FI122940B - Reaktionskammare - Google Patents

Claims (21)

1. Reaktionskammare för en atomlagertillväxtreaktor (ALD-reaktor), vilken reaktionskammare har ästadkommits av tvä eller flera tunnplätar (2, 4, 6) som ästadkommer ett reaktionsrum, kännetecknad avatt reaktions- 5 rummet har ästadkommits av tvä eller flera böjliga tunnplätar (2, 4, 6).

2. Reaktionskammare enligt patentkrav 1, kännetecknad av att reaktionskammarens strömningskanaler (15, 14, 24) och/eller reaktionsrum har ästadkommits med hjälp av tunnplätarnas former.

3. Reaktionskammare enligt patentkrav 1 eller 2, känneteck-10 n a d av att reaktionskammaren omfattar en första plät (2) och en andra plät (4) som har ästadkommits av en tunnplät och som bildar ett reaktionsrum miellän dem för att motta ett substrat (8) och behandla det i reaktionsrummet med ett ALD-förfarande.

4. Reaktionskammare enligt patentkrav 3, kännetecknad av 15 att reaktionskammaren ytterligare omfattar en mellanplät (6) som är placerad mellan den första och den andra pläten (2, 4) och som tillsammans med den första pläten (2) bildar ett reaktionsrum.

5. Reaktionskammare enligt patentkrav 4, kännetecknad av att mellanpläten (6) har ästadkommits av en tunnplät.

6. Reaktionskammare enligt patentkrav 1 och 2, känneteck nad av att reaktionskammarens struktur har styvts med kantstycken.

7. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 3 -6, kännetecknad av att den första pläten (2) är reaktionskammarens bakplät och den andra pläten (4) är reaktionskammarens framplät, genom vil-25 ken gasingängs- och -avloppsledningar förs in i reaktionskammaren.

^ 8. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 1 δ - 7, k ä n n e t e c k n a d av att en periferi som utgörs av sidoväggarna av re- cö aktionsrummet i reaktionskammaren har över hela sin längd gjorts aktiv pä det o ^ sättet att periferins hela längd utnyttjas i reaktionsrum mets gasväxling för att ^ 30 tillföra och avlägsna gas. a.

9. Reaktionskammare enligt patentkrav 8, kännetecknad av att reaktionskammarens gastillförselledningar har ästadkommits pä det sättet lö att gas kan tillföras in i reaktionsrummet över längden av en eller flera sido- <j> § väggar och att reaktionskammarens gasavloppsledningar har ästadkommits pä CM 35 det sättet att gas kan avlägsnas fran reaktionsrummet över längden av en eller flera sidoväggar.

10. Reaktionskammare enligt patentkrav 8 eller 9, känneteck-n a d av att i reaktionskammaren som omfattar ett rektangulärt reaktionsrum har gastillförselledningarna ästadkommits pä det sättet att gas kan tillföras in i reaktionsrum met över längden av en sidovägg och gasavloppsledningarna pä 5 det sättet att gas kan avlägsnas frän reaktionsrummet över längden av tre si-doväggar.

11. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 1-10, kännetecknad av att reaktionskammarens gastillförselledningar omfattar ett eller flera i gasströmningsriktningen successiva gasfördelningsdon 10 (10, 12) för att fördela gas jämnt över sidoväggens hela längd, varifrän gas till- förs in i reaktionsrummet.

12. Reaktionskammare enligt patentkrav 8, kännetecknad av att gastillförselledningarna har ästadkommits pä det sättet att gas kan tillföras i tvä eller flera riktningar mot reaktionsrummets sidoväggar för att avlägsna gas 15 över längden av sidoväggarna.

13. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 4 - 12, kännetecknad av att mellanpläten (6) är placerad mellan den första och den andra pläten (2, 4) pä det sättet att en spalt (14) bildas mellan mellanpläten (6) och den andra pläten (4), genom vilken spalt gasen avlägsnas 20 frän reaktionsrummet.

14. Reaktionskammare enligt patentkrav 13, kännetecknad av att den andra pläten (4) har gjorts trägformig pä det sättet att den tillsam-mans med mellanpläten (6) bildar en sugkammare (16), dit gasen som avlägsnas frän reaktionsrummet leds genom spalten (14).

15. Reaktionskammare enligt patentkrav 14, kännetecknad av att sugkammaren (16) är försedd med en sugkanal (20) som ästadkommits i 5 den andra pläten (4) för att avlägsna gas frän sugkammaren (16). C\J

^ 16. Reaktionskammare enligt patentkrav 14 eller 15, känne- ° t e c k n a d av att spalten (14) är försedd med ett eller flera gasstyrningsdon 00 30 (18) för att styra gasströmning som avlägsnas frän reaktionsrummet.

17. Reaktionskammare enligt patentkrav 11 eller 16, känne- ^ t e c k n a d av att gasfördelningsdonen (10, 12) och/eller gasstyrningsdonen CVJ ^ (18) har ästadkommits som en hälskiva.

18. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 00 35 3-17, kännetecknad av att den första och den andra pläten (2, 4) är anordnade att placeras mot varandra för att stänga reaktionskammaren.

19. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 3-18, kännetecknad avatt den första och den andra platen (2, 4) är anordnade att placeras mot substratet (8) eller mot substratets stöd (22) pä det sättet att substratet (8) och/eller substratets stöd (22) bildar en del av reak- 5 tionskammaren.

20. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 3-19, kännetecknad av att den första pläten (2) respektive den andra pläten (4) är försedd med förspänningsdon för att pressa substratet (8) mot substratets stöd (22) och/eller mot den andra pläten (4) respektive den första 10 pläten (2).

21. Reaktionskammare enligt nägot av de föregäende patentkraven 3 - 20, k ä n n e t e c k n a d av att den första och den andra pläten (2, 4) är anordnade att röras i vertikal riktning i förhällande tili varandra för att öppna och stänga reaktionskammaren pä det sättet att substratet (8) kan placeras i 15 horisontell riktning mellan den första och den andra pläten (2, 4) och/eller av-lägsnas därifrän dä reaktionskammaren är i öppet tillständ, där den första och den andra pläten (2, 4) är i sär pä ett avständ frän varandra, och pä det sättet att substratet (8) kan behandlas med ALD-förfarandet i reaktionskammarens stängda tillständ. 20 C\J δ c\j i CO o oo c\j X cc CL CVJ δ O) o o c\j