FI120014B - Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi - Google Patents

Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi Download PDF

Info

Publication number
FI120014B
FI120014B FI951125A FI951125A FI120014B FI 120014 B FI120014 B FI 120014B FI 951125 A FI951125 A FI 951125A FI 951125 A FI951125 A FI 951125A FI 120014 B FI120014 B FI 120014B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
mixture
meadow
distillation column
structured
gasket
Prior art date
Application number
FI951125A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI951125A (fi
FI951125A0 (fi
Inventor
Kevin Mckeigue
Ramachandran Krishnamurthy
Original Assignee
Boc Group Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22780578&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI120014(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Boc Group Inc filed Critical Boc Group Inc
Publication of FI951125A0 publication Critical patent/FI951125A0/fi
Publication of FI951125A publication Critical patent/FI951125A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI120014B publication Critical patent/FI120014B/fi

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J3/00Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
    • F25J3/02Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
    • F25J3/04Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
    • F25J3/044Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air using a single pressure main column system only
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/32Packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit or module inside the apparatus for mass or heat transfer
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J3/00Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
    • F25J3/02Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
    • F25J3/04Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
    • F25J3/04248Generation of cold for compensating heat leaks or liquid production, e.g. by Joule-Thompson expansion
    • F25J3/04284Generation of cold for compensating heat leaks or liquid production, e.g. by Joule-Thompson expansion using internal refrigeration by open-loop gas work expansion, e.g. of intermediate or oxygen enriched (waste-)streams
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J3/00Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
    • F25J3/02Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
    • F25J3/04Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
    • F25J3/04763Start-up or control of the process; Details of the apparatus used
    • F25J3/04866Construction and layout of air fractionation equipments, e.g. valves, machines
    • F25J3/04896Details of columns, e.g. internals, inlet/outlet devices
    • F25J3/04909Structured packings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/32Details relating to packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit of module inside the apparatus for mass or heat transfer
    • B01J2219/326Mathematical modelling
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2200/00Processes or apparatus using separation by rectification
    • F25J2200/74Refluxing the column with at least a part of the partially condensed overhead gas
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2240/00Processes or apparatus involving steps for expanding of process streams
    • F25J2240/40Expansion without extracting work, i.e. isenthalpic throttling, e.g. JT valve, regulating valve or venturi, or isentropic nozzle, e.g. Laval
    • F25J2240/48Expansion without extracting work, i.e. isenthalpic throttling, e.g. JT valve, regulating valve or venturi, or isentropic nozzle, e.g. Laval the fluid being oxygen enriched compared to air, e.g. "crude oxygen"
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/10Mathematical formulae, modeling, plot or curves; Design methods
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/12Particular process parameters like pressure, temperature, ratios

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

\ *
Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi - Metod för separering av en blandning av atmosfäriska gaser
Esillä oleva keksintö koskee menetelmää ilmakehän kaasujen 5 seoksen erottamiseksi kryogeenisesti tislauskolonnisystee- missä, jossa on yksi tai useampia kolonneja. Tarkemmin sanoen esillä oleva keksintö koskee sellaista menetelmää, jossa seoksen alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumainen faasi saatetaan kosketukseen käyttäen rakenteellista 10 täytettä ilmakehän kaasujen seoksen komponenttien välisen erottumisen aikaansaamiseksi.
Ilmakehän kaasujen seoksia, ts. ilmassa esiintyvien kaasujen tai itse ilman, esimerkiksi typen, hapen, argonin jne seoksia erotetaan lukuisissa erilaisissa kryogeenisissa tislaus-15 systeemeissä, jotka on optimoitu haluttujen ilmakehän kaasu- komponenttien tuotannon suhteen. Tyypillisesti ilma jalostetaan ilmakehän kaasujen seoksena sen eri komponenteiksi käyttäen kryogeenista tislauskolonnisysteemiä, jossa ilma puristetaan kokoon ja puhdistetaan ensin ja jäähdytetään : .'.20 kryogeenisiin lämpötiloihin, jotka ovat sen kastepisteessä • · · .·. : tai lähellä sitä. Jäähdytetty ilma syötetään tislauskolon- • · · I niin, jossa varsinainen erotus tapahtuu. Kun ilma on syötet- . ty tislauskolonniin, haihtuvammat komponentit, esimerkiksi typpi kiehuvat ennen vähemmän haihtuvia komponentteja, kuten • · · ί·ί ί 25 happea synnyttäen ylöspäin kohoavan kaasufaasin. Osa ylös • · · *.* * kohoavasta kaasufaasista kondensoituu virraten takaisin ko lonnissa ja aikaansaaden täten alas laskeutuvan nestefaasin.
• · : Alas laskeutuva nestefaasi saatetaan kosketukseen kohoavan :***: kaasufaasin kanssa lukuisten eri hyvin tunnettujen koske- • · · . 30 tuselementtien välityksellä niin, että nestefaasi muuttuu • · ... väkevämmäksi haihtumattomampien komponenttien suhteen, kun • · '··/’ taas kohoava kaasufaasi muuttuu yhä väkevämmäksi haihtuvam- ·:**: pien komponenttien suhteen.
• · · • · · • ·
Tislauskolonnisysteemi voi sisältää yhden ainoan kolonnin 35 kaasumaisen typpituotteen tuottamiseksi tai sarjan kolonneja 2 ilman jalostamiseksi edelleen ja typpi-, happi- ja argon-tuotteiden tuottamiseksi. Lisäkolonneja voidaan käyttää ilman muiden komponenttien edelleen erottamiseen ja tuottamiseen .
5 Neste-kaasukosketuselementit, joita käytetään seoksen alas-laskeutuvan neste- ja kohoavan kaasufaasin kosketukseen saattaiseen, voidaan saada aikaan erilaisilla täytteillä, lautasilla, välipohjilla jne. Rakenteellisista täytteistä on tullut suosittu nesteen ja kaasun välisen kosketuksen ele-10 mentti ilmakehän kaasujen seoksen kryogeenisiin erotuksiin johtuen tällaisten täytteiden pienen painehäviön ominaisuuksista. Tämä pienen painehäviön ominaisuus voidaan edullisesti toteuttaa pienemmillä energiakustannuksilla, suuremmalla tuotannolla jne. Rakenteellisen täytteen haittana ovat sen 15 korkeat alkukustannukset verrattuna tavanomaisten välipohji en ja lautasten kustannuksiin.
Aikaisemman tekniikan pitkään kestänyt uskomus on, että rakenteellisen täytteen suorituskyky huononee paineen kasvaessa. Kuten tässä tullaan selostamaan, tämän keksinnön tekijät 20 ovat havainneet, että rakenteellisen täytteen suorituskyky • · ·.· · voi parantua paineen kasvaessa, kun erotettava seos on ilma- kehän kaasujen seos. Tätä tosiasiaa voidaan käyttää hyväksi • · ·:··: valmistettaessa kapasiteetiltaan suurempia kolonneja käyttä- en pienempiä rakenteellisen täytteen tilavuuksia kuin mitä • · : 25 aikaisemmin on harkittu. Rakenteellisen täytteen tilavuuden • · · [I!.* lasku pienentää tislauskolonnin valmistukseen liittyviä pää- • · · omakuluj a.
• · j Esillä oleva keksintö koskee patenttivaatimusten mukaista menetelmää ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi tislaus- t · · * . 30 kolonnisysteemissä, jossa on vähintään yksi tislauskolonni.
• · ... Tämän menetelmän mukaisesti alas laskevaa nestemäistä ja • · *·;·* ylös kohoavaa kaasuvirtafaasia muodostetaan ilmakehän kaasu- *:*·: jen seoksesta tässä vähintään yhdesä tislauskolonnissa.
·*·’: Seoksen alas laskeva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumainen • · 35 faasi saatetaan kosketukseen rakenteellisen täytteen väli tyksellä, joka sisältyy tämän vähintään yhden tislauskolon- 3 nin vähintään yhteen osaan. On tarkoituksenmukaista korostaa, että termi tislauskolonnin "osa" tarkoittaa tässä ja patenttivaatimuksissa käytettynä tislauskolonnin aluetta, joka rajoittuu kolonnin syötön ja ulosoton tai kahden syötön 5 tai ulosoton välille. Tislauskolonnin osa sisältää kaksi tai useampia rakenteellisen täytteen elementtejä, jotka on asetettu suoriin kulmiin toisiinsa nähden alalla hyvin tunnelia tavalla, ja niihin liittyviä rakenteita, kuten tukilevyjä ja nesteenjakajia. Seurauksena faasien kulusta rakenteellisen 10 täytteen läpi alas laskeva nestefaasi muuttuu yhä väkeväm- mäksi seoksen haihtumattomien komponenttien suhteen, kun se laskeutuu rakenteellisen täytteen läpi, kun taas ylös kohoava kaasufaasi muuttuu yhä väkevämmäksi seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa rakenteellisen täytteen 15 läpi. Tämä komponenttien erottaminen niiden haihtuvuuden mu kaan saa näin ollen aikaan kryogeenisen erotuksen. Kryogee-nista tislauskolonnisysteemiä käytetään siten, että kyseisen vähintään yhden osan absoluuttinen paine on yli noin 200 kPa ja virtausparametri on joko alueella noin 0,01 - 0,1 tai 20 suurempi kuin noin 0,1. Virtausparametri Ψ on yhtä kuin osa- määrä CL jaettuna Cv:llä, jossa Cv on kohoavan höyryfaasin : .·. höyryn nopeus ja CL on alas laskevan nestefaasin nesteen no- • · · | peus. Kryogeenista tislauskolonnisysteemiä käytetään siten, • ·· | että höyryn nopeus on pienempi kuin kriittinen höyryn nope- ]25 us, jossa ainakin yksi tislauskolonnin osa tulvii, ja suu rempi kuin minimi höyryn nopeus.
• « • · · • · · • · · · ·*:*. Esillä olevan keksinnön eräässä kohdassa rakenteellinen täy- te on rakennettu aaltopellistä, jonka ominaispinta-ala on välillä noin 100 - 450 m2/m3 ja virtauskanavat on asetettu 45 • · · 30 asteen kulmaan. Tässä suhteessa virtauskanavien suuntausta • · • · *;* tarkastellaan tässä ja patenttivaatimuksissa kolonnin akse- *·“ί liin nähden, joka useimmissa rakenteellisen täytteen ase- nnuksissa on pystysuora. Tällaisella täytteellä minimi höy-ryn nopeus on yhtä kuin exp[-0,0485 (In Ψ)2 - 0,595 In Ψ - • · ... 35 3,176 - 0,000169A], jossa A on mainitun rakenteellisen täyt- • · · * ** teen ominaispinta-ala, kun Ψ on kyseisellä välillä ja yhtä kuin noin 0,054e_0’0169A Ψ ~°'372 , kun Ψ on yli 0,1.
4
Esillä olevan keksinnön toisessa kohdassa rakenteellinen täyte on tehty aaltopellistä, jonka ominaispinta-ala on alueella noin 450 - 1000 m2/m3 ja virtauskanavat on suunnattu 45 asteen kulmaan. Tällaisella täytteellä minimi höyryn nopeus 5 on yhtä kuin exp[-0,0485 (In Ψ)2 -0,5951η Ψ -0,595 In Ψ - 3,748 - 0,00042lA], jossa A on rakenteellisen täytteen ominaispinta-ala, kun Ψ on kyseisellä välillä, ja yhtä kuin noin 0,03 05e'°'OO412A Ψ ’°'372 , kun Ψ on yli 0,1.
Vielä muussa esillä olevan keksinnön kohdassa rakenteellinen 10 täyte on tehty aaltopellistä, jonka ominaispinta-ala on vä lillä noin 170 - 250 m2/m3 ja virtauskanavat on suunnattu 30 asteen kulmaan. Tällaisella rakenteellisella täytteellä minimi höyryn nopeus on yhtä kuin exp[-0,0485(In Ψ)2 -0,595 In Ψ -2,788 - 0,00236A], jossa A on rakenteellisen täytteen 15 ominaispinta-ala, kun Ψ on kyseisellä välillä, ja yhtä kuin noin 0,0795e'°'°0236A Ψ '°'372 , kun Ψ on yli 0,1.
Vielä muussa esillä olevan keksinnön kohdassa rakenteellinen täyte on tehty aaltopellistä, jonka ominaispinta-ala on välillä noin 250 - 1000 m2/m3 ja virtauskanavat on suunnattu 30 20 asteen kulmaan. Tällaisella rakenteellisella täytteellä mi- : nimi höyryn nopeus on yhtä kuin exp[-0,0485 (In Ψ)2 - 0,595 :*·.· In Ψ -3,156 - 0,000893A], jossa A on rakenteellisen täytteen • · ominaispinta-ala, kun Ψ on kyseisellä välillä, ja noin 0,0551 e -°'000893A ψ -°'372 , kun Ψ on yli 0,1.
• · • · • · · : 25 Muussa kohdassaan esillä oleva keksintö kohdistuu menetel- • · · V * mään ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi kryogeenisesti tislauskolonnisysteemillä, jossa on vähintään yksi kolonni ja jossa mainittua vähintään yhtä tislauskolonnia käytetään absoluuttisella painealueella välillä noin 350 - 750 kPa.
• · · * . 30 Ilmakehän kaasujen seoksesta muodostetaan alas laskeva nes temäinen ja ylös kohoava kaasufaasi kyseisessä vähintään yh- • · *···* dessä tislauskolonnissa. Seoksen alas laskeva nestemäinen ja ·;··· ylös kohoava kaasumainen faasi saatetaan kosketukseen raken- ·**'. teellisen täytteen välityksellä, joka sisältyy mainitun vä- • · 35 hintään yhden tislauskolonnin ainakin yhteen osaan ja jonka täytetiheys on noin 750 m2/m3 ja virtauskanavat on suunnattu 5 noin 45 asteen kulmaan. Seurauksena kosketuksesta alas laskeutuva nestefaasi muuttuu yhä väkevämmäksi seoksen haihtumat tomampien komponenttien suhteen, kun se laskeutuu rakenteellisen täytteen läpi, kun taas kaasufaasi muuttuu yhä vä-5 kevämmäksi seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa rakenteellisen täytteen läpi, mikä saa aikaan kryogeenisen erotuksen. Ilmakehän kaasujen seoksen nestemäinen ja kaasumainen faasi saatetaan kosketukseen keskenään läpi rakenteellisen täytteen korkeuden siten, että nestemäi-10 nen ja kaasumainen faasi sisältävät samassa järjestyksessä seoksen haihtumattomampia ja haihtuvampia komponentteja ennalta määrättyinä väkevyyksinä ja rakenteellisen täytteen korkeus on suunnilleen yhtä kuin tulo, jonka muodostavat niiden teoreettisten vaiheiden lukumäärä, jotka vaaditaan 15 tuottamaan haihtumattomampien ja haihtuvampien komponenttien ennalta määrätyt väkevyydet, ja määrä, joka vastaa luvun 0,181 ja kyseisessä vähintään yhdessä kolonnissa olevan paineen summaa kerrottuna luvulla -0,00864.
Vielä muussa esillä olevan keksinnön kohdassa kyseistä vä-20 hintään yhtä tislauskolonnia voidaan käyttää absoluuttisessa paineessa, joka on alueella välillä noin 750 - 2000 kPa.
• · · Ι.Σ ϊ Tällaisessa tapauksessa sen rakenteellisen täytteen korkeus, • · ·.*·· jonka läpi ilmakehän kaasujen seos saatetaan kosketukseen, "**ί on suunnilleen yhtä suuri kuin tulo, jonka muodostavat nii- *:··· 25 den teoreettisten vaiheiden lukumäärä, jotka vaaditaan tuot- • tamaan haihtumattomampien ja haihtuvampien komponenttien en-naita määrätty väkevyys, ja luku 0,116.
Aikaisemmassa tekniikassa arveltiin, että rakenteellisen • · • · : ** täytteen suorituskyky huononi korkeammissa paineissa. Tämän • · · 30 hakemuksen tekijät ovat havainneet, että rakenteellisen täytteen suorituskyky riippuu erotettavasta seoksesta. Edel- • · .···. lyttäen, että seos on ilmakehän kaasujen seos, tislauskol- • · ponnissa olevan rakenteellisen täytteen suorituskyvyn voi-daan havaita itse asiassa paranevan paineen kasvaessa. Esi- • · · • 35 merkiksi aikaisemman tekniikan tiedot rakenteelliselle täyt teelle, jonka tiheys on 750 m2/m3, osoittavat ylärajaa sen 6 käyttöalueella, jota esittää kaava exp[-4,064-0,595 In Ψ -0,0485(In Ψ)2]. Jos aikaisemmassa tekniikassa mitä tahansa tislauskolonnin osaa käytetään tämän ylärajan yläpuolella, osa tulvii. Tämä edellä mainittu raja saavutettiin, kun pai-5 ne oli noin 200 kPa tai pienempi. Yli noin 200 kPa:n pai neessa aikaisempi tekniikka osoitti, että suorituskyky huononasi ja ettei tätä ylärajaa voitu saavuttaa.
Tämän hakemuksen tekijät ovat havainneet, että kun rakenteellisella täytteellä, joka on valmistettu aaltopellistä ja 10 jonka täytetiheys on esimerkiksi 750 m2/m3, erotettava seos sisältää ilmakehän kaasuja ja kun paine on yli noin 200 kPa, edellä mainittu aikaisemman tekniikan yläraja ei ole tällaisen rakenteellisen täytteen käyttöalueen raja.
Cv, höyryn nopeus on tässä ja patenttivaatimuksissa käytetty-15 nä tiheyteen perustuva pinnan yläpuolinen kaasun nopeus. Tä mä kaasun nopeus on pinnan yläpuolisen kaasun nopeuden ja kaasun tiheyden neliöjuuren tulo jaettuna nesteen tiheyden ja kaasun tiheyden erotuksella. Pinnan yläpuolinen nopeus on keskimääräinen nopeus kolonnin läpi, joka perustuu massan 20 virtausnopeuteen. Näin ollen jos kolonnia käytetään 200 : kPa:n yläpuolella ja erotettava seos on ilmakehän kaasuseos, • ·· · :\j massavirtausnopeus kolonnin läpi voidaan nostaa aikaisemmas- • * sa tekniikassa ajatellun arvon yläpuolelle. Vaihtoehtoisesti • ♦ kun kolonnin massavirtausnopeusvaatimus on annettu, kolonni • · ; .-.25 voidaan suunnitella poikkileikkaukseltaan paljon pienemmäksi • · ♦ ***.* ja niin ollen pinnan yläpuoliselta nopeudeltaan suuremmaksi • · » ·* * kuin olisi voitu etukäteen olettaa tämän alueen aikaisemman tekniikan oppien perusteella. Kolonnin pienempi poikkipinta- • · • · : ** ala johtaa siihen, että käytetään pienempi tilavuusmäärä ra- • · · ·...· 30 kenteellista täytettä annettuun rakenteellisen täytteen so- vellutukseen. Näin ollen kustannussäästöä voidaan toteuttaa • · .···. tislauskolonnin rakentamisessa annettuun tislauskolonnin • « *** suorituskykyvaatimukseen. Lisänäkökohta on, että kolonnia ei *’** vain voida tehdä kapeammaksi, vaan myös lyhyemmäksi kuin ai- ·· · • *.· 35 kaisemmassa tekniikassa olisi voitu ajatella. Tämä johtuu siitä, että HETP-arvo tai teoreettisen välipohjan korkeusek- 7 vivalentti pienenee kolonnin paineen kasvaessa. Tämän vuoksi esillä olevassa keksinnössä tarkastellaan kaksiulotteisia säästöjä ilmakehän kaasujen seokselle vaaditun rakenteellisen täytteen tilavuudessa.
5 On huomautettava, että tässä ja patenttivaatimuksissa käy tettynä kaikki korkeudet ovat metreissä ja kaikki nopeudet kuten nesteen ja höyryn nopeudet ovat metreinä sekunnissa. Lisäksi kaikki paineet ovat absoluuttisina kilopascaleina ja kaikki ominaispinta-alat neliömetreinä kuutiometriä kohti.
10 Lisänäkökohta on, että vaikka monia kokeita suoritettiin ra kenteellisella täytteellä, joka saatiin Sulzer Brothers Li-mited-yhtiöltä, esillä oleva keksintö soveltuisi yhtä lailla muilta valmistajilta saaduille rakenteellisille täytteille.
Vaikka tämä patenttimääritys päättyy patenttivaatimuksiin, 15 jotka tuovat selvästi esiin aihepiirin, jota hakemuksen te kijät pitävät keksintönään, uskotaan että keksintö on paremmin ymmärrettävissä tarkasteltaessa sitä yhdessä liitteenä olevien piirrosten kanssa, joissa:
Kuvio 1 on Souders-diagrammi Mellapack 750.Y-täytteelle, jo- : .*.20 ka on saatu Sulzer Brothers Limited-yhtiöltä, joka kuvaa ai- • · · *1* I kaisemman tekniikan suorituskykyverhokäyriä verrattuna esi- • · · • ·· * * llä olevassa keksinnössä käytettyihin; ja • · *:**: Kuvio 2 on esillä olevan keksinnön mukaisesti suunniteltu • ;'j tislauskolonnisysteemi .
• · · • · ♦ ****25 Viitaten kuvioon 1 käyrä 1 edustaa aikaisemman tekniikan
Souders-diagrammia Mellapak 750.Y-täytteelle (saatu Sulzer • · : ** Brothers Limited-yhtiöltä CH-8401 Winterthur, Sveitsi) pai- ·«· neissa, jotka ovat pienemmät tai yhtä suuret kuin noin 200 kPa. Tämän täytteen ominaispinta-ala on noin 750 m /m ja sen ♦ « .···. 30 virtauskanavat on suunnattu noin 45°:n kulmaan. Pitkin tätä • · *** käyrää annetulla nesteen nopeudella höyryn nopeus on vakio.
***· Jos höyryn nopeutta nostettaisiin käyrän antaman yläpuolel- ♦ * · • V le, täyte olisi tulvimistilassa, ts. täytteessä ylös kohoava höyryfaasi veisi mukanaan huomattavan osan alaslaskeutuvasta 8 nestefaasista tai äärimmäisessä tapauksessa kohoava höyry-faasi estäisi nestefaasia laskeutumasta täytteen läpi. Tämän käyrän likimääräiset yhtälöt ovat Cv = exp[-4,064 - 0,595 In Ψ-0,0485(1η Ψ)2], kun Ψ on välillä noin 0,01 - 0,1 ja Cv = 5 0,02233 Ψ'0,037 , kun Ψ on yli 0,1. Kuten edellä mainittiin Ψ on yhtä kuin CL/Cv. Esimerkkitarkoituksia varten käyrät 2 ja 3 edustavat esimerkkejä esillä olevan keksinnön mukaisen rakenteellisen 750.Y-täytteen Souders-diagrammeista 400 ja 600 kPa:n käyttöpaineissa samassa järjestyksessä ja ilmakehän 10 kaasujen seoksella. Kuten kahdesta jälkimmäisestä käyrästä ilmenee, rakenteellisen täytteen suorituskyky on kasvanut paineen kohoamisen mukana. Käyrän 2 likimääräiset yhtälöt ovat Cv = exp [-3,885 - 0,595 In Ψ -0,0485 (In Ψ)2], kun Ψ on välillä noin 0,01 - 0,1 ja Cv = 0,026 Ψ 0'372 , kun Ψ on yli 15 0,1. Samoin käyrän 3 likimääräiset yhtälöt ovat
Cv = exp[-3,753 -0,595 In Ψ -0,0485 (In Ψ)2], kun Ψ on välillä noin 0,01 - 0,1 ja Cv = 0,03033 Ψ~0,372 , kun Ψ on yli 0,1.
Johtopäätös edellä olevista käyristä on, että jos samanlaista täytettä käytetään vähintään 200 kPa:n paineessa ja ero-20 tettava seos on jokin ilmakehän kaasuista, sitä voidaan ajaa vähintään käyrää 1 pitkin. Maksimissaan sitä voidaan ajaa • · · '··· ί kriittisellä höyryn nopeudella, joka on häyryn nopeus, jolla • · täyte tai kolonni tulvii. Tämä kriittinen höyryn nopeus voi-daan määrittää kokeellisesti ja käytännön toiminnassa siksi *:··: 25 otetaan tulvimisolosuhteita lähestyvä arvo, joka perustuu • käytettävissä olevaan kolonnin säätöön. Tyypillisesti kriit- • · · · tinen höyryn nopeus on noin 80 % todellisesta höyryn nopeudesta tulvimistilanteessa. Kuitenkin kriittisen höyryn no-peuden yläraja edellä selostetun tyyppiselle täytteelle on • ·· *... 30 käyrä 2, jos täytettä tai kolonnia ajetaan 400 kPa:n pai- • · *y neella, ja käyrä 3, jos täytettä ajetaan 600 kPa:n paineel- la. Jälleen nämä tulokset saadaan, kun erotettava seos on ilmakehän kaasujen seos, täyte on valmistettu aaltopellistä • · · ja virtauskanavan kulma on 45 astetta. Tämän seurauksena ko- • · ... 35 lonni voidaan suunnitella toimimaan suuremmalla tuotannolla • · · * ·* kuin aikaisemman tekniikan kolonni tai se voidaan suunnitel la sisältämään pienempi tilavuusmäärä rakenteellista täytet- 9 tä kuin mitä aikaisemman tekniikan mallien perusteella olisi käytetty.
Hakemuksen tekijät ovat havainneet samantapaisia parannuksia muilla rakenteellisilla täytteillä (jotka on muodostettu 5 aaltopellistä, joita käytetään yli 200 kPa:n absoluuttisessa paineessa ja käytetään ilmakehän kaasun erotuksiin), joilla on toiset täytetiheydet ja muut virtauskanavan kulmat kuin tyyppiä 750.Y olevalla rakenteellisella täytteellä. Esimerkiksi rakenteellisen täytteen ominaispinta-ala voi olla vä-10 Iillä noin 100 - 450 m2/m3 ja virtauskanavat voi olla suun nattu noin 30-45 asteen kulmaan. Minimissään kolonnia voidaan ajaa siten, että höyryn nopeus tämän täytteen läpi on yhtä kuin noin exp[-0,0485(In Ψ)2-0,595 In Ψ - 3,176 -0,00169A], kun Ψ on välillä noin 0,01 - 0,1 ja yhtä kuin 15 noin 0,054e"0,00169 A Ψ ~0,372 , kun Ψ on yli 0,1. Rakenteellisella täytteellä, jonka ominaispinta-ala on välillä noin 450 -1000 m2/m3 ja virtauskanavat on suunnattu noin 30 - 45 asteen kulmaan, kolonnia voidaan ajaa tämän täytteen läpi minimi höyryn nopeudella noin exp[-0,0485 (In Ψ)2 - 0,595 In Ψ-20 3,748 - 0,000421A], kun Ψ on edellä mainitulla alueella, ja noin 0,0305e"°,000421A l ~0,372 , kun Ψ on yli 0,1. Rakenteellisella • · : täytteellä, jonka ominaispinta-ala on välillä 170 - 250 m2/m3 • · ja virtauskanavat on suunnattu noin 30 asteen tai pienempään *:**: kulmaan, kolonnin minimi höyryvirtaukseksi voidaan ottaa -:--25 noin exp [-0,0485 (In Ψ)2 -0,595 In Ψ - 2,788 - 0,00236A], kun i Ψ on edellä mainitulla alueella, ja noin 0,0305e'° 00236A Ψ '°'372 , • · · · kun Ψ on yli 0,1. Lopuksi rakenteellisella täytteellä, jonka • · · ominaispinta-ala on välillä noin 250 - 1000 m2/m3 ja virtaus- .. kanavat on suunnattu noin 30 asteen tai pienempään kulmaan, • ·· *... 30 minimi höyryn nopeus kolonnista voidaan asettaa arvoon noin *·-*’ exp[-0,0485 (In Ψ)2 - 0,595 In Ψ - 3,156 - 0,000893A], kun Ψ *:*·: on ko. alueella, ja arvoon noin 0,0551e ~°'000893A ψ·°’372 , kun Ψ on yli 0,1. Kaikissa edellä esitetyissä kaavoissa A on täytteen ··· * . ominaispinta-ala yksiköissä m2/m3.
• · : 35 Hakemuksen tekijät ovat myös havainneet, että nesteen ja höyryn nopeuksia koskevan suorituskyvyn lisäksi rakenteelli- 10 sen täytteen erotussuorituskyky kasvaa kolonnin paineen kasvaessa. Paineissa välillä noin 350 - 750 kPa HETP (teoreettisen välipohjan korkeusekvivalentti) 750.Y-täytteellä on noin 0,181 lisättynä luvun -0,00864 ja paineen tuloon. Pai-5 neissa välillä noin 750 - 2000 kPa HETP-arvon on havaittu olevan noin 0,116 m. Tämän vuoksi annetulla erotuksella vaadittujen teoreettisten vaiheiden lukumäärä kerrottuna edellä mainituilla HETP-arvoilla antaa halutun täytteen korkeuden. Aikaisemmassa tekniikassa HETP-arvon luultiin kasvavan pai-10 neen kasvaessa. Voidaan havaita, että esillä olevassa kek sinnössä HETP pienenee paineen kasvaessa ja tasoittuu sitten vakioarvoon, kun erotettava seos on ilmakehän kaasuja sisältävä seos.
Viitaten kuvioon 2 siinä esitetään tislauskolonnisysteemi 15 10. On kuitenkin ymmärrettävä, että esillä oleva keksintö on yhtä lailla sovellettavissa muun tyyppisiin tislauskolon-nisysteemeihin, esimerkiksi kahden kolonnin systeemeihin, joissa on korkea- ja matalapainekolonnit typpi- ja happi-tuotteiden tuottamiseksi, kolmen kolonnin systeemeihin argo-20 nin tuottamiseksi jne.
• :*j Tislauskolonnisysteemissä 10 syöttöilma puristetaan kokoon • · · · .'..ϊ kompressorissa 11 ja kompressorin 11 tuottama puristuslämpö • · poistetaan jälki jäähdy ttimellä 12. Ilma johdetaan sitten • » ..... esipuhdistusyksikköön 14, joka voi koostua kahdesta tai use- • · . .25 ämmästä adsorptioaineen kerroksesta, jotka toimivat eri vai- • · · • · · heissä hiilidioksidin, veden ja hiilivetyjen adsorboimisek- • · · *·’ si. Tuloksena oleva ilmavirta 16 jäähdytetään päälämmönvaih- timien osissa 18 ja 20 sen kastepisteeseen tai lähelle sitä • · : *·♦ ja jaetaan kahdeksi lisäilmavirraksi 22 ja 24. Lisäilmavirta • · · Σ...Σ 30 22 syötetään tislauskolonnin 26 pohjalle jalostusta varten.
Lisäilmavirta 24 ali jäähdytetään ali jäähdytyslaitteessa 27 • · ....^ ja syötetään sitten nesteenä tislauskolonnin 26 sopivaan vä- • · *!* livaiheeseen.
• ·
Ylös kohoava höyryfaasi kehitetään tislauskolonnissa 26 • · 35 syöttämällä lisäilmavirta 22. Alas laskeutuva nestefaasi ke hitetään poistamalla typpihöyryä oleva tornin ylävirta 28 ja 11 kondensoimalla typpihöyryä oleva tornin ylävirta 28 etummaisessa jäähdyttimessä 30 palautusvirran 32 tuottamiseksi. Pa-lautusvirta 32 palautetaan osittain takaisin tislauskolonniin 26. Kolonnin pohjavirta 34 otetaan ulos tislauskolon-5 nista 26 ja sen annetaan laajeta alhaiseen lämpötilaan ja paineeseen Joule-Thompson (J-T)-venttiilin 36 kautta. Laajennettu kolonnin pohjavirta 34 johdetaan sitten etummaiseen jäähdyttimeen 30 typpihöyryä olevan tornin ylävirran 28 kon-densoimiseksi. Tuotevirta 38, joka sisältää erittäin puhdas-10 ta typpeä, lämmitetään osittain alijäähdytyslaitteessa 27 (lämmitetään lämpötilaan, joka on tislauskolonnin käyttölämpötilan ja päälämmönvaihtimen kylmän pään välillä) ja lämmitetään sitten täysin päälämmönvaihtimen osissa 18 ja 20. Höyrystetty kolonnin pohjavirta, jota on merkitty viitenume-15 rolla 40, lämmitetään osittain alijäähdytyslaitteessa 27 ja lämmitetään sitten täysin päälämmönvaihtimen osissa 18 ja 20.
Kuten kaikissa kryogeenisissa ilman erotuslaitoksissa lämpö-vuoto laitokseen vaatii jäähdytyksen kehittämistä. Esillä 20 olevassa toteutusmuodossa virta 40 on jaettu kahteen osavir- taan 42 ja 44. Osavirta 44 lämmitetään osittain päälämmön- • · : vaihtimen osassa 20 ja yhdistetään sitten osavirtaan 42. Yh- • · distetty virta syötetään sitten turbohöyrystimeen 46. Virta *ί**ί 48 juoksutetaan erilleen turbohöyrystimeen 46 syötetystä yh- ·:··· 25 distetystä virrasta ja laajennetaan Joule-Thompson (J-T) - • venttiilissä 50. Laajennuksen jälkeen virta 48 yhdistetään • · · i turbohöyrystimen 46 poistoputkesta puretun laajennetun vir- • · · ran kanssa jäähdytysainevirran 52 tuottamiseksi. Jäähdy- .. tysainevirta 52 lämpenee osittain alijäähdytyslaitteessa 27 • ·· 30 ja lämpenee täysin päälämmönvaihtimen osissa 18 ja 20 si- • · *·;·* sääntulevan ilman entalpian alentamiseksi.
• ·
Seuraava taulukko on laskettu esimerkki tislauskolonnisys- • · *!* teemin 10 mahdollisesta toiminnasta.
• · • · · • · · • · • · Lämpö- Paine Virtaus- Koostumus tila kPa nopeus (mol-%)
Virta (kg)h) 12
Ilmavirta 16 esipuh- 78,11 % Na distus yksikön 14 302,60 600 4449,66 20,96 % 02 jälkeen_____0,93 % Ar
Ilmavirta 16 pääläm- 78,11 % N2 mönvaihtimen osan 18 152,77 600 4449,66 20,96 % 02 jälkeen_____0,93 % Ar
Ilmavirta 16 pääläm- 78,11 % N2 mönvaihtimen osan 20 102,84 600 4449,66 20,96 % 02 jälkeen_____0,93 % Ar
Lisäilmavirta 22 102,84 600 4307,11 78,11 % N2 20,96 % 02 _____0,93 % Ar
Lisäilmavirta 24 en- 102,84 600 142,55 78,11% N2 nen alijäähdytyslai- 20,96 % 02 tetta 27_____0,93 % Ar
Lisäilmavirta 24 ali- 98,61 600 142,55 78,11 % N2 jäähdytyslaitteen 28 20,96 % 02 jälkeen_____0,93 % Ar
Kolonnin pohjavirta 100,83 600 2429,01 59,04 % N2 34 39,46 % 02 _____1,50 % Ar
Kolonnin pohjavirta 90,00 250 2429,01 59,04 % N2 34 J-T-venttiilin 36 39,46 % 02 jälkeen_____1,50 % Ar ; Tuotevirta 38 96,14 587 2020,64 99,72 % N2 T : 0,28 % 02 ·.1··_____0,00 % Ar ·:··· Tuotevirta 38 ali- 101,84 587 2020,64 99,72 % N2 jäähdytyslaitteen 27 0,28 % 02 *’2· jälkeen_____0,00 % Ar ·.· · Tuotevirta 38 pääläm- 148,68 587 2020,64 99,72 % N2 mönvaihtimen osan 2 0 0,28 % 02 jälkeen_____0,00% Ar
Tuotevirta 38 pääläm- 300,08 587 2020,64 99,72 % N2 mönvaihtimen osan 18 0,28 % 02 : 2 jälkeen_____0,00 % Ar
Rikastettu neste-höy- 93,31 250 2429,01 59,04 % N2 ] . ryvirta 40 ennen ali- 39,46 % 02 **** jäähdytyslaitetta 27 1,5 % Ar • · · • · • · M— ' ............ I . . i. - n 1 , I . — Il • · · · • · · 2 • · · • · • · 13
Rikastettu neste-höy- 101,84 250 2429,01 59,04% N2 ryvirta 40 alijäähdy- 39,46 % 02 tyslaitteen 27 jäi- 1,5 % Ar keen_____
Osavirta 44 101,84 250 502,58 59,04 % N2 39.46 % 02 _____1,5 % Ar
Osavirta 42 101,84 250 1926,44 59,04 % N2 39.46 % 02 _____1,5 % Ar
Osavirta 42 sen jäi- 146,88 250 502,58 59,04 % N2 keen, kun se on osit- 39,46 % 02
tain lämmitetty pää- 1,5 % Ar D
lämmönvaihtimen osas- sa 20_____
Turbohöyrystimeen 46 111,38 250 448,73 59,04 % N2 syötettyjen virtojen 39,46 % 02 42 ja 44 yhdistelmä 1,5 % Ar J-T-venttiiliin syö- 111,38 250 1980,28 59,04 % N2 tetty virta 48 39,46 % 02 ______1,5 % Ar
Virtojen 42 ja 44 yh- 91,68 102 498,73 59,04 % N2 distelmä turbo- 39,46 % 02 höyrystimen 46 jäi- 1,5 % Ar keen_____
Virta 48 J-T-venttii- 109,93 102 1980,28 59,04 % N2
Iin 50 jälkeen 39,46 % 02 : l,5 % Ar ··· · ................. I—III—· Il ·*·.* Jäähdytysainevirta 52 106,05 102 2492,01 59,04 % N2 * I 39,46 % 02 *!'**_____1,5 % Ar ·;··: Jäähdytysainevirta 52 101,80 102 2429,01 59,04 % N2 . . alijäähdytyslaitteen 39,46 % 02 j.: : 2 8 jälkeen_____1,5 % Ar ! Jäähdytysainevirta 52 146,68 102 2429,01 59,04 % N2 päälämmönvaihtimen 39,46 % 02 osan 18 jälkeen_____1,5 % Ar • *·· Jäähdytysainevirta 52 300,08 102 2429,01 59,04 % N2 .···. päälämmönvaihtimen 39,46 % 02 *···* osan 2 0 jälkeen 1,5 % Ar • · ··· • · • · *· Tislauskolonnissa 26 käytetään kolmea rakenteelisen täytteen * * osaa, joita on merkitty numeroilla I, II ja III. Tässä esi- ·· · • · · ! .* 5 merkissä osien muodostuksessa käytetään täytettä, jonka ti heys on 750 m2/m ja tämä täyte voi olla 750.Y-merkkistä ra- 14 kenteellista täytettä, jota saadaan Sulzer Brothers Limited-yhtiöltä. Tässä mallissa vaiheessa I on suunnilleen 27 teoreettista vaihetta, vaiheessa II o noin 26 teoreettista vaihetta ja vaiheessa III on noin 6 teoreettista vaihetta. Seu-5 raavassa taulukossa esitetään kunkin osan suorituskyky ja CL- arvon ja täytteen korkeuden laskelma esillä olevan keksinnön mukaisesti.
Vaihe 1 Vaihe 2 Vaihe 3
Yläosa Pohja Yläosa Pohja Yläosa Pohja P, (kg/m3) 714,6__771,2__771,2__820,1__822,4__836,8 P„ (kg/m3) 24,26__24,80__24,80__24,19__24,19__24,06 L (mVh) 3,528__3,333__3,333__2,909__3,065__2,903 V (m/h)__187,2__185,2__185,2__182,3__182,3__181,5 C, (m/s)__0,005784 0,005459 0,005459 0,004758 0,005013 0,004746 C,· (m/s)__0,05655 0,05438 0,05438 0,05118 0,5112 0,05032 Ψ (C./CJ 0,1023 0,1004 0,1004 0,0930 0,09806 0,09433 C„ tulva 0,07067 0,07116 0,07116 0,07239 0,07187 0,07291 • · • · · : C.. suunn. 0,05654 0,05693 0,05693 0,05864 0,05750 0,05833 • · i - i n — i 1 11 • · · • · · • I Tulva % 80,02 76,41 76,41 69,82 71,13 69,02 HETP__0,130__0,130__0,130__0,130__0,130__0,130 |
. . Korkeus 3,5 --- 3,37 ----- 0,79 ---- I
: : : jm)_______| • · « _ :::10 .. Seuraavassa taulukossa esitetään tislauskolonnin 26 ko- • · *>#> lonnihyötysuhde, joka kolonni on suunniteltu käyttäen • · *···1 aikaisemman tekniikan mukaista Cv:n tulvimisrajaa.
• · • · · • · • · ··» · • · · • · · • · • · 15
Vaihe I Vaihe 2 Vaihe 3
Yläosa Pohja Yläosa Pohja Yläosa Pohja P, (kg/m) 714,6__771,2__771,2__820,1__822,4__836,8 P„ (kg/m3) 24,26__24,80__24,78__24,19__24,19__24,06 L (rn/h)__3,528__3,333__3,333__2,909__3,065__2,903 V (m3/h) 187,2__185,2__185,2__182,3__182,3__181,5 C, (m/s) 0,005784 0,005459 0,005459 0,004758 0,005013 0,004746 CL (m/s) 0,05655 0,05438 0,05438 0,05118 0,05112 0,05032 ψ L,/C„) 0,1023 0,1004 0,1004 0,09300 0,09806 0,09433 CL tulva 0,05184 0,05220 0,05220 0,05370 0,05263 0/05342 CL suunn. 0,04147 0,4176 0,04176 0,04296 0,04213 0/04274
Tulva-% 80,02__76,41__76,41__69,91__71,21__69,1_ HETP__0,193__0,193__0,193__0,193__0,193__0,193
Korkeus 5,21 - 5,02 - 1,16 (m)
Jos verrataan kahta edellä olevaa taulukkoa, maksimi höyryn 5 nopeus, ts. höyryn nopeus tulvimistilanteessa on suurempi tislauskolonnissa, jota ajetaan esillä olevan keksinnön mukaisesti kuin aikaisemmassa tekniikassa vertailun tapahtuessa vaihe vaiheelta. Samoin HETP on pienempi esillä olevan keksinnön mukaisesti ajetussa tislauskolonnissa kuin aikai- • · • · · ί·ί J10 semman tekniikan kolonnissa tilauskolonnin jokaisessa osas- • · ·.**: sa. Kuten edellä mainittiin nämä edut voidaan toteuttaa joko *:'1· suurempana tuotantomääränä annetulla rakenteellisen täytteen *:**: tilavuudella tai rakenteellisen täytteen tilavuuden pienen- • tämisenä annetulla kolonnin suorituskyvyllä. Tässä yhteydes- • · · · 15 sä on sopivaa huomauttaa sarakkeiden "Cv suunnittelu" ja "tulva-%" sisältymisestä edellä oleviin taulukoihin. Nämä luvut annetaan, koska tislauskolonneja ei yleensä ajeta tul- • · · *... vimistilanteessa. Sen sijaan ne suunnitellaan ja niitä aje- • · '11 taan tulvimista lähestyvältä pohjalta, joka voi olla Cv-ar- *:**: 20 volla noin 80 % tulvimisesta. On myös mainittava, että ter- :***: mit "L" ja "V" ovat nesteen ja höyryn keskimääräisiä volu- • · · metrisiä virtausnopeuksia.
• · ·· · • V Olettaen kuvion 1 vaaditun suorituskyvyn seuraavaan tauluk koon on koottu rakenteellisen täytteen tilavuussäästöt, jot- ka ovat mahdollisia tislauskolonnissa 26, joka on suunnitel tu ajettavaksi esillä olevan keksinnön mukaisesti, verrattu na tislauskolonnin 26 ajoon aikaisemmalla teknikalla.
16
Aikaisempi Tämä 5 Laitekoot tekniikka keksintö
Kolonnin halkaisija (m) 0,55 0,47
Kolonnin pinta-ala (m2) 0,24 0,17 Täytteen korkeus (m) 11,39 7,64 Täytteen tilavuus (m3) 2,68 1,31 10 HETP (cm) 19,30 13,00
Aikaisempaan tekniikkaan verrattuna:
Kolonnin halkaisija 100 % 85,6 %
Poikkipinta-ala 100 % 73,4 % 15 Täytteen korkeus 100 % 67,0 % Täytteen tilavuus 100 % 48,8 %
Kuten edellä olevasta taulukosta voidaan nähdä karkeasti noin puolet siitä täytteestä tarvitsee käyttää kolonnissa, jota ajetaan ja joka on suunniteltu esillä olevan keksinnön 20 mukaisesti, mitä sama kolonni vaatii, kun sitä ajetaan ja se • · ϊ ί I on suunniteltu aikaisemman tekniikan mukaisesti, • · · · • · • · · • · · I Vaikka tätä keksintöä on kuvattu viitaten edulliseen toteu- • · . tusmuotoon, alaan perehtyneet ymmärtävät, että lukuisia li- • · · · · säyksiä, poistoja ja muutoksia voidaan tehdä poikkeamatta • · · : 25 esillä olevan keksinnön hengestä ja suojapiiristä.
• · · • · · • · · * · • · • ·· ··« • · • · i»· 1 · » ·« • · • · • · · « • · • · · • · · • · • ·

Claims (8)

1. Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi kryo- geenisesti tislauskolonnissa, jossa menetelmässä: 17 Patentt ivaatimukset muodostetaan mainittujen ilmakehän kaasujen mainitusta seok-5 sesta alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumai nen faasi tislauskolonnissa; saatetaan mainitun seoksen mainittu alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumainen faasi kosketukseen keskenään rakenteellisessa täytteessä, joka sisältyy tislausko-10 lonnin vähintään yhteen osaan, siten että mainittu alas las keutuva nestemäinen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun seoksen haihtumattomampien komponenttien suhteen, kun se laskeutuu mainitun rakenteellisen täytteen läpi samalla, kun mainittu kaasumainen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun 15 seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa mainitun rakenteellisen täytteen läpi, tunnettu siitä, että rakenteellinen täyte on valmistettu aaltopeltilevyistä, joi- j#: : den ominaispinta-ala on välillä 100-450 m2/m3 ja joiden vir- :\:'20 tauskanavat on suunnattu 45 asteen kulmaan; ja • · • · käytetään kolonnia niin, että mainitun osan paine on suurempi kuin noin 200 kPa, virtausparametri Ψ, joka on yhtä kuin • · • · · i.J ί CL/CV, jossa Cv on ylös kohoavan kaasumaisen faasin höyryn no- • · · ·.· · peus ja CL on alas laskeutuvan nestemäisen faasin nesteen no- 25 peus, on joko virtausparametrin alueella välillä 0,01-0,1 • · ; tai suurempi kuin 0,1 ja höyryn nopeus pienempi kuin on kriittisen höyryn nopeus, jossa tislauskolonnin mainittu osa • · « * . tulvii, ja suurempi kuin minimi höyryn nopeus, joka on yhtä kuin exp[-0,0485(ΙηΨ)2 - 0,595 ΙηΨ -3,176 - 0,00169a], jossa • · *»··* 30 A on rakenteellisen täytteen ominaispinta-ala, kun Ψ on mai- *:··; nitulla virtausparametrin alueella, ja yhtä kuin 0,054e"°'00169A Ψ'0'372 , kun Ψ on yli 0,1. • · 18
2. Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi kryo-geenisesti tislauskolonnissa, jossa menetelmässä: muodostetaan mainittujen ilmakehän kaasujen mainitusta seoksesta alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumai-5 nen faasi tislauskolonnissa; saatetaan mainitun seoksen mainittu alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumainen faasi kosketukseen keskenään rakenteellisessa täytteessä, joka sisältyy tislauskolonnin vähintään yhteen osaan, siten että mainittu alas las-10 keutuva nestemäinen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun seoksen haihtumattomampien komponenttien suhteen, kun se laskeutuu mainitun rakenteellisen täytteen läpi samalla, kun mainittu kaasumainen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa 15 mainitun rakenteellisen täytteen läpi, tunnettu siitä, että rakenteellinen täyte on valmistettu aaltopeltilevyistä, joiden ominaispinta-ala on välillä 450-1000 m2/m3 ja joiden vir-tauskanavat on suunnattu 45 asteen kulmaan; ja t # · -j • · · • · · • · « · :*\;20 käytetään kolonnia siten, että kyseisen vähintään yhden osan • · ····· paine on suurempi kuin noin 200 kPa, virtausparametri Ψ, jo- ka on yhtä kuin C./C , jossa C on ylös kohoavan kaasumaisen : .·. faasin höyryn nopeus ja CL on alas laskeutuvan nestemäisen • · · TI.* faasin nesteen nopeus, on joko virtausparametrin alueella • · · • · · * 25 välillä 0,01-0,1 tai suurempi kuin 0,1 ja höyryn nopeus on pienempi kuin kriittinen höyryn nopeus, jolla tislauskolon- • · • ’* nin mainittu osa tulvii, ja suurempi kuin minimi höyryn no- • * · peus, joka on yhtä kuin noin exp [-0,0485 (ΙηΨ)2 - 0,595 ΙηΨ - 3,748 - 0,000421 A], jossa A on mainitun rakenteelli- .·**. 3 0 sen täytteen ominaispinta-ala, kun Ψ on mainitulla virtaus- • · *** parametrin alueella, ja yhtä kuin noin 0,0305e'°'O0o421A *’ * ψ-0,372 ^ ψ on 0,1. • · · • · · • · • ·
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että: 19 mainitun rakenteellisen täytteen täytetiheys on noin 750 rn/m3; mainitun osan paine on noin 400 kPa; ja mainittu kriittinen höyryn nopeus on yhtä kuin 5 exp[-0,0485(ΙηΨ)2 - 0,595 ΙηΨ - 3,885], kun Ψ on mainitulla alueella, ja noin 0,0266 ψ"0,372 , kun Ψ on yli 0,1.
4. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että: mainitun rakenteellisen täytteen täytetiheys on noin 10 750 m2/m3; mainitun osan paine on noin 600 kPa; ja mainittu kriittinen höyryn nopeus on yhtä kuin exp[-0,0485(ΙηΨ)2 - 0,595 ΙηΨ -3,753], kun Ψ on mainitulla alueella, ja yhtä kuin noin 0,03033 ψ'0,372 , kun Ψ on yli 0,1.
5. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu sii tä, että: : mainitun rakenteellisen täytteen täytetiheys on noin • · · 9 750 m2/m3; • · ’ mainittu paine on välillä 350 - 750 kPa; ja • · |:*;20 mainitun seoksen mainittu nestemäinen ja kaasumainen faasi • · · · saatetaan kosketukseen keskenään mainitun rakenteellisen • · · täytteen korkeuden läpi tislauskolonnin mainitussa osassa · siten, että mainittu nestemäinen ja kaasumainen faasi sisäl- • · · tävät samassa järjestyksessä mainitun seoksen haihtumatto- • · *"* 25 mampia ja haihtuvampia komponentteja ennalta määrätyt väke- *:*·: vyydet ja rakenteellisen täytteen mainittu korkeus metreissä :***: on yhtä kuin n [0,181 - 0,00864P], jossa n on niiden teoreet- • · · j . tisten vaiheiden lukumäärä, jotka vaaditaan tuottamaan mai- • · .. . nittujen haihtumattomampien ja haihtuvampien komponenttien • · · • ·* 30 mainitut ennalta määrätyt väkevyydet, ja P on mainittu pai ne . 20
6. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että: mainitun rakenteellisen täytteen täytetiheys on noin 750 m2/m3; 5 mainittu paine on välillä 750-2000 kPa; ja mainitun seoksen mainittu nestemäinen ja kaasumainen faasi saatetaan kosketukseen keskenään mainitun rakenteellisen täytteen korkeuden läpi tislauskolonnin mainitussa osassa siten, että mainittu nestemäinen ja kaasumainen faasi sisäl-10 tävät samassa järjestyksessä mainitun seoksen haihtumatto- mampia ja haihtuvampia komponentteja ennalta määrätyt väkevyydet ja rakenteellisen täytteen mainittu korkeus metreissä on yhtä kuin tulo, jonka muodostavat niiden teoreettisten vaiheiden lukumäärä, jotka vaaditaan tuottamaan mainittujen 15 haihtumattomampien ja haihtuvampien komponenttien mainitut ennalta määrätyt väkevyydet, ja luku 0,116.
7. Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi kryo-geenisesti tislauskonnissa, jossa menetelmässä: • · •Jj muodostetaan mainittujen ilmakehän kaasujen mainitusta seok- 20 sesta alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumai- • · ·;··· nen faasi mainitussa tislauskolonnissa; saatetaan mainitun seoksen mainittu alas laskeutuva neste- • · • · · ί·ϊ · mäinen ja ylös kohoava kaasumainen faasi kosketukseen keske- • · · ·.· 1 nään rakenteellisessa täytteessä, joka sisältyy tislausko- 25 lonnin vähintään yhteen osaan, siten että mainittu alas las- : ·.. keutuva nestemäinen faasi tulee yhä väkevämmäksi mainitun :***: seoksen haihtumattomampien komponenttien suhteen, kun se • · · * . laskeutuu mainitun rakenteellisen täytteen läpi samalla, kun • · mainittu kaasumainen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun • · *···1 30 seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa ·;·1: mainitun rakenteellisen täytteen läpi, • · · • · · • · ’ tunnettu siitä, että 21 rakenteellinen täyte on valmistettu aaltopeltilevyistä, joiden ominaispinta-ala on välillä 170-250 m2/m3 ja joiden vir-tauskanavat on suunnattu 30 asteen kulmaan; ja käytetään kolonnia niin, että kyseisen osan paine on suurem-5 pi kuin noin 200 kPa, virtausparametri Ψ, joka on yhtä kuin Cl/Cv, jossa Cv on ylös kohoavan kaasumaisen faasin höyryn nopeus ja CL on alas laskeutuvan nestemäisen faasin nesteen nopeus, on joko virtausparametrin alueella välillä 0,01-0,1 tai suurempi kuin 0,1 ja höyryn nopeus on pienempi kuin 10 kriittinen höyryn nopeus, jolla tislauskolonnin mainittu osa tulvii, ja suurempi kuin minimi höyryn nopeus, joka on yhtä kuin noin exp[-0,0485 (ΙηΨ)2 - 0,595 ΙηΨ - 2,788-0,00236A], jossa A on mainittu rakenteellisen täytteen ominaispinta-ala, kun Ψ on mainitulla virtausparametrin alueella, ja on 15 yhtä kuin noin 0,0796e~°'00236A Ψ~0,372 , kun ψ on yli 0,1.
8. Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi kryo-geenisesti tislauskolonnissa, jossa menetelmässä: muodostetaan mainittujen ilmakehän kaasujen mainitusta seoksesta alas laskeutuva nestemäinen ja ylös kohoava kaasumai- • · 20 nen faasi tislauskolonnissa; • · · • · · «·· · • · saatetaan mainitun seoksen mainittu alas laskeutuva neste-*ϊ**ί mäinen ja ylös kohoava kaasumainen faasi kosketukseen keske- *:*·: nään rakenteellisessa täytteessä, joka sisältyy tislausko- • lonnin vähintään yhteen osaan, siten että mainittu alas las- • · · t 25 keutuva nestemäinen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun • · · seoksen haihtumattomampien komponenttien suhteen, kun se laskeutuu mainitun rakenteellisen täytteen läpi samalla, kun • ·« *... mainittu kaasumainen faasi muuttuu yhä väkevämmäksi mainitun • · ···’ seoksen haihtuvampien komponenttien suhteen, kun se kohoaa ·:**: 30 mainitun rakenteellisen täytteen läpi, ·· · • · • · T* tunnettu siitä, että 9 9 9 rakenteellinen täyte on valmistettu aaltopeltilevyistä, joi- • · den ominaispinta-ala on välillä 250-1000 m2/m3 ja joiden vir-tauskanavat on suunnattu 30 asteen kulmaan; ja 22 käytetään kolonnia niin, että kyseisen vähintään yhden osan paine on suurempi kuin noin 200 kPa, virtausparametri Ψ, joka on yhtä kuin CL/Cv, jossa Cv on ylös kohoavan kaasumaisen faasin höyryn nopeus ja CL on alas laskeutuvan nestemäisen 5 faasin nesteen nopeus, on joko virtausparametrin alueella välillä 0,01-0,1 tai suurempi kuin 0,1 ja höyryn nopeus on pienempi kuin kriittinen höyryn nopeus, jolla tislauskolonnin mainittu osa tulvii, ja suurempi kuin minimi höyryn nopeus, joka on yhtä kuin noin exp[-0,0485 (ΙηΨ)2 - 0,595 10 ΙηΨ - 3,156 - 0,000893A], jossa A on mainitun rakenteellisen täytteen ominaispinta-ala, kun Ψ on mainitulla alueella, ja noin 0,05515e"°'000893A Ψ"0'372 , kun Ψ on yli 0,1.
FI951125A 1994-03-11 1995-03-10 Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi FI120014B (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US20985194 1994-03-11
US08/209,851 US5396772A (en) 1994-03-11 1994-03-11 Atmospheric gas separation method

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI951125A0 FI951125A0 (fi) 1995-03-10
FI951125A FI951125A (fi) 1995-09-12
FI120014B true FI120014B (fi) 2009-05-29

Family

ID=22780578

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI951125A FI120014B (fi) 1994-03-11 1995-03-10 Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi

Country Status (17)

Country Link
US (1) US5396772A (fi)
EP (1) EP0671594B2 (fi)
JP (1) JP3678787B2 (fi)
CN (1) CN1103040C (fi)
AU (1) AU679600B2 (fi)
CA (1) CA2140561C (fi)
CZ (4) CZ286223B6 (fi)
DE (1) DE69515068T3 (fi)
ES (1) ES2144571T5 (fi)
FI (1) FI120014B (fi)
HU (1) HU214052B (fi)
MY (1) MY114260A (fi)
NO (1) NO307905B1 (fi)
PL (1) PL180037B1 (fi)
SK (1) SK282908B6 (fi)
TW (1) TW262392B (fi)
ZA (1) ZA951191B (fi)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9412182D0 (en) * 1994-06-17 1994-08-10 Boc Group Plc Air separation
US5507148A (en) * 1994-10-25 1996-04-16 The Boc Group, Inc. Air separation method and apparatus to produce nitrogen
IL115348A (en) * 1994-10-25 1999-11-30 Boc Group Inc Method and apparatus for air separation to produce nitrogen
US5560763A (en) * 1995-05-24 1996-10-01 The Boc Group, Inc. Integrated air separation process
US5582034A (en) * 1995-11-07 1996-12-10 The Boc Group, Inc. Air separation method and apparatus for producing nitrogen
JPH09264667A (ja) * 1996-03-27 1997-10-07 Teisan Kk 超高純度窒素及び酸素の製造装置
GB9623519D0 (en) * 1996-11-11 1997-01-08 Boc Group Plc Air separation
US5901576A (en) * 1998-01-22 1999-05-11 Air Products And Chemicals, Inc. Single expander and a cold compressor process to produce oxygen
US5956974A (en) * 1998-01-22 1999-09-28 Air Products And Chemicals, Inc. Multiple expander process to produce oxygen
US5907959A (en) * 1998-01-22 1999-06-01 Air Products And Chemicals, Inc. Air separation process using warm and cold expanders
US5934106A (en) * 1998-01-27 1999-08-10 The Boc Group, Inc. Apparatus and method for producing nitrogen
US6128922A (en) * 1999-05-21 2000-10-10 The Boc Group, Inc. Distillation method and column
US6279345B1 (en) 2000-05-18 2001-08-28 Praxair Technology, Inc. Cryogenic air separation system with split kettle recycle
GB0119500D0 (en) * 2001-08-09 2001-10-03 Boc Group Inc Nitrogen generation
FR2875588B1 (fr) * 2004-09-21 2007-04-27 Air Liquide Procede de separation d'air par distillation cryogenique
JP4515225B2 (ja) * 2004-11-08 2010-07-28 大陽日酸株式会社 窒素製造方法及び装置
FR2911391A1 (fr) * 2007-01-16 2008-07-18 Air Liquide Procede de separation utilisant une colonne a garnissage structure ondule-croise pour la separation d'un melange de gaz et colonne adaptee a etre utilisee pour le procede
EP2313724A2 (de) * 2008-08-14 2011-04-27 Linde Aktiengesellschaft Verfahren und vorrichtung zur tieftemperaturzerlegung von luft
US20150168056A1 (en) * 2013-12-17 2015-06-18 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method For Producing Pressurized Gaseous Oxygen Through The Cryogenic Separation Of Air
CN106076240B (zh) * 2016-07-13 2018-06-26 盐城工学院 一种生物滴滤塔用的流线型孔道的脉冲填料

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836836A (en) * 1987-12-14 1989-06-06 Air Products And Chemicals, Inc. Separating argon/oxygen mixtures using a structured packing
US4871382A (en) * 1987-12-14 1989-10-03 Air Products And Chemicals, Inc. Air separation process using packed columns for oxygen and argon recovery
US4838913A (en) * 1988-02-10 1989-06-13 Union Carbide Corporation Double column air separation process with hybrid upper column
DE3840506A1 (de) * 1988-12-01 1990-06-07 Linde Ag Verfahren und vorrichtung zur luftzerlegung
US5019144A (en) * 1990-01-23 1991-05-28 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Cryogenic air separation system with hybrid argon column
US4994098A (en) * 1990-02-02 1991-02-19 Air Products And Chemicals, Inc. Production of oxygen-lean argon from air
US5076823A (en) * 1990-03-20 1991-12-31 Air Products And Chemicals, Inc. Process for cryogenic air separation
US5077978A (en) * 1990-06-12 1992-01-07 Air Products And Chemicals, Inc. Cryogenic process for the separation of air to produce moderate pressure nitrogen
US5049174A (en) * 1990-06-18 1991-09-17 Air Products And Chemicals, Inc. Hybrid membrane - cryogenic generation of argon concurrently with nitrogen
US5108476A (en) * 1990-06-27 1992-04-28 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Cryogenic air separation system with dual temperature feed turboexpansion
US5148680A (en) * 1990-06-27 1992-09-22 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Cryogenic air separation system with dual product side condenser
US5098456A (en) * 1990-06-27 1992-03-24 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Cryogenic air separation system with dual feed air side condensers
US5100448A (en) * 1990-07-20 1992-03-31 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Variable density structured packing cryogenic distillation system
EP0664144A2 (fr) * 1990-12-17 1995-07-26 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Colonne de distillation d'air à garnissage ondulé-croisé
US5132056A (en) * 1991-05-28 1992-07-21 Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation Structured column packing with improved turndown and method
US5289688A (en) * 1991-11-15 1994-03-01 Air Products And Chemicals, Inc. Inter-column heat integration for multi-column distillation system
US5197296A (en) * 1992-01-21 1993-03-30 Praxair Technology, Inc. Cryogenic rectification system for producing elevated pressure product
DE4209132A1 (de) * 1992-03-20 1993-09-23 Linde Ag Luftzerlegungsanlage und verfahren zur tieftemperaturzerlegung von luft
US5237823A (en) * 1992-03-31 1993-08-24 Praxair Technology, Inc. Cryogenic air separation using random packing
US5311744A (en) * 1992-12-16 1994-05-17 The Boc Group, Inc. Cryogenic air separation process and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
HU9500640D0 (en) 1995-04-28
CZ61295A3 (en) 1995-11-15
JPH07270065A (ja) 1995-10-20
EP0671594A1 (en) 1995-09-13
CZ286223B6 (cs) 2000-02-16
DE69515068T2 (de) 2000-10-12
ZA951191B (en) 1996-01-10
TW262392B (fi) 1995-11-11
DE69515068D1 (de) 2000-03-23
NO307905B1 (no) 2000-06-13
DE69515068T3 (de) 2007-05-10
CN1109965A (zh) 1995-10-11
FI951125A (fi) 1995-09-12
NO950383D0 (no) 1995-02-02
US5396772A (en) 1995-03-14
AU679600B2 (en) 1997-07-03
EP0671594B1 (en) 2000-02-16
AU1228195A (en) 1995-09-21
CA2140561A1 (en) 1995-09-12
CA2140561C (en) 1997-10-14
HU214052B (en) 1997-12-29
PL180037B1 (pl) 2000-12-29
CZ286246B6 (cs) 2000-02-16
NO950383L (no) 1995-09-12
ES2144571T3 (es) 2000-06-16
FI951125A0 (fi) 1995-03-10
SK32195A3 (en) 1996-02-07
CZ286287B6 (cs) 2000-03-15
MY114260A (en) 2002-09-30
CN1103040C (zh) 2003-03-12
JP3678787B2 (ja) 2005-08-03
SK282908B6 (sk) 2003-01-09
EP0671594B2 (en) 2007-01-10
PL307631A1 (en) 1995-09-18
CZ286306B6 (cs) 2000-03-15
HUT70368A (en) 1995-10-30
ES2144571T5 (es) 2007-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI120014B (fi) Menetelmä ilmakehän kaasujen seoksen erottamiseksi
CN1134639C (zh) 低温精馏塔操作方法
CA2129917C (en) Distillation column utilizing structured packing having varying crimp angle
JPH01312382A (ja) 酸素及びアルゴン回収用の充てん塔を用いた空気分離プロセス
CN1119609C (zh) 共同产氧的多塔氮发生器
KR960003270B1 (ko) 증가된 압력으로 생성기체를 제조하기 위한 저온공기분리시스템
CN1121173A (zh) 空气分离
KR900007209B1 (ko) 보조 컬럼을 추진력으로 하는 혼성 질소 발생기
CN1116293A (zh) 生产高压氧气的空气沸腾低温精馏系统
KR100407184B1 (ko) 초고순도 질소 및 초고순도 산소를 제조하기 위한 극저온 정류 시스템
US8555673B2 (en) Method and device for separating a mixture of at least hydrogen, nitrogen, and carbon monoxide by cryogenic distillation
CN102985775A (zh) 氧气产生方法和设备
CN1084870C (zh) 分离空气的方法和设备
KR100502254B1 (ko) 감소된 높이의 증류 칼럼용 구조적 충전 시스템
CN1123752C (zh) 用于生产高压氧的低温精馏系统
CN108351164B (zh) 填充塔
KR100288569B1 (ko) 저순도 산소를 제조하기 위한 단일 칼럼 극저온 정류 시스템
CN103363779A (zh) 用于低温空气分离设备的分离塔、低温空气分离设备和用于空气的低温分离的方法
US20100107688A1 (en) Separation Method Using A Column With A Corrugated Cross Structure Packing For Separating A Gaseous Mixture
KR960003274B1 (ko) 혼성아르곤컬럼을 갖는 저온공기분리시스템
CA2337325A1 (en) Cryogenic reflux condenser system for producing oxygen-enriched air
CN115968317A (zh) 稳定同位素浓缩装置
JPH07318239A (ja) 精留塔

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 120014

Country of ref document: FI

MM Patent lapsed