FI64954B - Elektroder foer elektrolytiska processer - Google Patents
Elektroder foer elektrolytiska processer Download PDFInfo
- Publication number
- FI64954B FI64954B FI791005A FI791005A FI64954B FI 64954 B FI64954 B FI 64954B FI 791005 A FI791005 A FI 791005A FI 791005 A FI791005 A FI 791005A FI 64954 B FI64954 B FI 64954B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- coating
- solution
- parts
- dioxide
- trioxide
- Prior art date
Links
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 3
- 239000010411 electrocatalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 19
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 14
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005855 NiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007930 Oxalis acetosella Species 0.000 description 1
- 235000008098 Oxalis acetosella Nutrition 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
- Endoscopes (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
\·^Μ*».\ ΓΒΐ ««kuulutusjulkaisu JSa IBJ (1ν utlAggningsskkift 6495 4 • Ώ® C (45) ·' :, t ^ ^ (51) Kv.lk.3/l«it.CI.3 C 25 B 11/06 SUOM I — Fl N LAN D (21) P**nttlhuliumu· — P«tui»t»n»eknl«t 791005 (22) Hukumtapihri—Amöknlngsdag 26.03.79 (23) AlkupUvi—GlhighMadag 26.03.79 (41) Tulkit luikituksi — Blhrit offuntllf 29.09.79 _ 1 (44) Nihttvilulpufion ] kuuLJulkiisun pvm.— t-i ln n.
Patent* och registentyrehan ' Anuökin uthfd och iitl.ikriftun publkurad JX. J-U.OJ
(32)(33)(31) Pyr>u«y ucuoikuut—BufSrd prioHtut 28.03.78
Iso-Britannia-Storbritannien(GB) 12053/78 (71) Diamond Shamrock Technologies S.A., 3 place Isaac-Mercier, CH-1201 Geneve, Sveitsi-Schweiz(CH) (72) Vittorio de Nora, Nassau, Bahamasaaret-Bahamaöarna(BS),
Antonio Nidola, Lugano, Placido Maria Spaziante, Lugano, Sveitsi-Schweiz(CH), Giuseppe Bianchi, Milano, Italia-Italien(IT) (7*0 Berggren Qy Ab (5*0 Elektrolyysiprosesseihin tarkoitettuja elektrodeja -Elektroder för elektrolytiska processer
Keksintö koskee elektrolyysiprosesseissa käytettäviksi tarkoitettuja elektrodeja, jotka ovat tyyppiä, joka koostuu sähköä johtavasta ja korroosionkestoisesta alustasta, jolla on päällyste, joka sisältää tinadioksidia, ja näitä elektrodeja käyttäviä elektrolyysiprosesseja.
Eri tyyppisiä tinadioksidilla päällystettyjä elektrodeja tunnetaan.
US-patentissa n:o 3 627 669 kuvataan elektrodia, joka koostuu vent-tiilimetallialustasta, jolla on pintapäällyste, joka koostuu oleellisesti tinadioksidin ja antimonitrioksidin puolijohtavasta seoksesta. Kiinteän aineen liuos-tyyppistä pintapäällystettä, joka koostuu titaanidioksidista, ruteenidioksidista jatinadioksidista, kuvataan US-patentissa n:o 3 776 834 ja monikomponenttinen päällyste, joka sisältää tinadioksidia, antimonitrioksidia, venttiilimetal-lioksidia ja platinaryhmän metallioksidia, paljastetaan US-patentissa n:o 3 875 043.
Toisen tyyppisessä päällysteessä, jota kuvataan US-patentissa n:o 3 882 002, käytetään tinadioksidia välikerroksena, jonka päälle 64954 kerrostetaan jalometallin tai jalometallioksidin kerros. Lopuksi US-patentissa 4 028 215 kuvataan elektrodia, jossa tinadioksidi/an-timonitrioksidin puolijohtava kerros on läsnä välikerroksena ja on peitetty päällikerroksella, joka koostuu oleellisesti mangaanidioksidista .
Laajasti ottaen tämä keksintö tarjoaa käytettäväksi yllä mainittua tyyppiä olevan elektrodin, jolla on päällyste, joka sisältää vis-muttitrioksidilisäyksellä parannettua tinadioksidia.
Näin ollen tämän keksinnön mukaisesti elektrolyysiprosesseihin tarkoitettu elektrodi koostuu sähköä johtavasta ja korroosionekestoi-sesta alustasta, jolla on päällyste, joka sisältää kiinteän tina-dioksidin ja vismuttitrioksidin liuoksen. Mieluummin päällysteen muodostava kiinteä liuos on tehty kerasaostamalla tina- ja vismutti-yhdisteiden seos, jotka yhdisteet konvertoidaan vastaaviksi oksideiksi. Tinadioksidia ja vismuttitrioksidia on edullisesti läsnä kiinteässä liuoksessa painosuhteessa n. 9:1 - 4:1 vastaavina metalleina. Kuitenkin yleisesti hyödyllisillä päällysteillä voi olla Sn:Bi-suhde, joka vaihtelee välillä 1:10 - 100:1. Mahdollisesti tinadioksidia on läsnä ylimäärin niin, että osa tinadioksidista on täyttämätöntä, ts. se ei muodosta osaa kiinteästä SnC>2*BI2O2- liuoksesta, vaan on läsnä erillisenä faasina.
Sähköä johtava perusaine on mieluummin jokin venttiilimetalleista, ts. titaani, sirkonium, hafnium, vanadiini, niobi tai tantaali tai se on lejeerinki, joka sisältää ainakin yhtä näistä venttiilimetalleista. Venttiilimetallikarbidit ja boridit ovat myös sopivia. Ti-taanimetalli on suositeltava johtuen sen alhaisesta hinnasta ja erinomaisista ominaisuuksista.
Keksinnön eräässä suositeltavassa toteutusmuodossa elektrodin päällyste koostuu oleellisesti kiinteästä Sn02*Bi2C>3-liuoksesta, joka on levitetty yhtenä tai useampana kerroksena venttiilimetallialus-talle. Tämän tyyppinen päällys on hyödyllinen erityisesti kloraat-tien ja perkloraattien elektrolyyttiseen tuotantoon, mutta muihin sovellutuksiin päällystettä voidaan halutulla tavalla modifioida lisäämällä pieni määrä yhtä tai useampaa erityisistä elektrokata-lyyttisistä aineista.
3 64954
Toisessa suositeltavassa toteutusmuodossa venttiilimetallialusta päällystetään yhdellä tai useammalla kerroksella kiinteää SnC^-B^C^-liuosta ja tämä tai nämä kerrokset päällystetään sitten yhdellä tai useammalla kerroksella elektrokatalyyttistä materiaalia, kuten (a) yhtä tai useampaa platinryhmän metalleista, so. ruteenia, ro-diumia, palladiumia, osmiumia, iridiumia ja platinaa, (b) yhtä tai useampaa platinaryhmän metallioksidia, (c) yhden tai useamman platinaryhmän metallioksidin ja yhden tai useamman venttiilimetalliok-sidin seoksia tai sekakiteitä, ja (d) metallien oksideja ryhmästä, johon kuuluvat kromi, molybdeeni, wolframi, mangaani, rauta, koboltti, nikkeli, lyijy, germanium, antimoni, arseeni, sinkki, kadmium, seleeni ja telluuri. SnC>2*Bi203:n ja päällä olevan elektrolyyttisen materiaalin kerrokset voivat valinnaisesti sisältää inerttejä sideaineita, esimerkiksi sellaisia aineita kuin piidioksidia, alumiinioksidia tai sirkoniumsilikaattia.
Vielä toisessa toteutusmuodossa kiinteään SnC>2*Bx2C>3-liuokseen sekoitetaan yhtä tai useampaa yllä mainituista elektrokatalyytfcisistä materiaaleista (a) - (d), valinnaista sideainetta ja mahdollisia jälkiä muista elektrokatalyyteistä ja tämä seos levitetään sähköä johtavalle alustalle yhdeksi tai useammaksi kerasaostetuksi kerrokseksi.
Jälkimmäistä tyyppiä olevalla suositeltavalla monikomponenttipääl-lysteellä on ioniselektiiviset ominaisuudet halogeenin kehitykselle ja hapen inhibitoinnille ja se on näin ollen hyödyllinen alkali-metallihalidien elektrolyysiin halogeenin muodostamiseksi aina, kun on olemassa taipumusta epämieluisaan hapen kehitykseen, ts. erityisesti kun sulfaatti-ioneja on läsnä elektrolyytissä tai kun laimeita suolaliuoksia, kuten merivettä elektrolysoidaan.
Tällä suositeltavalla elektrodimuodolla on monikomponenttinen päällyste, joka koostuu seoksesta, jonka muodostavat (i) ruteenidioksi-di primäärisenä halogeenikatalyyttinä, (ii) titaanidioksidi katalyytin stabilisaattorina, (iii) tinadioksidi/vismuttitrioksidin kiinteä liuos hapen kehityksen inhibiittorina ja (iv) kobolttioksidi (Co^O^) halogeenijouduttimena. Näitä komponentteja on edullisesti läsnä seuraavissa suhteissa, kaikki metallin tai metallien paino-osina: (i) 30-50; (ii) 30-60; (iii) 5-15; ja (iv) 1-6.
64954 Näitä monikomponenttipäällysteitä sisältävien elektrodien pääsovel-lutuksia ovat meriveden elektrolyysi myös matalassa lämpötilassa, halogeenin kehittäminen laimeista jätevesistä, suolaveden elektro-
O
lyysi eleohopeakennoissa suurella virrantiheydellä (yli 10 kA/m ), elektrolyysi membraani- tai SPE-kennotekniikalla ja orgaaninen elektrosynteesi.
SPE-kenno, (kiinteän polymeerin elektrolyytti) ja vastaavassa teknologiassa käytetyille elektrodeille aktiivinen päällystemateriaali, sen sijaan että se levitettäisiin suoraan alustalle, levitetään hydraulisesti ja/tai ionisesti läpäisevälle erottimelle, tyypillisesti ioninvaihtomembraanille tai liitetään siihen, ja elektrodi-alusta on tyypillisesti titaania tai muuta venttiilimetallia oleva ristikko, joka saatetaan kosketukseen erottimen tukeman aktiivisen materiaalin kanssa.
Liitteenä olevissa piirroksissa: · kuvio 1 esittää käyrää, joka on piirretty hapenkehityspotentiaali ordinaattana ja virrantiheys abskissana seitsemälle esimerkissä I alla yksityiskohtaisesti kuvatulle anodille? kuvio 2 esittää käyrää, joka on piirretty anodipotentiaali ordinaattana ja virrantiheys abskissana samoille seitsemälle anodille; kuvio 3 esittää käyrää, joka on piirretty hapenkehityksen faraday-hyötysuhde ordinaattana ja virrantiheys abskissana kahdelle ko. anodeista ? kuvio 4 esittää samanlaista käyrää kuin kuvio 1, joka on piirretty hapenkehityspotentiaali ordinaattana ja virrantiheys abskissana viidelle alla esimerkissä I yksityiskohtaisesti kuvatulle anodille. Kuvio 5 esittää samanlaista käyrää kuin kuviossa 2, joka on piirretty anodipotentiaali ordinaattana ja virrantiheys abskissana viidelle alla esimerkissä I yksityiskohtaisesti kuvatulle anodille.
Seuraavat esimerkit annetaan keksinnön kuvaamiseksi.
Esimerkki I
Sarja anodeja valmistettiin seuraavasti. Titaanikupongit, mitoiltaan 10 x 10 x 1 mm hiekkapuhallettiin ja peitattiin 20 %:sessa kloorivetyhapossa ja pestiin perusteellisesti vedessä. Kupongit päällystettiin sitten sivelemällä ruteenikloridin ja ortobutyyli- ii 5 64954 titanaatin etanoliliuoksella (kuponki 1), päällystysliuoksen sisältäessä myös stannikloridia ja vismuttitrikloridia yhdeksälle kupongille (kupongit 2-10) ja lisäksi kobolttikloridia neljälle kupongille (kupongit 11-14). Jokainen päällyste kuivattiin 95-100°C:ssa ja päällystetty kuponki kuumennettiin sitten 450°C:en 15 minuutiksi uunissa, jossa oli pakkoilmankierto. Tämä menettely toistettiin 5 kertaa ja kupongit saatettiin sitten lopulliseen lämpökäsittelyyn 450°C:en 60 minuutiksi. Komponenttien määriä päällystysliuoksissa vaihdeltiin taulukossa I esitettyjen lopullisten päällystysseosten saamiseksi, kaikkien määrien ollessa vastaavien metallien painoprosentteina koko metallipitoisuudesta.
Taulukko I
Kuponki/anodi Ru02 Ti02 SnC>2/Bi203 Sn/Bi Co^O^ 1 45 55 - - - 2 45 50 5,0 9:1 3 45 50 5,0 4:1 4 45 50 5,0 1:1 5 45 50 5,0 1:9 6 45 50 5,0 10:0 7 45 50 5,0 0:10 8 45 54 1,0 4:1 9 45 45 10 4:1 10 45 35 20 4:1 11 45 44 10 4:1 1,0 12 45 42,5 10 4:1 2,5 13 45 40 10 4:1 5 14 45 39 10 4:1 6
Kupongit 1-7 testattiin anodeina vesiliuoksen elektrolyysissä, joka sisälsi 200 g/1 Na2S04, 60°C:ssa ja virrantiheyksillä aina 10 kA/m2: in saakka. Kuvio 1 on anodin polarisaatiokäyrä, joka esittää mitattuja hapenkehityspotentiaaleja. Voidaan nähdä, että anodeilla 2-5, jotka sisältävät SnC>2 Bi203~seosta, on korkeampi hapenkehitys-potentiaali kuin anodilla 1 (ei Sn02 eikä Bi203), anodilla 6 (pelkästään SnC>2) ja anodilla 7 (pelkästään Bi203) . Anodit 2 ja 3 osoittavat korkeampia hapenkehityspotentiaaleja. Uskotaan että tämä Sn02·Bi203~sekakiteiden tai seosten synergistinen vaikutus saattaa johtua siitä, että Sn02*Bi203 pidättää OH-radikaaleja muodostamalla stabiileja persuolakomplekseja estäen täten hapen kehityksen.
6 64954
Anodien 1-10 kloorinkehityspotentiaali mitattiin kyllästetyissä NaCl-liuoksissa virrantiheyden 10 kA/m2 saakka ja sen ei havaittu vaihtelevan Sn02*61203:n läsnäolon tai poissaolon funktiona.
Kuvio 2 esittää kuponkien 1-7 anodipotentiaalia laimeissa NaCl/Na2S04-liuoksissa (10 g/1 NaCl, 5 g/1 Na2S04) 15°C:ssa virrantiheyksillä n. 500 A/m^:in saakka. Näissä olosuhteissa kupongeilla 2 ja 3 on mitattava kloorinkehityksen rajavirta iL(Cl2).
Kuvio 3 esittää anodien 1 ja 3 hapenkehityksen faraday-hyötysuh-detta virrantiheyden funktiona tässä laimeassa NaCl/Na2S04~liuok-sessa 15°C:ssa. Tämä käyrä osoittaa selvästi, että anodilla 3 on pienempi hapen faraday-hyötysuhde kuin anodilla 1 ja sen vuoksi se kehittää ensisijaisesti klooria.
Kuvio 4 on samanlainen kuin kuvio 1 ja esittää anodien 1, 3, 8, 9 ja 10 hapenkehityspotentiaaleja samoissa olosuhteissa kuin kuviossa 1, ts. liuoksessa, jossa on 200 g/1 Na2SC>4, 60°C:ssa. Tämä käyrä osoittaa, että näissä olosuhteissa anodilla 9, jonka Sn02*Bi202~ pitoisuus on 10 % (metallina) on optimi happea inhiboiva vaikutus.
Taulukko II esittää anodipotentiaalin eroa epämieluisan hapenkehi-tyssivureaktion ja toivotun kloorinkehitysreaktion välillä laskettuna mitattujen anodipotentiaalien perusteella virrantiheydellä 10 kA/m2 kyllästetyssä NaCl-liuoksessa ja Na2S04-liuoksessa elektrodeille 1, 8, 3, 9 ja 10.
Taulukko II
Kuponki/ SnOj-BijO^n Cl2:n kehi- 02:n kehi- A(02-C12) Huomau-anodi määrä (S me- tyspoten- tyspoten- . . tukset tallina) tiaali tiaali mv V(NHE) V(NHE) 1 - 1,36 1,52 160 Standar- diselek- tiivi- syys β 1 1,36 1,54 180 Parantu nut se-lektii-visyys 3 5 1,36 1,57 210 9 10 1,36 1,61 250 10 20 1,36 1,60 240 7 64954 {'°3®4:n Pienen prosenttimäärän läsnäolon (kupongit 11-14) havaitaan anodipolarisaatiokäyristä kyllästetyssä NaClrssa virrantihey-teen 10 kA/m saakka alentavan kloorinkehityspotentiaalia vaikuttamatta hapenkehityspotentiaaliin (varsinkaan nostamatta sitä) mitattuna 200 g/1 Na2SC>4 sisältävän liuoksen elektrolyysissä 60°C:ssa.
Kuvio 5 on samanlainen käyrä kuin kuvio 2, joka esittää kuponkien 9, 11, 12, 13 ja 14 anodipotentiaalia mitattuna 15°C:ssa liuoksessa, jossa on 10 g/1 NaCl ja 5 g/1 Na2S04· Näissä olosuhteissa voidaan käyrästä nähdä, että Co^C^jn läsnäolo alentaa potentiaalia aina kloorinkehityksen rajavirtaan i^(Cl2) saakka ja alentaa tämän vuoksi Cl2/02~suhdetta tähän rajaan asti. Tämä Co^O^jn vaikutus on suurin aina n. 5 %:n koboltin kynnyspitoisuuteen saakka.
Uskotaan että C^O^-lisäaine saattaa toimia kahdella tavalla. Ensiksi se auttaa RuC>2:a katalysoimaan kloorinkehitystä, todennäköisesti muodostamalla ja hajottamalla aktiivisen pintakompleksin, kuten Co OC1. Toiseksi se nostaa päällysteen sähkönjohtavuutta, todennäköisesti oktaedri-tetraedri kidemuutosreaktiolla CoI]CI+ e v * Co11.
Esimerkki II
Titaanianodiperusmateriaalit päällystettiin käyttäen samanlaista menettelyä kuin esimerkissä I, mutta päällystysseoksilla, jotka sisälsivät sopivia lämmössä hajaantuvia suoloja päällysteiden aikaansaamiseksi, joilla on alla taulukossa III esitetyt koostumukset, levittäen ensin välikerrokset anodialustoille ja peittämällä ne sitten mainituilla päällikerroksilla. Kaikilla päällysteillä havaittiin olevan selektiiviset ominaisuudet pienellä kloorin ylijännit-teellä, suurella hapen ylijännitteellä ja pienellä katalyytin vanhe-nemisnopeudella. Kuten edellä kaikki määrät taulukossa III on annettu vastaavan metallin painoprosenteissa laskettuna koko päällysteen kokonaismetallipitoisuudesta.
8 64954
Taulukko III
Anodi/kuponki_Välikerros_Päällikerros_ 15 Sn02*Bi202 Ti02/Ru02/Ni0x 3,75 (Sn/Bi 6,5:1) 50 / 45 / 1,25 16 Sn02*Bi2C>3 Ti02/Ru02 10 (Sn/Bi 9:1) 45 / 45 17 Sn02*Bi20^ Pt (metalli) 10 (Sn/Bi 4:1) 90 18 Sn02*Bi20-j Pd (metalli) /
Pt (metalli) 10 (Sn/Bi 4:1) 10 / 80 19 Sn0-*Bi20^ Pt (metalli) /
Sn02 10 (Sn/Bi 4:1) 80/10
Esimerkki III
Titaanikuponkeja päällystettiin käyttäen esimerkin I menettelyä, mutta käyttäen SnCl4:n ja Bi (1103)3:n liuosta päällysteiden aikaansaamiseksi, jotka sisältävät 10-30 g/m^ meta]liksi laskettuna Sn02* B^O^n kiinteää liuosta, jossa Sn/Bi-suhde vaihteli välillä 9:1-4:1.
Muutamia jatkopuhdistettuja ja hiekkapuhallettuja titaanikuponkeja varustettiin SnC2*Bi203:n kiinteän liuoksen kerroksella plasmasuih-kutekniikalla inertissä atmosfäärissä käyttäen Sn02:n ja Bi20-j:n sekapulvereita ja esimuodostetun Sn02-Bi20^:n pulvereita, joiden mesh-luku oli 250-350. Esimuodostetut pulverit valmistettiin joko hajottamalla termisesti Sn02*Bi2C>3:a karkaistulla tuella, poistamalla pintakerros ja jauhamalla tai jauhamalla Sn02~ ja Bi2C>3-pul-vereita, sekoittamalla, kuumentamalla inertissä atmosfäärissä ja jauhamalla sitten haluttuun mesh-lukuun.
Anodeilla, joilla on SnC>2·BiC^O^-päällyste, joka on saatu valmistamalla molemmilla näillä tavoilla, on suuri hapen ylijännite ja ne ovat hyödyllisiä kloraatin ja perkloraatin valmistukseen sekä sähkökemiallisiin polykondensaatioihin ja orgaanisiin hapetuksiin.
Claims (2)
1. För elektrolytiska processer avsedd elektrod som innefattar ett elektriskt ledande och korrosionsbeständigt underlag med en elektrokatalytisk beläggning innehällande en fast lösning av me-talloxider säsom ytbeläggning, mellanskikt, vilket är disperge-rat genom en beläggning, eller päfört och/eller inkorporerat i en genomsläpplig separator som bringats i kontakt med det ledande underlaget, kännetecknad av att beläggningen innehäl-ler en fast lösning av tenndioxid och vismuttrioxid.
1. Elektrolyysiprosesseihin tarkoitettu elektrodi, joka koostuu sähköä johtavasta ja korroosionkestävästä alustasta, jolla on metallioksidien kiinteää liuosta sisältävä elektrokatalyytti-päällyste pintapäällysteenä, välikerroksena, joka on dispergoitu päällysteen läpi, tai levitettynä ja/tai sisällytettynä läpäisevään erottimeen, joka on saatettu kosketukseen johtavan alustan kanssa, tunnettu siitä, että päällyste sisältää kiinteän liuoksen tinadioksidista ja vismuttitrioksidista.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että tinadioksidin ja vismuttitrioksidin kiinteä liuos on levitetty alustalle yhdessä toisen elektrokatalyytin kanssa hajottamalla termisesti suoloja.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että päällyste sisältää vastaavaa metallia tai metalleja paino-osina: (i) 30-50 osaa ruteenidioksidia, (ii) 30-60 osaa titaanidioksidia, (iii) 5-15 osaa tinadioksidin ja vismuttitrioksidin kiinteää liuosta, ja (iv) 1-6 osaa kobolttioksidia.
4. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että tinadioksidia ja vismutti-trioksidia on läsnä painosuhteessa 9:1-4:1 vastaavina metalleina.
2. Elektrod enligt patentkravet 1, kännetecknad av att den fasta lösningen av tenndioxid och vismuttrioxid är
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB1205378 | 1978-03-28 | ||
| GB1205378 | 1978-03-28 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI791005A7 FI791005A7 (fi) | 1979-09-29 |
| FI64954B true FI64954B (fi) | 1983-10-31 |
| FI64954C FI64954C (fi) | 1984-02-10 |
Family
ID=9997576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI791005A FI64954C (fi) | 1978-03-28 | 1979-03-26 | Elektroder foer elektrolytiska processer |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4272354A (fi) |
| EP (2) | EP0004387B1 (fi) |
| JP (2) | JPS55500123A (fi) |
| CA (1) | CA1149777A (fi) |
| DE (1) | DE2960475D1 (fi) |
| DK (1) | DK502879A (fi) |
| ES (1) | ES479032A1 (fi) |
| FI (1) | FI64954C (fi) |
| MX (1) | MX151258A (fi) |
| NO (1) | NO152945C (fi) |
| SU (1) | SU1134122A3 (fi) |
| WO (1) | WO1979000842A1 (fi) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56116892A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-12 | Japan Carlit Co Ltd:The | Insoluble anode for generating oxygen and preparation thereof |
| IL73536A (en) * | 1984-09-13 | 1987-12-20 | Eltech Systems Corp | Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes,its manufacture and its use in electrolysis |
| IT1208128B (it) * | 1984-11-07 | 1989-06-06 | Alberto Pellegri | Elettrodo per uso in celle elettrochimiche, procedimento per la sua preparazione ed uso nell'elettrolisi del cloruro disodio. |
| JPS62274087A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Permelec Electrode Ltd | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 |
| JPH0610923B2 (ja) * | 1986-08-19 | 1994-02-09 | 株式会社豊田中央研究所 | 酸化チタン結晶の導電性材料及びその製法 |
| US5314601A (en) * | 1989-06-30 | 1994-05-24 | Eltech Systems Corporation | Electrodes of improved service life |
| US5324407A (en) * | 1989-06-30 | 1994-06-28 | Eltech Systems Corporation | Substrate of improved plasma sprayed surface morphology and its use as an electrode in an electrolytic cell |
| RU2130512C1 (ru) * | 1995-03-29 | 1999-05-20 | Мишин Александр Михайлович | Электрохимическая ячейка |
| US6527939B1 (en) | 1999-06-28 | 2003-03-04 | Eltech Systems Corporation | Method of producing copper foil with an anode having multiple coating layers |
| AR044268A1 (es) * | 2003-05-07 | 2005-09-07 | Eltech Systems Corp | Revestimiento de morfologia superficial lisa para anodos de clorato |
| US20070261968A1 (en) * | 2005-01-27 | 2007-11-15 | Carlson Richard C | High efficiency hypochlorite anode coating |
| US7494583B2 (en) * | 2005-06-29 | 2009-02-24 | Oleh Weres | Electrode with surface comprising oxides of titanium and bismuth and water purification process using this electrode |
| CN102443818B (zh) | 2010-10-08 | 2016-01-13 | 水之星公司 | 多层混合金属氧化物电极及其制造方法 |
| CN104749292A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-07-01 | 吉林省环境监测中心站 | 一种分散固相萃取富集环境水样品中痕量汞的方法 |
| CA2984715C (en) * | 2015-06-23 | 2022-12-06 | Industrie De Nora S.P.A. | Electrode for electrolytic processes |
| US10568515B2 (en) * | 2016-06-21 | 2020-02-25 | Otonexus Medical Technologies, Inc. | Optical coherence tomography device for otitis media |
| IT201800003533A1 (it) * | 2018-03-14 | 2019-09-14 | Industrie De Nora Spa | Elettrodo per processi di elettroclorazione |
| US11668017B2 (en) | 2018-07-30 | 2023-06-06 | Water Star, Inc. | Current reversal tolerant multilayer material, method of making the same, use as an electrode, and use in electrochemical processes |
| JP7330490B2 (ja) * | 2019-05-28 | 2023-08-22 | 石福金属興業株式会社 | オゾン生成用電極 |
| CN112064059A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-12-11 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钛基氧化铱阳极涂层材料及阳极涂层的制备方法 |
| JP7621071B2 (ja) * | 2020-07-20 | 2025-01-24 | デノラ・ペルメレック株式会社 | 酸素発生用電極 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2490825A (en) * | 1946-02-01 | 1949-12-13 | Corning Glass Works | Electrically conducting refractory compositions |
| BE759874A (fr) * | 1969-12-05 | 1971-05-17 | Alusuisse | Anode pour l'electrolyse ignee d'oxydes metalliques |
| US3855092A (en) * | 1972-05-30 | 1974-12-17 | Electronor Corp | Novel electrolysis method |
-
1979
- 1979-03-09 JP JP50045579A patent/JPS55500123A/ja active Pending
- 1979-03-26 FI FI791005A patent/FI64954C/fi not_active IP Right Cessation
- 1979-03-27 WO PCT/EP1979/000021 patent/WO1979000842A1/de not_active Ceased
- 1979-03-27 JP JP54500620A patent/JPS6136075B2/ja not_active Expired
- 1979-03-27 NO NO791005A patent/NO152945C/no unknown
- 1979-03-27 DE DE7979100916T patent/DE2960475D1/de not_active Expired
- 1979-03-27 CA CA000324271A patent/CA1149777A/en not_active Expired
- 1979-03-27 EP EP79100916A patent/EP0004387B1/en not_active Expired
- 1979-03-28 ES ES479032A patent/ES479032A1/es not_active Expired
- 1979-03-28 MX MX177099A patent/MX151258A/es unknown
- 1979-11-05 EP EP79900367A patent/EP0015944A1/de not_active Withdrawn
- 1979-11-26 US US06/097,346 patent/US4272354A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-11-27 SU SU792844355A patent/SU1134122A3/ru active
- 1979-11-27 DK DK502879A patent/DK502879A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55500179A (fi) | 1980-03-27 |
| NO152945B (no) | 1985-09-09 |
| US4272354A (en) | 1981-06-09 |
| SU1134122A3 (ru) | 1985-01-07 |
| ES479032A1 (es) | 1980-01-01 |
| FI791005A7 (fi) | 1979-09-29 |
| JPS55500123A (fi) | 1980-03-06 |
| MX151258A (es) | 1984-10-25 |
| NO152945C (no) | 1985-12-18 |
| EP0004387A1 (en) | 1979-10-03 |
| FI64954C (fi) | 1984-02-10 |
| JPS6136075B2 (fi) | 1986-08-16 |
| DE2960475D1 (en) | 1981-10-22 |
| CA1149777A (en) | 1983-07-12 |
| EP0004387B1 (en) | 1981-07-15 |
| NO791005L (no) | 1979-10-01 |
| EP0015944A1 (de) | 1980-10-01 |
| DK502879A (da) | 1979-11-27 |
| WO1979000842A1 (fr) | 1979-11-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI64954B (fi) | Elektroder foer elektrolytiska processer | |
| EP0047595B1 (en) | Electrochemical cell | |
| US3878083A (en) | Anode for oxygen evolution | |
| ES484348A1 (es) | Un metodo de producir electrodos metalicos | |
| KR860000604B1 (ko) | 전해전극 및 그 제작공정 | |
| US3926751A (en) | Method of electrowinning metals | |
| EP0014596B1 (en) | Method for producing electrodes having mixed metal oxide catalyst coatings | |
| US3917518A (en) | Hypochlorite production | |
| FI56981C (fi) | Elektrod foer elektrokemiska processer och foerfarande foer dess framstaellning | |
| JPS622038B2 (fi) | ||
| US4132620A (en) | Electrocatalytic electrodes | |
| FI84496B (fi) | Anod foer anvaendning foer framstaellning av vaeteperoxidloesning och foerfarande foer framstaellning av anoden. | |
| KR860700273A (ko) | 특히 전해전극을 위한 복합 촉매물질 및 그 제조방법 | |
| FI63604C (fi) | Stabil elektrod foer elektrokemiska tillaempningar | |
| US4098671A (en) | Cathode for electrolytic process involving hydrogen generation | |
| US3878084A (en) | Bipolar electrode | |
| GB1358926A (en) | Electrodes for electrochemical processes | |
| US3826733A (en) | Bipolar electrode | |
| US3677917A (en) | Electrode coatings | |
| FI66919C (fi) | Elektroder foer elektrolytiska processer speciellt foer perkloratproduktion | |
| US3824174A (en) | Bipolar electrode | |
| US3899409A (en) | Bipolar electrode | |
| US3836450A (en) | Bipolar electrode | |
| US3920535A (en) | Bipolar electrode | |
| US3826731A (en) | Bipolar electrode |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed |
Owner name: DIAMOND SHAMROCK TECHNOLOGIES S.A. |