-%, edullisesti 0,2-5 p-%, koko kiinto-ainemäärästä. Erityisesti kopiointikerroksiin, joiden paksuus on yli 10^um, on edullista käyttää suhteellisen pie-35 niä määriä happoa vapauttavaa ainetta.
,4 841 1 2
Hapon avulla hajotettavissa olevina yhdisteinä voidaan mainita ennen kaikkea sellaiset yhdisteet, jotka sisältävät ainakin yhden ortokarboksyylihappoesteri-ja/tai karboksyylihappoamidiasetaaliryhmän, jolloin yhdis-5 teillä on myös polymeerinen luonne ja mainitut ryhmät voivat esiintyä yhdistävinä yksikköinä pääketjussa tai sivusubstituentteina, sekä lisäksi oligomeeriset tai polymeeriset yhdisteet, jotka sisältävät pääketjussa toistuvia asetaali- ja/tai ketaaliryhmiä, ja yhdisteet, jotka 10 sisältävät ainakin yhden enolieetteri- tai N-asyyli-imino-karbonaattiry hmän.
Sellaisia hapon avulla hajotettavissa olevia yhdisteitä on esitetty US-patenttijulkaisuissa 3 779 778 ja 4 101 323, DE-patenttijulkaisuissa 27 18 254 ja 23 06 248, 15 DE-hakemusjulkaisuissa 28 29 511 ja 28 29 512 sekä EP-hakemusjulkaisuissa 0 022 571, 0 006 626 ja 0 006 627.
US-patenttijulkaisussa 4 101 323 esitetyistä orto-karboksyylihappojohdannaisista käytetään erityisesti ali-faattisten diolien bis(1,3-dioksan-2-yyli)eettereitä.
20 DE-patenttijulkaisuissa 27 18 254 esitetyistä polyasetaa-leista edullisia ovat sellaiset, jotka sisältävät alifaat-tisia aldehydi- ja dioliyksikköjä.
Muita hyvin soveltuvia seoksia on esitetty DE-hakemus julkaisussa 29 28 636. Siinä on esitetty hapon avulla 25 hajotettavissa olevina yhdisteinä polymeerisiä ortoeste-reitä, jotka sisältävät pääketjussa toistuvia ortoesteri-ryhmiä. Nämä ryhmät ovat 5 tai 6 rengasatomia sisältävien 1,3-dioksasykloalkaanien 2-alkyylieettereitä. Erityisen edullisia ovat polymeerit, jotka sisältävät toistuvia 30 1,3-dioksasykloheks-2-yylialkyylieetteriyksiköitä, joissa eetterihappiatomit voivat katkaista alkyylieetteriryhmän ja alkyylieetteriryhmä on sitoutunut edullisesti viereisen renkaan 5-asemaan.
Hapon avulla hajotettavissa olevien yhdisteiden 35 määrä valonherkässä seoksessa on yleensä 5-65 p-%, edullisesti 6-30 p-%, seoksen haihtumattornista aineosista laskettuna.
Il is 84112
Edellä esitettyjen valonherkkien komponenttien lisäksi päällystysliuokset voivat sisältää polymeerisiä sideaineita. Edullisia sideaineita ovat tällöin polymeerit, jotka ovat veteen liukenemattomia mutta emästen vesiliuok-5 siin liukenevia tai niissä turpoavia.
Emäsiiukoisina tai emäksessä turpoavina sideaineina voidaan mainita luonnon hartsit, kuten shellakka ja kolo-foni, ja synteettiset hartsit, kuten styreenistä ja maleii-nihappoanhydridistä valmistetut sekapolymeraatit ja 10 akryyli- tai metakryylihapon erityisesti akryyli- tai metakryylihappoestereiden kanssa muodostamat sekapolymeraatit sekä erityisesti novolakat. Novolakkakondensaatio-hartseista erityisen edullisia ovat korkeammat kondensaa-tiohartsit, joissa formaldehydin kanssa kondensoituneina 15 aineosina ovat substituoidut fenolit. Emäsiiukoisten hartsien laatu ja määrä voi vaihdella kulloisenkin käyttötarkoituksen mukaan; edullinen määrä on 30-90 p-%, erityisesti 55-85 p-%, koko kiintoainemäärästä. Novolakkojen sijasta tai niihin sekoitettuina voidaan edullisesti käyt-20 tää myös polymeerejä, jotka ovat tyypiltään poly(alkenyy-lifenoleja) tai moniarvoisten fenolien (met)akryylihappo-estereitä. Lisäksi mukana voidaan käyttää vielä lukuisia muita hartseja, edullisesti vinyylipolymeraatteja, kuten polyvinyyliasetaatteja, polyakrylaatteja, polyeettereitä 25 ja polyvinyylipyrrolidoneja, jotka voivat itsessään olla komonomeerien avulla muunnettuja. Näiden hartsien edullinen osuus määräytyy käyttöteknisten vaatimusten mukaan sekä sen mukaan, mikä vaikutus niillä on kehitysolosuhteisiin, ja on yleensä korkeintaan 20 % emäsliukoisen hartsin 30 osuudesta. Erityisvaatimusten täyttämiseksi, kuten esimerkiksi joustavuuden, tarttuvuuden, kiillon jne. saavuttamiseksi, valonherkkä seos voi lisäksi sisältää vielä pieniä määriä sellaisia aineita kuin polyglykolit, selluloosa-johdannaiset, kuten etyyliselluloosa, ja kostutusaineet.
35 Fotoresistiliuos voidaan levittää päällystettävälle alustalle tavanomaisella tavalla, esimerkiksi kastamalla, ,6 841 1 2 valamalla, linkoamalla, ruiskuttamalla, telojen avulla tai rakosuuttimien kautta.
Alustoiksi, jotka voidaan päällystää keksinnön mukaisilla liuoksilla, soveltuvat kaikki fotoresisti-5 tekniikassa yleisesti käytetyt materiaalit, esimerkiksi kuparilaminoidut eristelevyt, syväpainoon tarkoitetut kuparisylinterit, silkkipainoon tarkoitetut nikkelisylin-terit, alumiinilevyt, lasilevyt sekä mikroelektroniikassa tavanomaiset pii-, piinitridi- ja piidioksidipinnat.
10 Myös koho- ja offsetpainolaattoja voidaan valmistaa levittämällä keksinnön mukaisia päällystysliuoksia esimerkiksi sinkki-, messinki-kromi- tai alumiini-kupari-kromi-, alumiini- tai teräslevyille.
Edullisia alustoja paksuille, yli 10yUm:n paksui-15 sille kerroksille ovat muovikalvot, jotka toimivat silloin siirtokerrosten tilapäisinä alustoina. Edullisia niiksi ja värikalvoiksi ovat polyesterikalvot, esimerkiksi poly-etyleenitereftalaatista valmistetut kalvot. Kuitenkin myös polyolefiinikalvot, kuten polypropyleeni, ovat sopi-20 via. Kerrosten, joiden paksuus on pienempi kuin noin 10 ^um, alustoina käytetään useimmiten metalleja. Offset-painolaattoihin voidaan käyttää mekaanisesti tai kemiallisesti karhennettua ja mahdollisesti anodisoitua alumiinia, joka voi lisäksi olla vielä esikäsitelty kemiallisesti esi-25 merkiksi polyvinyylifosfonihapolla, silikaateilla tai fosfaateilla.
Päällystys voi lopulta tapahtua suoraan tai kerroksen siirrolla tilapäiseltä alustalta johdinlevymateriaa-leille, jotka koostuvat tois- tai molemminpuolisesti kupa-30 rilla päällystetyistä eristelevyistä, lasi- tai keramiikka-materiaaleille, jotka on mahdollisesti tartuntakäsitelty ennalta, tai piikiekoille. Lisäksi voidaan päällystää puuta, tekstiilejä ja monien muiden materiaalien pintoja, joille muodostetaan kuva edullisesti projisoimalla ja 35 jotka kestävät emäksisten kehitteiden vaikutusta.
17 841 1 2
Liuottimina käytetään esimerkiksi etyleeniglykoli-monometyylieetteriä, etyleeniglykolimonoetyylieetteriä, alifaattisia estereitä, kuten butyyliasetaattia, alifaat-tisia ketoneja, kuten metyyli-isobutyyliketonia ja aseto-5 nia, dioksaania, ksyleeniä, halogenoituja aromaattisia yhdisteitä, kuten kloorattua ksyleeniä, bentseeniä ja tolueenia.
Teknisten fotoresistiliuosten pääkomponenttina ovat yleensä etyleeniglykolijohdannaiset, kuten monometyyli-10 ja monoetyylieetteri, vastaavat dietyleeniglykolin eetterit tai etyleeniglykolietyylieetteriasetaatti. Voidaan kuitenkin käyttää myös 1,2-propaanidiolin mono(C^_^-alkyyli)eettereitä. Alkyylieetteriryhmä voi olla propaani-diolin 1- tai 2-asemassa helpommin saatavissa olevan 15 1-metoksipropan-2-olin ollessa yleensä monometyylieette-rin tapauksessa edullinen. Voidaan käyttää myös molempien metyyli-isomeerien seoksia ja/tai propaanidiolin mono-(C^^-alkyyli) eettereiden seoksia.
Mainituilla tavanomaisilla kaupallisilla propaani-20 diolieettereillä on se etu, että ne tuottavat useissa tapauksissa tulokseksi juoksevuudeltaan tasaisia päällys-tysliuoksia ja homogeenisia kerroksia. Liuoksen käyttäy-tymisedut säilyvät korvattaessa osa propaanidiolimono-alkyylieetteristä muilla tavanomaisilla lisäliuottimilla, 25 kuten estereillä, esimerkiksi butyyliasetaatilla, hiilivedyillä, esimerkiksi ksyleenillä, ketoneilla, esimerkiksi asetonilla tai butanolilla, alkoholeilla tai tietyillä alkoksialkyyliestereillä, esimerkiksi 3-metoksibutyyli-asetaatilla. Tällä tavalla on mahdollista muuttaa, mikäli 30 niin halutaan, yksittäistapauksessa liuoksen kostutus-, juoksevuus- ja haihtuvuusominaisuuksia. Sellaisten lisä-liuottimien osuuden tulisi joka tapauksessa olla alle 50 p-%. Niiden osuus liuotinseoksesta on edullisesti 0-35 p-%, erityisesti 0-20 p-%. Niin ollen 1,2-propaani-35 diolimono(C^_^-alkyyli)eetteri, edullisesti 1,2-propaani-dioiimonometyyli- ja/tai -etyylieetteri, muodostaa 65-100 % ie 84112 keksinnön mukaisesta liuottimesta tai liuotinseoksesta.
On myös esimerkiksi mahdollista lisätä kerroksen joustavuutta lisäämällä liuokseen korkeammalla kiehuvia alkoholeja tai eettereitä, joita jää kuivauksessa kerrokseen 5 pieniä määriä (esim. 1-2 %). Vastaavasti voidaan haihtu-misnopeutta kohottaa, mikäli niin halutaan, lisäämällä liuokseen matalammalla kiehuvia liuottimia, esimerkiksi s-butanolia.
Päällystyksen jälkeen tapahtuvaan kuivaukseen voi-10 daan käyttää tavanomaisia laitteita ja olosuhteita; 100°C:n tienoilla olevia lämpötiloja ja lyhytaikaisesti jopa 120°C voidaan käyttää säteilynherkkyyden kärsimättä.
Valotukseen voidaan käyttää tavanomaisia valonlähteitä, kuten putkilamppuja, ksenonimpulssilamppuja, 15 metallihalogenidiseostettuja elohopeahöyrysuurpainelamp-puja sekä hiilikaarilamppuja.
Tässä selostuksessa ymmärretään aktiinisen sähkömagneettisen säteilyn vaikuttavan säteilytyksessä suunnilleen 500 nm:n alapuolella olevalla aallonpituusalueella.
20 Periaatteessa kaikki tällä aallonpituusalueella emittoivat säteilynlähteet ovat sopivia.
Edullisesti käytetään lasersäteilylaitteita, erityisesti automaattisia laitteistoja, jotka sisältävät sätei-lynlähteenä esimerkiksi argon-ionilaserin.
25 Säteilytys voi tapahtua myös elektronisäteillä.
Tässä tapauksessa voidaan liukoisuuden aikaansaavan reaktion initiaattoreina käyttää myös yhdisteitä, jotka eivät ole tavanomaisessa mielessä valonherkkiä, esimerkiksi halo-genoituja aromaattisia yhdisteitä tai halogenoituja poly-30 meerisiä hiilivetyjä. Myös röntgensäteitä voidaan käyttää kuvan aikaansaantiin.
Kuvan mukaisesti valotettu tai säteilytetty kerros voidaan poistaa tunnetulla tavalla käytännöllisesti katsoen samoilla kehitteillä kuin tavanomaiset kaupalliset 35 naftokinonidiatsidikerrokset ja kopiointilakat, tai uusien materiaalien kopiointikäyttäytyminen voidaan edullisesti
II
19 841 1 2 sopeuttaa tunnettuihin apukeinoihin, kuten kehitteisiin ja ohjelmoituihin suihkukehityslaitteisiin. Vesipitoiset kehiteliuokset voivat sisältää esimerkiksi alkalifosfaat-teja, -silikaatteja tai -hydroksideja sekä lisäksi kostu-5 tusaineita ja mahdollisesti pienehköjä määriä orgaanisia liuottimia. Tietyissä tapauksissa kehitteinä voidaan käyttää myös liuotin-vesiseoksia. Edullisin liuotin voidaan saada selville kulloinkin käytetyllä kerroksella suoritettavilla kokeilla. Tarvittaessa kehitystä voidaan auttaa 10 mekaanisesti.
Käytettäessä kehitettyjä levyjä painolaattoina niitä voidaan painamiskestävyyden ja kestävyyden pesuaineita, korjausaineita ja UV-valon avulla kovetettavia painovärejä kohtaan lisäämiseksi pitää lyhyen aikaa koro-15 tetussa lämpötilassa, mikä GB-hakemusjulkaisusta 1 154 749 diatsokerrosten yhteydessä on tunnettua.
Seuraavat esimerkit valaisevat keksinnön edullisia toteutusmuotoja. Esimerkeissä paino-osat ja tilavuusosat 3 suhtautuvat toisiinsa kuten g ja cm ? prosenttiluvut ja 20 määräsuhteet on ymmärrettävä paino-osuuksiksi, ellei toisin ole mainittu.
Esimerkki 1
Teräsharjalla toispuolisesti käsitellylle alumiinille levitetään telalevittimen avulla päällystysliuos, 25 joka sisältää 7 paino-osaa kresoli-formaldehydinovolakkaa, jonka pehmenemisalue on DIN 53 181:n mukaan määritettynä 105-120°C, 2 paino-osaa 2-(naft-2-yloksi)-5,5-dimetyyli-1,3- 30 oksatsolin-4-onia, 0,4 paino-osaa 2-(4-metoksiantras-1-yyli)-4,6-bis- (trikloorimetyyli)-s-triatsiinia ja 0,05 paino-osaa happovioletti 596 PINA®:a, laatunumero 28 513, Riedel-de Haen AG, 35 90,6 paino-osassa 1-metoksipropan-2-olia.
2 2o 84112
Pintapainoksi saadaan kuivana noin 2 g/m . Violetinsininen tai sinertävänvihreä kerros valotetaan posi-tiivioriginaalin alla, joka sisältää välisävykiilan, kehitetään 3,5-%:isella trinatriumfosfaatin vesiliuoksella, 5 jonka pH on säädetty natriumhydroksidilla arvoon 12,6, huuhdotaan sitten vedellä ja saatetaan lopuksi painovalmiiksi 1-%:isella fosforihapolla pyyhkimällä.
Vertailun vuoksi valmistettiin samalla tavalla kuin edellä painolaatta, mutta tällöin happovioletti 596 -väri-10 aine korvattiin samalla määrällä kristalliviolettiemästä.
Keksinnön mukaisella väriaineella värjätty kerros on suunnilleen 2 välisävykiila-astetta (= kerroin 2) valon-herkempi kuin kristalliviolettiemäksellä värjätty kerros. Molemmat levyt olivat valotetuista kohdista vaalean keller-15 täviä tai sinertäviä. Trifenyylimetääniväriaineen tapauksessa kuvan kontrasti oli hävinnyt kahden viikon kuluttua, heikentynyt huomattavasti jo yhden päivän kuluttua, jätettäessä valotetut osat sinälleen, mutta hemioksonoliväri-aine säilyi lähes muuttumattomana.
20 Esimerkki 2
Valmistetaan liuos, joka sisältää 15 paino-osaa butanol ia, 45 paino-osaa 1-metoksipropan-2-olia, 28 paino-osaa esimerkin 1 mukaista novolakkaa,
25 3,5 paino-osaa polyvinyylietyylieetteriä (Lutonal A
25, BASF), 8,3 paino-osaa polyasetaalia, joka on valmistettu 2-etyylibutyryylialdehydistä ja trietyleeniglyko-lista, 30 0,2 paino-osaa 2-(6-metoksinaft-2-yyli)-4,6-bis(tri- kloorimetyyli)-s-triatsiinia ja 0,2 paino-osaa happovioletti 520 PINA®:a, Riedel-de Haen AG:n antihalogeeniväriainetta, laatunumero 28 587, 35 tekstiilisilkkipainoon soveltuvan nikkelirotaatiosylin-terin aikaansaamiseksi galvanoplastisesti. Paljaalle,
II
2i 84112 hiukan kutistettavissa olevalle nikkelisylinterille, joka on varustettu johtavalla erotuskerroksella, levitetään ruiskupäällystystä käyttäen paineilman avulla kerros, jonka paksuus on noin 25-30^um ja jonka pinnan laatu on hyvä.
5 Tässä tarkoituksessa pyörivää sylinteriä kuivataan sen jälkeen riittävästi noin 20 minuutin ajan IR-säteilyn alla.
Violetinpunaista kerrosta valotetaan sitten riittävästi painettavasta kuvasta valmistetun positiivin alla 10 (rasteri 32), jolloin lähes täydellisestä värin muuttumisesta vaaleankeltaiseksi on seurauksena kontrastiltaan hyvä kuva. Kehitys tapahtuu liuoksella, joka sisältää 0,5 % NaOH:ta, 0,8 % natriummetasilikaattinonahydraattia ja 15 1,0 % etyleeniglykolimono-n-butyylieetteriä vedessä, josta suolat on poistettu täydellisesti ja jota on 97,7 %. Tätä varten valotettu pyörivä sylinteri upotetaan kehitteellä puoleksi täytettyyn ammeeseen ja otetaan pois ammeesta sen pyörittyä kehitteessä 4 minuuttia, sylinteri 20 huuhdotaan vedellä ja kuivataan ilmassa.
Paljastuneista sylinterin ytimen kohdista poistetaan galvaanisesti nikkeliä korkeintaan noin 0,1 mm:n paksuudelta. Sylinteriytimen pienentämisen, resistisablonin asetonilla tapahtuvan irrottamisen ja ytimeltä poistamisen 25 jälkeen saadaan elastinen rotaatiosablonipainolevy. Rotaa-tiosablonin reikien kautta painoväri siirretään kuvan mukaisesti painomateriaaleille.
Käytetyn väriaineen avulla saadaan sekä valotettavaksi että kehitettäväksi ja mahdollisesti korjattavaksi 30 kontrastiltaan parempi kerros kuin mitä siihen tarkoitukseen tähän saakka käytetyillä väriaineilla on ollut mahdollista. Vastaavanlaisia tuloksia saadaan käytettäessä ® :n tilalla happovioletti T 520 ΡΙΝΑ® :a, laatunumero 28 579.
22 84 1 1 2
Esimerkki 3
Piikiekon päällystämiseen värjäytyneellä, varastointia kestävällä positiivikerroksella, jonka valonherk-kyys on suuri, nopeudella 6000 kierrosta/min tapahtuvaa 5 linkoamista ja kiertoilmakaapissa suoritettavaa jälki-kuivausta hyväksi käyttäen käytetään päällystysliuosta, joka sisältää 76 paino-osaa 1-metoksipropan-2-olia, 13,6 paino-osaa novolakkaa, 10 6,6 paino-osaa 1,3-bis^2-(5-etyyli-5-butyyli-1,3-dioksa- sykloheksoksi)_7-2-etyyli-2-butyylipropaania, 1,1 paino-osaa 2-asenaft-5-yyli-4,6-bis(trikloorimetyy-li)-s-triatsiinia ja 0,1 paino-osaa sensibilisaattori S 935 ΡΙΝΑ® -poly-15 metiiniväriainetta, laatunumero 28 246.
Valotuksessa tulee esiin selvä kuvan kontrasti lilan ja vaaleanpunaisen välillä, jollaista ei saavuteta mikroelektroniikassa paljon käytetyissä kaupallisissa foto-resisteissä, esimerkiksi AZ 1350 J:ssä, joka pohjautuu 20 o-kinonidiatsideihin.
Esimerkki 4
Mainittujen väriaineiden soveltuvuus elektroni-säteilynherkkiin kerroksiin osoitetaan vastaavasti. Valmistetaan fotoresistiliuos, joka sisältää 25 55 paino-osaa kopolymeeriä, joka on valmistettu 4-hydroksistyreenistä ja heksyylimetakrylaatista (OH-luku 290, RSV-arvo 0,55 dl/g dimetyyliform-amidissa), 15 paino-osaa polyasetaalia, joka on valmistettu 30 dietyleeniglykolidivinyylieetteristä ja syklohek- saani-1,4-diolista, 0,5 paino-osaa 2-(4-etoksinaft-1-yyli)-4,6-bis(tri-kloorimetyyli)-s-triatsiinia, 0,2 paino-osaa happopunainen 4 96 ΡΙΝΑ® :a, laatunume- 35 ro 28 591, 0,2 paino-osaa CI Solvent Blue 35:tä (CI 61 554) ja 170 paino-osaa etanolia.
Il 23 84112
Nestekidenäyttöelementtien (LC-näyttöjen) valmistamiseksi indium-tinaoksidilla (ITO) päällystetty lasilevy päällystetään nopeudella 125 kierrosta/min linkoamalla noin 12 2 ^um:n paksuudelta (n. 15 g/m ) tällä päällystysliuoksella.
5 Vaaleansinistä kerrosta säteilytetään 11 kV:n elektroni-säteilyllä niin, että väri häviää siitä lähes täydellisesti ja että ainoastaan myöhemmät johdinradat ovat jo selvästi näkyvissä. Kontrastiltaan hyvä kuva saadaan ai-2 kaan 10 cm :lle 5 /iA:n sädevirralla noin 40 sekunnin kulut-10 tua, ja se kehitetään puskuroidulla, kostutusainetta sisältävällä vesi-emäskehitteellä, jonka pH on 13,2. Sen jälkeen kun ITO on syövytetty paljastuneista kohdista 5-%:isella suolahapolla ja resisti poistettu, levy on valmis esimerkiksi 7-osaiseen numeronäyttöön. Kuvan kontras-15 tia lisätään Solvent Blue 35:llä suoritettavalla pohja-värjäyksellä .
Esimerkki 5
Hienojohdinlevyjen valmistamiseksi telalevittimellä (roller coater) seuraavat kerroksen aineosat: 20 64 paino-osaa novolakkaa, 10,5 paino-osaa polyvinyylimetyylieetteriä (Lutonal M 40), 15 paino-osaa polyasetaalia, joka on valmistettu 2-etyy-libutyraldehydistä ja heksaani-1,6-diolista, 9,8 paino-osaa polyortoesteriä, joka on valmistettu tri-25 metoksimetaanista ja 5-oksa-7,7-di(hydroksimetyyli)- nonan-1-oiista, 0,4 paino-osaa 2-/4-(2-etoksietoksi)naft-1-yyli7~4,6-bis(trikloorimetyyli)-s-triatsiinia 0,3 paino-osaa happovioletti 520 A ΡΙΝΑ® :a, laatunumero 30 28 582, liuotetaan 1-metoksipropan-2-oliin niin, että liuoksen kiintoainepitoisuudeksi tulee 30 %. Saadaan päällystys-liuos, jonka viskositeetti on noin 90 mm /s ja joka soveltuu telalevitykseen esimerkiksi Burkle-yhtiön, Freudenstadt, 35 telalevittimellä AKL 400. Kumisilla uurreteloilla, joissa on 48 2,5 cm:n (suoraviivaista) uurretta, voidaan kerta- 24 84112 levityksellä saada kauttaaltaan kosketuksessa olleille, kuparipäällysteisille eristelevyille aikaan kuivana jopa noin 10yUm paksu, molemminpuolinen kerros täyttämättä reikiä.
5 Kuivauksen jälkeen levy valotetaan ensin reikä- alueita vastaavan negatiivioriginaalin alla, ja sitten nämä alueet pestään pois esimerkissä 2 mainitulla kehitteellä. Levyä kuivataan 10 minuuttia 80°C:ssa, ja paljastuneet reikäalueet vahvistetaan galvaanisesti kuparilla, 10 jonka jälkeen poistetaan galvaanisesti lyijy/tina. Sen jälkeen tämä fotoresistikerros valotetaan positiivisen johdinrataoriginaalin alla ja kehitetään kuten edellä. Paljastunut kupari syövytetään pois emäksisellä syövytys-aineella, jolloin syntyy hienojohdinsarja, jossa kupari-15 radan leveys on noin 70^um.
Kristalliviolettiemäksen sijasta käytetyn väriaineen avulla saadaan paitsi ensimmäisessä valotusvaihees-sa vielä myös toisen valotuksen yhteydessä tapahtuvan galvanoinnin jälkeen sekä valottumattomiin osiin että 20 galvanoituihin kohtiin aikaan kontrastiltaan erittäin hyvä kuva valonherkkyyden ollessa suhteellisen suuri. Kuvan suuren kontrastin avulla ovat sekä näiden hienojohdin-piirien mahdolliset kohdistusvirheet sekä tarpeelliset korjaustoimenpiteet hyvin hallittavissa ja järjestettä-25 vissä. Vastaavanlaisia tuloksia saadaan käytettäessä happo-violetti 520 A:n tilalla sensibilisaattori KF 605:tä, laatunumero 28 590, jolloin kuvan kontrasti on vihreän ja vaalean välinen kontrasti.
Esimerkki 6 30 Päällystysliuos, joka sisältää 8,0 paino-osaa kopolymeeriä, joka on valmistettu 4-iso-propenyylifenolista ja metyylimetakrylaatista (OH-luku 310, RSV-arvo 0,189 dl/g dimetyyliformamidissa), 0,8 paino-osaa polymeeristä ortoesteriä, joka on val- 35 mistettu kondensoimalla ortomuurahaishappotri- metyyliesteri 4-oksa-6,6-bis(hydroksimetyyli)oktan-1-olin kanssa,
II
25 84112 0,03 paino-osaa 2-(4-styryylifenyyli)-4,6-bis(trikloori-metyyli)-s-triatsiinia, 0,01 paino-osaa happovioletti 520 ΡΙΝΑ®:a, laatunumero 28 500, ja pohjavärjäykseen 5 0,01 paino-osaa sensibilisaattori KF 509 PINA®:a, laatunumero 28 297, 180 paino-osassa metyylietyyliketonia, levitetään metallilankaharjalla karhennetulle alumiini-alustalle ja kuivataan. Saatavan valonherkän levyn pinta-10 paino on noin 1,5 g/m . Se valotetaan 5 kW:n metalli-halogenidilampun alla 140 cm:n etäisyydeltä positiivi-originaalia käyttäen ja valotusajan ollessa 5 s ja kehitetään noin 30 s:n kuluttua liuoksella, joka sisältää 0,6 % NaOH:ta, 15 0,5 % natriummetasilikaattipentahydraattia ja 1,0 % n-butanolia vedessä, josta suolat on poistettu täydellisesti ja jota on 97,9 %.
Säteilyttämättömät alueet voidaan värjätä offset-20 painoon tarkoitetuilla rasvaväreillä. Näillä erittäin valonherkillä positiivioffsetpainolaatoilla on erinomainen kuvan terävyys sekä valotuksen jälkeen että kehityksessä, ja tämä värjäys helpottaa käsittelyn kontrollointia. Esimerkki 7 25 Positiivisten kuivaresistien valmistamiseksi syövy- tys- ja galvanointikäyttöä varten valmistettiin seuraava liuos: 57 paino-osaa metyylietyyliketonia, 30 paino-osaa esimerkin 1 mukaista novolakkaa, 30 7,5 paino-osaa 2-etyyli-2-metoksimetyyli-1,3-propaani- diolin bis(5-etyyli-5-metoksimetyyli-1,3-dioksan-2-yyli)eetteriä, 5,0 paino-osaa 1,3-propaanidiolibis(3,4-dihydronaft-2-yyli)eetteriä, 35 0,3 paino-osaa esimerkissä 5 mainittua triatsiinia ja 0,2 paino-osaa happovioletti 520 T PINA®:a, laatunumero 28 579.
26 8 41 1 2
Sillä päällystettiin kaksisuuntaisesti venytetty ja lämpökiinnitetty 25^um paksu polyetyleenitereftalaatti-kalvo, joka oli esikäsitelty trikloorietikkahapolla/poly-vinyylialkoholilla, kuivattiin ja laminoitiin 12^um:n pak-5 suisen polyetyleenikalvon kanssa, niin että saatiin näiden kahden kalvon välissä oleva tasainen 15^um paksu resisti-kerros.
Tavanomaisessa laminointilaitteessa laminoitiin päällyskalvon poistamisen jälkeen kytkimien kosketusjou-10 sien valmistukseen tarkoitettujen kirkkaiden messinki-levyjen kummallekin pinnalle tällainen kerros painetta ja lämpöä käyttäen. Jäähdytyksen, aluslevyn poistamisen ja lämpökaapissa (80°C) tehdyn lyhyen kuivauksen jälkeen valotettiin päällystetty materiaali molemmilta puolilta 15 käyttämällä materiaalin kokonaan peittävää taskun muodossa olevaa originaaliparia, jolloin kuvan väri vaihteli violetinpunaisesta vaaleankeltaiseen. Sen jälkeen tehtiin kehitys suihkuttamalla molemmin puolin esimerkissä 2 mainitulla kehitteellä, huuhdottiin, ja kontrastiltaan hyviä 20 levyjä syövytettiin tavanomaisella rauta(III)kloridiliuok-. . sella painolaattojen osasyövytysmenetelmällä niin pitkään, että ne syöpyivät kiiltävään pintaan asti.
Siten menestyksellisesti valmistetut syövytetyt levynosat valotettiin ennen yhdistämistä toiseen kertaan 25 vastaavia originaaleja käyttäen kosketuspäiden paljastamiseksi ja kultaamiseksi. Resistikerroksessa oli nytkin kontrastiltaan hyvä kuva; sitten se kehitettiin ja paljastetut kohdat kullattiin lopuksi ohuelti galvaanisesti. Vasta lopputarkastuksen jälkeen, joka oli helppo myös 30 kultakerroksen ja messingille jääneen punaisen resisti-kerroksen välisen hyvän kontrastin ansiosta, irrotettiin nämä kytkinosat resististä, taivutettiin oikeaan muotoon ja asennettiin.
Il
Claims (11)
1. Positiivisesti toimiva säteilynherkkä seos, joka sisältää olennaisina aineosinaan 5 a) säteilynherkkää yhdistettä, joka aktiinisen säteilyn vaikutuksesta muodostaa vahvaa happoa, b) yhdistettä, joka sisältää vähintään yhden hapon avulla katkaistavissa olevan C-O-C-sidoksen, c) veteen liukenematonta mutta emästen vesiliuok-10 siin liukenevaa sideainetta sekä d) polymetiiniväriainetta, tunnettu siitä, että kyseinen polymetiiniväriaine on hemioksonoliväriaine tai symmetrinen syaniiniväriaine.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä 15 seos, tunnettu siitä, että se sisältää hemiokso- noliväriainetta, joka vastaa kaavaa I: /'ζϊ'ϊ /R' 0-t —C-L-(L-L)n.1-KI|-K^ (I) 20 ^R2 jossa L tarkoittaa substituoimatonta tai alkyyliryhmällä substi-tuoitua metiiniryhmää, 25. tarkoittaa hiiliatomeista koostuvaa konjugoitunutta renga srakennetta, n on positiivinen luku 1-3, m on 0 tai 1, 1 2 R ja R , jotka voivat olla samoja tai erilaisia, tarkoit-30 tavat vetyatomeja tai alkyyliryhmiä ja Z^ tarkoittaa ei-metallisia atomeja, jotka täydentävät 5 tai 6 rengasatomia sisältävää heterosyklistä rengasta, joka voi olla myös substituoitu.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä 35 seos, tunnettu siitä, että se sisältää symmetristä syaniiniväriainetta, joka vastaa kaavaa II: 28 841 1 2 ί C=L- (L=L) η_ ι - C (+) 1 Κχ/ di) I I, x 5 r3 R jossa L tarkoittaa substituoimatonta tai alkyyliryhmällä substi-tuoitua metiiniryhmää, 10. on positiivinen kokonaisluku 1-4, 3 4 R ja R tarkoittavat kumpikin alkyyliryhmää, Z2 tarkoittaa heterosyklisen, substituoidun tai substi-tuoimattoman rengasrakenteen täydennykseksi vaadittavia atomeja ja
15 X ^ ) tarkoittaa anionia.
4. Patenttivaatimuksen 2 mukainen säteilynherkkä seos, tunnettu siitä, että kyseisen hemioksonoli-väriaineen lineaariseen, hiiliatomeista koostuvaan konju-goituun rakenteeseen sisältyy meso-asemassa oleva alkyyli- 20 substituentti tai sen pidennyksenä on karbosyklinen rengas ja että Z1 tarkoittaa pyratsolinonirengasta.
5. Patenttivaatimuksen 3 mukainen säteilynherkkä ... 3.4 seos, tunnettu silta, että R ja R ovat samoja ja tarkoittavat etyyliryhmiä, Z2 tarkoittaa vähintään 25 kahdesta toisiinsa konjugoituneesta renkaasta koostuvaa rakennetta ja ^ tarkoittaa bromidi-ionia.
6. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä seos, tunnettu siitä, että po1ymetiiniväriaineen pitoisuus säteilynherkässä seoksessa on noin 0,05-1,0 p-%.
7. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä seos, tunnettu siitä, että kyseinen, veteen liukenematon mutta emästen vesiliuoksiin liukeneva sideaine on novolakka, polyvinyylifenoli tai akryyli- tai metakryy-lihapon akrylaatin tai metakrylaatin kanssa muodostama 35 kopolymeeri. 29 841 1 2
8. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä seos, tunnettu siitä, että kyseinen yhdiste, joka aktiinisen säteilyn vaikutuksesta muodostaa vahvaa happoa, on trihalogeenimetyyli-s-triatsiini.
9. Patenttivaatimuksen 1 mukainen säteilynherkkä seos, tunnettu siitä, että kyseinen hapolla hajotettavissa oleva yhdiste on ortokarboksyylihappoesteri tai asetaali.
10. Menetelmä fotoresistien ja painolaattojen val- 10 mistamiseksi, tunnettu siitä, että alustalle levitetään patenttivaatimuksen 1 mukaista säteilynherkkää seosta, kerros kuivataan, sitä säteilytetään kuvan mukaisesti aktiinisella säteilyllä ja se kehitetään, ja alustaa muunnetaan paljastuneista kohdista syövyttämällä tai 15 poistamalla metallia.
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että alustan muuntamisen jälkeen resistikerrosta valotetaan uuden originaalin alla ja se kehitetään, ja tällöin paljastuvaa alustaa modifioidaan 20 uudelleen. 30 841 1 2
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853541534 DE3541534A1 (de) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3541534 | 1985-11-25 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI864753A0 FI864753A0 (fi) | 1986-11-21 |
FI864753A FI864753A (fi) | 1987-05-26 |
FI84112B true FI84112B (fi) | 1991-06-28 |
FI84112C FI84112C (fi) | 1991-10-10 |
Family
ID=6286708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI864753A FI84112C (fi) | 1985-11-25 | 1986-11-21 | Positivt arbetande straolkaenslig blandning. |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4789619A (fi) |
EP (1) | EP0224161B1 (fi) |
JP (1) | JPS62150244A (fi) |
KR (1) | KR940007782B1 (fi) |
AT (1) | ATE76985T1 (fi) |
CA (1) | CA1310534C (fi) |
DE (2) | DE3541534A1 (fi) |
FI (1) | FI84112C (fi) |
ZA (1) | ZA868874B (fi) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3725741A1 (de) * | 1987-08-04 | 1989-02-16 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3812326A1 (de) * | 1988-04-14 | 1989-10-26 | Basf Ag | Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren und photochemisch saeurebildenden verbindungen und verfahren zur herstellung von reliefmustern und reliefbildern |
JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
DE3827901A1 (de) * | 1988-08-17 | 1990-02-22 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
JPH02275956A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-11-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | フォトレジスト組成物 |
GB8921116D0 (en) * | 1989-09-18 | 1989-11-01 | Du Pont | Improvements in or relating to radiation sensitive compositions |
US5206110A (en) * | 1991-02-04 | 1993-04-27 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Negative-working radiation-sensitive mixtures containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye |
US5250392A (en) * | 1991-02-04 | 1993-10-05 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Process of developing a negative-working radiation-sensitive photoresist containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye |
JP2764769B2 (ja) * | 1991-06-24 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
EP0599779A1 (de) * | 1992-10-29 | 1994-06-01 | OCG Microelectronic Materials AG | Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum |
US5663035A (en) * | 1994-04-13 | 1997-09-02 | Hoechst Japan Limited | Radiation-sensitive mixture comprising a basic iodonium compound |
ES2181120T3 (es) | 1996-04-23 | 2003-02-16 | Kodak Polychrome Graphics Co | Compuestos termosensibles para precursores de forma para impresion litografica positiva. |
US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
US6001517A (en) * | 1996-10-31 | 1999-12-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Positive photosensitive polymer composition, method of forming a pattern and electronic parts |
US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
JP2002511955A (ja) | 1997-07-05 | 2002-04-16 | コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー | パターン形成方法 |
US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
EP0901902A3 (en) | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
US6444393B2 (en) * | 1998-03-26 | 2002-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same |
US7255972B2 (en) * | 2002-10-23 | 2007-08-14 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Chemically amplified positive photosensitive resin composition |
TW200707106A (en) * | 2005-05-17 | 2007-02-16 | Kyowa Hakko Chemical Co Ltd | Photoresist composition |
EP2135901A4 (en) * | 2007-03-05 | 2013-02-13 | Fujifilm Corp | CONNECTION FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST SOLUTION AND USE OF THIS PROCESS |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1117391B (de) * | 1959-03-18 | 1961-11-16 | Kalle Ag | Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
US3100703A (en) * | 1961-03-13 | 1963-08-13 | Horizons Inc | Photographic process utilizing cyanine dye bases |
US3109736A (en) * | 1962-04-06 | 1963-11-05 | Horizons Inc | Light-sensitive merocyanine dye base compositions |
DE1283093B (de) * | 1965-11-10 | 1968-11-14 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Schicht |
DE1286898B (de) * | 1965-11-10 | 1969-01-09 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Schicht |
FR1590914A (fi) * | 1967-11-09 | 1970-04-20 | ||
GB1426277A (en) * | 1972-04-21 | 1976-02-25 | Eastman Kodak Co | Sensitive silver halide radiogrpahic materials |
US4218247A (en) * | 1975-02-28 | 1980-08-19 | Teijin Limited | Photoconductive resin containing tertiary amino groups for electrophotography |
AU507694B2 (en) * | 1975-06-14 | 1980-02-21 | Hoechst Aktiengesellschaft | Electrophotographic reproduction |
JPS5312984A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-06 | Konishiroku Photo Ind | Photosensitive composition |
US4189323A (en) * | 1977-04-25 | 1980-02-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-sensitive copying composition |
DE2817428A1 (de) * | 1978-04-21 | 1979-10-31 | Hoechst Ag | Material fuer elektrophotographische reproduktion |
DE3023201A1 (de) * | 1980-06-21 | 1982-01-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3275028D1 (en) * | 1981-08-24 | 1987-02-12 | Eastman Kodak Co | Merocyanine-cyanine-merocyanine (mcm) electrically photosensitive colorants |
AU9012082A (en) * | 1981-11-06 | 1983-05-12 | Polychrome Corp. | Light sensitive composition |
DE3151078A1 (de) * | 1981-12-23 | 1983-07-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
JPS58211141A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
DE3377023D1 (en) * | 1982-07-29 | 1988-07-14 | Minnesota Mining & Mfg | Triarylmethane compounds, their preparation and use as photoconductive systems |
IE56082B1 (en) * | 1982-11-01 | 1991-04-10 | Microsi Inc | Photobleachable compositions |
JPS59174831A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
GB8333901D0 (en) * | 1983-12-20 | 1984-02-01 | Minnesota Mining & Mfg | Radiationsensitive compositions |
DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
-
1985
- 1985-11-25 DE DE19853541534 patent/DE3541534A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-11-17 DE DE8686115912T patent/DE3685555D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-11-17 AT AT86115912T patent/ATE76985T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-11-17 EP EP86115912A patent/EP0224161B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-21 FI FI864753A patent/FI84112C/fi not_active IP Right Cessation
- 1986-11-24 CA CA000523626A patent/CA1310534C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-11-24 US US06/934,091 patent/US4789619A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-11-24 ZA ZA868874A patent/ZA868874B/xx unknown
- 1986-11-25 KR KR1019860009934A patent/KR940007782B1/ko active IP Right Grant
- 1986-11-25 JP JP61278936A patent/JPS62150244A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA868874B (en) | 1987-07-29 |
DE3685555D1 (de) | 1992-07-09 |
FI84112C (fi) | 1991-10-10 |
KR940007782B1 (ko) | 1994-08-25 |
JPS62150244A (ja) | 1987-07-04 |
FI864753A0 (fi) | 1986-11-21 |
US4789619A (en) | 1988-12-06 |
KR870005272A (ko) | 1987-06-05 |
EP0224161A3 (en) | 1988-07-20 |
EP0224161A2 (de) | 1987-06-03 |
FI864753A (fi) | 1987-05-26 |
EP0224161B1 (de) | 1992-06-03 |
DE3541534A1 (de) | 1987-05-27 |
ATE76985T1 (de) | 1992-06-15 |
CA1310534C (en) | 1992-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI84112B (fi) | Positivt arbetande straolkaenslig blandning. | |
US4966828A (en) | Carbonylmethylene-heterocyclic compounds containing trihalogenomethyl groups, process for their preparation, and light-sensitive mixture containing the compounds | |
US4458000A (en) | Light-sensitive mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein image produced therein is visible under yellow safety light | |
US4189323A (en) | Radiation-sensitive copying composition | |
CA1103508A (en) | Radiation-sensitive copying composition | |
US4764450A (en) | Positive-working radiation-sensitive coating solution and positive photoresist material with monomethyl ether of 1,2-propanediol as solvent | |
TW550437B (en) | Chemical amplification type negative-working resist composition for electron beams or X-rays | |
US4840867A (en) | Positive-working radiation-sensitive recording material with radiation-sensitive 1,2-quinone diazide underlayer and thicker positive-working radiation-sensitive overlayer | |
US5229254A (en) | Positive-working radiation-sensitive mixtures, and radiation-sensitive recording materials produced with these mixtures | |
US4535053A (en) | Multilayer photoresist process utilizing cinnamic acid derivatives as absorbant dyes | |
EP0510443B1 (de) | Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
US4457999A (en) | Light-sensitive 1,2 quinone diazide containing mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein imaged produced therein is visible under yellow safety light | |
US5298364A (en) | Radiation-sensitive sulfonic acid esters and their use | |
KR102129049B1 (ko) | 광산 발생제 및 이를 포함하는 후막용 화학 증폭형 포지티브 타입 포토레지스트 조성물 | |
TWI246635B (en) | Acid sensitive copolymer, positive photosensitive resist composition and the method for producing the print circuit boards from it | |
US5171656A (en) | Photosensitive composition | |
US4591546A (en) | Spin castable resist composition and use | |
US5252436A (en) | Process for developing a positive-working photoresist containing poly(p-hydroxystyrene) and sulfonium salt with an aqueous developer containing basic organic compounds | |
US5413899A (en) | Light-sensitive mixture containing an 0-naphthoquinonediazide-sulfonic acid ester and recording material produced therewith wherein the 0-naphthoquinone diazides are partial esters | |
DE3736758A1 (de) | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch, enthaltend einen farbstoff, und daraus hergestelltes positiv arbeitendes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
CN102184851B (zh) | 光致抗蚀剂及其使用方法 | |
JPH0261640A (ja) | 感光性組成物 | |
CN102592978B (zh) | 光致抗蚀剂及其使用方法 | |
JPH07181678A (ja) | フォトレジスト組成物 | |
KR100796584B1 (ko) | 전자선 또는 엑스선용 네거티브 레지스트 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |