ES2347440T3 - Sustrato, particularmente sustrato de vidrio, que tiene una capa con propiedades fotocataliticas revestida de una capa protectora delgada. - Google Patents
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Abstract
Estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), revestida con una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO2, caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO2, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en forma anatasa de la capa superior a base de TiO2.
Description
Sustrato, particularmente sustrato de vidrio,
que tiene una capa con propiedades fotocatalíticas revestida de una
capa protectora delgada.
La presente invención se refiere a sustratos
tales como sustratos de vidrio, de material vitrocerámico o de
material plástico a los que se ha proporcionado un revestimiento con
propiedades fotocatalíticas para conferirles una función denominada
antimanchas o antisuciedad o de autolimpieza.
Una aplicación importante de estos sustratos
tiene que ver con acristalamientos, que pueden ser para aplicaciones
muy diversas, desde acristalamientos funcionales a los
acristalamientos utilizados en los electrodomésticos, desde
cristales para vehículos a acristalamientos para edificios.
Asimismo, se aplica también a los cristales
reflectantes de tipo espejo (espejos para viviendas o retrovisores
de vehículos) y a los cristales opacificados de tipo aligerado.
De forma similar, la invención se aplica también
a sustratos no transparentes, como sustratos cerámicos o cualquier
otro sustrato que puede, en especial, utilizarse como material
arquitectónico (metal, baldosas de alicatado,...). Preferentemente
se aplica, con independencia de la naturaleza del sustrato, a
sustratos sensiblemente planos o ligeramente abombados.
Los revestimientos fotocatalíticos ya han sido
estudiados, en especial aquellos basados en óxido de titanio
cristalizado en forma de anatasa. Su capacidad de degradar la
suciedad y las manchas de origen orgánico o los microorganismos
bajo el efecto de la radiación UV es muy interesante. A menudo,
tienen también un carácter hidrófilo, que permite la evacuación de
la suciedad de origen mineral por proyecciión de agua o, para los
cristales exteriores, por la lluvia.
Este tipo de revestimiento con propiedades
antisuciedad, bactericidas, alguicidas, ya ha sido descrito, en
especial en el documento de la patente WO 97/10186, que describe
varios modos de obtención del mismo.
Si no está protegida, la capa con propiedades
fotocatalíticas sufre, con el transcurso del tiempo, un desgaste
que se manifiesta por una pérdida de su actividad, una pérdida de
las cualidades ópticas de la estructura (aparición de un halo
borroso, de una coloración), incluso por una deslaminación de la
capa.
Si se disminuye el espesor de la capa con
propiedades fotocatalícas, la coloración que puede aparecer cuando
se altere parcialmente esta última será menos intensa y la variación
de color será menor a lo largo del tiempo. Sin embargo, esta
disminución del espesor será en detrimento del rendimiento de la
capa.
Por lo tanto, es necesario asegurar una
protección mecánica y química de la capa, debiendo ser fina la capa
protectora, a fin de que la capa con propiedades fotocatalíticas
conserve plenamente su función.
Por el documento de la solicitud de patente
europea EP-A-0 820 967 se conoce un
elemento anti-vaho que comprende un sustrato
transparente, una película transparente de un fotocatalizador
formada sobre el sustrato transparente y una película de óxido
mineral poroso transparente formada sobre la película de
fotocatalizador y que tiene una superficie que presenta propiedades
hidrófilas.
Asimismo, por el documento de la patente
japonesa JP 2002 047 032 se conoce un procedimiento de fabricación
de un sustrato revestido con una membrana fotocatalítica que
comprende las etapas que sonsisten en extender nanopartículas de
TiO_{2} de estructura cristalina de anatasa y de
5-10 nm con ayuda de una pistola de pulverización y
calentar y depositar por pulverización catódica una membrana de
SiO_{2} que recubre las partículas de TiO_{2}.
Ninguna de estas estructuras resulta
satisfactoria; la primera, debido a la naturaleza porosa del
revestimiento protector, el cual, debido a la presencia de los
poros, no asegura una protección suficiente de la capa con
propiedades catalíticas y la segunda, debido a una tasa insuficiente
de material fotocatalítico, el cual no forma una capa continua.
La solicitud JP 2000-289134
describe una estructura que comprende una capa de TiO_{2}
fotocatalítica recubierta por una capa que comprende partículas de
óxido metálico hidrófilo en un ligante de óxido metálico hidrófilo.
Esta capa es porosa o presenta una estructura en islotes.
También se conoce a partir de la solicitud EP 1
074 525 una estructura que comprende una capa fotocatalítica de
TiO_{2} rematada por una capa hidrófila de SiO_{2} de 10 nm de
espesor.
En primer lugar, la invención tiene por objeto
una estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos
una parte de su superficie, una capa con propiedades
fotocatalíticas, anti-suciedad, a base de dióxido
de titanio (TiO_{2}), caracterizada porque dicha capa con
propiedades fotocatalíticas está revestida por una capa delgada que
contiene silicio y oxígeno, con poder cubriente, no porosa, apta
para asegurar una protección mecánica y química de la capa
fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica
del TiO_{2}. La estructura según la presente invención se
caracteriza porque tiene, inmediatamente por debajo de la capa a
base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura
cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización
por crecimiento heteroepitaxial en la forma anatasa de la capa
superior a base de TiO_{2}, constituida en especial por
ATiO_{3}, designando A bario o estroncio.
Las condiciones de preparación de la capa a base
de dióxido de titanio, tales como la naturaleza y pureza de los
productos de partida, el eventual disolvente, el tratamiento
térmico,...se deberán adaptar de manera conocida con vistas a la
obtención de las propiedades fotocatalíticas y antisuciedad.
Preferentemente, dicha capa delgada que contiene
silicio y oxígeno está presente en forma de una película continua.
En particular, dicha capa delgada se presenta, de manera ventajosa,
en forma de una película que se adapta a las rugosidades de la
superficie de la capa con propiedades fotocatalíticas
subyacente.
La capa delgada que contiene silicio y oxígeno
es, en especial, una capa de al menos un compuesto de silicio y de
oxígeno escogido entre SiO_{2}, SiOC, SiON, SiOx con x<2 y
SiOCH, siendo especialmente preferido el SiO_{2}.
Según una variante interesante de la estructura
según la presente invención, la capa delgada que contiene silicio y
oxígeno, es una capa de al menos un compuesto de silicio y de
oxígeno al cual está asociado al menos un compuesto escogido entre
Al_{2}O_{3} y ZrO_{2}, aportando tal compuesto inercia química
y reforzando la resistencia a la hidrólisis. Se puede subrayar el
papel del Al_{2}O_{3}, conocido óxido inerte que aumenta la
resistencia química del conjunto.
La relación atómica (Al y/o Zr)/Si no es
generalmente superior a 1, estando comprendida la proporción Al/Si
de forma ventajosa entre 0,03 y 0,5, en particular entre 0,05 y 0,1
y la relación Zr/Si, entre 0,05 y 0,4.
La capa delgada que contiene silicio y oxígeno
puede tener un espesor de como máximo 15 nm, en especial de como
máximo 10 nm, en particular de como máximo 8 nm, siendo,
preferentemente de como máximo 5 nm y en particular de 2 a 3
nm.
Dicha cada delgada aporta un efecto lubricante y
tiene un papel mecánico. Mejora la resistencia al rayado y a la
abrasión.
Esta mayor resistencia mecánica y esta mejor
resistencia química no se obtienen, sin embargo, en detrimento de
una disminución de la actividad fotocatalítica. En efecto, si bien
se podría esperar que la actividad catalítica de la capa a base de
TiO_{2} obtenida finalmente disminuyera debido al enmascaramiento
de ella por la sobrecapa de SiO_{2}, esta actividad
fotocatalítica se conserva e incluso mejora; en efecto, la
suciedad, diluida en una película uniforme de SiO_{2} debido al
carácter hidrófilo de este último, es destruida más fácilmente por
el TiO_{2}.
La capa a base de dióxido de titanio está
constituida por TiO_{2} solo o por TiO_{2} dopado con al menos
un dopante escogido en especial entre N; cationes pentavalentes
como Nb, Ta, V; Fe y Zr. Esta capa a base de TiO_{2} puede
haber sido depositada por un procedimiento sol-gel o
por un procedimiento de pirólisis en especial en fase gaseosa, o
por pulverización catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, si
es necesario asistida por campo magnético y/o por haz de iones, con
utilización de un blanco metálico o de TiO_{x} con x<2 y de
una atmósfera oxidante, o con utilización de un blanco de TiO_{2}
y de una atmósfera inerte, pudiendo haber sido sometido el
TiO_{2} producido por la pulverización catódica a continuación
sometido a un tratamiento térmico con el fin de presentarse en
estado cristalizado en una forma fotocatalíticamente activa.
La capa delgada que contiene silicio y oxígeno
ha sido depositada, en particular, por pulverización catódica, a
temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por
campo magnético y/o por haz de iones, con utilización de un blanco
de Si dopado con Al (8% atómico) bajo atmósfera de Ar + O_{2} a
una presión de 0,2 Pa.
La estructura según la presente invención tiene,
inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO_{2}, una
subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido
una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial
en la forma anatasa de la capa superior a base de TiO_{2},
especialmente constituida por ATiO_{3}, designando A bario o
estroncio. El espesor de esta subcapa no es crítico; puede estar
comprendido, por ejemplo, entre 10 nm y
100 nm.
100 nm.
El sustrato está constituido, por ejemplo, por
una placa, plana o de caras curvas o combadas, de vidrio monolítico
o laminado, de material vitrocerámico o de un material termoplástico
duro, tal como el policarbonato, o incluso por fibras de vidrio o
de vitrocerámica, habiendo recibido dichas placas o dichas fibras,
si es necesario, al menos otra capa funcional antes de la
aplicación de la capa a base de TiO_{2} o de una capa de
asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial de
esta última. (En el caso de más de una capa, se puede hablar
también de apilamiento o de
capas).
capas).
Las aplicaciones de las placas se han recordado
previamente. En cuanto a las fibras, se puede citar su aplicación
en la filtración del aire o del agua, así como aplicaciones
bactericidas.
La otra o las otras capas funcionales se escogen
entre capas con funcionalidad óptica, capas de control térmico,
capas conductoras, así como, en el caso en que el sustrato sea de
vidrio o de material vitrocerámico, capas que hacen barrera a la
migración de los alcalinos del vidrio o del material
vitrocerámico.
Las capas con funcionalidad óptica son, en
especial, capas antireflejo, de filtración de los rayos luminosos,
de coloración, difusora, etc. Se pueden citar capas de SiO_{2},
Si_{3}N_{4}, TiO_{2}, SnO_{2}, ZnO.
Las capas de control térmico son, en especial,
capas de control solar o capas denominadas de baja emisividad.
Las capas conductoras son, en especial, capas
calefactoras, de antena o antiestáticas; entre estas capas se
pueden contar las redes de hilos conductores.
En el caso en que el sustrato sea de vidrio o de
material vitrocerámico, se puede disponer al menos una capa
funcional que hace barrera a los alcalinos del vidrio o del material
vitrocerámico por debajo de la subcapa de asistencia a la
cristalización de la capa con propiedades fotocatalíticas.
Las otras capas funcionales (con funcionalidad
óptica, de control térmico, capas conductoras) se encuentran,
cuando están presentes, por encima de la capa o de las capas de
barrera.
La migración de los alcalinos es susceptible de
resultar de la aplicación de temperaturas que sobrepasen los 600ºC.
Se conocen tales capas que forman barrera a los alcalinos durante
los tratamientos térmicos ulteriores y pueden citarse capas de
SiO_{2}, SiOC, SiO_{x}N_{y}, Si_{3}N_{4}, de espesor por
ejemplo de al menos 5 o 10 nm, en numerosos casos de al menos 50
nm, como se describe en el documento de la solicitud internacional
PCT WO 02/24971.
Como ejemplo, se pueden mencionar sustratos de
vidrio o de material vitrocerámico, en especial de tipo placas, que
han recibido una capa que hace barrera a la migración de los
alcalinos del vidrio o del material vitrocerámico y luego una mono,
bi o tricapa con funcionalidad óptica.
La presente invención tiene también por objeto
un procedimiento de fabricación de una estructura tal como la
definida previamente, según la reivindicación 16.
En particular, se efectúa sucesivamente el
depósito de una capa de TiO_{2} y el de la capa delgada que
contiene silicio y oxígeno a temperatura ambiente, por
pulverización catódica bajo vacío, asistida, si es preciso, por
campo magnético y/o haz de iones, en el mismo recinto, siendo las
condiciones las siguientes:
- para el depósito de la capa a base de
TiO_{2}, alimentación en modo de corriente continua o de corriente
alterna bajo una presión de 1-3 mbar y bajo
atmósfera de oxígeno + gas inerte (argón), a partir de un blanco de
Ti o TiO_{x}, con x = 1,5 a 2;
- pare el depósito de la capa que contiene
silicio y oxígeno, una alimentación en modo de corriente alterna
bajo una presión de 0,1 a 1 Pa y una atmósfera de Ar + O_{2} a
partir de un blanco con fuerte contenido de silicio, siendo
precedido el depósito de la capa de TiO_{2} por el depósito de
una subcapa de asistencia a la cristalización por crecimiento
epitaxial en la forma anatasa de la capa de TiO_{2}.
Las condiciones de un depósito de una capa que
contiene silicio y oxígeno que no es porosa son conocidas por el
persona del oficio, siendo, en especial, condiciones de baja presión
y de fuerte potencia (diagrama de Thornton).
En el caso en el que se realiza el revestimiento
de un sustrato de vidrio o de material vitrocerámico, se puede
prever que antes de la aplicación de la subcapa asociada a la capa
de TiO_{2}, se deposita sobre el sustrato al menos una capa que
forma barrera a la migración de los alcalinos presentes en el vidrio
o en el material vitrocerámico, pudiendo entonces llevarse a cabo
un recocido o un templado que se puede entonces efectuar después
del depósito de la capa de TiO_{2} y de la capa delgada a base de
silicio que la recubre a una temperatura comprendida entre 250ºC y
550ºC, preferentemente entre 350ºC y 500ºC para el recocido y a una
temperatura de al menos 600ºC para el templado.
Asimismo, se puede prever según la invención que
después de la aplicación eventual de al menos una capa que forma
barrera a la migración de los alcalinos y que antes de la aplicación
de la subcapa asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita al menos
una capa funcional escogida entre capas con funcionalidad óptica,
capas de control térmico y capas conductoras, siendo depositadas,
de manera ventajosa dichas capas funcionales por pulverización
catódica, bajo vacío, asistido, llegado el caso, por campo magnético
y/o haz de iones.
La presente invención trata también de un
acristalamiento simple o múltiple en particular para el automóvil o
la construcción que comprende, sobre al menos una cara, una
estructura según la invención tal como la definida previamente,
estando en especial dicha cara hacia el exterior, pero pudiendo
también estar orientada hacia el interior.
Las caras de estos acristalamientos que no
presentan la estructura de la presente invención pueden tener al
menos otra capa funcional.
Tales acristalamientos encuentran aplicación
como: acristalamientos "autolimpiantes", principalmente
anti-vaho, antimanchas y
anti-condensación, principalmente para los edificios
de tipo doble acristalamiento; acristalamiento para vehículos de
tipo parabrisas, luneta trasera, ventanas laterales del automóvil;
retrovisores; acristalamiento para trenes, aviones, barcos;
acristalamiento utilitario tal como vidrio de acuario, de
escaparates, de invernaderos, de mobiliario interior, de mobiliario
urbano, (marquesinas para autobuses, paneles publicitarios,...), de
espejos, de pantallas de sistemas de visualización de tipo
ordenador, televisión o teléfono; acristalamiento con control
electrónico tal como acristalamiento electrocrómico, con cristales
líquidos, electroluminiscente, acristalamiento fotovoltaico.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplos 1a y 1b (fuera de la
invención)
Sobre una placa de vidrio de un espesor de 4 mm,
se ha efectuado el depósito de las siguientes capas sucesivas:
- una subcapa de SiO_{2} dopada con Al de 150
nm de espesor;
- una capa de TiO_{2} de 100 nm de espesor
(Ejemplo 1a) o de 20 nm de espesor (Ejemplo 1b); y
- una sobrecapa de SiO_{2} dopada con Al de 2
nm de espesor.
La subcapa de SiO_{2}:Al se deposita a partir
de un blanco Si:Al (8% atómico de aluminio) con una potencia de
2000 W, con los caudales gaseosos siguientes: 15 centímetros
cúbicos normales por minuto (sccm, por sus siglas en inglés) Ar y
15 sccm O_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3} mbar.
La capa de TiO_{2} se deposita a partir de un
blanco TiO_{x} con una potencia de 2000 W, con los siguientes
caudales gaseosos: 200 sccm Ar y 2 sccm O_{2} y bajo una presión
de 23 x 10^{-3} mbar.
La sobrecapa de SiO_{2}:Al se deposita a
partir de un blanco Si:Al (8% atómico de aluminio) con una potencia
de 1000 W, con los caudales gaseosos siguientes: 15 sccm Ar y 15
sccm O_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3} mbar.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplos 2a y 2b
(comparativos)
Se han fabricado los mismos apilamientos que en
los ejemplos 1a y 1b, excepto que se ha omitido la sobrecapa de
SiO_{2}:Al.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo 3
(comparativo)
Se ha fabricado el mismo apilamiento que en el
ejemplo 1a, excepto que en lugar de la sobrecapa de SiO_{2}:Al,
se ha depositado una sobrecapa de Si_{3}N_{4}:Al de un espesor
igualmente de 2 nm a partir de un blanco Si:Al (8% atómico de Al)
con una potencia de 1000 W, con los siguientes caudales gaseosos:
18 sccm Ar y 12 sccm N_{2} y bajo una presión de 2 x 10^{-3}
mbar.
\vskip1.000000\baselineskip
Ejemplo
4
Se ha observado una fuerte mejora de la
resistencia al ensayo Opel (frotamiento en seco de la superficie del
apilamiento con ayuda de un tampón de fieltro) cuando se pasa del
apilamiento del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 1a.
No se observa ningún cambio cuando se pasa del
apilamiento del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 3.
Además, antes y después del ensayo Opel
previamente mencionado, se ha evaluado la actividad fotocatalítica
de la capa de TiO_{2} de cada uno de los apilamientos de los
ejemplos 1a, 2a y 3, según el test de fotodegradación del ácido
esteárico, seguido por transmisión infrarroja, descrito en la
solicitud internacional PCT WO 00/75087.
Los resultados se muestran juntos en la tabla I.
En esta tabla también figuran la variación colorimétrica en
reflexión por el lado de la capa debida al ensayo Opel ()E), el halo
borroso ("flou") inducido por el ensayo Opel y la observación
de la capa en cuanto a su deslaminación después del ensayo Opel.
\vskip1.000000\baselineskip
Se ha observado una mejora de la resistencia al
ensayo Taber (resistencia a la abrasión = resistencia al paso de
una muela abrasiva) cuando se pasa del apilamiento del ejemplo 2b al
apilamiento del ejemplo 1b.
La capa del ejemplo 2b se deslamina después de
500 pasadas en el test Taber. Para el apilamiento del ejemplo 1b,
se observa 0,8% de halo borroso después de 200 pasadas en el test
Taber y 2% de halo borroso después de 500 pasadas en el test
Taber.
\vskip1.000000\baselineskip
Se ha observado una mejora de la resistencia al
ensayo BSN (niebla salina neutra) cuando se pasa del apilamiento
del ejemplo 2a al apilamiento del ejemplo 1a.
Claims (20)
1. Estructura que comprende un sustrato que
lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con
propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de
titanio (TiO_{2}), revestida con una capa delgada que contiene
silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar
una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica
subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO_{2},
caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de
la capa a base de TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura
cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización
por crecimiento heteroepitaxial en forma anatasa de la capa
superior a base de TiO_{2}.
2. Estructura según la reivindicación 1,
caracterizada porque dicha subcapa está constituida por
ATiO_{3}, donde A designa bario o estroncio.
3. Estructura según las reivindicaciones 1 o 2,
caracterizada porque dicha capa delgada que contiene silicio
y oxígeno está presente en forma de película continua.
4. Estructura según las reivindicaciones 1 a 3,
caracterizada porque dicha capa delgada que contiene silicio
y oxígeno se presenta en forma de una película que se adapta a las
rugosidades de la superficie de la capa con propiedades
fotocatalíticas subyacente.
5. Estructura según una de las reivindicaciones
1 a 4, caracterizada porque la capa delgada que contiene
silicio y oxígeno es una capa de al menos un compuesto de silicio y
de oxígeno escogido entre SiO_{2}, SiOC, SiON, SiO_{x} con
x<2 y SiOCH.
6. Estructura según una de las reivindicaciones
1 a 5, caracterizada porque la capa delgada que contiene
silicio y oxígeno es una capa de al menos un compuesto de silicio y
de oxígeno a la cual está asociado al menos un compuesto escogido
entre_{ }Al_{2}O_{3} y ZrO_{2}.
7. Estructura según la reivindicación 6,
caracterizada porque la relación atómica (Al y/o Zr)/Si no es
superior a 1.
8. Estructura según una de las reivindicaciones
6 y 7, caracterizada porque la relación Al/Si está
comprendida entre 0,03 y 0,5, en particular entre 0,05 y 0,1.
9. Estructura según una de las reivindicaciones
6 a 8, caracterizada porque la relación Zr/Si está
comprendida entre 0,05 y 0,4.
10. Estructura según una de las
reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque la capa delgada
que contiene silicio y oxígeno tiene un espesor de como máximo 15
nm, en especial de como máximo 10 nm y en particular de como máximo
8 nm, siendo preferentemente de como mucho 5 nm o aproximadamente 5
nm, en particular de 2 a 3 nm.
11. Estructura según una de las
reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque la capa a base
de dióxido de titanio está constituida por TiO_{2} solo o por
TiO_{2} dopado por al menos un dopante escogido en especial entre
N; cationes pentavalentes como Nb, Ta, V; Fe; y Zr.
12. Estructura según una de las
reivindicaciones 1 a 11, caracterizada porque la capa a base
de TiO_{2} se ha depositado mediante un procedimiento
sol-gel, o por un procedimiento de pirólisis, en
especial en fase gaseosa, o por pulverización catódica, a
temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el caso, por
campo magnético y/o haz de iones, con utilización de un blanco
metálico o de TiO_{x} con x<2 y de una atmósfera oxidante, o
con utilización de un blanco TiO_{2} y de una atmósfera inerte,
pudiendo haber sido sometido el TiO_{2} producido por la
pulverización catódica a continuación a un tratamiento térmico a
fin de presentarse en estado cristalino en una forma
catalíticamente activa.
13. Estructura según una de las
reivindicaciones 1 a 12, caracterizada porque la capa delgada
que contiene silicio y oxígeno se ha depositado por pulverización
catódica, a temperatura ambiente, bajo vacío, asistida, llegado el
caso, por campo magnético y/o haz de iones, con utilización de un
blanco de Si dopado Al (8% atómico) bajo atmósfera de Ar + O_{2}
a una presión de 0,2 Pa.
14. Estructura según una de las
reivindicaciones 1 a 13, caracterizada porque el sustrato
está constituido por una placa, plana o de caras curvas o combadas,
de vidrio monolitico o laminado, de material vitrocerámico o de un
material termoplástico duro, tal como policarbonato, o incluso por
fibras de vidrio o de vitrocerámica, habiendo recibido dichas
placas o dichas fibras, llegado el caso, al menos otra capa
funcional antes de la aplicación de la capa de asistencia a la
cristalización por crecimiento heteroepitaxial de la capa a base de
TiO_{2}.
15. Estructura según la reivindicación 14,
caracterizada porque la capa u otras capas funcionales se
escogen entre capas de funcionalidad óptica, capas de control
térmico, capas conductoras, así como en el caso en el que el
sustrato sea de vidrio o de material vitrocerámico, capas que hacen
barrera a la migración de los alcalinos del vidrio o del material
vitrocerámico.
\newpage
16. Procedimiento de fabricación de una
estructura tal como se ha definido en una de las reivindicaciones 1
a 15, en la cual:
- se deposita sobre un sustrato de vidrio o de
material vitrocerámico o de material plástico duro de tipo
policarbonato, de tipo placa, o sobre fibras de vidrio o de
vitrocerámica, una capa de TiO_{2} eventualmente dopada que se
somete a un tratamiento térmico para conferirle propiedades
catalíticas en el caso en que ésta no sea aportada por las
condiciones utilizadas para su depósito;
- después se deposita sobre dicha capa con
propiedades fotocatalíticas una capa delgada que contiene silicio y
oxígeno tal como la definida en una de las reivindicaciones 1 a
10,
Estando dicho procedimiento caracterizado
porque se deposita, inmediatamente por debajo de la capa a base de
TiO_{2}, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica
que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento
heteroepitaxial en la forma anatasa de la capa superior a base de
TiO_{2}.
17. Procedimiento según la reivindicación 16,
caracterizado porque se efectúa sucesivamente el depósito de
una capa de TiO_{2} y el de la capa delgada que contiene silicio y
oxígeno a temperatura ambiente, por pulverización catódica bajo
vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de
iones, en el mismo recinto, siendo las condiciones las
siguientes:
- para el depósito de la capa a base de
TiO_{2}, alimentación en modo de corriente continua o de corriente
alterna bajo una presión de 1-3 mbar y bajo
atmósfera de oxígeno + gas inerte (argón), a partir de un blanco de
Ti o TiO_{x}, con x = 1,5 a 2;
- para el depósito de la capa que contiene
silicio y oxígeno, una alimentación en modo de corriente alterna
bajo una presión de 0,1 a 1,0 Pa y una atmósfera de Ar + O_{2} a
partir de un blanco que tiene un alto contenido de silicio;
siendo precedido el depósito de la capa de
TiO_{2} por el depósito de una subcapa de asistencia a la
cristalización por crecimiento epitaxial en la forma anatasa de la
capa de TiO_{2}.
18. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 16 y 17, en el cual se realiza el revestimiento de
un sustrato en vidrio o en material vitrocerámico,
caracterizado porque antes de la aplicación de la subcapa
asociada a la capa de TiO_{2}, se deposita sobre el sustrato al
menos una capa que forma barrera frente a la migración de los
alcalinos presentes en el vidrio o en el material vitrocerámico,
pudiendo entonces efectuarse un recocido o un templado después del
depósito de la capa de TiO_{2} y de la capa delgada a base de
silicio que la recubre a una temperatura comprendida entre 250ºC y
550ºC, preferentemente entre 350ºC y 500ºC para el recocido y a una
temperatura de al menos 600ºC para el templado.
19. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 16 a 18, caracterizado porque después de la
eventual aplicación de al menos una capa que hace barrera frente a
la migración de los alcalinos y porque antes de la subcapa asociada
a la capa de TiO_{2}, se deposita al menos una capa funcional
escogida entre capas de funcionalidad óptica, capas de control
térmico y capas conductoras, siendo depositadas dichas capas
funcionales de forma ventajosa por pulverización catódica, bajo
vacío, asistida, llegado el caso, por campo magnético y/o haz de
iones.
20. Acristalamiento simple o múltiple, en
particular para el automóvil o la edificación, que comprende sobre
al menos una cara, respectivamente, una estructura tal como la
definida en una de las reivindicaciones 1 a 15, siendo dicha cara
en especial la orientada hacia el exterior, pero pudiendo ser
igualmente la orientada hacia el interior.
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US20090258222A1 (en) * | 2004-11-08 | 2009-10-15 | Agc Flat Glass Europe S.A. | Glazing panel |
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US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
EP1738825A1 (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-03 | Kuo, Ming-Cheng | A process for producing photocatalyst-coated fiber provided with protective films |
FR2893024B1 (fr) * | 2005-11-08 | 2008-02-29 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques |
FR2892408B1 (fr) * | 2005-10-21 | 2008-01-11 | Saint Gobain | Utilisation d'un substrat anti-salissures |
AU2006303170B2 (en) * | 2005-10-21 | 2012-10-11 | Saint-Gobain Glass France | Antifouling material and production method thereof |
FR2903399B1 (fr) * | 2006-07-07 | 2010-10-01 | Saint Gobain | Materiau anti-salissures et son procede d'obtention |
US8097340B2 (en) | 2006-02-08 | 2012-01-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
KR101431230B1 (ko) * | 2006-04-11 | 2014-08-18 | 카디날 씨지 컴퍼니 | 개선된 낮은 유지 특성이 있는 광촉매성 코팅 |
WO2007124291A2 (en) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
US7632761B2 (en) * | 2006-06-01 | 2009-12-15 | Wayne State University | Method of making thin film anatase titanium dioxide |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
WO2008123553A1 (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-16 | Asahi Glass Company, Limited | 防汚性物品およびこれを用いる合わせガラス |
KR101563197B1 (ko) | 2007-09-14 | 2015-10-26 | 카디날 씨지 컴퍼니 | 관리 용이한 코팅 및 이의 제조방법 |
JP2009213991A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 金属酸化物触媒 |
FR2933394B1 (fr) * | 2008-07-03 | 2011-04-01 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
FR2956869B1 (fr) | 2010-03-01 | 2014-05-16 | Alex Hr Roustaei | Systeme de production de film flexible a haute capacite destine a des cellules photovoltaiques et oled par deposition cyclique des couches |
US20100237055A1 (en) * | 2009-03-20 | 2010-09-23 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Defrosting or defogging structure |
MX345403B (es) | 2009-05-13 | 2017-01-30 | Sio2 Medical Products Inc | Revestimiento por pecvd utilizando un precursor organosilícico. |
CN102459693B (zh) * | 2009-05-13 | 2015-11-25 | Sio2医药产品公司 | 使用有机硅前体的pecvd涂层 |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
DE102009033686A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung eines anorganischen optoelektronischen Halbleiterbauteils |
JP5680537B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2015-03-04 | 日本板硝子株式会社 | 光触媒膜を備えたガラス物品 |
FR2950878B1 (fr) | 2009-10-01 | 2011-10-21 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
US8431869B2 (en) | 2010-06-02 | 2013-04-30 | GM Global Technology Operations LLC | Defrosting, defogging and de-icing structures |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
DE102014108058A1 (de) | 2014-06-06 | 2015-12-17 | Schott Ag | Optisches Element mit hoher Kratzbeständigkeit |
EP2492251B1 (de) * | 2011-02-23 | 2017-01-04 | Schott Ag | Substrat mit Antireflexionsbeschichtung und Verahren zu dessen Herstellung |
CN102180705B (zh) * | 2011-02-28 | 2013-04-10 | 武汉大方机电有限公司 | 负载于无机陶瓷基体表面的二氧化钛薄层的制备方法 |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
FR2975989B1 (fr) * | 2011-05-30 | 2014-04-25 | Saint Gobain | Couche barriere aux alcalins |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
CA2887352A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
CN103568384B (zh) * | 2012-08-10 | 2017-10-03 | 赛恩倍吉科技顾问(深圳)有限公司 | 保护盖及其加工方法 |
EP2914762B1 (en) | 2012-11-01 | 2020-05-13 | SiO2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
WO2014085348A2 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
KR101364626B1 (ko) * | 2012-12-10 | 2014-02-20 | 아주대학교산학협력단 | 판상 입자 코팅 기판 및 이의 제조 방법 |
WO2014103768A1 (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 積層体 |
US9303309B2 (en) * | 2013-01-11 | 2016-04-05 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for enhancing mobility of atomic or molecular species on a substrate at reduced bulk temperature using acoustic waves, and structures formed using same |
US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
KR102472240B1 (ko) | 2013-03-11 | 2022-11-30 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 코팅된 패키징 |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
WO2014144926A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating method |
KR102236063B1 (ko) * | 2013-08-06 | 2021-04-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광학 코팅 구조 |
US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
CN104372298A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-02-25 | 邵海平 | 一种高能离子束基板处理及真空蒸发镀膜设备及方法 |
US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
US10173262B2 (en) | 2016-02-04 | 2019-01-08 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for monitoring temperature using acoustic waves during processing of a material |
US10160061B2 (en) | 2016-08-15 | 2018-12-25 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for modifying acoustic waves based on selective heating |
EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
BR112019023126A2 (pt) * | 2017-05-04 | 2020-05-26 | Agc Glass Europe | Substrato revestido |
CN107973367B (zh) * | 2017-12-02 | 2021-05-14 | 杭州晚萤科技有限公司 | 一种Fe掺杂包裹型TiO2光催化剂降解废水的工艺 |
CN107986381B (zh) * | 2017-12-02 | 2021-07-09 | 深圳天泽环保科技有限公司 | 一种共掺杂的TiO2光催化剂降解废水的工艺 |
CN111971332B (zh) * | 2018-04-12 | 2023-02-28 | 信越化学工业株式会社 | 光催化剂转印膜及其制造方法 |
CN109881155B (zh) * | 2019-03-04 | 2021-04-20 | 南京工业大学 | 智能选择性太阳光透过与反射涂层及其制备方法 |
CN110374216A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-10-25 | 湖北卓宝建筑节能科技有限公司 | 一种自洁保温板 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JP2901550B2 (ja) | 1996-07-26 | 1999-06-07 | 株式会社村上開明堂 | 防曇素子 |
FR2757151B1 (fr) * | 1996-12-12 | 1999-01-08 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
JP3700358B2 (ja) * | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
WO2000018504A1 (fr) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article photocatalyseur, article protege contre l'encrassement et le voilement, et procede de production d'un article protege contre l'encrassement et le voilement |
JP3904355B2 (ja) * | 1998-12-03 | 2007-04-11 | 日本板硝子株式会社 | 親水性光触媒部材 |
JP2000289134A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 親水性表面を有する物品およびその製造方法 |
FR2793889B1 (fr) * | 1999-05-20 | 2002-06-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
JP2001025666A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 積層体およびその製造方法 |
JP3622585B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2005-02-23 | 日本板硝子株式会社 | 光触媒活性を有する物品 |
JP2002047032A (ja) | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光触媒膜付き基板及びその製造方法 |
JP4761013B2 (ja) * | 2000-08-17 | 2011-08-31 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | シリコン単結晶基板上にアナターゼ型の二酸化チタン結晶配向膜を作製する方法 |
FR2814094B1 (fr) * | 2000-09-20 | 2003-08-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement photocatalytique et son procede de fabrication |
FR2818272B1 (fr) * | 2000-12-15 | 2003-08-29 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
FR2827855B1 (fr) * | 2001-07-25 | 2004-07-02 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces reflechissant les infrarouges et/ou le rayonnement solaire |
WO2004108283A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | 光触媒部材 |
FR2861385B1 (fr) * | 2003-10-23 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant au moins un empilement couche a propriete photocatalytique sous couche de croissance heteroepitaxiale de ladite couche |
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